JP7136802B2 - スルホニルカルバマート胆汁酸誘導体の調製のためのプロセス - Google Patents
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Description
本願は、2017年4月7日に提出された米国仮出願第62/483,044号明細書の優先権を主張する。上記出願の教示全体が参照により本明細書中に組み込まれる。
またはその薬学的に許容される塩(式中、
R1は、
1)置換または未置換-C1-C8アルキル;
2)置換または未置換-C2-C8アルケニル;
3)置換または未置換-C2-C8アルキニル;
4)置換または未置換-C3-C8シクロアルキル;
5)置換または未置換アリール;
6)置換または未置換アリールアルキル;
7)置換または未置換3~12員ヘテロシクロアルキル;
8)置換または未置換ヘテロアリール;
9)置換または未置換ヘテロアリールアルキル;および
10)NRaRb(式中、RaおよびRbは、水素、置換または未置換-C1-C8アルキル、置換または未置換-C2-C8アルケニル、置換または未置換-C2-C8アルキニル、置換または未置換-C3-C8シクロアルキルからそれぞれ独立して選択される;あるいは、R a およびR b は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、3~12員複素環を形成する。)からなる群から選択される。)
を調製するためのプロセスに関する。
式中、PGは、アセチル、THP、MOM、MEM、SEMなどであるが限定されないヒドロキシル保護基、またはTBS、TES、TMS、TIPSもしくはTBDPSなどのシリル基である。好ましくは、PGはTBSである。
1(a)化合物1(CDCA)を式(III)の化合物に変換し
2(a)式(III)の化合物を式(IV)の化合物に変換し
3(a)式(IV)の化合物を式(I)の化合物に変換する
(式中、PGおよびR1は前に定義したとおりである。)
段階を含む。
1(a)化合物1(CDCA)を式(III)の化合物に変換し、
2(b)式(III)の化合物を式(V)の化合物に変換し、
3(b)式(V)の化合物を式(VI)の化合物に変換し、
4(b)式(VI)の化合物を式(II)の化合物に変換する
(式中、PGおよびR1は前に定義したとおりである。)
段階を含む。
または置換もしくは未置換
である。
式中、PGは前に定義されており;PG1は、好ましくは、TMS、TES、TBS、TIPSおよびTBDPSなどであるが限定されないシリル基から選択されるヒドロキシル保護基であり;R2は、Cl、BrおよびIから選択される。好ましいPG1はTMSである。好ましいPGはTBSである。R6はC1-C6-アルキル、好ましくはメチルまたはエチル、より好ましくはメチルである。
式中、PGは前に定義されており;R3はアルキル基、好ましくは、メチル、エチル、イソプロピルまたはイソブチルなどであるが限定されないC1-C6-アルキルである。好ましいR3はイソブチルである。
段階1(a)(i)は、CDCAとアルキルアルコール、好ましくはC1-C6-アルカノール、より好ましくは当技術分野で公知のようにメタノールとのエステル化であり、例えば、手順はTetrahedron,57(8),1449-1481;2001に記載されている。
段階1(a)(ii)は、中間体シリルケテンアセタール2aのハロゲン化を介した化合物2から化合物3への変換である。シリルケテンアセタール中間体2aは、適切なヒドロキシル保護剤PG1-Xの存在下でLDAなどであるが限定されない強塩基と化合物2を反応させることにより、in situで直接生成される(式中、XはCl、BrおよびOTfから選択される。)。好ましいヒドロキシル保護剤はTMS-Clである。一態様において、温度は-100℃~-50℃である。一態様において、温度は-90℃~-60℃である。一態様において、温度は-80℃~-70℃である。シリルケテンアセタール中間体2aは、Br2、I2、I-Cl、I-Br、NBS、NISおよび1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントインなどであるが限定されない求電子ハロゲン化試薬と反応し、化合物3が得られる。好ましい求電子性ハロゲン化試薬はI2である。
段階1(a)(iii)は、化合物4を形成させるための、化合物3からのH-R2の除去である。化合物3は、THF、DCM、アセトニトリルまたはトルエンなどであるが限定されない溶媒または溶媒混合物中のDIPEA、Et3N、DBU、DBNまたはDABCOなどであるが限定されない適切な有機塩基で処理される。好ましい有機塩基はDBUである。好ましい態様において、溶媒はTHFである。好ましい態様において、段階1(a)(ii)からの化合物3は、さらに精製することなく直接使用される。反応は、-10℃~50℃の範囲の温度で実施され得る。好ましい態様において、反応温度は0℃~30℃である。別の好ましい態様において、反応温度は約25℃である。
段階1(a)(iv)は、化合物5を形成させるための化合物4の保護基PG1の除去である。保護基は、当技術分野で公知であるような適切な脱保護条件下で除去され得る。例えば、PG1は、TBAFなどであるが限定されない脱保護試薬、またはHClなどの酸によって除去され得る。好ましくは、化合物4は非プロトン溶媒中にて酸で処理される。段階1(a)(iv)の好ましい態様において、段階1(a)(iii)からの化合物4は、さらに精製することなく直接使用される。好ましくは、化合物4は、HClなどの酸で、THF、1,4-ジオキサン、MTBE、Et2Oまたは2つの混合物などであるが限定されない非プロトン溶媒中にて処理される。好ましい溶媒は1,4-ジオキサンである。反応は、-10℃~50℃の範囲の温度で実施され得る。好ましい態様において、反応温度は0℃~30℃である。別の好ましい態様において、反応温度は約25℃である。また別の好ましい態様において、化合物4を室温にて1,4-ジオキサン中のHClで処理して化合物5を得る。化合物5をカラムクロマトグラフィーにより精製して化合物5を得ることができる。化合物5の精製後、化合物1から化合物5への変換に対する全体的な収率は60%より高い。
段階1(a)(v)は、化合物6を生成させるための、イミダゾール、TEA、DIPEAなどであるが限定されない有機塩基の存在下での、適切なヒドロキシル保護剤PG-X(式中、Xは適切な脱離基、好ましくはCl、Br、IまたはOTfである。)による化合物5の3-ヒドロキシルの保護である。好ましいヒドロキシル保護剤はTBS-Clである。好ましい有機塩基はイミダゾールである。反応は、-10℃~50℃の範囲の温度で実施され得る。好ましい態様において、反応温度は0℃~30℃である。別の好ましい態様において、反応温度は約25℃である。
段階1(a)(vi)は、化合物(III)を生成させるための、NaIO4、n-Bu4N+IO4 -およびNMOなどであるが限定されない化学量論的な酸化剤の存在下での、RuCl3などであるが限定されない適切な触媒を用いた、化合物6のジヒドロキシル化、酸化開裂および7-OH酸化である。反応は、K2CO3、Na2CO3および2,6-ルチジンなどであるが限定されない適切な塩基の存在下で実施される。好ましい酸化剤はNaIO4である。好ましい塩基はK2CO3である。この反応は、H2O、CCl4、CH3CNまたはEtOAcなどであるが限定されない溶媒中で行われる。好ましい溶媒は、H2O、CH3CNおよびEtOAcの混合物である。反応は、-10℃~50℃の範囲の温度で実施され得る。好ましい態様において、反応温度は0℃~30℃である。別の好ましい態様において、反応温度は約25℃である。化合物(III)をヘキサン/EtOAcなどであるが限定されない有機溶媒または溶媒混合物から結晶化して、95%を超える純度の化合物(III)を提供し得る。
段階2(a)(i)は、混合無水物7を生成させるための、TEAまたはDIPEAなどであるが限定されない有機塩基の存在下での、化合物(III)とクロロギ酸エステルR3OCOClの反応である。段階2(a)(i)は、好ましくは、DCMなどであるが限定されない非プロトン溶媒中で実施される。好ましいクロロギ酸エステルはクロロギ酸イソブチルであり、R3はイソブチルである。好ましい有機塩基はTEAである。化合物7を単離し、精製せずに次の段階の反応に使用する。
段階2(a)(ii)は、化合物(IV)を生成させるための、NaBH4、LiBH4、LiAlH4またはDIBALなどであるが限定されない適切な還元剤と化合物7との反応である。段階2(a)(ii)は、好ましくは、水およびTHFの混合物などであるが限定されないプロトンおよび非プロトン溶媒の混合物中で実施される。反応は、-10℃~50℃の範囲の温度で実施され得る。好ましい態様において、反応温度は0℃~30℃である。別の好ましい態様において、反応温度は約25℃である。
(式中、PGは前に定義したとおりであり;PG3は、TMS、TES、TBS、TIPSおよびTBDPSなどであるが限定されないシリル基から選択されるヒドロキシ保護基である。)。好ましいPG3はTMSである。R6は前に定義したとおりである。
段階2(b)(i)は、化合物8を形成させるための化合物(III)のPG保護基のエステル化および除去である。好ましい保護基はTBSである。保護基は、当技術分野で公知であるような適切な脱保護条件下で除去され得る。例えば、保護基は、HClなどの酸などであるが限定されない脱保護試薬によって除去され得る。好ましくは、化合物(III)は、C1-C6-アルカノール、好ましくはMeOHまたはEtOH、より好ましくはMeOH中の酸で処理される。反応は、25℃~100℃の範囲の温度で実施され得る。好ましい態様において、反応温度は35℃~80℃である。別の好ましい態様において、反応温度は約50℃である。再結晶により化合物8を精製して、95%を超える純度の化合物8を得ることができる。
段階2(b)(ii)は、DCMおよびTHFなどであるが限定されない非プロトン溶媒中、塩基の存在下で化合物8をシリル化剤と反応させることによるシリルエーテル化合物9の形成である。
段階2(b)(iii)は、中間体化合物9aを生成させるためにアセトアルデヒドと化合物9とのアルドール反応と、それに続くBF3・Et2OまたはTi(OiPr)4などであるが限定されないルイス酸の存在下で化合物10を形成させるための除去である。段階2(b)(iii)の一態様において、ルイス酸はBF3・Et2Oである。反応は、DCMなどであるが限定されない非プロトン溶媒中で行われる。反応温度は、好ましくは約-78℃~約25℃である。一態様において、反応温度は約-78℃~約-50℃である。別の好ましい態様において、反応温度は約-60℃である。
段階2(b)(iv)において、触媒水素化を介して、段階2(b)(iii)からの化合物10を化合物11に変換して、オレフィンを還元する。段階2(b)(iv)の一態様において、段階2(b)(iii)からの化合物10はカラムクロマトグラフィーを介して精製されている。段階2(b)(iv)の好ましい態様において、段階2(b)(iii)の後処理後に得られた粗製生成物10は、精製せずに直接使用される。段階2(b)(iv)の一態様において、粗製生成物10は、EおよびZオレフィン異性体(10A)の両方を含有する。Z異性体のパーセンテージは、好ましくは0%~50%の範囲である。
段階2(b)(v)は、塩基性条件下での、化合物11の6β-エチル異性体の6α-エチル異性体、化合物12へのエピマー化である。段階2(b)(v)の一態様において、6β-エチル異性体および6α-異性体の両方を含有する、段階2(b)(iv)から得られる粗製生成物は、さらに精製せずに段階2(b)(vi)で使用される。
段階2(b)(vi)は、中間体化合物12aを生成させるために、イミダゾール、TEA、DIPEAなどであるが限定されない有機塩基の存在下で、適切なヒドロキシル保護剤PG-X(式中、Xは、適切な脱離基、好ましくはCl、Br、IまたはOTfである。)により化合物12の3-ヒドロキシルおよび酸を保護することおよび、続くプロトン溶媒中で適切な塩基によりカルボン酸を脱保護して、化合物(V)を生成させることである。好ましいヒドロキシル保護剤はTBS-Clである。好ましい有機塩基はイミダゾールである。好ましい塩基はK2CO3である。好ましいプロトン溶媒はMeOHである。反応は、-10℃~50℃の範囲の温度で実施され得る。好ましい態様において、反応温度は0℃~30℃である。別の好ましい態様において、反応温度は約25℃である。
段階3(b)(i)は、混合無水物13を生成させるための、TEAまたはDIPEAなどであるが限定されない有機塩基の存在下での化合物(V)と適切なクロロギ酸エステルR3OCOClの反応である。段階3(b)(i)は、DCMなどであるが限定されない非プロトン溶媒中で行われ得る。好ましいクロロギ酸エステルはクロロギ酸イソブチルであり、R3はイソブチルである。好ましい有機塩基はTEAである。化合物13は粗製形態で単離され、さらに精製せずに使用される。
段階3(b)(ii)は、化合物(VI)を生成させるための、NaBH4、LiBH4、LiAlH4またはDIBALなどであるが限定されない適切な還元剤と化合物13との反応である。段階3(b)(ii)は、好ましくは、水およびTHFの混合物などであるが限定されないプロトンおよび非プロトン溶媒の混合物中で実施される。反応は、-10℃~50℃の範囲の温度で実施され得る。好ましい態様において、反応温度は0℃~30℃である。別の好ましい態様において、反応温度は約25℃である。
本発明はまた、スキーム5に示されるように、化合物(IV)で始まる式(I)の化合物を調製するためのプロセスも含む。
スキーム5
式中、R4はイミダゾール-1-イル、アルキル-O-アリール-O、ClまたはCCl3であり;R1は前に定義するとおりである。
段階3(a)(i)は、有機塩基の存在下で化合物(IV)を15Eにより表される化合物
(式中、R4は、イミダゾール-1-イル、アルキル-O-アリール-O、ClまたはCCl3であり、R1は前に定義するとおりである。)と反応させることによって、化合物(IV)を式14の化合物(式中、R1は前に定義するとおりである。)に変換することを含む。反応は、好ましくはTHF、DCMまたはトルエンなどであるが限定されない非プロトン溶媒中で行われる。好ましい一態様において、反応溶媒はTHFである。適切な有機塩基としては、トリエチルアミンおよびジイソプロピルエチルアミンが挙げられるが限定されない。反応を促進するために、1mol%~50mol%の範囲のDMAPを添加し得る。反応温度は、好ましくは約0℃~約80℃の範囲である。一態様において、反応は約0℃で実施される。別の態様において、反応はほぼ室温(約25℃)で実施される。また別の態様において、反応は約50℃で実施される。
段階3(a)(ii)は、化合物(I)を形成させるための、化合物14のPG保護基の除去である(式中、R1は前に定義したおりである)。PG保護基は、当技術分野で公知であるように適切な脱保護条件下で除去され得る。好ましいPG保護基はTBSであり、好ましくは、保護基はTBAFなどであるが限定されない脱保護試薬またはHClなどの酸によって除去される。好ましくは、化合物14は、プロトン溶媒中にて酸で処理する。好ましくは、化合物14は、MeOH、EtOH、i-PrOH、H2Oまたは2つの混合物などであるが限定されないプロトン溶媒中にて、HClなどの酸で処理される。好ましい溶媒はMeOHである。反応は、-10℃~50℃の範囲の温度で実施され得る。好ましい態様において、反応温度は0℃~30℃である。別の好ましい態様において、反応温度は約25℃である。
(式中、R1およびR4は前に定義したとおりである。)への変換。
好ましくは、化合物15EのR4は、イミダゾール-1-イル、MeO-、EtO-またはPhO-である。より好ましくは、R4はPhO-である。
段階4(b)(ii)は、化合物(II)を形成させるための、式17の化合物のPG保護基の除去である(式中、PGおよびR1は前に定義したとおりである。)。PG保護基は、当技術分野で公知であるように適切な脱保護条件下で除去され得る。好ましいPG保護基はTBSであり、好ましくは、保護基はTBAFなどであるが限定されない脱保護試薬またはHClなどの酸によって除去される。好ましくは、式17の化合物は、プロトン溶媒中にて酸で処理される。好ましくは、式17の化合物は、MeOH、EtOH、i-PrOH、H2Oまたは2つの混合物などであるが限定されないプロトン溶媒中にて、HClなどの酸で処理される。好ましい溶媒はMeOHである。反応は、-10℃~50℃の範囲の温度で実施され得る。好ましい態様において、反応温度は0℃~30℃である。別の好ましい態様において、反応温度は約25℃である。
スキーム10
スキーム11
以下で列挙されるものは、本発明を説明するために使用される様々な用語の定義である。これらの定義は、個別に、またはより大きなグループの一部としての何れかで、特定の場合に特に限定されない限り、本明細書および請求項全体を通して使用されるかのように、それらの用語に適用される。
以下のスキームおよび例の記載で使用されている略語は次のとおりである:
Ac アセチル;
AcOH 酢酸;
ACN アセトニトリル;
aq. 水性;
BA 胆汁酸;
ブライン 塩化ナトリウム水溶液;
n-BuLi n-ブチルリチウム;
cAMP 環状アデノシン一リン酸;
CDCA ケノデオキシコール酸;
CDI カルボニルジイミダゾール;
CTX 脳腱黄色腫症;
D2 2型ヨードチロニンデヨードナーゼ;
DABCO 1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン;
DBN 1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノン-5-エン;
DBU 1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク-7-エン;
DCM ジクロロメタン;
DIBAL ジイソブチルアルミニウムヒドリド;
DIPEAまたは(i-Pr)2EtN N,N-ジイソプロピルエチルアミン;
デスマーチンペルヨージナン 1,1,1-トリス(アセチルオキシ)-1,1-ジヒドロ-1,2-ベンゾヨードキソール-3-(1H)-オン;
DMAP 4-ジメチルアミノ-ピリジン;
DMF N,N-ジメチルホルムアミド;
DMSO ジメチルスルホキシド;
DPPA ジフェニルホスホリルアジド;
EtOAc 酢酸エチル;
EtOH エタノール;
Et2O ジエチルエーテル;
eq. 当量;
FXR ファルネソイドx受容体;
GLP-1 グルカゴン様ペプチド1;
hrs 時間数;
IBX 2-ヨードキシ安息香酸;
KHMDS カリウムビス(トリメチルシリル)アミド;
KLCA 7-ケトリトコール酸;
OTfまたはトリフラート トリフルオロメタンスルホナート;
Ph フェニル;
LDA リチウムジイソプロピルアミド;
LiHMDS リチウムビス(トリメチルシリル)アミド;
min 分;
MOM メトキシメチル;
MEM メトキシエトキシメチル;
NAFLD 非アルコール性脂肪性肝疾患;
NaHMDS ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド;
NASH 非アルコール性脂肪性肝炎;
NBS N-ブロモスクシンイミド;
NIS N-ヨードスクシンイミド;
NMO N-メチルモルホリンN-オキシド;
o/n 一晩;
PBC 原発性胆汁性肝硬変;
PCC クロロクロム酸ピリジニウム;
PDC 重クロム酸ピリジニウム;
Pd/C パラジウム炭素;
PNAC 静脈栄養関連胆汁うっ滞;
PSC 原発性硬化性胆管炎;
i-PrOAc 酢酸イソプロピル;
psi 平方インチあたりのポンド;
rt 室温;
sat. 飽和;
SEM 2-トリメチルシリルエトキシメチル;
TBAF フッ化テトラブチルアンモニウム;
TBDPS:tert-ブチルジフェニルシリル;
TBS tert-ブチルジメチルシリル;
TEAまたはEt3N トリエチルアミン;
TES トリエチルシリル;
TFAまたはCF3COOH トリフルオロ酢酸;
THF テトラヒドロフラン;
THP テトラヒドロピラニル;
TIPS トリイソプロピルシリル;
TMS トリメチルシリル;
TMSCl 塩化トリメチルシリル;
TMSOTf トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート;
TBMEまたはMTBE tert-ブチルメチルエーテル;
TLC 薄層クロマトグラフィー。
本発明の化合物およびプロセスは、以下の例に関連してよりよく理解されるであろうが、これらは例示のみを意図し、本発明の範囲を限定するものではない。開示される実施形態に対する様々な変更および修正は当業者にとって明らかであり、本発明の化学構造、置換基、誘導体、処方物および/または方法に関連するものを含むが限定されないこのような変更および修正は、本発明の精神および添付の特許請求の範囲から逸脱することなくなされ得る。
2Lフラスコ内のMeOH(607mL、6v)中の化合物1(101.2g、258mmol、1.0eq)の溶液に、塩化アセチル(2.0g、1.8mL、25.8mmol、0.1eq)を投入し、反応物を18時間撹拌した。反応物を減圧下で濃縮し、THF(2×300mL)と共蒸留した。得られた残渣を真空下で乾燥させて、THFを含有する無色の非晶質固体として105gの粗製化合物2(HPLC純度:99.6%)を得た。この物質をさらに精製せずに次の段階で使用した。
-78℃で無水THF(143mL、2.7v)中のジイソプロピルアミン(53.5g、75.0mL、529mmol、4.1eq)の溶液にn-BuLi(206mLの2.5Mヘキサン溶液、516mmol、4.0eq)を滴下して投入した。反応物を-78℃で15分間撹拌し、そこでTMSCl(84.0g、99.0mL、774mmol、6.0当量)を添加した。無水THF(322mL、6.2v)中の化合物2(52.5g、129mmol、1.0eq)の溶液を-78℃で滴下して添加した。反応物を室温まで温め、3時間撹拌した。反応物を-78℃に冷却し、無水THF(401mL、7.6v)中のI2(45.8g、181mmol、1.4eq)の溶液を滴下して添加した。反応物を-78℃で0.5時間撹拌した。反応物を10%NH4Cl水溶液(600mL)に注ぎ、MTBE(600mL)で希釈した。層を分離し、水層をMTBE(2×300mL)で抽出した。合わせた有機層を10%Na2S2O3水溶液(2×400mL)、ブライン(400mL)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、ろ過し、濃縮して、黄色の粘性物質として118gの粗製化合物3を得た。この物質をさらに精製せずに次の段階で使用した。化合物3をジアステレオマーの約1:1の混合物として単離した:
無水THF(1071mL、12.3v)中の粗製化合物3(87g、129mmol、1.0eq)の溶液に、DBU(58.7g、58.1mL、386mmol、3.0eq)を投入し、反応物を48時間撹拌した。反応物を10%NH4Cl水溶液(600mL)で反応停止させ、MTBE(600mL)で希釈した。層を分離し、水層をMTBE(2×300mL)で抽出した。合わせた有機層を乾燥させ(MgSO4)、ろ過し、濃縮して、茶色の粘性物質として80gの粗製化合物4を得た。この物質をさらに精製せずに次の段階で使用した。
無水THF(334mL、4.7v)中の粗製化合物4(70.6g、129mmol、1.0eq)の溶液に、1,4-ジオキサン中4M HCl(33.4mL、0.47v)を投入し、反応物を16時間撹拌した。反応物を減圧下で濃縮し、DCM(1×400mL)とともに共蒸留した。得られた茶色の粘性物質を、ヘキサン/アセトン(5%アセトン→35%アセトン、2×330gカラム)で溶出するカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物5(32.2g、80.0mmol、4段階で収率62%)を得た。
0℃の無水THF(166mL、5.2v)およびDMF(33.2mL、1v)中の化合物5(32.2g、80.0mmol、1.0eq)およびイミダゾール(10.8g、159mmol、2.0eq)の溶液にTBSCl(13.2g、88.0mmol、1.2eq)を投入した。反応物を室温まで温め、3時間撹拌した。完了したら、反応物を濃縮して、殆どのTHFを除去した。MTBE(300mL)およびH2O(300mL)で希釈した。層を分離し、有機層を10%クエン酸水溶液(150mL)、H2O(150mL)、飽和NaHCO3水溶液(150mL)、H2O(150mL)およびブライン(150mL)で洗浄した。有機層を乾燥させ(MgSO4)、ろ過し、濃縮して、無色の非晶質固体として粗製化合物6(44g)を得た。この物質をさらに精製せずに次の段階で使用した。
EtOAc(227mL、5.4v)およびCH3CN(227mL、5.4v)中の化合物6(41.3g、80.0mmol、1.0eq)の溶液にH2O(341mL、8.3v)中のK2CO3(110g、796mmol、10.0eq)の溶液を添加した。RuCl3水和物(0.90g、4.0mmol、0.05eq)を添加し、続いてNaIO4(170g、796mmol、10.0eq)を添加し、HPLCにより残存する出発物質がなくなるまで反応物を激しく一晩撹拌した。反応混合物をろ過し、固体をEtOAcですすいだ。ろ液を水性10%クエン酸(600mL)で不活性化した。層を分離し、水層をEtOAc(250mL)で抽出した。合わせた有機層を水(2×400mL)、ブライン(400mL)で洗浄し、乾燥(Na2SO4)させ、約400mLに濃縮した。約400mLのヘプタンを添加し、混合物を減圧下にて38℃でゆっくりと濃縮して、総体積を約100mLに減少させた。得られた混合物を室温に冷却し、ろ過して固体を回収し、ヘキサンですすいだ。この結晶化手順を1回繰り返して、材料の2番目のロットを生成させた。全体で黄褐色固体として化合物(III)(12.0g、25.1mmol、収率76%)を得た。
クロロギ酸イソブチル(10.51mL、81mmol)をDCM(225mL)中の化合物(III)(32.2g、67.5mmol)およびEt3N(14.12mL、101mmol)の溶液に0℃で滴下して添加した。反応物を0℃で30分間撹拌した。反応物をMBTE(500mL)で希釈し、水(2×500mL)、ブライン(500mL)で洗浄し、乾燥(MgSO4)させて濃縮し、化合物8をオレンジ色の粘性物質として得て、次の段階で直接使用した。
0℃でTHF(270mL)/H2O(67.5mL)中の化合物8(38.9g、67.5mmol)の溶液にNaBH4(5.11g、135mmol)を添加した。反応物を0℃で0.5時間撹拌し、NaBH4の第2の分量(5.11g、135mmol)を添加した。反応物を一晩撹拌し、室温までゆっくり温めた。TLCおよびHPLCにより反応完了。反応物を0℃に冷却し、EtOAc(300mL)で希釈し、10%クエン酸(300mL)で不活性化した。層を分離し、水層をEtOAc(2×150mL)で抽出した。合わせた有機層をブライン(300mL)で洗浄し、乾燥(MgSO4)させ、ろ過し、濃縮して粗生成物を得て、これをヘキサン/アセトン(0%アセトン→25%アセトン、330gカラム)で溶出するカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物(IV)(26.2g、56.4mmol、収率84%)を無色の非晶質固体として得た。
0℃で無水CH2Cl2(673mL、10v)中の2,2-ジメチルクロマン-6-スルホンアミド(65g、269mmol、1.0eq)およびEt3N(82g、113mL、808mmol、3.0eq)の懸濁液にPhOCOCl(50.6g、40.6mL、323mmol、1.2eq)を投入した。反応物を0℃で3時間撹拌した。完了したら、反応物をCH2Cl2(400mL)で希釈した。混合物を冷H2O(1000mL)、冷水性10%クエン酸(2×500mL)およびブライン(1000mL)で洗浄した。有機層を乾燥させ(Na2SO4)、ろ過し、約500mLの総体積まで濃縮した。ヘキサン(500mL)を添加し、溶液を約250mLの総体積まで濃縮した。混合物を室温に冷却した。得られた沈殿物をろ過により回収し、ヘキサン(3×100mL)ですすぎ、真空下で乾燥させて、化合物15D(72.5g、HPLC、ELSD純度:98.8%、HPLC UV240純度:85.7%)を黄褐色固体として得た。
化合物15D(17.46g、48.3mmol)を、室温でドライTHF(188mL)中の化合物(IV)(21.8g、46.9mmol)およびトリエチルアミン(19.61mL、141mmol)の溶液に添加した。反応混合物は透明な溶液で始まった。約1時間後、大量の固形沈殿物が形成された。室温で約2時間撹拌した後、反応混合物をMTBE(150mL)で希釈し、35℃で約45分間撹拌して、固形沈殿物を熟成させた。次に、スラリー混合物を低真空下でゆっくりと濃縮して、約80mLの溶媒を除去した。固形沈殿物入りの残りの溶液をゆっくりと室温に冷却し、一晩熟成させた。次いで、固形物をろ過により回収し、MTBEですすぎ、高真空下で乾燥させて、約30gの適切な固体化合物17をNEt3塩形態として得た。得られた化合物17、NEt3塩(約30g)をEtOAc 500mL/10%クエン酸(300mL)中で分配した。有機層を分離し、水、飽和NaHCO3、ブラインで洗浄し、乾燥させ、濃縮して、化合物17(27.7g、収率87%)を得た。
MeOH(5mL)中の濃HCl(294mg、2.98mmol)の事前混合溶液を、室温でMeOH(120mL)中の化合物17(21.84g、29.8mmol)の溶液に滴下して添加した。反応物を室温で約30分間撹拌し、TCLおよびHPCLにより監視した。完了したら、水(1mL)中の50%NaOH(239mg、2.98mmol)の溶液を添加し、反応混合物を濃縮乾固させた。粗製固体をシリカゲルクロマトグラフィー(220g SiO2、100%ヘキサンから50%アセトン/ヘキサン、生成物は50%前後のアセトン/ヘキサンという結果になった。)で精製し、化合物(VII)(15g、81%収率)を得た。
0℃でのMeOH(91mL、6v)中の化合物(III)(15.2g、31.9mmol、1.0eq)の懸濁液に、AcCl(12.5g、11.3mL、159mmol、5.0eq)を滴下して投入した。得られた溶液を50℃で24時間加熱した。反応物を濃縮し、得られた茶色の固体をEtOAc(250mL)と飽和NaHCO3水溶液(250mL)との間で分配した。層を分離し、有機層をH2O(200mL)およびブライン(200mL)で洗浄した。有機層を乾燥させ(MgSO4)、ろ過し、約100mLまで濃縮した。ヘキサン(150mL)を添加し、混合物を40℃で濃縮して総体積を約100mLにした。得られた懸濁液を室温まで冷却し、一晩熟成させた。沈殿物をろ過し、ヘキサンですすいで、化合物9(8.9g、23.6mmol、収率74%)を無色の固体として得た。
0℃でのDCM(154mL、17v)中の化合物9(8.7g、23.1mmol、1.0eq)およびEt3N(18.7g、25.8mL、185mmol、8.0eq)の溶液にTMSOTf(25.7g、20.9mL、116mmol、5.0eq)を滴下して投入した。反応物を0℃で1時間撹拌し、次いで冷飽和NaHCO3水溶液(300mL)に注ぎ、DCM(150mL)で希釈した。層を分離し、有機層を水(2×150mL)およびブライン(150mL)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、ろ過し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をヘキサン(300mL)と水(150mL)との間で分配した。層を分離し、有機層をブライン(150mL)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、ろ過し、濃縮して、無色の非晶質固体として粗製化合物10(11.1g)を得た。この物質をさらに精製せずに次の段階で使用した。H-NMRに使用されるCDCl3は、化合物10の酸介在性の分解を回避するためにK2CO3で前処理した。
-78℃でのDCM(107mL、10v)中の化合物10(11.1g、21.3mmol、1.0eq)およびアセトアルデヒド(2.3g、3.0mL、53.3mmol、2.5eq)の溶液にBF3・OEt2(13.2mL、107mmol、5.0eq)を滴下して投入した。反応物を-78℃で4時間撹拌し、その後すぐにMeOH(40mL)を滴下して添加した。反応物を室温まで温め、一晩撹拌した。反応物を0℃に冷却し、飽和NaHCO3水溶液(250mL)で慎重に不活性化し、DCM(150mL)で希釈した。層を分離し、水層をDCM(1×150mL)で抽出した。合わせた有機層をブライン(250mL)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、ろ過し、濃縮して、粗製化合物11(8.7g、HPLC純度:98.7%、E/Z異性体の混合物)を黄色の非晶質固体として得た。この物質をさらに精製せずに次の段階で使用した。
MeOH(71mL、12.4v)中の粗製化合物11(8.6g、21.3mmol、1.0eq)の溶液に、10%Pd/C(50%H2O、2.3g、0.25wt)を投入した。反応物を脱気し、H2を再充填した(3x)。反応物を72時間撹拌し、EtOAcで希釈し、CELITE(登録商標)に通してろ過した。ろ液を濃縮して、無色非晶質固体として粗製化合物12(8.1g、HPLC純度:98.0%)を得た。この物質をさらに精製せずに次の段階で使用した。
MeOH(99mL、12.3v)およびH2O(24.7mL、3.1v)中の粗製化合物12(8.0g、19.8mmol、1.0eq)の溶液に、50%NaOH水溶液(7.9mL、98.9mmol、5.0eq)を投入し、反応物を60℃で24時間撹拌した。反応物を0℃に冷却し、1M HClで酸性(pH約1~2)にした。水性混合物をEtOAc(3x200mL)で抽出した。合わせた有機層を乾燥させ(MgSO4)、ろ過し、濃縮して、淡黄色の非晶質固体として粗製化合物13(7.5g、HPLC純度:98.0%)を得た。この物質をさらに精製せずに次の段階で使用した。
0℃でのTHF(65.9mL、8.5v)およびDMF(16.5mL、2.1v)中の粗製化合物13(7.7g、19.8mmol、1.0eq)の溶液に、イミダゾール(8.1g、119mmol、6.0eq)およびTBSCl(6.6g、43.5mmol、2.2eq)を投入した。氷浴を取り外し、反応物を室温で18時間撹拌した。メタノール(16.5mL、2.1v)およびK2CO3(1.4g、9.9mmol、0.5eq)を添加し、反応物を2時間撹拌した。反応物を10%クエン酸水溶液(200mL)で慎重に酸性化し、EtOAc(200mL)で希釈した。層を分離し、水層をEtOAc(2×200mL)で抽出した。合わせた有機層をH2O(3x100mL)およびブライン(100mL)で洗浄し、次いで乾燥させ(MgSO4)、ろ過し、濃縮して黄色の固体を得た。この固体をCH2Cl2/ヘキサンから再結晶化させて、化合物(V)を得た(7.1g、5段階で収率71%、HPLC純度:98.2%)。
0℃でのDCM(46.9mL、6.6v)中の化合物(V)(7.1g、14.1mmol、1.0eq)の溶液に、Et3N(2.1g、2.9mL、21.1mmol、1.5eq)およびクロロギ酸イソブチル(2.3g、2.2mL、16.9mmol、1.2eq)を投入し、反応物を0℃で30分間撹拌した。反応物をMBTE(150mL)で希釈し、水(2×100mL)、ブライン(100mL)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、濃縮して粗製化合物15(9.0g、HPLC純度:99.1%)をオレンジ色の非晶質固体として得た。粗製試料をさらに精製せずに次の段階で直接使用した。
0℃のTHF(47mL、5.5v)およびH2O(23mL、2.7v)中の粗製化合物15(8.5g、14.1mmol、1.0eq)の溶液にNaBH4(1.1g、28.1mmol、2.0eq)を投入し、反応物を0℃で30分間撹拌した。NaBH4(1.1g、28.1mmol、2.0eq)を添加し、反応物を一晩撹拌し、ゆっくりと室温に温めた。反応物を0℃に冷却し、EtOAc(85mL)で希釈し、10%クエン酸(85mL)で慎重に不活性化した。層を分離し、水層をEtOAc(2×40mL)で抽出した。合わせた有機層を乾燥させ(MgSO4)、ろ過し、濃縮して、淡黄色の非晶質固体として粗製化合物(VI)(6.9g、HPLC純度:95.8%)を得た。
RTのTHF(180mL)中の(VIb)(22.33g、39.5mmol)および15D(20g、55.3mmol)の撹拌溶液に、TEA(8.26mL、59.3mmol)、続いてDMAP(0.966g、7.91mmol)を添加した。得られた混合物を50℃に加熱し、50℃で2時間撹拌し、RTに冷却し、3%クエン酸で不活性化し、EtOAcで抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄し、真空下で濃縮し、ヘキサン/EtOAc(100/0~70/30、15分)を使用するシリカゲル上のクロマトグラフィーにより残渣を精製して、白色泡状物質として生成物を得た。32.2gの化合物18b。
RTのMeOH(180mL)中の18b(32g、38.4mmol)の撹拌溶液にHCl(0.316mL、3.84mmol)を添加した。混合物をRTで1時間撹拌し、次いで0.6mLの6N NaOHで不活性化し、真空下で濃縮した。ヘキサン/アセトン(100/0~50/50、20分)を使用したシリカゲル上のクロマトグラフィーによって残渣を精製して、白色固体として化合物(VIII)を得た(21g、85%)。
MeCN(75mL)中の6-クロロピリジン-3-スルホニルクロリド(50g)の溶液を、0℃(氷浴)でNH4OH水溶液(28~30%、125mL)に滴下して添加した(発熱)。添加後、氷浴を取り外し、反応混合物をさらに45分間撹拌し、その後再び0℃に冷却し、水で不活性化し、37%HCl(120mL)でpH1~2に酸性化した。混合物をEtOAcで抽出し、合わせた有機層をブラインで洗浄し、Na2SO4で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。粗製生成物(40g)を高真空下で一晩乾燥させ、次の段階に直接使用した。
クロロギ酸フェニル(24.95mL、199mmol)を0℃でDCM(400mL)中の20A(40g、166mmol)およびTEA(69.3mL、497mmol)の懸濁液に滴下して添加した。クロロギ酸フェニルの添加中(約半分)に懸濁液がゆっくりと透明になり、再び濁った。反応混合物を0℃で2時間撹拌し、DCM(700mL)で希釈し、水(2x700mL)および10%クエン酸(2x400mL)で洗浄し、有機層を素早く分離した(10%クエン酸での2回目の洗浄後、すぐに沈殿物が形成)、形成された固体(30分熟成後)をろ別し、DCMですすぎ、乾燥させて29gの化合物20Dを得た。ろ液を200mLに濃縮し、固体をろ過し、DCMですすぎ、乾燥させて、さらに19gの化合物20Dを得た(合計48g、収率80%)。
室温でのTHF(354mL)中の20D(22.83g、63.2mmol)の溶液に、化合物(VIb)(34g、60.2mmol)、トリエチルアミン(25.2mL、181mmol)およびDMAP(0.735g、6.02mmol)を添加した。得られたスラリーを50℃に加熱し、4時間撹拌し(混合物は殆ど透明)、次いで室温に冷却し、EtOAc(1000mL)で希釈した。混合物を3%クエン酸およびブラインで洗浄し、Na2SO4で乾燥させ、濃縮した。ヘキサン/アセトン(100/0~65/35、25分)を使用したシリカゲル上のクロマトグラフィーにより残渣を精製し、少量のフェノール(副産物)を含有する白色泡状物質として化合物19b(49g、収率約93%)を得た。
室温のMeOH(294mL)中の19b(49g、58.9mmol)の溶液にHCl(37%)(1.450mL、17.66mmol)を添加した。得られた混合物を3時間撹拌し、次いで2mLの水酸化ナトリウム水溶液(50%)(0.933mL、17.66mmol)で中和し、濃縮した。ヘキサン/アセトン(100/0~50/50、15分)を使用するシリカゲル上でのクロマトグラフィーにより残渣を精製して、生成物を白色泡状物として得、これをエタノールで3回除去して残留アセトンを取り除いた。得られた白色泡状物質を7日間凍結乾燥して、化合物(IX)(32g、84%)を得た。
Claims (18)
- 式(I)の化合物:
(式中、
R1は、
1)置換または未置換-C1-C8アルキル;
2)置換または未置換-C2-C8アルケニル;
3)置換または未置換-C2-C8アルキニル;
4)置換または未置換-C3-C8シクロアルキル;
5)置換または未置換アリール;
6)置換または未置換アリールアルキル;
7)置換または未置換3~12員ヘテロシクロアルキル;
8)置換または未置換ヘテロアリール;
9)置換または未置換ヘテロアリールアルキル;および
10)NRaRb(式中、RaおよびRbは、水素、置換または未置換-C1-C8アルキル、置換または未置換-C2-C8アルケニル、置換または未置換-C2-C8アルキニル、置換または未置換-C3-C8シクロアルキルからそれぞれ独立して選択されるか;あるいは、RaおよびRbは、それらが連結する窒素原子と一緒になって、3~12員複素環を形成する)からなる群から選択される)
を調製するためのプロセスであって、
前記プロセスが、
(1a)化合物1
を化合物(III)
(式中、PGはヒドロキシル保護基である。)
に変換し;
(2a)化合物(III)を化合物(IV)
に変換し;
(3a)化合物(IV)を前記式(I)の化合物に変換する
段階を含む、プロセス。 - 段階(1a)が、
(1ai)酸触媒下で化合物1をC1-C6-アルカノールと反応させて化合物2を生成させ、
(式中、R6はC1-C6-アルキルである。);
(1aii)ヒドロキシル保護剤の存在下で化合物2を強塩基と反応させて式2aの化合物
を生成させ、
前記式2aの化合物をハロゲン化剤と反応させて化合物3
(式中、
PG1はヒドロキシル保護基であり;
R2はBr、IおよびClから選択される。)を生成させ;
(1aiii)化合物3を有機塩基と反応させてHR2を除去し、化合物4
を生成させ;
(1aiv)化合物4を脱保護して化合物5
を生成させ;
(1av)化合物5をヒドロキシル保護剤と反応させて化合物6:
(式中、PGはヒドロキシル保護基である。)を生成させ;
(1avi)塩基の存在下で化合物6を酸化的に切断および酸化して、式(III)の化合物
を生成させること
を含む、請求項1または2に記載のプロセス。 - 段階3a(i)が、0℃~80℃の温度の非プロトン溶媒中で実施される、請求項5に記載のプロセス。
- 式(II)の化合物:
(式中、
R1は、
1)置換または未置換-C1-C8アルキル;
2)置換または未置換-C2-C8アルケニル;
3)置換または未置換-C2-C8アルキニル;
4)置換または未置換-C3-C8シクロアルキル;
5)置換または未置換アリール;
6)置換または未置換アリールアルキル;
7)置換または未置換3~12員ヘテロシクロアルキル;
8)置換または未置換ヘテロアリール;
9)置換または未置換ヘテロアリールアルキル;および
10)NRaRb(式中、RaおよびRbは、水素、置換または未置換-C1-C8アルキル、置換または未置換-C2-C8アルケニル、置換または未置換-C2-C8アルキニル、置換または未置換-C3-C8シクロアルキルからそれぞれ独立して選択されるか;あるいは、RaおよびRbは、それらが連結する窒素原子と一緒になって、3~12員複素環を形成する。)からなる群から選択される。)を調製するためのプロセスであって、
(1a)化合物1
を式(III)の化合物
(式中、PGはヒドロキシル保護基である。)
に変換し;
(2b)前記式(III)の化合物を式(V)の化合物:
に変換し;
(3b)前記式(V)の化合物を式(VI)の化合物:
に変換し;
(4b)前記式(VI)の化合物を前記式(II)の化合物に変換する
段階を含む、プロセス。 - 段階(1a)が、
(1ai)酸触媒下で化合物1をC1-C6-アルカノールと反応させて化合物2
(式中、R6はC1-C6-アルキルである。)
を生成させ;
(1aii)ヒドロキシル保護剤の存在下で化合物2を強塩基と反応させて式2aの化合物
を生成させ、
前記式2aの化合物をハロゲン化剤と反応させて化合物3
(式中、
PG1はヒドロキシル保護基であり;
R2はBr、IおよびClから選択される。)
を生成させ;
(1aiii)化合物3を有機塩基と反応させてHR2を除去し、化合物4
を生成させ;
(1aiv)化合物4を脱保護して化合物5
を生成させ;
(1av)化合物5をヒドロキシル保護剤と反応させて化合物6:
(式中、PGはヒドロキシル保護基である。)を生成させ;
(1avi)塩基の存在下で化合物6を酸化的に切断および酸化して、前記式(III)の化合物
を生成させること
を含む、請求項7または8に記載のプロセス。 - 段階(2b)が、
(2bi)酸触媒下で化合物(III)をC1-C6-アルカノールと反応させて、化合物8
を生成させ;
(2bii)塩基の存在下で化合物8をシリル化剤と反応させて化合物9:
(式中、PG3はシリル基である。)
を生成させ;
(2biii)ルイス酸の存在下で化合物9をアセトアルデヒドと反応させて化合物10:
を生成させ;
(2biv)化合物10を水素化して化合物11:
を生成させ;
(2bv)化合物11をプロトン溶媒またはプロトン溶媒と非プロトン溶媒との混合物中で塩基と反応させて化合物12:
を生成させ;
(2bvi)化合物12をヒドロキシル保護剤と反応させて式(V)の化合物を生成させること
を含む、請求項7~9の何れか1項に記載のプロセス。 - 段階(4bii)が、0℃~80℃の温度にて非プロトン溶媒中で実施される、請求項12に記載のプロセス。
- PGがTBSである、請求項1~15の何れか1項に記載のプロセス。
- R6がメチルである、請求項3および9~13の何れか1項に記載のプロセス。
- PGがTBSである、請求項17に記載のプロセス。
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