JP7124657B2 - 樹脂組成物、樹脂シート、プリント配線板及び半導体装置 - Google Patents
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Description
[1] (A)エポキシ樹脂、(B)マレイミド化合物、及び、(C)成分を含み、(B)成分が、炭素原子数が5以上のアルキル基及び炭素原子数が5以上のアルキレン基の少なくともいずれかの炭化水素鎖を含むマレイミド化合物であり、(C)成分が、(C-1)ベンゾオキサジン化合物及び(C-2)カルボジイミド化合物からなる群から選択される1種以上の化合物である、
樹脂組成物。
[2] (B)成分が、下記一般式(B-I)で表される、[1]に記載の樹脂組成物。
[4] (B)成分が、下記一般式(B-II)で表される、[1]に記載の樹脂組成物。
[6] (B)成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、0.1質量%以上20質量%以下である、[1]~[5]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[7] (C)成分が、下記一般式(C-I)で表されるベンゾオキサジン化合物を含む、[1]~[6]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[9] 一般式(C-I)中、lは0を表す、[7]又は[8]に記載の樹脂組成物。
[10] (C)成分が、下記式(C-II)で表される構造を含有するカルボジイミド化合物を含む、[1]~[9]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[12] (D)無機充填材を含む、[1]~[11]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[13] (D)成分が、アミノシランで表面処理されている、請求項12に記載の樹脂組成物。
[14] (D)成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、40質量%以上95質量%以下である、[12]又は[13]に記載の樹脂組成物。
[15] プリント配線板の絶縁層形成用である、[1]~[14]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[16] 支持体と、該支持体上に設けられた[1]~[15]のいずれかに記載の樹脂組成物を含む樹脂組成物層とを含む、樹脂シート。
[17] [1]~[15]のいずれかに記載の樹脂組成物の硬化物を含む、プリント配線板。
[18] [17]に記載のプリント配線板を含む、半導体装置。
以下、本発明の実施形態に係る樹脂組成物について詳細に説明する。
樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂を含む。(A)エポキシ樹脂としては、例えば、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリスフェノール型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、tert-ブチル-カテコール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、シクロヘキサン型エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、トリメチロール型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂等が挙げられる。エポキシ樹脂は1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお、本発明において、樹脂組成物中の各成分の含有量は、別途明示のない限り、樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%としたときの値である。
樹脂組成物は、(B)成分として、炭素原子数が5以上のアルキル基及び炭素原子数が5以上のアルキレン基の少なくともいずれかの炭化水素鎖を含むマレイミド化合物を含有する。(B)マレイミド化合物は、下記式(1)で表されるマレイミド基を分子中に含有する化合物である。
本実施形態では、(C)成分は、(C-1)ベンゾオキサジン化合物及び(C-2)カルボジイミド化合物からなる群から選択される1種以上の化合物である。なお、(C-1)ベンゾオキサジン化合物と、(C-2)カルボジイミド化合物とを併用してもよい。
樹脂組成物は、(C-1)ベンゾオキサジン化合物を含有する。(C-1)ベンゾオキサジン化合物は、後述する実施例において例証されているとおり、(A)成分及び(B)成分を含む樹脂組成物において、(C)成分を含むことにより、(C)成分を含まない場合に比べて当該樹脂組成物の硬化物の性能及び樹脂組成物の性能を向上させることが確認された成分のうちの一つである。具体的には、(C-1)ベンゾオキサジン化合物は、(A)成分を含む樹脂組成物において(B)成分と併用することにより、(C-1)成分を用いない場合に比べて、十分な時間(例えば1日以上)のポットライフを維持することができ、また、硬化物については、誘電正接の低い値を維持することができ、スミア除去性を良好なまま維持することができ、めっき密着性をより向上させることができ、下地密着性を大幅に向上させることができる。
樹脂組成物は、(C-2)カルボジイミド化合物を含有する。(C-2)カルボジイミド化合物は、後述する実施例において例証されているとおり、(A)成分及び(B)成分を含む樹脂組成物において、(C)成分を含むことにより、(C)成分を含まない場合に比べて当該樹脂組成物の硬化物の性能及び樹脂組成物の性能を向上させることが確認された成分のうちの一つである。具体的には、(C-2)カルボジイミド化合物は、(A)成分を含む樹脂組成物において(B)成分と併用することにより、(C-2)成分を用いない場合に比べて、十分な時間(例えば1日以上)のポットライフを維持することができ、また、硬化物については、誘電正接の低い値を維持することができ、スミア除去性を良好なまま維持することができ、めっき密着性をより向上させることができ、下地密着性を大幅に向上させることができる。
本実施形態において、樹脂組成物は、(D)無機充填材を含有し得る。(D)無機充填材の材料は無機化合物であれば特に限定されないが、例えば、シリカ、アルミナ、ガラス、コーディエライト、シリコン酸化物、硫酸バリウム、炭酸バリウム、タルク、クレー、雲母粉、酸化亜鉛、ハイドロタルサイト、ベーマイト、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化マンガン、ホウ酸アルミニウム、炭酸ストロンチウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸バリウム、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、リン酸ジルコニウム、及びリン酸タングステン酸ジルコニウム等が挙げられる。これらの中でもシリカが特に好適である。シリカとしては、例えば、無定形シリカ、溶融シリカ、結晶シリカ、合成シリカ、中空シリカ等が挙げられる。またシリカとしては球状シリカが好ましい。無機充填材は1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
樹脂組成物は、上述した成分以外に、任意の成分として、(E)硬化剤を含んでいてもよい。(E)硬化剤は、一般に、樹脂組成物用の硬化剤の名称で入手可能なものである。但し、本実施形態に係る樹脂組成物は、(A)成分及び(B)成分及び(C)成分を含んでおり、ここで、(B)成分はラジカル反応開始剤の有無によらず熱により(A)成分と反応することができ、その結果、樹脂組成物は硬化剤を含まなくても熱硬化するので、本実施形態に係る樹脂組成物は、(E)硬化剤を必ずしも含む必要はない。よって、(E)成分は任意に添加される成分であり、先述の必須成分である(C)成分とは明確に区別される。(E)成分としての硬化剤は、通常、(A)エポキシ樹脂と反応して樹脂組成物を硬化させる機能を有する。このような(E)硬化剤としては、例えば、(E-1)活性エステル系硬化剤、(E-2)フェノール系硬化剤、(E-3)ナフトール系硬化剤、及び(E-4)シアネートエステル系硬化剤などが挙げられる。また、硬化剤は1種類単独で用いてもよく、又は2種類以上を併用してもよい。
樹脂組成物は、上述した成分以外に、任意の成分として、(F)硬化促進剤(触媒)を含んでいてもよい。(F)硬化促進剤を用いることにより、樹脂組成物を硬化させる際に硬化を促進できる。
一実施形態において、樹脂組成物は、さらに必要に応じて、他の添加剤を含んでいてもよく、斯かる他の添加剤としては、例えば、溶媒等の分散媒、難燃剤、有機充填材、有機銅化合物、有機亜鉛化合物及び有機コバルト化合物等の有機金属化合物、増粘剤、消泡剤、レベリング剤、密着性付与剤、着色剤、並びに熱可塑性樹脂等の樹脂添加剤等が挙げられる。
上述した樹脂組成物は、上述した成分を混合することにより製造することができる。混合に際し、必要に応じて三本ロール、ボールミル、ビーズミル、サンドミル等の混練手段、あるいはスーパーミキサー、プラネタリーミキサー等の撹拌手段により混練または撹拌してもよい。樹脂組成物は、例えば(G)有機溶剤を含むことにより、樹脂ワニスとして得ることができる。
本実施形態に係る樹脂組成物を200℃で90分間熱硬化させた硬化物は、誘電正接(Df)の値が低いという特性を示す。具体的には、誘電正接の値は、好ましくは0.0040未満、より好ましくは0.0035以下、より好ましくは0.0031以下である。誘電正接(Df)の値は、後述する実施例に記載の方法で測定できる。
本発明の樹脂シートは、支持体と、該支持体上に設けられた、本発明の樹脂組成物を含む樹脂組成物層を含む。
本発明のプリント配線板は、本発明の樹脂組成物の硬化物を含む。硬化物はプリント配線板における絶縁層として機能する。絶縁層は、例えば、プリント配線板において後述する回路基板上に設けられる。また、絶縁層は、例えば、プリント配線板の第1の導体層と第2の導体層との間に設けられ、この場合、第1の導体層と第2の導体層とを絶縁する(導体層は配線層ということがある)。
(I)内層基板上に、樹脂シートの樹脂組成物層が内層基板と接合するように積層する工程
(II)樹脂組成物層を熱硬化して絶縁層を形成する工程
本発明の半導体装置は、本発明のプリント配線板を含む。本発明の半導体装置は、本発明のプリント配線板を用いて製造することができる。
ビスフェノール型エポキシ樹脂(新日鉄住金化学社製「ZX-1059」、ビスフェノールA型とビスフェノールF型の1:1混合品、エポキシ当量169)10部、及び、ナフトール型エポキシ樹脂(新日鉄住金化学社製「ESN-475V」、エポキシ当量約330)50部を、ソルベントナフサ(商品名「IP150」)70部に撹拌しながら加熱溶解させた。これを室温にまで冷却し、(A)エポキシ樹脂の溶解組成物を調製した。
実施例1において、マレイミド化合物溶液Aを、MEK10部に(B)マレイミド化合物B(デザイナーモレキュールズ社製「BMI-1500」)10部を溶解させたマレイミド化合物溶液Bに変更した。以上の事項以外は、実施例1と同様にして樹脂ワニス、樹脂シートを製造した。
実施例1において、マレイミド化合物溶液Aを、MEK10部に(B)マレイミド化合物C(デザイナーモレキュールズ社製「BMI-1700」)10部を溶解させたマレイミド化合物溶液Cに変更した。以上の事項以外は、実施例1と同様にして樹脂ワニス、樹脂シートを製造した。
実施例1において、マレイミド化合物溶液Aを、MEK10部に(B)マレイミド化合物D(デザイナーモレキュールズ社製「BMI-3000J」)10部を溶解させたマレイミド化合物溶液Dに変更した。以上の事項以外は、実施例1と同様にして樹脂ワニス、樹脂シートを製造した。
実施例1において、ベンゾオキサジン化合物溶液Aを、(C)成分としてのカルボジイミド化合物A(日清紡ケミカル社製「V-03」、活性基当量約216、不揮発成分50質量%のトルエン溶液)20部に変更した。以上の事項以外は、実施例1と同様にして樹脂ワニス、樹脂シートを製造した。
実施例5において、マレイミド化合物溶液Aを、マレイミド化合物溶液Bに変更した。以上の事項以外は、実施例5と同様にして樹脂ワニス、樹脂シートを製造した。
実施例5において、マレイミド化合物溶液Aを、マレイミド化合物溶液Cに変更した。以上の事項以外は、実施例5と同様にして樹脂ワニス、樹脂シートを製造した。
実施例5において、マレイミド化合物溶液Aを、マレイミド化合物溶液Dに変更した。以上の事項以外は、実施例5と同様にして樹脂ワニス、樹脂シートを製造した。
実施例1において、マレイミド化合物溶液Aを用いず、かつ、(D)成分の量を280部に変えた。以上の事項以外は、実施例1と同様にして樹脂ワニス、樹脂シートを製造した。
実施例1において、マレイミド化合物溶液Aを、アノン(1-シクロヘキサノン)20部に(B)対比成分としてのマレイミド化合物E(ケイ・アイ化成社製「BMI-70」:ビス-(3-エチル-5-メチル-4-マレイミドフェニル)メタン)10部を溶解させたマレイミド化合物溶液Eに変更した。以上の事項以外は、実施例1と同様にして樹脂ワニス、樹脂シートを製造した。
実施例5において、マレイミド化合物溶液Aを用いず、かつ、(D)成分の量を280部に変えた。以上の事項以外は、実施例5と同様にして樹脂ワニス、樹脂シートを製造した。
実施例5において、マレイミド化合物溶液Aを、マレイミド化合物溶液Eに変更した。以上の事項以外は、実施例5と同様にして樹脂ワニス、樹脂シートを製造した。
実施例5において、ベンゾオキサジン化合物溶液Aを用いず、かつ、(D)成分の量を280部に変更した。以上の事項以外は、実施例5と同様にして樹脂ワニス、樹脂シートを製造した。
実施例1において、マレイミド化合物溶液A及びベンゾオキサジン化合物溶液Aを用いず、かつ、(D)成分の量を280部に変更した。以上の事項以外は、実施例1と同様にして樹脂ワニス、樹脂シートを製造した。
上述した実施例及び比較例で得た樹脂シートの樹脂組成物層の硬化物を、下記の方法によって評価した。
(硬化物の評価サンプルの作製)
実施例及び比較例で得た樹脂シートの樹脂組成物層を200℃で90分間熱処理して硬化させ、支持体を剥離することで、樹脂組成物の硬化物で形成された硬化物フィルムを得た。この硬化物フィルムを長さ80mm、幅2mmに切り出し、評価サンプルを得た。
この評価サンプルについて、測定装置(アジレントテクノロジーズ(Agilent Technologies)社製「HP8362B」)を用いた空洞共振摂動法により、測定周波数10GHz、測定温度23℃にて誘電正接(Df)を測定した。3本の試験片について測定を行い、平均値を算出し、結果を表1に示した。
(1)内装基板の下地処理:
内層基板として、表面に銅箔を有するガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、基板の厚さ0.8mm、パナソニック社製「R1515A」)を用意した。この内層基板の表面の銅箔を、マイクロエッチング剤(メック社製「CZ8101」)を用いて、銅エッチング量1μmにてエッチングして、粗化処理を行った。その後、190℃にて30分乾燥を行った。
上述した実施例及び比較例で得た樹脂シートを、バッチ式真空加圧ラミネーター(ニッコー・マテリアルズ社製2ステージビルドアップラミネーター「CVP700」)を用いて、樹脂組成物層が前記の内層基板と接合するように、内層基板の両面にラミネートした。このラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とした後、温度100℃、圧力0.74MPaにて30秒間圧着することにより、実施した。
次いで、ラミネートされた樹脂シートを、大気圧下、100℃、圧力0.5MPaにて60秒間、熱プレスして平滑化した。さらにこれを、100℃のオーブンに投入して30分間加熱し、次いで170℃のオーブンに移し替えて30分間加熱した。これにより、樹脂組成物の硬化物で形成された絶縁層を得た。
ビアメカニクス社製CO2レーザー加工機(LK-2K212/2C)を使用し、周波数2000Hzでパルス幅3μ秒、出力0.95W、ショット数3の条件で、内層基板の一方の面にある絶縁層を加工して、絶縁層表面におけるトップ径(直径)が50μm、絶縁層底面における直径が50μmのビアホールを形成した。さらにその後支持体を剥離し、回路基板を得た。
回路基板の絶縁層表面を、膨潤液であるアトテックジャパン社のスエリングディップ・セキュリガントPに60℃で10分間浸漬した。次に、回路基板の絶縁層表面を、粗化液であるアトテックジャパン社のコンセントレート・コンパクトP(KMnO4:60g/L、NaOH:40g/Lの水溶液)に80℃で25分間浸漬した。最後に、回路基板の絶縁層表面を、中和液であるアトテックジャパン社のリダクションソリューション・セキュリガントPに40℃で5分間浸漬した。
3つのビアホールの底部の周囲を走査電子顕微鏡(SEM)にて観察し、得られた画像からビアホール底部の壁面からの最大スミア長を測定し、以下の基準で評価した。結果を表1に示した。
○:最大スミア長が5μm未満(すなわち、3つのビアホールのいずれにもスミア長が5μm以上のものがなく、スミア除去性が良好である)
×:最大スミア長が5μm以上(すなわち、3つのビアホールの少なくとも1つにスミア長が5μm以上のものがあり、スミア除去性に劣る)
<<評価基板の調製>>
(1)内層回路基板の下地処理
内層回路を形成したガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、基板の厚さ0.4mm、パナソニック(株)製「R1515A」)の両面を、マイクロエッチング剤(メック(株)製「CZ8101」)に浸漬し1μmエッチングして銅表面の粗化処理を行った。
実施例及び比較例で作製した樹脂シートを、バッチ式真空加圧ラミネーター((株)名機製作所製「MVLP-500」)を用いて、樹脂組成物層が内層回路基板と接合するように、内層回路基板の両面に積層した。積層は、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とした後、100℃、圧力0.74MPaにて30秒間圧着することにより実施した。
積層した接着フィルムを、200℃にて90分間熱硬化して、内層回路基板の両面上に硬化物(絶縁層)を形成した。その後、樹脂シートから支持体を剥離した。
絶縁層が形成された内層回路基板を、膨潤液(アトテックジャパン(株)「スエリングディップ・セキュリガントP」、ジエチレングリコールモノブチルエーテル含有の水酸化ナトリウム水溶液)に60℃で10分間浸漬し、次いで粗化液(アトテックジャパン(株)「コンセントレート・コンパクトP」、過マンガン酸カリウム濃度60g/L、水酸化ナトリウム濃度40g/Lの水溶液)に80℃で20分間浸漬し、最後に中和液(アトテックジャパン(株)「リダクションソリューション・セキュリガントP」、硫酸ヒドロキシルアミン水溶液)に40℃で5分間浸漬した。次いで、80℃で30分間乾燥させた。得られた基板を「評価基板A」と称する。
セミアディティブ法に従って、評価基板Aの表面にめっき導体層(第2導体層)を形成した。具体的には、評価基板Aを、PdCl2を含む無電解めっき用溶液に40℃にて5分間浸漬し、次いで無電解銅めっき液に25℃にて20分間浸漬した。得られた評価基板Aを、150℃にて30分間加熱してアニール処理を行った後、硫酸銅電解めっきを施し、30μmの厚さでめっき導体層を形成した。めっき導体層を形成した評価基板Aを、190℃にて60分間アニール処理した。得られた基板を「評価基板B」と称する。
評価基板Bのめっき導体層(第2導体層)に、幅10mm、長さ100mmの部分の切込みをいれ、この一端を剥がしてつかみ具で掴み、室温(25℃)中にて、50mm/分の速度で垂直方向に35mmを引き剥がした時の荷重[kgf/cm(N/cm)]を測定した。測定には、引っ張り試験機((株)TSE製「AC-50C-SL」)を使用した。結果を表1に示した。
(1)銅箔の下地処理
三井金属鉱山(株)製「3EC-III」(電界銅箔、35μm)の光沢面をマイクロエッチング剤(メック(株)製「CZ8101」)に浸漬して銅表面に粗化処理(Ra値=1μm)を行い、防錆処理(CL8300)を施した。この銅箔をCZ銅箔という。さらに、130℃のオーブンで30分間加熱処理した。
上記<評価基板の調製>の「(2)樹脂シートの積層」と同様の操作を行い、内層回路基板の両面に樹脂シートが積層された基板を用意した。その後、当該基板から、両面にある支持体を剥離し、双方の樹脂組成物層を露出させた。それらの樹脂組成物層上に、「3EC-III」のCZ銅箔の処理面を、上記<評価基板の調製>の「(2)樹脂シートの積層」と同様の条件で、積層した。そして、190℃、90分の硬化条件で樹脂組成物層を硬化して絶縁層を形成することで、サンプルを作製した。
作製したサンプルを150×30mmの小片に切断した。小片の銅箔部分に、カッターを用いて幅10mm、長さ100mmの部分の切込みをいれて、銅箔の一端を剥がしてつかみ具((株)TSE製「AC-50C-SL」)で掴み、インストロン万能試験機を用いて、室温中にて、50mm/分の速度で垂直方向に35mmを引き剥がした時の荷重[kgf/cm(N/cm)]をJIS C6481に準拠して測定した。結果を表1に示した。
実施例及び比較例の樹脂シートを作成するにあたり調製した樹脂ワニスのうちの100ml(ミリリットル)を室温、暗所にて1日間放置し、その後、当該樹脂ワニスにゲル化が認められるかどうかを目視により確認した。
当該確認の結果、ゲル化が認められた場合には、ポットライフが「×」(不良)と評価し、ゲル化が認められなかった場合には、ポットライフが「○」(良)と評価した。
上述した実施例及び比較例の結果を、下記の表1に示す。下記の表1において、各成分の量は、不揮発成分換算量を表す。また、下記の表1において、略称の意味は、下記のとおりである。なお、表1中の(D)成分の含有量は、樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合の百分率[質量%]を示す。
表1から分かるように、実施例と比較例の対比から、実施例においては、低誘電正接でかつスミア除去性に優れ、かつ、導体層との間で優れた密着強度を有する硬化物を形成することが可能な樹脂組成物が提供できることが分かった。また、実施例においては、ポットライフが良好であることも分かった。さらに、実施例に係る樹脂組成物を含む樹脂シート;当該樹脂組成物の硬化物を含むプリント配線板;及び当該プリント配線板を含む半導体装置を提供することも可能となることが分かった。
11 第1の導体層の主面
2 第2の導体層
21 第2の導体層の主面
3 絶縁層
t1 第1導体層と第2の導体層との間隔(第1及び第2の導体層間の絶縁層の厚み)
t2 絶縁層全体の厚み
Claims (10)
- (A)エポキシ樹脂、(B)マレイミド化合物、及び、(C)成分を含み、
(B)成分が、炭素原子数が5以上のアルキル基及び炭素原子数が5以上のアルキレン基の少なくともいずれかの炭化水素鎖を含むマレイミド化合物であり、
前記マレイミド化合物が、下記一般式(B-II)で表されるマレイミド化合物、下記一般式(B-III)で表されるマレイミド化合物、及び、下記一般式(B-IV)で表されるマレイミド化合物からなる群より選択される少なくとも1つを含み、
(C)成分が、下記式(C-II)で表される構造を含有する(C-2)カルボジイミド化合物(但し、マレイミド基を有するものを除く。)を含む、
樹脂組成物(但し、エポキシ樹脂、無機充填材、硬化剤、及び両親媒性ポリエーテルブロックコポリマーを含有する樹脂組成物を除く。)。
- (B)成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、0.1質量%以上20質量%以下である、請求項1に記載の樹脂組成物。
- (C)成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、0.1質量%以上30質量%以下である、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。
- (D)無機充填材を含む、請求項1~3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- (D)成分が、アミノシランで表面処理されている、請求項4に記載の樹脂組成物。
- (D)成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、40質量%以上95質量%以下である、請求項4又は5に記載の樹脂組成物。
- プリント配線板の絶縁層形成用である、請求項1~6のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- 支持体と、該支持体上に設けられた請求項1~7のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含む樹脂組成物層とを含む、樹脂シート。
- 請求項1~7のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物を含む、プリント配線板。
- 請求項9に記載のプリント配線板を含む、半導体装置。
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