JP7122492B1 - スルホン酸塩組成物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
スルホコハク酸エステル塩等のスルホン酸塩は陰イオン界面活性剤として使用されるものがあり、種々の分野において、単独で、又は他の成分と組み合わせて、洗浄基剤、乳化剤、湿潤剤、分散剤などとして利用されている。
スルホン酸塩のうち、所定の炭素数のアルキル基及び/又はアルケニル基を有するジエステル型のスルホン酸塩は、水溶液で用いる場合のきめ細かい泡の形成、素早い泡切れといった望ましい泡挙動や、固体脂汚れに対する高い洗浄力などを有することから、利用価値の高い界面活性剤であると考えられる。
前記不溶成分の除去に供される混合物は、(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分を含有し、(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分の合計含有量に対する(B1)成分の含有量の質量比(B1)/(S+B1+B2)が0.05以上0.65以下であり、
(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分の合計含有量に対する(B2)成分の含有量の質量比(B2)/(S+B1+B2)が0.03以上0.26以下である、
スルホン酸塩組成物の製造方法に関する。
ROOC-(CH2)n-CH=CH-(CH2)m-COOR’ (1)
(式中、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。n及びmはそれぞれ0以上18以下の数であり、nとmの合計は0以上18以下である。)
ROOC-(CH2)p-CH(SO3M)-CH2-(CH2)q-COOR’(2)
(式中、Mはカチオン、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。p及びqはそれぞれ0以上18以下の数であり、pとqの合計は0以上18以下である。)
本発明のスルホン酸塩組成物の製造方法は、所定の炭素数のアルキル基及び/又はアルケニル基を有するジエステル型のスルホン酸塩を高濃度で含み、保存安定性に優れたスルホン酸塩組成物の製造に適している。
発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討の結果、スルホン酸塩中の無機金属化合物の含有量が少ないスルホン酸塩組成物の製造方法を発明するに至った。本発明の製造方法によれば、スルホン酸塩中の無機金属化合物の含有量が少ないスルホン酸塩組成物が得られる。また、発明者らは、鋭意検討を行った結果、スルホン酸塩組成物の保存安定性が、スルホン酸塩組成物中の無機塩等の無機金属化合物含有量の増加に影響を受けることを見出した。なお、スルホン酸塩を高濃度で含み、無機塩等の無機金属化合物の含有量が少ない組成物は、例えば、洗浄剤組成物に配合使用した時に低温安定性に優れる等、処方の自由度が広がる副次的な効果も得られる。
本発明では、スルホン酸塩を含んだ混合物から不溶成分を除去する際に、不溶成分の除去に供される混合物中の(B1)有機溶剤と(B2)水の含有量が所定範囲にあることで、混合物からの無機塩等の無機金属化合物の析出が促進されているものと推察される。そして、無機塩等の無機金属化合物を多く析出させた混合物を不溶成分の除去に供することで、不溶成分が除去された後の混合物における無機塩等の無機金属化合物の含有量が少なくなると推察される。
ROOC-(CH2)n-CH=CH-(CH2)m-COOR’ (1)
(式中、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。n及びmはそれぞれ0以上18以下の数であり、nとmの合計は0以上18以下である。)
除去対象の不溶成分は(D)無機金属化合物であってよい。
(D1)MHSO3、M2SO3、及びM2S2O5(式中、Mは金属カチオンを表す)から選ばれる少なくとも1種の化合物
(D2)前記(D1)の化合物の加水分解物
(D3)前記(D1)の化合物の中和物、及び前記(D2)の加水分解物の中和物から選ばれる少なくとも1種の中和物
(D4)前記(D1)の化合物の酸化物、前記(D2)の加水分解物の酸化物、及び前記(D3)の中和物の酸化物から選ばれる少なくとも1種の酸化物
(D1)のうち、MHSO3としては、亜硫酸水素カリウム、亜硫酸水素ナトリウムなどが挙げられる。
(D1)のうち、M2SO3としては、亜硫酸カリウム、亜硫酸ナトリウムなどが挙げられる。
(D1)のうち、M2S2O5としては、二亜硫酸カリウム、二亜硫酸ナトリウムなどが挙げられる。
ROOC-(CH2)p-CH(SO3M)-CH2-(CH2)q-COOR’ (2)
(式中、Mはカチオン、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。p及びqはそれぞれ0以上18以下の数であり、pとqの合計は0以上18以下である。)
p及びqは、それぞれ0以上であり、そして、18以下、16以下、12以下、8以下、4以下、2以下、1以下、0であってよい。
pとqの合計は0以上であり、そして、18以下、16以下、12以下、8以下、4以下、2以下、1以下、0であってよい。
また、スルホン化反応は、空気雰囲気下や窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。
濃度調整後の混合物中の(B1)成分の含有量と(B2)成分の含有量の質量比(B1)/(B2)を、得られるスルホン酸塩組成物中の(D)無機金属化合物の含有量が少なく、高純度のスルホン酸塩組成物を得る観点から、好ましくは0.3以上、より好ましくは0.4以上、更に好ましくは0.7以上、より更に好ましくは0.9以上、より更に好ましくは1.0以上、そして、例えば、1000以下、100以下、50以下、30以下、20以下、10以下に調整してもよい。この質量比(B1)/(B2)は、スルホン化反応で、別途調整された(S)成分を使用する場合も使用しない場合のどちらの場合も、この範囲が好ましい。
中和反応及び酸化反応の反応温度は、(S)成分の加水分解を抑制する観点から、好ましくは60℃以下、より好ましくは55℃以下であり、そして、操作性の観点から、好ましくは20℃以上である。
なお、中和反応及び酸化反応の反応温度とは、中和反応及び酸化反応時におけるスルホン化反応で得られた混合物の温度を示す。中和反応及び酸化反応は発熱を伴うため必要に応じて冷却を行い、前記の温度範囲で操作することで(S)成分の加水分解を抑制することができる。
不溶成分の除去に供される混合物中、(B1)成分の含有量は、同様の観点から、好ましくは5質量%以上、より好ましくは7質量%以上であり、そして、好ましくは65質量%以下、より好ましくは60質量%以下、更に好ましくは40質量%以下、より更に好ましくは30質量%以下、より更に好ましくは20質量%以下である。
不溶成分の除去に供される混合物中の(B1)成分の含有量は、いずれの場合も、スルホン化反応で、別途調整された(S)成分を使用する場合も使用しない場合のどちらの場合も、この範囲が好ましい。
なお、不溶成分の除去に供される混合物中の(B1)成分及び(B2)成分の含有量は、当該混合物での測定値、(A)成分のスルホン化反応の仕込み量と不溶成分の除去後の混合物中の各成分の含有量の測定値に基づいて算出された計算値を採用してもよい(以下、同様である)。
不溶成分の除去に供される混合物中、(B2)成分の含有量は、同様の観点から、好ましくは3質量%以上、より好ましくは5質量%以上であり、そして、好ましくは40質量%以下、より好ましくは35質量%以下、更に好ましくは30質量%以下、より更に好ましくは26質量%以下、より更に好ましくは25質量%以下、より更に好ましくは22質量%以下、より更に好ましくは20質量%以下である。
不溶成分の除去に供される混合物中の(B2)成分の含有量は、いずれの場合も、スルホン化反応で、別途調整された(S)成分を使用する場合も使用しない場合のどちらの場合も、この範囲が好ましい。
なお、純度の高いスルホン酸塩を得る観点から、不溶成分を除去する際に、共沸蒸留を行わないことが好ましい。
前記の分離方法としては、吸着膜や吸着剤による処理、凝集剤の添加、遠心分離、静置、デカンテーション、濾過などが挙げられる。濾過は、重力濾過、加圧濾過、減圧濾過などであってよい。また、不溶成分を除去する際、必要に応じて濾過助剤、凝集剤を併用してもよい。濾過助剤としては、特に制限は無く、工業的に使用されているケイソウ土、シリカ、ガラス繊維、活性炭などを用いることができる。
濾過助剤を用いる場合、無機金属化合物を除去する観点及び濾過助剤に含まれる液量の観点から、濾過助剤の添加量は、不溶成分の除去に供される混合物100質量部あたり、好ましくは0.01質量部以上、より好ましくは1質量部以上であり、そして、好ましくは20質量部以下、より好ましくは10質量部以下である。
また、不溶成分除去操作時に捕捉される(D)成分の粒子径は、不溶成分の除去率および後の工程における操作性の観点から、例えば、10μm以下、5μm以下、そして、0.1μm以上、1μm以上であってよい。当該粒子径は、使用する濾過助剤および濾材の捕捉粒子径として保証された値である。すなわち、当該粒子径は、濾過手段の目開きで捕捉される粒子としての粒径である。
なお、本発明のスルホン酸塩組成物の製造方法では、不溶成分の除去後に、スルホン酸塩組成物中の(S)成分等が所望の濃度となるように、(B1)成分及び(B2)成分から選択される1種以上を含む溶媒を添加して、スルホン酸塩組成物の溶媒量の調整を行ってもよい。
前記不溶成分の除去に供される混合物は、(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分を含有し、(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分の合計含有量に対する(B1)成分の含有量の質量比(B1)/(S+B1+B2)が0.05以上0.65以下、好ましくは0.59以下であり、
(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分の合計含有量に対する(B2)成分の含有量の質量比(B2)/(S+B1+B2)が0.03以上0.26以下、好ましくは0.20以下であり、且つ、好ましくは(B1)成分の含有量と(B2)成分の含有量の質量比(B1)/(B2)が0.80以上である、スルホン酸塩組成物の製造方法が挙げられる。このスルホン酸塩組成物の製造方法において、(S)下記一般式(2)で表されるスルホン酸塩を含有する混合物から不溶成分を析出させること、及び混合物から析出した成分を除去すること、を行ってもよい。
ROOC-(CH2)n-CH=CH-(CH2)m-COOR’ (1)
(式中、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。n及びmはそれぞれ0以上18以下の数であり、nとmの合計は0以上18以下である。)
ROOC-(CH2)p-CH(SO3M)-CH2-(CH2)q-COOR’(2)
(式中、Mはカチオン、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。p及びqはそれぞれ0以上18以下の数であり、pとqの合計は0以上18以下である。)
以下に、本発明の態様を例示する。以下の態様においても、一般式(1)で表される化合物が(A)成分、有機溶剤が(B1)成分、水が(B2)成分、(B1)成分及び(B2)成分から選択される1種以上の溶媒が(B)成分、スルホン化剤が(C)成分、一般式(2)で表されるスルホン酸塩が(S)成分である。
前記不溶成分の除去に供される混合物は、(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分を含有し、(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分の合計含有量に対する(B1)成分の含有量の質量比(B1)/(S+B1+B2)が0.05以上0.65以下であり、
(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分の合計含有量に対する(B2)成分の含有量の質量比(B2)/(S+B1+B2)が0.03以上0.26以下である、
スルホン酸塩組成物の製造方法。
ROOC-(CH2)n-CH=CH-(CH2)m-COOR’ (1)
(式中、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。n及びmはそれぞれ0以上18以下の数であり、nとmの合計は0以上18以下である。)
ROOC-(CH2)p-CH(SO3M)-CH2-(CH2)q-COOR’(2)
(式中、Mはカチオン、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。p及びqはそれぞれ0以上18以下の数であり、pとqの合計は0以上18以下である。)
前記不溶成分の除去に供される混合物は、(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分を含有し、(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分の合計含有量に対する(B1)成分の含有量の質量比(B1)/(S+B1+B2)が0.05以上0.65以下、好ましくは0.59以下であり、
(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分の合計含有量に対する(B2)成分の含有量の質量比(B2)/(S+B1+B2)が0.03以上0.26以下、好ましくは0.20以下であり、且つ、好ましくは(B1)成分の含有量と(B2)成分の含有量の質量比(B1)/(B2)が0.80以上である、前記<1>~<52>の何れかに記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
ROOC-(CH2)n-CH=CH-(CH2)m-COOR’ (1)
(式中、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。n及びmはそれぞれ0以上18以下の数であり、nとmの合計は0以上18以下である。)
ROOC-(CH2)p-CH(SO3M)-CH2-(CH2)q-COOR’(2)
(式中、Mはカチオン、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。p及びqはそれぞれ0以上18以下の数であり、pとqの合計は0以上18以下である。)
前記不溶成分の除去に供される混合物は、(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分を含有し、(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分の合計含有量に対する(B1)成分の含有量の質量比(B1)/(S+B1+B2)が0.05以上0.65以下、好ましくは0.59以下であり、
(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分の合計含有量に対する(B2)成分の含有量の質量比(B2)/(S+B1+B2)が0.03以上0.26以下、好ましくは0.20以下であり、且つ、好ましくは(B1)成分の含有量と(B2)成分の含有量の質量比(B1)/(B2)が0.80以上である、前記<1>~<53>の何れかに記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
ROOC-(CH2)n-CH=CH-(CH2)m-COOR’ (1)
(式中、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。n及びmはそれぞれ0以上18以下の数であり、nとmの合計は0以上18以下である。)
ROOC-(CH2)p-CH(SO3M)-CH2-(CH2)q-COOR’(2)
(式中、Mはカチオン、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。p及びqはそれぞれ0以上18以下の数であり、pとqの合計は0以上18以下である。)
<製造例>
米国特許出願公開第2007/0214999号明細書のExample 2に準じてマレイン酸ジエステル(ジ-(2-プロピルヘプチル)マレイン酸エステル(DDM))を得た。また、無水マレイン酸をフマル酸に変えて、同じ操作にてフマル酸ジエステル(ジ-(2-プロピルヘプチル)フマル酸エステル(DDF))を得た。
次に、表1~3の組成となるように、1Lのガラス製反応容器に先のマレイン酸ジエステル(又はフマル酸ジエステル)と二亜硫酸ナトリウム及びイオン交換水、プロピレングリコール(PG)を仕込み、公知の方法により表1~3に示す条件で反応させた。実施例3~11、13~20及び比較例1~2では、予め各実施例、比較例で製造するものと同じジアルキルスルホン酸塩(DASS)を反応促進剤として使用した。なお、以下の説明において、DASSは、反応促進剤としてのジアルキルスルホン酸塩としてだけでなく、実施例で製造したジアルキルスルホン酸塩も含み得る。
・二亜硫酸ナトリウム:富士フイルム和光純薬株式会社製、特級試薬
・プロピレングリコール:富士フイルム和光純薬株式会社製、特級試薬
次に、工程1で得られたスルホン酸塩を含有する混合物を50℃以下まで冷却し、必要に応じて、該混合物に、表1~3に示す量のプロピレングリコール及び/又はイオン交換水を添加した。
次に、混合物を55℃以下に保ちながら、未反応の(C)成分及び/又は(C)成分の加水分解物を30%過酸化水素水で酸化処理した。また、混合物に35%水酸化ナトリウム水溶液を添加してpHを5に調整した。中和工程を先に行う場合は、未反応の(C)成分及び/又は(C)成分の加水分解物を20%炭酸ナトリウムで処理した後、30%過酸化水素水で酸化処理した。
次に、混合物に、濾過助剤としてラヂオライト#900(昭和化学工業株式会社製)を加えた後、ジャケット付きの加圧濾過器(内容量2.9リットル、濾過面積0.0095m2)に50℃温水を循環させて温度を保ちながら、窒素0.4MPaにて混合物を加圧濾過した。捕捉粒子径は1μm(濾過助剤カタログ記載値)であった。
実施例1~20及び比較例1、2で得られたスルホン酸塩組成物について各成分の含有量を、以下の方法により求めた。各成分の含有量は、工程4濾過直後に測定した。なお、工程4の濾過前の各成分の含有量(質量%)の内、(S)DASS、(B1)PG、硫酸ナトリウム及び(B2)水の含有量は工程1の仕込み量等に基づいて算出した。具体的には、(S)DASSの含有量は、(A)成分の仕込み量と表の転換率に基づいて算出した(S)成分に、必要に応じて工程1で添加されたDASSの添加量を加えて算出した。PGは、工程1の仕込み量と工程2の添加量に基づいて算出した。硫酸ナトリウムは、工程1における二亜硫酸ナトリウムの仕込み量と表の転換率に基づいて残留した二亜硫酸ナトリウムを算出し、残留した二亜硫酸ナトリウムを硫酸ナトリウムに換算した含有量である。(B2)水は、(S)DASS、(B1)PG、硫酸ナトリウムの残部として算出した。結果を表1~3に示す。
(1-1)スルホン酸塩(DASS) 質量%
合成洗剤試験法 JIS K 3362に従って求めた。
(1-2)ジ-(2-プロピルヘプチル)フマル酸エステル 質量%
ガスクロマトグラフィーによりジ-(2-プロピルヘプチル)フマル酸エステルを定量した。
(1-3)プロピレングリコール 質量%
ガスクロマトグラフィーによりプロピレングリコールを定量した。
(1-4)水 質量%
化学製品の水分試験法 JIS K 0068に従って求めた。
(1-5)硫酸ナトリウム 質量%
京都電子工業株式会社製の「電位差自動滴定装置」により硫酸ナトリウムを定量した。
(2-1)スルホン酸塩組成物中の無機金属化合物含有量の評価
調製した各スルホン酸塩組成物中の硫酸ナトリウム量を上記の方法にて求めた。結果を表1~3に示す。工程4直後における各スルホン酸塩組成物中の硫酸ナトリウムの含有量が1.2質量%以下、更に0.8質量%未満であると、無機塩金属化合物の含有量がより低減されたスルホン酸塩組成物といえる。
(2-2)無機塩低減率
工程4における、濾過前の硫酸ナトリウムの含有量(質量%)と濾過後の硫酸ナトリウムの含有量に基づいて、下記の式より無機塩低減率を算出した。結果を表1~3に示す。なお、下記の式において、「濾過前」は、工程4の濾過前の硫酸ナトリウムの含有量(質量%)を示し、「濾過後」は、工程4の濾過後の硫酸ナトリウムの含有量(質量%)を示す。
無機塩低減率(%)=〔(濾過前-濾過後)/濾過前〕×100
工程4後のスルホン酸塩組成物について、前記スルホン酸塩組成物に含まれる(S)成分100質量部に対する、当該スルホン酸塩組成物に含まれる硫酸ナトリウムの質量部に基づいて、各スルホン酸塩組成物の評価を行った。
この(S)成分100質量部に対する、硫酸ナトリウムの質量部が小さいほど、純度の高いスルホン酸塩組成物といえる。
工程4後のスルホン酸塩組成物30gを、密閉できるガラス容器(50mL)に入れて、20℃で、24時間保存後の外観を目視により観察した。
また、本発明のスルホン酸塩組成物の製造方法によれば、高濃度で(S)一般式(2)で表されるスルホン酸塩を含み、スルホン酸塩組成物中の(S)成分の含有量に対する不溶成分(例えば、硫酸ナトリウム等の無機金属化合物)の含有量を効果的に低減することができる。
Claims (15)
- (A)下記一般式(1)で表される化合物〔以下、(A)成分という〕に、(B)(B1)有機溶剤〔以下、(B1)成分という〕及び(B2)水〔以下、(B2)成分という〕から選択される1種以上の溶媒の存在下で、(C)スルホン化剤〔以下、(C)成分という〕を反応させて、(S)下記一般式(2)で表されるスルホン酸塩〔以下、(S)成分という〕を含有する混合物を得ること、及び前記混合物中の不溶成分を除去すること、を行う、スルホン酸塩組成物の製造方法であって、
前記不溶成分の除去に供される混合物は、(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分を含有し、(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分の合計含有量に対する(B1)成分の含有量の質量比(B1)/(S+B1+B2)が0.05以上0.65以下であり、
(S)成分、(B1)成分及び(B2)成分の合計含有量に対する(B2)成分の含有量の質量比(B2)/(S+B1+B2)が0.03以上0.26以下である、
スルホン酸塩組成物の製造方法。
ROOC-(CH2)n-CH=CH-(CH2)m-COOR’ (1)
(式中、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。n及びmはそれぞれ0以上18以下の数であり、nとmの合計は0以上18以下である。)
ROOC-(CH2)p-CH(SO3M)-CH2-(CH2)q-COOR’(2)
(式中、Mはカチオン、R、R’は、独立して炭素数10のアルキル基及び炭素数10のアルケニル基から選ばれる基である。p及びqはそれぞれ0以上18以下の数であり、pとqの合計は0以上18以下である。) - (A)成分が、前記一般式(1)中のR及びR’が、独立して、2-プロピルヘプチル基、4-メチル2-プロピルヘキシル基及び5-メチル2-プロピルヘキシル基から選ばれる基である化合物である、請求項1に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
- 前記混合物に、(B1)成分及び(B2)成分から選択される1種以上の溶媒を添加した後、当該混合物中の不溶成分を除去する、請求項1又は2に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
- 前記スルホン酸塩組成物中、(B1)成分の含有量は、5質量%以上65質量%以下、(B2)成分の含有量は、3質量%以上25質量%以下である、請求項1~3の何れか1項に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
- (B1)成分は、一価アルコール及び多価アルコールから選ばれる少なくとも1種である、請求項1~4の何れか1項に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
- (C)成分は、MHSO3、M2SO3及びM2S2O5(式中、Mはカチオンを表す)から選ばれる少なくとも1種の化合物である、請求項1~5の何れか1項に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
- 前記不溶成分は、未反応の(C)成分及び(C)成分の加水分解物から選ばれる(D)無機金属化合物を含む、請求項1~6の何れか1項に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
- (A)成分1モルに対して(C)成分を1.00モル以上1.20モル以下の割合で用いる、請求項1~7の何れか1項に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
- 反応温度100℃以上125℃未満、常圧又は加圧下で、(A)成分に(C)成分を反応させる、請求項1~8の何れか1項に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
- 不溶成分の除去を行う前に、前記混合物中の未反応の(C)成分を中和及び/又は酸化する、請求項1~9の何れか1項に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
- (A)成分と(C)成分との反応により得られるスルホン酸塩を別途調製し、当該スルホン酸塩の共存下で(A)成分に(C)成分を反応させる、請求項1~10の何れか1項に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
- (B1)成分は、メタノール、エタノール、1-プロパノール、1-ブタノール、1-ペンタノール、1-ヘキサノール、1-オクタノール、1-ノナノール、2-ノナノール、5-ノナノール、1-デカノール、1-ドデカノール、3,5,5-トリメチルヘキサン-1-オール、2,6-ジメチル-4-ヘプタノール、2-プロピルヘプタノール、4-メチル2-プロピルヘキサノール、5-メチル2-プロピルヘキサノールから選ばれる1種以上の化合物である、請求項1~11の何れか1項に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
- (B1)成分は、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,10-デカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、グリセリン、キシリトール、ソルビトールから選ばれる1種以上の化合物である、請求項1~11の何れか1項に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
- (B1)成分は、エタノール、1-ブタノール、1-プロパノール、グリセリン及びプロピレングリコールから選ばれる1種以上の化合物である、請求項1~11の何れか1項に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
- 不溶成分の除去後のスルホン酸塩組成物中の(D)成分の含有量は、(S)成分の含有量100質量部に対して1.6質量部未満である、請求項1~14の何れか1項に記載のスルホン酸塩組成物の製造方法。
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