JP7081696B2 - ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、導電パターン付き基板、積層体の製造方法、タッチパネル及び有機ｅｌ表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、導電パターン付き基板、積層体の製造方法、タッチパネル及び有機ＥＬ表示装置に関する。

近年、入力手段としてタッチパネルが広く用いられている。タッチパネルは、液晶パネルなどの表示部と、特定の位置に入力された情報を検出するタッチパネルセンサー等から構成される。タッチパネルの方式は、入力位置の検出方法により、抵抗膜方式、静電容量方式、光学方式、電磁誘導方式、超音波方式などに大別される。中でも、光学的に明るいこと、意匠性に優れること、構造が簡易であることおよび機能的に優れること等の理由により、静電容量方式のタッチパネルが広く用いられている。

静電容量方式のタッチパネルセンサーは、第一電極と絶縁層を介して直交する第二電極を有し、タッチパネル面の電極に電圧をかけて、指などの導電体が触れた際の静電容量変化を検知することにより得られた接触位置を信号として出力する。静電容量方式に用いられるタッチパネルセンサーとしては、例えば、一対の対向する透明基板上に電極および外部接続端子を形成した構造や、一枚の透明基板の両面に電極および外部接続端子をそれぞれ形成した構造などが知られている。タッチパネルセンサーに用いられる配線電極としては、配線電極を視認されにくくする観点から透明配線電極が用いられることが一般的であったが、近年、高感度化や画面の大型化により、金属材料を用いた不透明配線電極が広まっている。

金属材料を用いた不透明配線電極を有するタッチパネルセンサーは、不透明配線電極の金属光沢により不透明配線電極が視認される課題があったが、不透明配線電極上に着色剤を含有する感光性樹脂組成物を用い、遮光層を形成して視認されにくくする手法がある。（例えば特許文献１）

国際公開２０１８／１６８３２５号

しかしながら、着色剤を用いた感光性樹脂組成物においては、パターン形成の際に基板上、特に有機成分を含む膜上で着色剤由来の残渣が生じやすいため、外観不良等が生じ、基材の透明性が損なわれることがあった。また、残渣を抑制させるため、現像時間を長くすると、微細なパターンを形成することが困難であった。さらに、第一電極及び第二電極として銀電極を用いた場合、電極上に形成された遮光層中の成分が絶縁層に拡散して不純物となり、銀のマイグレーションが発生しやすいという課題もあった。

本発明は、低反射率であるとともに、不透明配線電極の遮光層として適用可能で、微細パターンの解像性と、基板上の残渣抑制による基材の透明性確保と、マイグレーション耐性とを両立させることが可能な、ポジ型感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。

本発明者らは、本発明の目的は、側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂と、感光剤及び着色剤とを組み合わせることによって達成されることを見出した。

即ち、本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光剤（Ｂ）及び着色剤（Ｃ）を含有し、前記重合性基がアクリル基および／またはメタクリル基であり、
前記側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、下記一般式（２）で表される繰り返し単位を有することを特徴とする。

（一般式（２）中、R ^２ 及びR ^３ は水素原子又はメチル基を示す。R ^２ 及びR ^３ はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。）

本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、低反射率であるとともに、不透明配線電極の遮光層として適用可能で、微細パターンの解像性と、基板上の残渣抑制による基材の透明性確保と、マイグレーション耐性とを両立させることができる。

本発明の積層体の構成の一例を示す概略図である。 本発明の積層体の構成の別の一例を示す概略図である。 本発明の積層体の製造方法の一例を示す概略図である。 実施例および比較例における評価用電極パターンを示す概略図である。 実施例および比較例における基板上残渣評価用積層基板の上面図である。

本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光剤（Ｂ）及び着色剤（Ｃ）を含有し、前記重合性基がアクリル基および／またはメタクリル基であり、
前記側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、下記一般式（２）で表される繰り返し単位を有することを特徴とする。

（一般式（２）中、R ^２ 及びR ^３ は水素原子又はメチル基を示す。R ^２ 及びR ^３ はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。）

［側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）を含有する。側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）を含有することにより、現像時における溶解を促進し、残渣を抑制して基材の透明性を確保することができるとともに、微細なパターンを形成することができる。また、パターン形成後の熱処理で重合性基が架橋し、得られた硬化膜の耐溶剤性が向上する。ここで、「アルカリ可溶性」とは、アルカリ水溶液や有機アルカリに溶解する性質を指す。

側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、アルカリ可溶性を付与するため、樹脂の構造単位中および／またはその主鎖末端に酸性基を有することが好ましい。酸性基としては、例えば、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基などが挙げられる。これらの中でも、アルカリ現像液に対する溶解性の高さから、カルボキシル基が好ましい。

本発明において、前記重合性基は、アクリル基および／またはメタクリル基である。重合性基がアクリル基および／またはメタクリル基であることにより、光及び／または熱による架橋反応が効率的に進行して硬化度が向上する結果、不透明配線電極上に形成された遮光層中の成分が絶縁層に拡散するのを抑制し、マイグレーション耐性を向上させることができる。

アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、アクリルポリマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、カルド系樹脂、ポリシロキサン、ポリイミド、ポリアミド、ポリベンゾオキサゾールなどが挙げられるが、これらに限定されない。これらの樹脂を２種以上含有してもよい。中でも、不飽和二重結合の導入の容易さから、アクリルポリマー、カルド系樹脂、ポリシロキサンが好ましく、耐候性の観点から、アクリルポリマー、ポリシロキサンがより好ましく、合成の容易性の観点からアクリルポリマーがさらに好ましい。

前記側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、下記一般式（１）で表される有機基を有することが好ましい。側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）中に、下記一般式（１）で表される有機基を有することにより、パターン形成時に、残渣をより抑制して基材の透明性を確保することが可能であり、後の加熱工程により得られた硬化膜の耐溶剤性をより向上させることができる。有機基は、側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）に対してＩＲ分析、^１ＨＮＭＲ、ＧＣ－ＭＳ及びＭＡＬＤＩ－ＭＳ分析により、同定することができる。

一般式（１）中、Ｘは炭素数１～４の炭化水素基を表し、ｓは０または１を表し、R^１は水素原子又はメチル基を示す。

前記側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、下記一般式（２）で表される繰り返し単位を有することがより好ましい。

一般式（２）中、Ｒ^２及びＲ^３は水素原子又はメチル基を示す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。

側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、全繰り返し単位中、一般式（２）で表される繰り返し単位を５～５０モル％有することが好ましい。一般式（２）で表される繰り返し単位の含有量を５モル％以上有することにより、残渣抑制による基材の透明性確保の効果がより向上する。また、マイグレーション耐性がより向上する。一般式（２）で表される繰り返し単位は、１０モル％以上であることがより好ましく、１５モル％以上であることがさらに好ましい。一方、一般式（２）で表される繰り返し単位が５０モル％以下であることにより、より微細なパターンを形成することができる。一般式（２）で表される繰り返し単位は４０モル％以下であることがより好ましく、３５モル％以下であることがさらに好ましい。

前記側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、前記一般式（２）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位を有してもよい。一般式（２）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位として、カルボキシル基及び／または酸無水物基含有（メタ）アクリル化合物、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸エステルをラジカル共重合したのち、エチレン性不飽和二重結合基を有するエポキシ化合物を付加反応して得られるものを含む繰り返し単位であることが好ましい。

前記アクリルポリマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する単量体をラジカル重合させることにより得られる。一般式（２）で表される繰り返し単位は、一般式（３）で表される繰り返し単位を含むアクリルポリマーに対し、（メタ）アクリル酸グリシジルを付加反応させることにより得られる。ラジカル共重合の触媒に特に制限はなく、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や過酸化ベンゾイル等の有機過酸化物等が一般的に用いられる。また、（メタ）アクリル酸グリシジルの付加反応に用いる触媒に特に制限はなく、公知の触媒を用いることが出来るが、例えば、ジメチルアニリン、２，４，６－トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ジメチルベンジルアミン等のアミノ系触媒、２－エチルヘキサン酸錫（II）、ラウリン酸ジブチル錫等の錫系触媒、２－エチルヘキサン酸チタン（IV）等のチタン系触媒、トリフェニルホスフィン等のリン系触媒及びアセチルアセトネートクロム、塩化クロム等のクロム系触媒等が用いられる。

一般式（３）中、Ｒ^４は水素原子又はメチル基を示す。

また、前記一般式（２）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位のラジカル共重合に用いられる触媒、およびエチレン性不飽和二重結合基を有するエポキシ化合物を付加反応に用いる触媒についても上記と同様である。

カルボキシル基及び／または酸無水物基含有（メタ）アクリル化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸モノ（２－アクリロキシエチル）、フタル酸モノ（２－アクリロキシエチル）、テトラヒドロフタル酸モノ（２－アクリロキシエチル）、２－ビニル酢酸、２－ビニルシクロヘキサンカルボン酸、３－ビニルシクロヘキサンカルボン酸、４－ビニルシクロヘキサンカルボン酸、２－ビニル安息香酸、３－ビニル安息香酸、４－ビニル安息香酸、（メタ）アクリル酸４－ヒドロキシフェニル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシフェニル、（メタ）アクリル酸無水物、イタコン酸、イタコン酸無水物、こはく酸モノ（２－アクリロイルオキシエチル）、フタル酸モノ（２－アクリロイルオキシエチル）又はテトラヒドロフタル酸モノ（２－アクリロイルオキシエチル）が挙げられる。

（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル、（メタ）アクリル酸ベンジル等が用いられる。また、スチレンを、上記の（メタ）アクリル酸や（メタ）アクリル酸エステルと共重合してもよい。

エチレン性不飽和二重結合基を有するエポキシ化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸グリシジル等が挙げられる。

アクリルポリマーは、多官能（メタ）アクリレート化合物と多価メルカプト化合物とを、マイケル付加（カルボニル基に関しβ位）により重合したものを用いることもできる。

側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定されるポリスチレン換算で、１，０００以上１５，０００以下であることが好ましい。重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００以上であることにより、後述する積層体を形成した場合、パターニング時に硬化膜が過度に溶解して導電層が露出するのを抑制することができる。重量平均分子量（Ｍｗ）はより好ましくは５，０００以上、さらに好ましくは７，０００以上である。一方、重量平均分子量（Ｍｗ）が１５，０００以下であることにより、より微細なパターンを形成することができる。また、現像時における溶解をより促進し、残渣をより抑制して基材の透明性を確保することができる。重量平均分子量（Ｍｗ）はより好ましくは１２，０００以下である。

本発明のポジ型感光性樹脂組成物において、側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の含有量に特に制限はなく、所望の膜厚や用途により任意に選ぶことができるが、固形分１００質量％とした場合に、１０質量％以上７０質量％以下とすることが一般的である。

［感光剤（Ｂ）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、感光剤（Ｂ）を含有する。

感光剤（Ｂ）は、光照射されることにより酸が発生し、側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の光照射部のアルカリ可溶性を増大させる特性を持ち、未露光部とのアルカリ可溶性のコントラストが得られ、微細パターン形成が可能であるとともに、残渣を抑制して基材の透明性を確保することができる。感光剤としてはキノンジアジド化合物、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩などがある。なかでも、より微細なパターンが得られることから、キノンジアジド化合物が好ましい。

キノンジアジドは４－ナフトキノンジアジドスルホニル基、５－ナフトキノンジアジドスルホニル基を含有することが好ましい。４－ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物は水銀灯のｉ線領域に吸収があり、ｉ線露光に適している。５－ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物は水銀灯のｇ線領域に吸収があり、ｇ線露光に適している。

本発明のポジ型感光性樹脂組成物において、感光剤（Ｂ）の含有量に特に制限はないが、固形分１００質量％に対し、０．０１～５０質量％が好ましい。感光剤（Ｂ）の含有量が０．０１質量％以上であることにより、より微細なパターンを形成することができる。また、露光部のアルカリ可溶性を促進するため、残渣をより抑制して基材の透明性を確保することができる。感光剤（Ｂ）の含有量はより好ましくは１０質量％以上である。また、感光剤（Ｂ）の含有量が５０質量％以下であることにより、膜の底部まで光を透過させることができ、高い露光感度でパターンが得られる。感光剤（Ｂ）の含有量はより好ましくは４０質量％以下である。

また、必要に応じて、上記ポリヒドロキシ化合物やポリアミノ化合物をキノンジアジドのスルホン酸でエステル化せずそのまま用いても構わない。この場合、ヒドロキシ化合物やポリアミノ化合物の添加量としては、固形分１００質量％に対し、１～５０質量％が好ましい。エステル化をしていないヒドロキシ化合物やポリアミノ化合物を１質量％以上添加することにより、得られるポジ型樹脂組成物は、露光前はアルカリ現像液にほとんど溶解せず、露光すると容易にアルカリ現像液に溶解するために、現像による膜減りが少なく、かつ短時間で現像が容易になる。ヒドロキシ化合物やポリアミノ化合物の添加量は３質量％以上がより好ましい。また、ヒドロキシ化合物やポリアミノ化合物の添加量を５０質量％以下とすることにより、アルカリ現像液に対する溶解性をより向上させ、より微細なパターンの形成が可能となる。ヒドロキシ化合物やポリアミノ化合物の添加量は４０質量％以下がより好ましい。

［着色剤（Ｃ）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、着色剤（Ｃ）を含有する。着色剤（Ｃ）とは、可視光線の波長（３８０～７８０ｎｍ）の全域又は一部の光を吸収することで、着色する化合物をいう。

着色剤（Ｃ）を含有させることにより、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を導電層上に形成した際に、導電層で反射する光を遮光することにより、導電層が視認されにくくなる。

着色剤（Ｃ）としては、可視光線の波長の光を吸収し、黒、赤、橙、黄、緑、青又は紫色に着色する化合物が挙げられる。これらの着色剤を単独または二色以上組み合わせることにより、導電層で反射する光を遮光することができる。

前記着色剤（Ｃ）としては、芳香族基を有することが好ましい。芳香族基を有することにより、側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の重合性基と相互作用し、アルカリ現像液に対する溶解性を増大させ、残渣をより抑制して基材の透明性を確保することができる。

前記着色剤（Ｃ）としては、黒色剤（Ｃａ）及び／又は黒色以外の着色剤（Ｃｂ）が挙げられる。黒色剤（Ｃａ）とは、可視光線の波長全域の光を吸収することで、黒色に着色する化合物をいう。黒色剤（Ｃａ）を含有させることで、導電層で反射する光を遮光することにより、遮光性を向上させることができる。また、黒色以外の着色剤（Ｃｂ）とは、可視光線の一部波長の光を吸収することで、赤、橙、黄、緑、青又は紫色に着色する化合物をいう。これらの着色剤（Ｃｂ）を二色以上組み合わせることで、擬似的に黒色に着色することができ、遮光性を向上させることができる。遮光性の観点から、隠蔽性に優れるため、黒色剤（Ｃａ）であることが好ましい。

前記着色剤（Ｃ）としては、後述する有機顔料（Ｃ１）、無機顔料（Ｃ２）及び染料（Ｃ３）から選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。その中でも、耐熱性及び遮光性の観点から、有機顔料（Ｃ１）であることが好ましく、黒色の有機顔料であることがより好ましい。

［有機顔料（Ｃ１）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物としては、前記着色剤（Ｃ）が、有機顔料（Ｃ１）を含有することが好ましい。有機顔料（Ｃ１）を含有させることにより、ポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜に遮光性を付与することができるとともに、隠蔽性が高く、紫外線等による色褪せがしにくい。前記着色剤（Ｃ）が、有機顔料（Ｃ１）を含有する態様としては、前記黒色剤（Ｃａ）及び／又は黒色以外の着色剤（Ｃｂ）が有機顔料（Ｃ１）であることが挙げられる。

有機顔料（Ｃ１）の数平均粒子径は、１～１，０００ｎｍが好ましく、５～５００ｎｍがより好ましく、１０～２００ｎｍがさらに好ましい。有機顔料（Ｃ１）の数平均粒子径が上記範囲内であると、ポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜の遮光性及び有機顔料（Ｃ１）の分散安定性を向上させることができる。

ここで、有機顔料（Ｃ１）の数平均粒子径は、サブミクロン粒度分布測定装置（Ｎ４－ＰＬＵＳ；べックマン・コールター（株）製）又はゼータ電位・粒子径・分子量測定装置（ゼータサイザーナノＺＳ；シスメックス（株）製）を用いて、溶液中の有機顔料（Ｃ１）のブラウン運動によるレーザー散乱を測定する（動的光散乱法）ことで求めることができる。また、樹脂組成物から得られる硬化膜中の有機顔料（Ｃ１）の数平均粒子径は、ＳＥＭ及びＴＥＭを用いて測定することで求めることができる。拡大倍率を５０，０００～２００，０００倍として、有機顔料（Ｃ１）の数平均粒子径を直接測定する。ここで数平均粒子径は、無作為に選択した１００個の一次粒子の粒子径の平均値により算出することができる。有機顔料（Ｃ１）が真球の場合、真球の直径を測定し、数平均粒子径とする。有機顔料（Ｃ１）が真球でない場合、最も長い径（以下、「長軸径」）及び長軸径と直交する方向において最も長い径（以下、「短軸径」）を測定し、長軸径と短軸径を平均した、二軸平均径を数平均粒子径とする。

有機顔料（Ｃ１）としては、例えば、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、キナクリドン系顔料、ピランスロン系顔料、ジオキサジン系顔料、チオインジゴ系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、キノフタロン系顔料、スレン系顔料、インドリン系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料、ベンゾフラノン系顔料、ペリレン系顔料、アニリン系顔料、アゾ系顔料、アゾメチン系顔料、縮合アゾ系顔料、カーボンブラック、金属錯体系顔料、レーキ顔料、トナー顔料又は蛍光顔料が挙げられる。耐熱性の観点から、アントラキノン系顔料、キナクリドン系顔料、ピランスロン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、ベンゾフラノン系顔料、ペリレン系顔料、縮合アゾ系顔料及びカーボンブラックが好ましい。なかでも、分散安定性及び芳香族基を有することによる残渣抑制による基材の透明性確保の観点からカーボンブラックであることがより好ましい。

フタロシアニン系顔料としては、例えば、銅フタロシアニン系化合物、ハロゲン化銅フ
タロシアニン系化合物又は無金属フタロシアニン系化合物が挙げられる。

アントラキノン系顔料としては、例えば、アミノアントラキノン系化合物、ジアミノアントラキノン系化合物、アントラピリミジン系化合物、フラバントロン系化合物、アント
アントロン系化合物、インダントロン系化合物、ピラントロン系化合物又はビオラントロ
ン系化合物が挙げられる。

アゾ系顔料としては、例えば、ジスアゾ系化合物又はポリアゾ系化合物が挙げられる。

カーボンブラックとしては、例えば、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、アセチレンブラック及びランプブラックが挙げられる。

本発明のポジ型感光性樹脂組成物において、固形分１００質量％に対し、有機顔料（Ｃ１）の含有比率は、５～５０質量％が好ましい。有機顔料（Ｃ１）の含有比率が５質量％以上であると、遮光性をより向上させることができる。有機顔料（Ｃ１）の含有比率はより好ましくは１０質量％以上である。一方、有機顔料（Ｃ１）の含有比率が５０質量％以下であると、現像残渣をより低減して基材の透明性を確保することができる。有機顔料（Ｃ１）の含有比率はりより好ましくは４０質量％以下である。

［無機顔料（Ｃ２）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物としては、前記着色剤（Ｃ）が、無機顔料（Ｃ２）を含有することが好ましい。無機顔料（Ｃ２）を含有させることで、ポジ型感光性樹脂組成物の膜に遮光性を付与することができるとともに、無機物であり、耐熱性及び耐候性により優れるため、樹脂組成物の膜の耐熱性及び耐候性を向上させることができる。前記着色剤（Ｃ）が、無機顔料（Ｃ２）を含有する態様としては、前記黒色剤（Ｃａ）及び／又は黒色以外の着色剤（Ｃｂ）が無機顔料（Ｃ２）であることが挙げられる。

無機顔料（Ｃ２）としては、例えば、チタン、バリウム、ジルコニウム、鉛、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、モリブデン、カドニウム、スズ、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム若しくは銀などの金属の微粒子、上記金属元素の酸化物、複合酸化物、硫化物、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩、窒化物、炭化物又は酸窒化物が挙げられる。なかでも、パターン加工性と遮光性をより向上させる観点から、金属窒化物粒子が好ましい。また、遮光性をより向上させる観点から、チタン、ジルコニウム、若しくは銀の微粒子、酸化物、複合酸化物、硫化物、窒化物、炭化物又は酸窒化物が好ましく、窒化ジルコニウム粒子が特に好ましい。

本発明のポジ型感光性樹脂組成物において、固形分１００質量％に対し、無機顔料（Ｃ２）の含有比率は、５～５０質量％が好ましい。無機顔料（Ｃ２）の含有比率が５質量％以上であると、遮光性をより向上させることができる。無機顔料（Ｃ２）の含有比率はより好ましくは１０質量％以上である。一方、無機顔料（Ｃ２）の含有比率が５０質量％以下であると、現像残渣をより低減して基材の透明性を確保することができる。無機顔料（Ｃ２）の含有比率はより好ましくは４０質量％以下である。

［染料（Ｃ３）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物としては、前記着色剤（Ｃ）が、染料（Ｃ３）を含有することが好ましい。前記着色剤（Ｃ）が、染料（Ｃ３）を含有する態様としては、前記黒色剤（Ｃａ）及び／又は黒色以外の着色剤（Ｃｂ）が染料（Ｃ３）であることが挙げられる。

染料（Ｃ３）とは、対象物の表面構造に、染料（Ｃ３）中のイオン性基又はヒドロキシ基などの置換基が、化学吸着又は強く相互作用などをすることで、対象物を着色させる化合物をいい、一般的に溶剤等に可溶である。また、染料（Ｃ３）による着色は、分子一つ一つが対象物と吸着するため、着色力が高く、発色効率が高い。

染料（Ｃ３）としては、例えば、アントラキノン系染料、アゾ系染料、アジン系染料、フタロシアニン系染料、メチン系染料、オキサジン系染料、キノリン系染料、インジゴ系染料、インジゴイド系染料、カルボニウム系染料、スレン系染料、ペリノン系染料、ペリレン系染料、トリアリールメタン系染料又はキサンテン系染料が挙げられる。溶剤への溶解性及び耐熱性の観点から、アントラキノン系染料、アゾ系染料、アジン系染料、メチン系染料、トリアリールメタン系染料、キサンテン系染料が好ましい。

黒色に着色する染料としては、例えば、ソルベントブラック３、５、７、２２、２７、２９若しくは３４、モーダントブラック１、１１若しくは１７、アシッドブラック２若しくは５２、又は、ダイレクトブラック１９若しくは１５４が挙げられる（数値は何れもＣ．Ｉ．ナンバー）。上記以外に、“ＮＵＢＩＡＮ”（登録商標） ＢＬＡＣＫ ＴＨ－８０７、同 ＴＨ－８２７、同 ＴＨ－８２７Ｋ、同 ＴＮ－８７０、同 ＰＣ－０８５５、同 ＰＣ－５８５６、同 ＰＣ－５８５７、同 ＰＣ－５８７７、同 ＰＣ－８５５０、同 ＴＮ－８７３、同 ＴＮ－８７７若しくは同 ＡＨ－８０７、ＯＩＬ ＢＬＡＣＫ ＨＢＢ若しくは同 ８６０、“ＶＡＬＩＦＡＳＴ”（登録商標） ＢＬＡＣＫ １８０７、同 ３９０４、同 ３８１０、同 ３８２０、同 ３８３０、同 ３８４０、同 ３８６６若しくは同 ３８７０又はＷＡＴＥＲ ＢＬＡＣＫ １００－Ｌ、同 １９１－Ｌ、同 ２５６－Ｌ、同 Ｒ－５１０若しくは同 １８７－ＬＭ（以上、何れもオリエント化学工業（株）製）が挙げられる。

赤色に着色する染料としては、例えば、ダイレクトレッド９、２８、８１、もしくは８３が挙げられる（数値は何れもＣ．Ｉ．ナンバー）。

橙色に着色する染料としては、例えば、ベーシックオレンジ２１又は２３が挙げられる（数値は何れもＣ．Ｉ．ナンバー）。

黄色に着色する染料としては、例えば、ダイレクトイエロー８、９、１１、２７若しくは４４、又は、ベーシックイエロー１、２８若しくは４０が挙げられる（数値は何れもＣ．Ｉ．ナンバー）。

緑色に着色する染料としては、例えば、アシッドグリーン１６が挙げられる（数値は何れもＣ．Ｉ．ナンバー）。

青色に着色する染料としては、例えば、アシッドブルー９、４５、８０、８３、９０又は１８５が挙げられる（数値は何れもＣ．Ｉ．ナンバー）。

紫色に着色する染料としては、例えば、ダイレクトバイオレット５１、若しくは６６、又は、ベーシックバイオレット１、２、若しくは３が挙げられる（数値は何れもＣ．Ｉ．ナンバー）。

本発明のポジ型感光性樹脂組成物において、固形分１００質量％に対し、染料（Ｃ３）の含有比率は、０．０１～５０質量％が好ましい。染料（Ｃ３）の含有比率が０．０１質量％以上であると、遮光性をより向上させることができる。染料（Ｃ３）の含有比率はより好ましくは０．０５質量％以上である。一方、染料（Ｃ３）の含有比率が５０質量％以下であると、現像残渣をより低減して基材の透明性を確保することができる。染料（Ｃ３）の含有比率はりより好ましくは４０質量％以下である。

［分散剤］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、さらに、分散剤を含有することが好ましい。

分散剤とは、前述した着色剤（Ｃ）などの表面と相互作用する表面親和性基及び着色剤（Ｃ）の分散安定性を向上させる分散安定化構造を有する化合物をいう。分散剤の分散安定化構造としては、ポリマー鎖及び／又は静電荷を有する置換基などが挙げられる。分散剤を含有させることにより、着色剤（Ｃ）の分散安定性を向上させることができ、現像後の解像度をより向上させることができる。

表面親和性基を有する分散剤としては、例えば、アミン価及び／または酸価を有する分散剤、アミン価及び酸価のいずれも有しない分散剤が挙げられる。着色剤（Ｃ）の分散安定性向上の観点から、アミン価のみを有する分散剤、アミン価及び酸価を有する分散剤が好ましい。

表面親和性基を有する分散剤としては、表面親和性基であるアミノ基及び／又は酸性基が、酸及び／又は塩基と塩形成した構造を有することが好ましい。

アミン価のみを有する分散剤としては、例えば、“ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ”（登録商標）－１６１、同－１６７、同－２０００、同－２００８、同－２００９、同－２０２２、同－２０５０、同－２０５５、同－２１５０、同－２１５５、同－２１６３、同－２１６４、若しくは同－２０６１、“ＢＹＫ”（登録商標）－９０７５、同－９０７７、同－ＬＰ－Ｎ６９１９、同－ＬＰ－Ｎ２１１１６若しくは同－ＬＰ－Ｎ２１３２４（以上、何れもビックケミー・ジャパン（株）製）が挙げられる。

アミン価及び酸価を有する分散剤としては、例えば、 “ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ”（登録商標）－２００１、同－２０１３、同－２０２０、同－２０２５、同－１８７若しくは同－１９１、“ＢＹＫ”（登録商標）－９０７６（ビックケミー・ジャパン（株）製が挙げられる。

酸価のみを有する分散剤としては、例えば、“ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ”（登録商標）－１０２、同－１１０、同－１１１、同－１１８、同－１７０、同－１７１、同－１７４、同－２０６０若しくは同－２０９６が挙げられる。

アミン価及び酸価のいずれも有しない分散剤としては、例えば、“ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ”（登録商標）－１０３、同－２１５２、同－２２００若しくは同－１９２（以上、何れもビックケミー・ジャパン（株）製）が挙げられる。

分散剤のアミン価としては、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。アミン価が上記範囲内であると、着色剤（Ｃ）の分散安定性をより向上させることができる。一方、アミン価としては、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。アミン価が上記範囲内であると、樹脂組成物の保管安定性を向上させることができる。

ここでいうアミン価とは、分散剤１ｇ当たりと反応する酸と当量の水酸化カリウムの重量をいい、単位はｍｇＫＯＨ／ｇである。分散剤１ｇを酸で中和させた後、水酸化カリウム水溶液で滴定することで求めることができる。アミン価の値から、アミノ基１ｍｏｌ当たりの樹脂重量であるアミン当量（単位はｇ／ｍｏｌ）を算出することができ、分散剤中のアミノ基の数を求めることができる。

分散剤の酸価としては、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。酸価が上記範囲内であると、着色剤（Ｃ）の分散安定性をより向上させることができる。一方、酸価としては、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。酸価が上記範囲内であると、樹脂組成物の保管安定性を向上させることができる。

ここでいう酸価とは、分散剤１ｇ当たりと反応する水酸化カリウムの重量をいい、単位はｍｇＫＯＨ／ｇである。分散剤１ｇを水酸化カリウム水溶液で滴定することで求めることができる。酸価の値から、酸性基１ｍｏｌ当たりの樹脂重量である酸当量（単位はｇ／ｍｏｌ）を算出することができ、分散剤中の酸性基の数を求めることができる。

分散安定化構造がポリマー鎖を有する置換基である分散剤としては、アクリル樹脂系分散剤、ポリオキシアルキレンエーテル系分散剤、ポリエステル系分散剤、ポリウレタン系分散剤、ポリオール系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤又はポリアリルアミン系分散剤が挙げられる。アルカリ現像液でのパターン加工性の観点から、アクリル樹脂系分散剤、ポリオキシアルキレンエーテル系分散剤、ポリエステル系分散剤、ポリウレタン系分散剤又はポリオール系分散剤が好ましい。

本発明のポジ型感光性樹脂組成物に占める分散剤の含有比率は、着色剤（Ｃ）を１００質量％とした場合において、１～６０質量％が好ましい。分散剤の含有比率が１質量％以上であることにより、着色剤（Ｃ）の分散安定性をより向上させることができ、現像後の解像度をより向上させることができる。分散剤の含有比率は５質量％以上がより好ましい。一方、分散剤の含有比率を６０質量％以下であることにより、硬化膜の耐熱性を向上させることができる。分散剤の含有比率は５０質量％以下がより好ましい。

［熱架橋剤］
本発明の樹脂組成物は、さらに、熱架橋剤を含有してもよい。熱架橋剤とは、アルコキシメチル基、メチロール基、エポキシ基、オキセタニル基などの熱反応性の官能基を分子内に少なくとも２つ有する化合物を指す。熱架橋剤を含有することにより側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）またはその他添加成分を架橋し、熱硬化後の膜の耐熱性及び耐溶剤性を向上させることができる。

アルコキシメチル基またはメチロール基を少なくとも２つ有する化合物の好ましい例としては、ＨＭＯＭ－ＴＰＰＨＢＡ、ＨＭＯＭＴＰＨＡＰ（以上、商品名、本州化学工業（株）製）、“ＮＩＫＡＬＡＣ”（登録商標）ＭＸ－２９０、“ＮＩＫＡＬＡＣ”ＭＸ－２８０、“ＮＩＫＡＬＡＣ”ＭＸ－２７０、“ＮＩＫＡＬＡＣ”ＭＸ－２７９、“ＮＩＫＡＬＡＣ”ＭＷ－１００ＬＭ、“ＮＩＫＡＬＡＣ”ＭＸ－７５０ＬＭ（以上、商品名、（株）三和ケミカル製）、ＤＣＬ－２００１（商品名、ダイトーケミックス（株）製）が挙げられる。

エポキシ基を少なくとも２つ有する化合物の好ましい例としては、“エポライト”（登録商標）４０Ｅ、“エポライト”１００Ｅ、“エポライト”２００Ｅ、“エポライト”４００Ｅ、“エポライト”７０Ｐ、“エポライト”２００Ｐ、“エポライト”４００Ｐ、“エポライト”１５００ＮＰ、“エポライト”８０ＭＦ 、“エポライト”４０００、“エポライト”３００２（以上、共栄社化学（株）製）、ＶＧ３１０１（三井化学（株）製）、“テピック”（登録商標）Ｓ、“テピック”Ｇ、“テピック”Ｐ、“テピック”Ｌ、“テピック”ＰＡＳ、“テピック”ＶＬ、“テピック”ＵＣ、“テピック”ＦＬ、（以上、日産化学工業（株）製）、などが挙げられる。

オキセタニル基を少なくとも２つ有する化合物の好ましい例としては、例えば、エタナコールＥＨＯ、エタナコールＯＸＢＰ、エタナコールＯＸＴＰ、エタナコールＯＸＭＡ（以上、宇部興産（株）製）、オキセタン化フェノールノボラックなどが挙げられる。

熱架橋剤は２種類以上を組み合わせて含有してもよい。

これらの化合物の中でも、熱による硬化後に得られた硬化膜の耐熱性の点から、“ＮＩＫＡＬＡＣ”ＭＸ－２９０、“ＮＩＫＡＬＡＣ”ＭＸ－２８０、“ＮＩＫＡＬＡＣ”ＭＸ－２７０、“ＮＩＫＡＬＡＣ”ＭＸ－２７９、“ＮＩＫＡＬＡＣ”ＭＷ－１００ＬＭ、“ＮＩＫＡＬＡＣ”ＭＸ－７５０ＬＭ、ＤＣＬ－２００１のいずれかから選ばれる化合物であることが好ましい。

熱架橋剤の含有量は、固形分１００質量％に対し、０．１～５０質量％が好ましい。熱架橋剤の含有量はが０．１質量％以上であると、硬化膜の耐溶剤性を高めることができる。熱架橋剤の含有は１質量％以上がより好ましい。一方、熱架橋剤の含有量が５０質量％以下であると、硬化膜からのアウトガス量を低減することができる。熱架橋剤の含有量は３０質量％以下がより好ましい。

［シランカップリング剤］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物としては、さらに、シランカップリング剤を含有することが好ましい。

シランカップリング剤とは、加水分解性のシリル基又はシラノール基を有する化合物をいう。シランカップリング剤を含有することにより、樹脂組成物の硬化膜と下地の導電層又は後述する絶縁層における相互作用が増大し、下地の導電層又は絶縁層との密着性を向上させることができる。

シランカップリング剤としては、三官能オルガノシラン又は四官能オルガノシランが好ましい。

三官能オルガノシランとしては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－トリメトキシシリルプロピルコハク酸、３－トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、３－（４－アミノフェニル）プロピルトリメトキシシラン、１－［４－（３－トリメトキシシリルプロピル）フェニル］尿素、１－（３－トリメトキシシリルプロピル）尿素、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチルブチリデン）プロピルアミン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、１，３，５－トリス（３－トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌル酸、Ｎ－ｔ－ブチル－２－（３－トリメトキシシリルプロピル）コハク酸イミド又はＮ－ｔ－ブチル－２－（３－トリエトキシシリルプロピル）コハク酸イミドが挙げられる。

四官能オルガノシランとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ－ｎ－プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ－ｎ－ブトキシシラン若しくはテトラアセトキシシランなどが挙げられる。

シランカップリング剤としては、下地の導電層又は絶縁層との密着性向上の観点から、ビニルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－（４－アミノフェニル）プロピルトリメトキシシラン、１－［４－（３－トリメトキシシリルプロピル）フェニル］尿素、１－（３－トリメトキシシリルプロピル）尿素、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチルブチリデン）プロピルアミン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、１，３，５－トリス（３－トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌル酸、Ｎ－ｔ－ブチル－２－（３－トリメトキシシリルプロピル）コハク酸イミド若しくはＮ－ｔ－ブチル－２－（３－トリエトキシシリルプロピル）コハク酸イミドなどの三官能オルガノシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ－ｎ－プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ－ｎ－ブトキシシラン若しくはテトラアセトキシシランなどの四官能オルガノシランが好ましい。

シランカップリング剤の含有量は、固形分１００質量％に対し、０．１～１５質量％が好ましい。シランカップリング剤の含有量が０．１質量％以上であると、下地の導電層又は有機膜との密着性をより向上させることができる。シランカップリング剤の含有量は０．５質量％以上がより好ましい。一方、シランカップリング剤の含有量が１５質量％以下であると、現像後の解像度をより向上させることができる。シランカップリング剤の含有量は１０質量％以下がより好ましい。

［界面活性剤］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、塗布時のフロー性向上のために、各種のフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等の各種界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤の種類に特に制限はなく、例えば、“メガファック”（登録商標）「Ｆ４７７（商品名）」（以上、大日本インキ化学工業（株）製）等のフッ素系界面活性剤、「ＢＹＫ－３３３（商品名）」、（ビックケミー・ジャパン（株）製）等のシリコーン系界面活性剤、ポリアルキレンオキシド系界面活性剤、ポリ（メタ）アクリレート系界面活性剤等を用いることができる。これらを２種以上用いてもよい。

［紫外線吸収剤］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤を含有することで、得られる硬化膜の耐光性が向上し、現像後の解像度がより向上する。紫外線吸収剤としては特に限定はなく公知のものが使用できるが、透明性、非着色性の面から、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。

［重合禁止剤］
本発明の感光性樹脂組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤を適量含有することで、現像後の解像度がより向上する。重合禁止剤としては特に限定はなく公知のものが使用でき、たとえば、ジ－ｔ－ブチルヒドロキシトルエン、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、１，４－ベンゾキノン、ｔ－ブチルカテコールが挙げられる。また、市販の重合禁止剤としては、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ ５６５」（以上、ＢＡＳＦ製）等が挙げられる。

［溶剤］
本発明の感光性樹脂組成物は、溶剤を含有してもよい。本発明の感光性樹脂組成物に含有される溶剤は、好ましくは大気圧下の沸点が１１０～２５０℃であり、更に好ましくは２００℃以下である。なお、これらの溶剤を複数種類用いてもよい。沸点が２００℃より高いと膜中の残存溶剤量が多くなりキュア時の膜収縮が大きくなり、良好な平坦性が得られなくなる。一方、沸点が１１０℃より低いと、塗膜時の乾燥が速すぎて膜表面が荒れる等塗膜性が悪くなる。そのため、大気圧下の沸点が２００℃以下の溶剤が感光性樹脂組成物中における、溶剤全体の５０質量％以上であることが好ましい。

溶剤の具体例としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、１－メトキシプロピル－２－アセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジアセトンアルコール、が挙げられる。

溶剤の含有量に特に制限はなく、塗布方法等に応じて任意の量用いることができる。例えば、スピンコーティングにより膜形成を行う場合には、感光性樹脂組成物全体の５０質量％以上、９５質量％以下とすることが一般的である。

本発明のポジ型感光性樹脂組成物には、必要に応じて、溶解抑止剤、安定剤、消泡剤等の添加剤を含有することもできる。

本発明のポジ型感光性樹脂組成物の固形分濃度に特に制限はなく、塗布方法等に応じて任意の量の溶媒や溶質を用いることができる。例えば、後述のようにスピンコーティングにより膜形成を行う場合には、固形分濃度を５質量％以上、５０質量％以下とすることが一般的である。ここで、固形分とは、感光性樹脂組成物から溶剤を除いたものである。

本発明のポジ型感光性樹脂組成物の代表的な製造方法について説明する。例えば、側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光剤（Ｂ）、着色剤（Ｃ）及び必要によりその他の添加剤を任意の溶剤に加え、撹拌して溶解させた後、得られた溶液を濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物が得られる。着色剤（Ｃ）を均一に分散したい場合は、ボールミルや、サンドグラインダー、３本ロールミル、マイルド分散機、メディアレス分散機等の分散機を用い、分散剤と予め有機溶剤中に着色剤（Ｃ）を分散させた分散液を調製し、製造しても良い。

［硬化膜］
本発明の硬化膜は、上記ポジ型感光性樹脂組成物を硬化させてなる。上記ポジ型感光性樹脂組成物は後述する方法により硬化させることができる。

本発明の硬化膜の膜厚は、特に制限はないが、０．１～１０μｍが好ましい。硬化膜の膜厚が０．１μｍ以上であることにより、遮光性をより向上させることができる。硬化膜の膜厚はより好ましくは０．３μｍ以上である。一方、硬化膜の膜厚を１０μｍ以下であることにより、露光時に、深部まで光が届き、より微細なパターンを形成することができる。硬化膜の膜厚はより好ましくは７μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以下である。

本発明の硬化膜の波長５５０ｎｍにおける反射率は０．０１～２０％であることが好ましい。反射率を０．０１％以上とすることにより、導電層を視認しにくくすることができる。一方、反射率を２０％以下とすることにより、露光時に、深部まで光が届き、より微細なパターンを形成することができる。反射率はより好ましくは１５％以下、さらに好ましくは１０％以下である。なお、反射率は膜厚１．０μｍにおける反射率を指す。反射率は、露光量、現像時間、熱硬化温度の選択によって調整することができる。なお、本発明の硬化膜の反射率は、透明基板上の０．１ｍｍ角以上の硬化膜について、反射率計により測定することができる。

本発明の硬化膜は、タッチパネル用不透明配線電極の遮光層や、カラーフィルターのブラックマトリックス又は液晶ディスプレイのブラックカラムスペーサーなどの遮光膜、有機ＥＬ表示装置の画素分割層又はＴＦＴ平坦化層などとして、好適に用いることができる。これらの中でも微細パターン形成可能かつ、低反射率であることからタッチパネル用不透明電極の遮光層や、有機ＥＬ表示装置の画素分割層又はＴＦＴ平坦化層として特に好適に用いることができる。

本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の製造方法について、例を挙げて説明する。

本発明のポジ型感光性樹脂組成物を、マイクログラビアコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング、カーテンフローコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、スリットコーティング等の公知の方法によって下地基板上に塗布する。

上記塗布膜をホットプレート、オーブン等の加熱装置でプリベークする。プリベークは、５０～１５０℃の範囲で３０秒～３０分間行い、プリベーク後の膜厚は、０．１～１５μｍとすることが好ましい。

プリベーク後、ステッパー、ミラープロジェクションマスクアライナー（ＭＰＡ）、パラレルライトマスクアライナー（ＰＬＡ）等の露光機を用いて塗布膜を露光する。露光強度は１０～４０００Ｊ／ｍ２程度（波長３６５ｎｍ露光量換算）で、この光を所望のマスクを介してあるいは介さずに照射する。露光光源に制限はなく、ｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線や、ＫｒＦ（波長２４８ｎｍ）レーザー、ＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）レーザー等を用いることができる。

次に、現像により塗布膜の露光部を溶解させ、ポジ型のパターンを得ることができる。現像方法としては、シャワー、ディッピング、パドル等の方法で現像液に塗布膜を５秒～１０分間浸漬することが好ましい。現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム若しくは炭酸カリウム、等の無機アルカリ類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）等のテトラアルキルアンモニウムヒドロキシド類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール若しくはジエチルアミノエタノール等のアルコールアミン類等の有機アルカリ類が挙げられる。これらのアルカリ性現像液にエタノール、γーブチロラクトン、ジメチルホルムアミド又はＮ－メチル－２－ピロリドン等の水溶性有機溶剤を適宜加えても構わない。

また、より良好なパターンを得るため、これらのアルカリ性現像液にさらに非イオン系界面活性剤等の界面活性剤を０．０１～１質量％添加することも好ましい。

現像後、塗布膜を水でリンスすることが好ましく、つづいて５０～１３０℃の範囲で塗布膜を乾燥ベークすることもできる。

その後、この塗布膜をホットプレート、オーブン等の加熱装置で１００～３００℃の範囲で５分～１２０分程度加熱する。本発明の硬化膜の製造方法は、塗布膜を１５０～２５０℃で加熱する工程を含むことが好ましい。

［積層体］
本発明の積層体は導電層および本発明の硬化膜を有する。前述の通り、本発明の硬化膜は、低反射率かつ残渣なく基材の透明性を確保しつつ微細なパターンを形成可能であることから、例えばタッチパネルの導電層である不透明配線電極の遮光層として好適に用いることができる。

本発明の積層体において、導電層の膜厚に対する前記硬化膜の膜厚の比が１／２～５であることが好ましい。膜厚の比を１／２以上とすることで遮光性をより向上させることができ、５以下とすることで配線厚みを抑制でき、配線デザインの自由度とフレキシブル性を向上できる。

また、本発明の積層体は導電層と本発明の硬化膜に加え、絶縁層を有することが好ましい。絶縁層を有することにより、導電層間で発生するショートなどの不具合を抑制し、信頼性の高い積層体を形成することができる。また、遮光層を保護することにより、キズなどを抑制し、視認性不良などを防ぐことが可能である。

前述の絶縁層に含まれる絶縁材料に特に制限はないが、アクリルポリマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、カルド系樹脂、ポリシロキサン、ポリイミド、ポリアミド、ポリベンゾオキサゾールなどが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。

前述の導電層に含まれる導電材料はたとえば、銅、銀、金、アルミニウム、クロム、モリブデン、チタン等が挙げられる。上記に加え、透明電極を形成する導電材料、たとえば、ＩＴＯ、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）、ＡＺＯ（アルミニウム添加酸化亜鉛）、ＺｎＯ_２等と組み合わせていてもよい。この中でも、比抵抗値が最も低い銀が好ましい。比抵抗値が低いと、高感度なタッチパネルを作製することができる。また、より精細な配線パターンを形成することができるため、銀の平均一次粒子径が１０～２００ｎｍであることが好ましい。ここで銀の平均一次粒子径とは、走査型電子顕微鏡を用いて無作為に選択した１００個の一次粒子の粒子径の平均値により算出することができる。それぞれの一次粒子の粒子径は、一次粒子における長径と短径を測定し、その平均値から算出することができる。

また、導電層中に、アルカリ可溶性基を有する有機成分を５～３５質量％含有することが好ましい。アルカリ可溶性基を有する有機成分の含有比率が５質量％以上であると、感光特性を向上させることができ、より微細なパターンを形成することができる。一方、アルカリ可溶性基を有する有機成分の含有比率を、３５質量％以下とすることにより、比抵抗値を低減させ、高感度なタッチパネルを形成することができる。アルカリ可溶性基を有する有機成分を含有することにより、配線パターンにフレキシブル性を付与することが可能となり、フレキシブルタッチパネルを作製することができる。アルカリ可溶性基に特に制限はないが、たとえば、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基が挙げられる。アルカリ可溶性基を有する有機成分としては、ポジ型感光性樹脂組成物にて説明した有機成分を用いることができる。

図１および図２に、本発明の積層体の構成の一例の概略図を示す。図１は、透明基板１上に不透明配線電極２を有し、不透明配線電極２上に本発明の硬化膜からなる遮光層３を有する積層体の概略図である。図１に示す積層体は、後述する積層体の製造方法において、透明基板の不透明配線電極形成面の反対面側から露光する工程を通して得ることができる。

図２は、透明基板１上に不透明配線電極２（第１の不透明配線電極）および絶縁層４を有し、絶縁層４上に不透明配線電極２（第２の不透明配線電極）を有し、さらに、不透明配線電極２（第１の不透明配線電極および第２の不透明配線電極）に対応する部位に本発明の硬化膜からなる遮光層３を有する積層体の概略図である。図２に示す積層体は、後述する積層体の製造方法において、透明基板の片面に第１の不透明配線電極、絶縁層および第２の不透明配線電極を形成し、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を塗布し、透明基板の不透明配線電極形成面の反対面側から露光する工程を通して得ることができる。

次に、本発明の積層体の製造方法における各工程について詳しく説明する。すなわち、本発明の積層体の製造方法は、透明基板の片面に不透明配線電極を形成する工程と、前記透明基板の不透明配線電極形成面に本発明のポジ型感光性樹脂組成物を塗布する工程と、前記透明基板の不透明配線電極形成面の反対面側から露光し、現像することにより、不透明配線電極に対応する部位に遮光層を形成する工程を有する。図３に、本発明の積層体の製造方法の一例の概略図を示す。

まず、透明基板１の片面に不透明配線電極２を形成する。透明基板の片面に不透明配線電極を形成する工程が、透明基板の片面に第１の不透明配線電極を形成する工程、前記第１の不透明配線電極上に絶縁層を形成する工程、および、前記絶縁層上に第２の不透明配線電極を形成する工程を有してもよい。

不透明配線電極の形成方法としては、例えば、感光性導電性組成物を用いてフォトリソグラフィー法によりパターン形成する方法、導電性組成物（導電ペースト）を用いてスクリーン印刷、グラビア印刷、インクジェット等によりパターン形成する方法、金属、金属複合体、金属と金属化合物との複合体、金属合金等の膜を形成し、レジストを用いてフォトリソグラフィー法により形成する方法等が挙げられる。これらの中でも、微細配線が形成可能であることから、感光性導電性組成物を用いてフォトリソグラフィー法により形成する方法が好ましい。なお、絶縁層を介して不透明配線電極を２層以上形成する場合は、各不透明配線電極を同じ方法により形成してもよいし、異なる方法を組み合わせてもよい。得られた不透明配線電極付き積層体の不透明配線電極上に、絶縁層を形成してもよい。

絶縁層の形成方法としては、例えば、感光性絶縁性組成物を用いてフォトリソグラフィー法によりパターン形成する方法、絶縁性組成物を塗布し、乾燥する方法や、不透明配線電極形成面側に粘着剤を介して透明基板を貼り合わせる方法などが挙げられる。これらの中でも、微細パターンが形成可能であることから、感光性絶縁性組成物を用いてフォトリソグラフィー法により形成する方法が好ましい。粘着剤を介して透明基板を貼り合わせる方法としては、例えば、粘着剤を不透明配線電極付き基材上に形成し、透明基板を貼り合わせてもよいし、粘着剤付き透明基材を貼り合わせてもよい。

次に、前記透明基板１の不透明配線電極形成面に本発明のポジ型感光性樹脂組成物５を塗布する。

なお、本発明の積層体をタッチパネルセンサーとして用いる場合、必要に応じてフレキソ基板との接続部には、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を塗布しなくてもよい。

次に、前記不透明配線電極２をマスクとして、本発明のポジ型感光性樹脂組成物５を、透明基板の不透明配線電極形成面の反対面側から露光し、現像することにより、不透明配線電極に対応する部位に遮光層を形成する。不透明配線電極をマスクとして露光することにより、別途の露光マスクを必要とすることなく、不透明配線電極に対応する部位に対応する遮光層を形成することができる。前述の透明基板の片面に不透明配線電極を形成する工程が、透明基板の片面に第１の不透明配線電極を形成する工程、前記第１の不透明配線電極上に絶縁層を形成する工程、および、前記絶縁層上に第２の不透明配線電極を形成する工程を有する場合、第１の不透明配線電極および第２の不透明配線電極に対応する部位に遮光層を形成することが好ましい。

得られた積層体の遮光層上に絶縁層を形成する工程、絶縁層上に第２の不透明配線電極を形成する工程、ポジ型感光性組成物を、第２の不透明配線電極形成面に塗布し、透明基板の第２の不透明配線電極形成面の反対面側から露光し、現像することにより、少なくとも第２の不透明配線電極に対応する部位に遮光層を形成する工程を有してもよい。

［導電パターン付き基板］
本発明の導電パターン付き基板は、基板、基板上に形成された導電パターンおよび本発明の硬化膜を有する導電パターン付き基板であって、少なくとも一部の導電パターン形成領域上に前記硬化膜を有し、導電パターン非形成領域上に前記硬化膜を有しない。このような構成とすることで、基材の透明性を確保しつつ導電パターンの反射を抑制できる。

導電パターン付き基板が接続部を含む場合、接続部上に前記硬化膜を有しないことが好ましい。接続部上に硬化膜を有しないことで、安定した電気接続が可能となる。

以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。合成例及び実施例に用いた化合物のうち、略語を使用しているものについて、以下に示す。
ＡＩＢＮ：２,２’－アゾビス（イソブチロニトリル）
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＤＡＡ：ジアセトンアルコール
ＴＭＡＨ：テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
まず、実施例及び比較例で用いた材料について説明する。

［側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）］
合成例１：アクリルポリマー（ａ１－１）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを７．１ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－１）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１１，０００であった。

合成例２：アクリルポリマー（ａ１－２）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを１４．２ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－２）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１１，０００であった。

合成例３：アクリルポリマー（ａ１－３）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを２１．３ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－３）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１１，０００であった。

合成例４：アクリルポリマー（ａ１－４）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを４９．８ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－４）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１１，０００であった。

合成例５：アクリルポリマー（ａ１－５）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを５６．９ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－５）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１１，０００であった。

合成例６：アクリルポリマー（ａ１－６）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を５１．７ｇ、ベンジルメタクリレートを５２．９ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを７１．１ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－６）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１１，０００であった。

合成例７：アクリルポリマー（ａ１－７）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを２．８ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－７）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１１，０００であった。

合成例８：アクリルポリマー（ａ１－８）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を６０．３ｇ、ベンジルメタクリレートを３５．２ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを８５．３ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－８）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１１，０００であった。

合成例９：アクリルポリマー（ａ１－９）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを０．５ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で２時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを２１．３ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－９）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは３，０００であった。

合成例１０：アクリルポリマー（ａ１－１０）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを０．５ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で４時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを２１．３ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－１０）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは６，０００であった。

合成例１１：アクリルポリマー（ａ１－１１）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１．５ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを２１．３ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－１１）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１４，０００であった。

合成例１２：アクリルポリマー（ａ１－１２）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを２．０ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを２１．３ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－１２）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは２０，０００であった。

合成例１３：アクリルポリマー（ａ１－１３）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸［（３，４－エポキシシクロヘキサン）－１－イル］メチルを２９．４ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－１３）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１１，５００であった。

合成例１４：アクリルポリマー（ａ１－１４）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にアクリル酸グリシジルを１９．２ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１－１４）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１０，５００であった。

合成例１５：アクリルポリマー（ａ１’－１）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にアリルグリシジルエーテルを１７．１ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ－メトキシフェノールを０．２ｇ、ＰＧＭＥＡを１００ｇ添加し、９０℃で４時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１’－１）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１０，０００であった。

合成例１６：アクリルポリマー（ａ１’－２）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を３４．４ｇ、ベンジルメタクリレートを６１．７ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ、メタクリル酸グリシジルを２１．３ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌し、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１’－２）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１２，０００であった。

合成例１７：アクリルポリマー（ａ１’－３）
５００ｍｌのフラスコにＡＩＢＮを１ｇ、ＰＧＭＥＡを５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を４３．０ｇ、ベンジルメタクリレートを７０．５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０（２，６）］デカン－８－イルメタクリレートを２２．０ｇ仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られたアクリルポリマー溶液に固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにＰＧＭＥＡを加え、アクリルポリマー（ａ１’－３）の溶液を得た。ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量Ｍｗは１１，０００であった。

［感光剤（Ｂ）］
合成例１８：感光剤（ｂ－１）
乾燥窒素気流下、ＴｒｉｓＰ－ＨＡＰ（本州化学工業（株）製）、１５．３ｇと５－ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド４０．３ｇを１，４－ジオキサン４５０ｇに溶解させ、室温にした。ここに、１，４－ジオキサン５０ｇと混合させたトリエチルアミン１５．２ｇを系内が３５℃以上にならないように滴下した。滴下後、３０℃で２時間攪拌した。トリエチルアミン塩をろ過し、濾液を水に投入させた。その後析出した沈殿を真空乾燥機で乾燥し、下記式で表されるキノンジアジド化合物（ｂ－１）を得た。

［着色剤（Ｃ）］
カーボンブラック（三菱ケミカル（株）製「ＭＡ－１００（商品名）」、以下「ＭＡ－１００」という。）
ベンゾフラノン系黒色顔料（ＢＡＳＦ製「“ＩＲＧＡＰＨＯＲ”（登録商標） ＢＬＡＣＫ Ｓ０１００ＣＦ」（一次粒子径４０～８０ｎｍ）、以下「Ｂｋ－Ｓ０１００ＣＦ」という。）
黒色無機顔料（日清エンジニアリング（株）製「チタン窒化物粒子」）
黒色染料（オリエント化学工業（株）製「“ＮＵＢＩＡＮ”（登録商標） ＢＬＡＣＫ ＴＮ－８７０」、以下「ＴＮ－８７０」という。）
［分散剤］
アミン価を有する分散剤（ビックケミー・ジャパン（株）製「“ＢＹＫ”（登録商標）－ＬＰ－Ｎ２１１１６、以下「ＢＹＫ－２１１１６」という。）
［架橋剤］
メチロール化合物（（株）三和ケミカル製「“ＮＩＫＡＬＡＣ”ＭＸ－２７０」、「ＭＸ－２７０」という。）
エポキシ化合物（（三井化学（株）製「ＶＧ３１０１」）
［シランカップリング剤］
３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製「ＫＢＭ－４０３（商品名）」、以下「ＫＢＭ－４０３」という。）
［界面活性剤］
シリコーン系界面活性剤（ビックケミー・ジャパン（株）製「ＢＹＫ－３３３（商品名）」、以下「ＢＹＫ－３３３」という。）
［溶剤］
ＰＧＭＥＡ（クラレトレーディング（株）製「ＰＧＭ－ＡＣ（商品名）」）
ＤＡＡ（三菱化学（株）製「ＤＡＡ」）。

次に、実施例及び比較例に用いた感光性銀インク材料と感光性絶縁材料について説明する。

［感光性銀インク材料］
感光性銀インク材料の製造方法について、下記に示す。

＜感光性銀インク材料の作製＞
まず、炭素化合物で表面被覆された導電性微粒子（日清エンジニアリング（株）製）：８０．０ｇ、ＢＹＫ－２１１１６：４．０６ｇ、ＰＧＭＥＡ：１９６．１４ｇに対し、ホモジナイザーにて、１２００ｒｐｍ、３０分の混合処理を施し、さらに、その混合液を、ジルコニアビーズが充填されたミル型分散機を用いて分散し、銀微粒子分散体を得た。この銀微粒子分散体６３．２８ｇに対し、黄色灯下にて、アクリルポリマー（ａ１－１０）：４．４０ｇ、ＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ製）：０．４１ｇ、ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）：１．３０ｇ混合したものに、ＰＧＭＥＡ：７．３１ｇ、ＤＡＡ：２３．２５ｇを添加し撹拌することにより、感光性銀インク（α）を作製した。

［感光性絶縁材料］
感光性絶縁材料の製造方法について、下記に示す。

＜感光性絶縁材料の作製＞
黄色灯下にて、光重合開始剤としてＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ製）：０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ：２０．７０ｇ、ＤＡＡ：３７．５０ｇに溶解させ、ＳＩＲＩＵＳ－５０１（大阪有機化学工業（株）製）：１．２５ｇ、Ｍ－３１５（共栄社（株）製）：２．９０ｇ、アクリルポリマー（ａ１－３）：２８．００ｇを加え、撹拌することにより、感光性絶縁材料（β）を作製した。

次に、実施例及び比較例で行った硬化膜／積層基板の作製及び各評価方法について説明する。

＜銀インク材料（α）のパターン作製＞
銀インク材料（α）を、基板上又は絶縁層を有する不透明配線電極付き基板にスピンコーター（ミカサ（株）製「１Ｈ－３６０Ｓ（商品名）」）を用いて乾燥後膜厚が１μｍとなるように所定の回転数でスピンコートした後、ホットプレート（大日本スクリーン製造（株）製「ＳＣＷ－６３６（商品名）」）を用いて１００℃で２分間プリベークし、プリベーク膜を作製した。プリベーク膜に対して、パラレルライトマスクアライナー（キヤノン（株）製「ＰＬＡ－５０１Ｆ（商品名）」）を用いて超高圧水銀灯を光源とし、所望のマスクを介して露光量５００ｍＪ／ｃｍ^２（波長３６５ｎｍ換算）で露光し、図４に示すピッチ３００μｍのメッシュ形状のパターンを作製した。この後、自動現像装置（滝沢産業（株）製「ＡＤ－２０００（商品名）」）を用いて、０．０７ｗｔ％ＴＭＡＨ水溶液で６０秒間シャワー現像し、次いで水で３０秒間リンスし、パターン加工を行った。

パターン加工した基板を、オーブン（エスペック（株）製「ＩＨＰＳ－２２２（商品名）」）を用いて、２３０℃で６０分間（空気中）ポストベークし、不透明配線電極付き基板を作製した。不透明配線電極メッシュ部の線幅を光学顕微鏡で測定した結果、４．０μｍであった。

＜感光性絶縁材料（β）のパターン作製＞
感光性絶縁材料（β）を、得られた不透明配線電極付き基板上にスピンコーターを用いて乾燥後膜厚が２．５μｍとなるように所定の回転数でスピンコートした後、ホットプレートを用いて１００℃で２分間プリベークし、プリベーク膜を作製した。プリベーク膜に対して、パラレルライトマスクアライナーを用いて超高圧水銀灯を光源とし、所望のパターンを有する露光マスクを介して、露光量２００ｍＪ／ｃｍ^２（波長３６５ｎｍ換算）で露光した。この後、自動現像装置を用いて、０．０７ｗｔ％ＴＭＡＨ水溶液で６０秒間シャワー現像し、次いで水で３０秒間リンスし、パターン加工を行った。

パターン加工した基板を、オーブンを用いて、２３０℃で６０分間（空気中）ポストベークし、絶縁層を有する不透明配線電極付き基板を作製した。

＜ポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜作製＞
ポジ型感光性樹脂組成物を、得られた不透明配線電極付き基板または絶縁層を有する不透明配線電極付き基板の不透明配線電極形成面に、スピンコーターを用いて乾燥後膜厚が１．０μｍとなるように所定の回転数でスピンコートした後、ホットプレートを用いて１００℃で２分間プリベークし、プリベーク膜を作製した。プリベーク膜に対して、パラレルライトマスクアライナーを用いて超高圧水銀灯を光源とし、不透明配線電極をマスクとして、不透明配線電極形成面の反対面側から露光量５００ｍＪ／ｃｍ^２（波長３６５ｎｍ換算）で露光した。この後、自動現像装置を用いて、０．０７ｗｔ％ＴＭＡＨ水溶液で６０秒間シャワー現像し、次いで水で３０秒間リンスし、パターン加工を行った。

パターン加工した基板を、オーブンを用いて、２３０℃で６０分間（空気中）ポストベークし、ポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜を作製した。

＜積層基板（Ａ）の作製＞
ポジ型感光性樹脂組成物及び銀インク材料（α）を用いて、図１に示す積層基板（Ａ）を作製した。基材１は、表面にＳｉＯ_２をスパッタリングしたガラス基板であり、不透明配線電極層２は銀インク材料（α）による導電パターン層であり、遮光層３はポジ型感光性樹脂組成物による硬化膜である。

（１）パターン加工性評価
積層基板（Ａ）のメッシュ部の遮光層を光学顕微鏡により観察し、無作為に選択した１０点の線幅を測定し、その平均値を算出した。遮光層の線幅の値が不透明配線電極の線幅４．０μｍに近いほどパターン加工性が良好であることを示す。

（２）硬化膜特性評価
積層基板（Ａ）のパッド部６に対応する箇所について、反射率計（ＶＳＲ４００：日本電色工業（株）製）を用いて、波長５５０ｎｍにおける反射率を測定した。

また、積層基板（Ａ）のパッド部６に対応する箇所について、ＰＧＭＥＡに１０分間１００℃で浸漬し、１分間水で洗浄してから、光学顕微鏡にて５０倍に拡大した画像を観察し、浸漬前後での硬化膜外観を観察し、耐溶剤性を評価した。
２ ： 外観変化無し。
１ ： 遮光層にクラック発生。

＜積層基板（Ｂ）の作製＞
ポジ型感光性樹脂組成物、銀インク材料（α）及び感光性絶縁材料（β）を用いて、図２及び図５に示す積層基板（Ｂ）を作製した。基材１は、表面にＳｉＯ_２をスパッタリングしたガラス基板であり、不透明配線電極層２は銀インク材料（α）による導電パターン層であり、遮光層３はポジ型感光性樹脂組成物による硬化膜、絶縁層４は感光性絶縁材料（β）による絶縁層である。

（３）基板上残渣評価
積層基板（Ｂ）において、図２に示す積層基板の絶縁層４上におけるポジ型感光性樹脂組成物の露光部分について、透過率評価により、基板上の残渣を評価した。具体的には、図５に示す積層基板における絶縁層４上のポジ型感光性樹脂組成物の露光部分について、遮光膜形成前後の４００ｎｍにおける透過率を、紫外可視分光光度計（（株）島津製作所製「ＭｕｌｔｉＳｐｅｃ－１５００（商品名）」）を用いて、測定した。そして、遮光膜形成前の透過率をＴ０、遮光膜形成後の透過率をＴとしたときに、式（Ｔ０－Ｔ）／Ｔ０×１００で表される透過率変化を算出した。

（４）マイグレーション耐性評価
積層基板（Ｂ）において、高温高湿下でのマイグレーション耐性を評価した。測定には絶縁劣化特性評価システム“ＥＴＡＣ ＳＩＲ１３”（楠本化成（株）製）を用いた。不透明配線電極２の接続部分にそれぞれ電極を取り付け、８５℃８５％ＲＨ条件に設定された高温高湿槽内にサンプルを入れた。槽内環境が安定してから５分間経過後、不透明配線電極２の電極間に電圧を印加し、絶縁抵抗の経時変化を測定した。なお、一層目の不透明配線電極を正極、二層目の不透明配線電極を負極として、５Ｖの電圧を印加し、抵抗値を５分間隔で１０００時間測定した。測定した抵抗値が１０の５乗Ω以下に達したとき絶縁不良のため短絡と判断して印圧を停止し、それまでの試験時間を短絡時間とした。以下の評価基準に従ってマイグレーション耐性を評価した。２以上を合格とした。
３：短絡時間が１０００時間以上
２：短絡時間が２８０時間以上１０００時間未満
１：短絡時間が２８０時間未満。

（実施例１）
まず、着色剤（Ｃ）としてＭＡ－１００：３．００ｇ、分散剤としてＢＹＫ－２１１１６：１．００ｇ、ＰＧＭＥＡ：４０．００ｇ、ＤＰＭ：２０．００ｇに対し、ホモジナイザーにて、１２００ｒｐｍ、３０分の混合処理を施し、さらに、高圧湿式メディアレス微粒化装置ナノマイザー（ナノマイザー（株））を用いて分散して、分散体を得た。この分散体６４．００ｇに対し、黄色灯下にて、感光剤（Ｂ）として感光剤（ｂ－１）：３．００ｇ、架橋剤としてＭＸ－２７０：０．６９ｇ、溶剤としてＰＧＭＥＡ：１４．５０ｇを加え、溶解させ、シランカップリング剤としてＫＢＭ－４０３：０．３０ｇ、界面活性剤としてＢＹＫ－３３３：０．０１ｇを加え、攪拌した。そこへ側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）として４０ｗｔ％ＰＧＭＥＡ溶液（ａ１－１）：１７．５０ｇを加え、撹拌した。次いで０．２０μｍのフィルターでろ過を行い、ポジ型感光性樹脂組成物を得た。得られたポジ型感光性樹脂組成物について、（１）パターン加工性、（２）硬化膜特性、（３）基板上残渣、（４）マイグレーション耐性を評価した。組成と結果を表１、５に記載した。

（実施例２～２９、比較例１～５）
実施例１と同様の方法で、表１～４記載の組成のポジ型感光性樹脂組成物を得て、それぞれのポジ型感光性樹脂組成物について実施例１と同様の評価をした。評価結果を、表５～８に示す。

本発明の感光性樹脂組成物を硬化して得られる硬化膜の用途は特に限定されないが、例えば、タッチパネル用不透明電極の遮光層や、カラーフィルターのブラックマトリックス又は液晶ディスプレイのブラックカラムスペーサーなどの遮光膜、有機ＥＬ表示装置の画素分割層又はＴＦＴ平坦化層などとして好適に用いられる。

１：透明基板
２：不透明配線電極
３：遮光層
４：絶縁層
５：ポジ型感光性樹脂組成物
６：パッド部

Claims (14)

1. 側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光剤（Ｂ）及び着色剤（Ｃ）を含有し、前記重合性基がアクリル基および／またはメタクリル基であり、
   前記側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、下記一般式（２）で表される繰り返し単位を有するポジ型感光性樹脂組成物。
   

   

   （一般式（２）中、R ^２ 及びR ^３ は水素原子又はメチル基を示す。R ^２ 及びR ^３ はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。）
2. 前記側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の重量平均分子量Ｍｗが１,０００以上１５,０００以下である請求項１記載のポジ型感光性樹脂組成物。
3. 前記側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、全繰り返し単位中、前記一般式（２）で表される繰り返し単位を５～５０モル％含有する請求項１または２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
4. 前記着色剤（Ｃ）が芳香族基を有する請求項１～３いずれか一項記載のポジ型感光性樹脂組成物。
5. 前記着色剤（Ｃ）が黒色の有機顔料であり、前記黒色の有機顔料がカーボンブラックを含有する請求項１～４いずれか一項記載のポジ型感光性樹脂組成物。
6. 請求項１～５いずれか一項記載のポジ型感光性樹脂組成物を硬化させてなる硬化膜であって、波長５５０ｎｍにおける反射率が、０．０１～２０％である硬化膜。
7. 導電層および請求項６記載の硬化膜を有する積層体。
8. 前記導電層の膜厚に対する前記硬化膜の膜厚の比が１／２～５である請求項７記載の積層体。
9. 前記導電層が銀を含有する請求項７または８に記載の積層体。
10. 基板、基板上に形成された導電パターンおよび請求項６記載の硬化膜を有する導電パターン付き基板であって、導電パターン形成領域上に前記硬化膜を有し、導電パターン非形成領域上に前記硬化膜を有しない導電パターン付き基板。
11. 前記導電パターンが接続部を含み、接続部上に前記硬化膜を有しない請求項１０記載の導電パターン付き基板。
12. 透明基板の片面に不透明配線電極を形成する工程と、
    前記透明基板上の不透明配線電極形成面に請求項１～５のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を塗布する工程と、
    透明基板の不透明配線電極形成面の反対面側から露光し、現像することにより、不透明配線電極に対応する部位に遮光層を形成する工程を有する積層体の製造方法。
13. 請求項６記載の硬化膜を具備する、タッチパネル。
14. 請求項６記載の硬化膜を具備する、有機ＥＬ表示装置。

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