JP7052867B2 - キャパシタ - Google Patents
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims description 42
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 22
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 19
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- SEOYNUHKXVGWFU-UHFFFAOYSA-N mu-oxidobis(oxidonitrogen) Chemical compound O=NON=O SEOYNUHKXVGWFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
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- H01G4/06—Solid dielectrics
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- H01G4/1209—Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/28—Manufacture of electrodes on semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/268
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Description
図1を参照して、本発明に基づく実施の形態1におけるキャパシタについて説明する。本実施の形態におけるキャパシタ101の断面図を図1に示す。
EOT = εSiO2×T/ε
主表面1uにある凹部15は有底の筒形状である。凹部15は、主表面1uの同一平面上に形成された第1部分51と、凹部15のうち底部に対応する第2部分52と、凹部15のうち筒部に対応し、第2部分52と第1部分51とを連結する第3部分53と、凹部15の開口部である第4部分54とを含む。基材1の主表面1uとは反対側の面は、裏面電極4によって覆われている。基材1が導電性を有しない場合、凹部の表面に図示しない導電体膜が形成され、導電体膜上に誘電体膜20が形成される。
図2~図4を参照して、本発明に基づく実施の形態2におけるキャパシタについて説明する。本実施の形態におけるキャパシタ102の部分平面図を図2に示す。図2におけるIII-III線に関する矢視断面図を図3に示す。図3におけるZ1部の拡大図を図4に示す。
実験結果を図5に示す。ここでは、凹部15の深さが30μmであるものとし、温度は200℃であるものとした。図5では、印加される電圧と流れるリーク電流との関係をグラフで示している。図5においては、誘電体膜20の積層構造が、酸化膜、窒化膜、酸化膜の順の3層構造となっている場合、すなわち、いわゆるONO膜となっている場合を「ONO」と表示している。誘電体膜20の積層構造が、酸化膜、窒化膜、酸化膜、窒化膜、酸化膜の順の5層構造となっている場合、すなわち、いわゆるONONO膜となっている場合を「ONONO」と表示している。図5からは、誘電体膜20がONO膜である場合に比べてONONO膜である場合にはより一層、リーク電流を低減することができることがわかる。すなわち、高電圧に対する絶縁性能が増していることがわかる。
実施の形態1,2では、平面図で見たとき凹部15が円形のスポット状となるように設けられていたが、本発明に基づく実施の形態3では、図6に示すように、凹部15が溝状に設けられている。図6では、基材1の主表面1uを覆う各層を取り去った状態で、基材1の上面を示している。複数の溝状の凹部15が平行に設けられている。凹部15が溝状に設けられていても、実施の形態1,2で述べたのと同様の効果を得ることができる。
なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
Claims (11)
- 凹部および凸部のうち少なくとも一方を有する主表面を有する基材と、
前記主表面を覆う誘電体膜と、
前記誘電体膜を覆う導電体膜とを備え、
前記誘電体膜は、前記凹部および凸部のうち少なくとも一方に沿って形成されており、
前記誘電体膜は、酸化膜換算膜厚が600nm以上であり、
前記誘電体膜は、2層以上の積層構造を含み、
前記積層構造のうち最上層の残留応力は、前記積層構造の中の他のいずれの層の残留応力に比べても小さい、キャパシタ。 - 凹部および凸部のうち少なくとも一方を有する主表面を有する基材と、
前記主表面を覆う誘電体膜と、
前記誘電体膜を覆う導電体膜とを備え、
前記誘電体膜は、前記凹部および凸部のうち少なくとも一方に沿って形成されており、
前記誘電体膜は、酸化膜換算膜厚が600nm以上であり、
前記誘電体膜は、2層以上の積層構造を含み、
前記積層構造のうち最上層は、水素、水および炭素からなる群から選択されるいずれか1つの要素の含有量に関して比較したとき、前記積層構造の中の他のいずれの層に比べてもより多く含有する、キャパシタ。 - 凹部および凸部のうち少なくとも一方を有する主表面を有する基材と、
前記主表面を覆う誘電体膜と、
前記誘電体膜を覆う導電体膜とを備え、
前記誘電体膜は、前記凹部および凸部のうち少なくとも一方に沿って形成されており、
前記誘電体膜は、酸化膜換算膜厚が600nm以上であり、
前記誘電体膜は、2層以上の積層構造を含み、
前記積層構造のうち最上層は、前記積層構造の中の他のいずれの層より厚い、キャパシタ。 - 前記導電体膜は、前記凹部および凸部のうち少なくとも一方に沿って形成された前記誘電体膜上において、前記導電体膜同士が互いに対向しつつも互いに接触していない領域を有する、請求項1から3のいずれか1項に記載のキャパシタ。
- 前記誘電体膜は、3層以上の積層構造を含む、請求項1から4のいずれか1項に記載のキャパシタ。
- 前記積層構造は、酸化膜、窒化膜、酸化膜の順の積層を含む、請求項5に記載のキャパシタ。
- 前記積層構造のうち最上層は、水素、水および炭素からなる群から選択されるいずれか1つの要素の含有量に関して比較したとき、前記積層構造の中の他のいずれの層に比べてもより多く含有する、請求項1に記載のキャパシタ。
- 前記積層構造のうち最上層は、前記積層構造の中の他のいずれの層より厚い、請求項1または2に記載のキャパシタ。
- 前記積層構造のうち最上層の厚みは、前記積層構造の中の他の全ての層の合計厚みより厚い、請求項3または8に記載のキャパシタ。
- 前記積層構造のうち最上層は、熱酸化膜ではない酸化膜である、請求項1から9のいずれかに記載のキャパシタ。
- 前記積層構造は、酸化膜、窒化膜、酸化膜、窒化膜、酸化膜の順の積層を含む、請求項1から10のいずれかに記載のキャパシタ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018087140 | 2018-04-27 | ||
JP2018087140 | 2018-04-27 | ||
PCT/JP2019/015678 WO2019208226A1 (ja) | 2018-04-27 | 2019-04-10 | キャパシタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019208226A1 JPWO2019208226A1 (ja) | 2021-01-07 |
JP7052867B2 true JP7052867B2 (ja) | 2022-04-12 |
Family
ID=68295375
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020516205A Active JP7052867B2 (ja) | 2018-04-27 | 2019-04-10 | キャパシタ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11488784B2 (ja) |
JP (1) | JP7052867B2 (ja) |
CN (1) | CN111771253B (ja) |
DE (1) | DE112019002197T5 (ja) |
WO (1) | WO2019208226A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115295726A (zh) * | 2022-10-08 | 2022-11-04 | 成都宏科电子科技有限公司 | 一种3d硅基电容器及其制备方法 |
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JP2006049795A (ja) | 2004-06-28 | 2006-02-16 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2011204927A (ja) | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Seiko Instruments Inc | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2014078661A (ja) | 2012-10-12 | 2014-05-01 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2015111671A (ja) | 2013-11-22 | 2015-06-18 | フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァ フェルダールング デァ アンゲヴァンテン フォアシュンク エー.ファオ | 集積キャパシタおよびそれを製造する方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0521808A (ja) * | 1991-07-09 | 1993-01-29 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置の製造方法 |
KR100587082B1 (ko) | 2004-06-30 | 2006-06-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 캐패시터 형성방법 |
TWI540739B (zh) * | 2013-09-12 | 2016-07-01 | 璨圓光電股份有限公司 | 電容結構以及堆疊型電容結構 |
JP5967153B2 (ja) | 2014-08-06 | 2016-08-10 | 日産自動車株式会社 | 半導体装置 |
DE102019204503B3 (de) * | 2018-10-09 | 2020-03-26 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Integrierter Kondensator und Verfahren zur Herstellung eines integrierten Kondensators |
-
2019
- 2019-04-10 WO PCT/JP2019/015678 patent/WO2019208226A1/ja active Application Filing
- 2019-04-10 JP JP2020516205A patent/JP7052867B2/ja active Active
- 2019-04-10 CN CN201980015302.7A patent/CN111771253B/zh active Active
- 2019-04-10 DE DE112019002197.4T patent/DE112019002197T5/de active Pending
-
2020
- 2020-08-20 US US16/998,058 patent/US11488784B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001345434A (ja) | 2000-03-27 | 2001-12-14 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11488784B2 (en) | 2022-11-01 |
CN111771253B (zh) | 2021-12-14 |
WO2019208226A1 (ja) | 2019-10-31 |
US20200381181A1 (en) | 2020-12-03 |
JPWO2019208226A1 (ja) | 2021-01-07 |
CN111771253A (zh) | 2020-10-13 |
DE112019002197T5 (de) | 2021-01-14 |
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