JP7042895B1 - 光学積層体および物品 - Google Patents
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Abstract
【課題】物品に備えられ、物品の視認角度を変化させても色むらが視認されにくい光学積層体を提供する。【解決手段】透明基材と、光学機能層と、防汚層とが、この順に積層され、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を、表面に対して入射角５°～５０°で入射させたときの反射光のＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値およびｂ＊値が、ａ＊ｂ＊平面上の同一象限内である光学積層体とする。【選択図】なし
Description
本発明は、光学積層体および物品に関する。
フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）などの画像表示装置は、携帯電話、スマートフォン、カーナビゲーション装置などに広く使用されている。
従来の画像表示装置においては、視認角度による色むらを視認し難くすることが要求されている。
例えば、特許文献１には、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光Ａを、入射角５°で入射させた際の視感度反射率が０．５％以下であり、該光Ａの入射角を５°～５０°の範囲で変化させた際の正反射光において、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値の最大値と最小値との差に対する、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるｂ＊値の最大値と最小値との差の比（ｂ＊値の差／ａ＊値の差）が、２以上となる、反射防止フィルムが記載されている。
従来の画像表示装置においては、視認角度による色むらを視認し難くすることが要求されている。
例えば、特許文献１には、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光Ａを、入射角５°で入射させた際の視感度反射率が０．５％以下であり、該光Ａの入射角を５°～５０°の範囲で変化させた際の正反射光において、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値の最大値と最小値との差に対する、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるｂ＊値の最大値と最小値との差の比（ｂ＊値の差／ａ＊値の差）が、２以上となる、反射防止フィルムが記載されている。
画像表示装置上に設置される反射防止膜などの光学積層体は、これが設置された画像表示装置の視認角度を変化させても、色むらが視認されないことが好ましい。
しかしながら、従来の光学積層体は、これが設置された画像表示装置の視認角度を異ならせることによって、色むら（色調の違い）が視認される場合があった。
このため、画像表示装置に上に設置される従来の光学積層体においては、画像表示装置の視認角度を変化させても色むらが視認されにくいものとすることが要求されている。
しかしながら、従来の光学積層体は、これが設置された画像表示装置の視認角度を異ならせることによって、色むら（色調の違い）が視認される場合があった。
このため、画像表示装置に上に設置される従来の光学積層体においては、画像表示装置の視認角度を変化させても色むらが視認されにくいものとすることが要求されている。
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、物品に備えられ、物品の視認角度を変化させても色むらが視認されにくい光学積層体を提供することを目的とする。
また、本発明は、本発明の光学積層体が備えられ、視認角度を変化させても色むらが視認されにくい物品を提供することを目的とする。
また、本発明は、本発明の光学積層体が備えられ、視認角度を変化させても色むらが視認されにくい物品を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
［１］ 透明基材と、光学機能層と、防汚層とが、この順に積層され、
標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を、表面に対して入射角５°～５０°で入射させたときの反射光のＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値およびｂ＊値が、ａ＊ｂ＊平面上の同一象限内であることを特徴とする光学積層体。
標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を、表面に対して入射角５°～５０°で入射させたときの反射光のＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値およびｂ＊値が、ａ＊ｂ＊平面上の同一象限内であることを特徴とする光学積層体。
［２］ 前記光を前記表面に対して入射角５°～５０°で入射させた時の前記反射光の前記ａ＊値および前記ｂ＊値が０未満である［１］に記載の光学積層体。
［３］ 前記光を前記表面に対して入射角１０°、２０°、３０°、４０°、５０°で入射させた時の反射率と、入射角５°で入射させた時の反射率との差の最大値が、絶対値で１％以下である［１］または［２］に記載の光学積層体。
［３］ 前記光を前記表面に対して入射角１０°、２０°、３０°、４０°、５０°で入射させた時の反射率と、入射角５°で入射させた時の反射率との差の最大値が、絶対値で１％以下である［１］または［２］に記載の光学積層体。
［４］ 前記光を前記表面に対して入射角５°～５０°で入射させた時の前記反射光は、下記式（１）で示される△Ｅ＊ａｂが１０以下のものである［１］～［３］のいずれかに記載の光学積層体。
［５］ 前記光学機能層が、低屈折率材料層と、前記低屈折率材料層よりも高屈折率の材料からなる高屈折率材料層とが、交互に積層された積層体からなり、
前記積層体の前記透明基材側には、前記高屈折率材料層からなる膜厚７．５ｎｍ以上の第１高屈折率材料層が配置され、
前記第１高屈折率材料層に接して前記低屈折率材料層からなる膜厚２７ｎｍ～３７ｎｍの第１低屈折率材料層が配置され、
前記積層体の前記防汚層側には、前記低屈折率材料層からなる膜厚８５ｎｍ～１０３ｎｍの第２低屈折率材料層が配置されている［１］～［４］のいずれかに記載の光学積層体。
前記積層体の前記透明基材側には、前記高屈折率材料層からなる膜厚７．５ｎｍ以上の第１高屈折率材料層が配置され、
前記第１高屈折率材料層に接して前記低屈折率材料層からなる膜厚２７ｎｍ～３７ｎｍの第１低屈折率材料層が配置され、
前記積層体の前記防汚層側には、前記低屈折率材料層からなる膜厚８５ｎｍ～１０３ｎｍの第２低屈折率材料層が配置されている［１］～［４］のいずれかに記載の光学積層体。
［６］ 前記第１低屈折率材料層と前記第２低屈折率材料層との間に、高屈折率材料層からなる膜厚１０５ｎｍ～１２０ｎｍの第２高屈折率材料層が配置され、
前記光学機能層が、前記第１高屈折率材料層と前記第１低屈折率材料層と前記第２高屈折率材料層と前記第２低屈折率材料層の４層からなる［５］に記載の光学積層体。
前記光学機能層が、前記第１高屈折率材料層と前記第１低屈折率材料層と前記第２高屈折率材料層と前記第２低屈折率材料層の４層からなる［５］に記載の光学積層体。
［７］ 前記透明基材と前記光学機能層との間に、密着層が備えられ、
前記密着層が、金属、合金、金属酸化物、金属フッ化物、金属硫化物、金属窒化物から選ばれるいずれか１種または２種以上からなる［１］～［６］のいずれかに記載の光学積層体。
［８］ 前記密着層が、酸素欠乏状態にある金属酸化物からなる［７］に記載の光学積層体。
［９］ 前記透明基材と前記密着層との間に、ハードコート層を備える［７］または［８］に記載の光学積層体。
前記密着層が、金属、合金、金属酸化物、金属フッ化物、金属硫化物、金属窒化物から選ばれるいずれか１種または２種以上からなる［１］～［６］のいずれかに記載の光学積層体。
［８］ 前記密着層が、酸素欠乏状態にある金属酸化物からなる［７］に記載の光学積層体。
［９］ 前記透明基材と前記密着層との間に、ハードコート層を備える［７］または［８］に記載の光学積層体。
［１０］ ［１］～［９］のいずれかに記載の光学積層体を備えることを特徴とする物品。
［１１］ 前記光学積層体が、画像表示装置の表面に備えられている［１０］に記載の物品。
［１１］ 前記光学積層体が、画像表示装置の表面に備えられている［１０］に記載の物品。
本発明の光学積層体は、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を、表面に対して入射角５°～５０°で入射させたときの反射光のＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値およびｂ＊値が、ａ＊ｂ＊平面上の同一象限内である。このため、本発明の光学積層体は、物品に備えられ、物品の視認角度を変化させても色むらが視認されにくいものである。
また、本発明の物品は、本発明の光学積層体を備えているので、視認角度を変化させても色むらが視認されにくい。
また、本発明の物品は、本発明の光学積層体を備えているので、視認角度を変化させても色むらが視認されにくい。
本発明者らは、上記課題を解決し、光学積層体を備えた物品の視認角度を変化させても色むら（色調の違い）が視認されにくい光学積層体を得るために、物品の視認角度と反射光の色度（色相）との関係に着目して、鋭意検討を重ねた。
その結果、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を、表面に対して入射角５°～５０°で入射させたときの反射光のＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値およびｂ＊値が、ａ＊ｂ＊平面上の同一象限内であれば、物品の視認角度を５°～５０°の広い範囲で変化させても色むらが視認されにくいという知見を得た。
さらに、本発明者らは、上記の知見に基づいて、光学積層体として、透明基材と、光学機能層と、防汚層とが、この順に積層され、光学機能層が、低屈折率材料層と、低屈折率材料層よりも高屈折率の材料からなる高屈折率材料層とが、交互に積層された積層体からなるものを用いて検討を重ねた。
その結果、積層体の透明基材側に、膜厚７．５ｎｍ以上の高屈折率材料層と、膜厚２７ｎｍ～３７ｎｍの低屈折率材料層とをこの順に配置し、積層体の防汚層側に、膜厚８５ｎｍ～１０３ｎｍの低屈折率材料層を配置すればよいことを見出し、本発明を想到した。
その結果、積層体の透明基材側に、膜厚７．５ｎｍ以上の高屈折率材料層と、膜厚２７ｎｍ～３７ｎｍの低屈折率材料層とをこの順に配置し、積層体の防汚層側に、膜厚８５ｎｍ～１０３ｎｍの低屈折率材料層を配置すればよいことを見出し、本発明を想到した。
以下、本発明の光学積層体および物品について、図を適宜参照しながら詳細に説明する。以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際とは異なっていることがある。以下の説明において例示される材質、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、その効果を奏する範囲で適宜変更して実施することが可能である。
［光学積層体］
図１は、本発明の光学積層体の一例を示した断面模式図である。
図１に示す光学積層体１は、物品（不図示）に備えられている。物品としては、例えば、画像表示装置（不図示）の表面に、光学積層体１が備えられているものなどが挙げられる。
図１は、本発明の光学積層体の一例を示した断面模式図である。
図１に示す光学積層体１は、物品（不図示）に備えられている。物品としては、例えば、画像表示装置（不図示）の表面に、光学積層体１が備えられているものなどが挙げられる。
図１に示す光学積層体１は、透明基材２と、ハードコート層３と、密着層４ａと、光学機能層４と、防汚層５とが、この順に積層されたものである。本実施形態の光学積層体１に備えられている光学機能層４は、反射防止層として機能する。光学機能層４は、図１に示すように、第１高屈折率材料層４１ｂと、第１低屈折率材料層４１ｃと、第２高屈折率材料層４２ｂと、第２低屈折率材料層４２ｃとが、透明基材２側からこの順に積層された積層体からなる。
図２は、本実施形態の光学積層体１の一例の表面に対して、入射角５°、１０°、２０°、３０°、４０°、５０°で標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を入射させたときの、反射光のＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値およびｂ＊値を示したグラフである。
図２において、ａ＊値およびｂ＊値は色度を示し、ａ＊値およびｂ＊値の絶対値が大きい座標の色であるほど彩度が大きい。すなわち、図２おいて、ａ＊値およびｂ＊値の絶対値が大きい座標の色であるほど鮮やかな色であり、ａ＊値およびｂ＊値の絶対値が小さい座標の色であるほど無彩色に近い色である。＋ａ＊の座標は赤方向の色相であり、－ａ＊の座標は緑方向の色相であり、＋ｂ＊の座標は黄方向の色相であり、－ｂ＊の座標は青方向の色相である。
図２において、ａ＊値およびｂ＊値は色度を示し、ａ＊値およびｂ＊値の絶対値が大きい座標の色であるほど彩度が大きい。すなわち、図２おいて、ａ＊値およびｂ＊値の絶対値が大きい座標の色であるほど鮮やかな色であり、ａ＊値およびｂ＊値の絶対値が小さい座標の色であるほど無彩色に近い色である。＋ａ＊の座標は赤方向の色相であり、－ａ＊の座標は緑方向の色相であり、＋ｂ＊の座標は黄方向の色相であり、－ｂ＊の座標は青方向の色相である。
本実施形態の光学積層体１は、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を、表面に対して入射角５°～５０°で入射させたときの反射光のＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値およびｂ＊値が、ａ＊ｂ＊平面上の同一象限内である。したがって、本実施形態の光学積層体１に、入射角５°～５０°で光を入射させたときに得られる反射光は、類似する色相である。よって、本実施形態の光学積層体１が設置された物品は、視認角度を変化させても、色むらが視認されにくい。
本実施形態の光学積層体１は、図２に示すように、光を表面に対して入射角５°～５０°で入射させた時の反射光のａ＊値およびｂ＊値が０未満であることが好ましい。この場合、光学積層体１の表面に入射角５°～５０°で光を入射させたときの反射光は、全て青緑色の色相となる。青緑色の色相は、黄緑色、橙色などの色相と比較して、視感度が低く、物品の色相に影響を与えにくい。このため、入射角５°～５０°で入射させた時の反射光のａ＊値およびｂ＊値が０未満である場合、表面に光学積層体１が備えられている物品は、視認角度を変化させることによる色相（色味の傾向）の変化がより視認されにくく、色むらがより一層視認されにくいものとなる。しかも、ｂ＊値が０未満であると、ｂ＊値が０超である場合と比較して、反射率が低くなる。したがって、反射防止層としての機能がより一層良好な光学積層体１となる。
本実施形態の光学積層体１は、光を表面に対して入射角５°～５０°で入射させた時の反射光のａ＊値が、絶対値で１０．０以下であることが好ましく、５．０以下であることがより好ましい。ａ＊値の絶対値が１０．０以下であると、光学積層体１が設置された物品に反射される反射光を着色しにくく、物品の視認角度を変化させることによる色むらがより一層視認されにくいものとなる。
本実施形態の光学積層体１は、光を表面に対して入射角５°～５０°で入射させた時の反射光のｂ＊値が、絶対値で１０．０以下であることが好ましく、６．０以下であることがより好ましい。ｂ＊値の絶対値が１０．０以下であると、光学積層体１が設置された物品に反射される反射光を着色しにくく、物品の視認角度を変化させることによる色むらがより一層視認されにくいものとなる。
本実施形態の光学積層体１は、光を表面に対して入射角５°～５０°で入射させた時の反射光のｂ＊値が、絶対値で１０．０以下であることが好ましく、６．０以下であることがより好ましい。ｂ＊値の絶対値が１０．０以下であると、光学積層体１が設置された物品に反射される反射光を着色しにくく、物品の視認角度を変化させることによる色むらがより一層視認されにくいものとなる。
本実施形態の光学積層体１において、光を表面に対して入射角５°～５０°で入射させた時の反射光は、下記式（１）で示される△Ｅ＊ａｂが１０以下のものであることが好ましく、７以下のものであることがより好ましい。
入射角５°～５０°で入射させた時の反射光が、式（１）で示されるΔＥ＊ａｂが１０以下のものである場合、視認角度を変化させることによる色相（色味の傾向）および明度の変化が少ないものとなる。したがって、物品の視認角度を変化させることによる色むらが、より一層視認されにくい光学積層体１となる。式（１）で示される△Ｅが７以下であると、視認角度を変化させることによる色相および明度の変化が、さらに少ないものとなるため、好ましい。
本実施形態の光学積層体１において、表面に対して入射角５°～５０°で入射させたときの反射光のＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるＬ＊値、ａ＊値およびｂ＊値は、光学機能層４に含まれる第１高屈折率材料層４１ｂの厚みと第１低屈折率材料層４１ｃの厚みと第２低屈折率材料層４２ｃの厚みを適宜選択することにより調整できる。
本実施形態の光学積層体１は、光を表面に対して入射角１０°、２０°、３０°、４０°、５０°で入射させた時の反射率と、入射角５°で入射させた時の反射率との差の最大値が、絶対値で１％以下であることが好ましく、０．７％以下であることがより好ましい。上記反射率の差の最大値が、絶対値で１％以下であると、物品の視認角度を変化させることによる色むらがより一層視認されにくいものとなる。
（透明基材）
本実施形態の光学積層体１を形成している透明基材２としては、公知のものを用いることができる。
透明基材２は、可視光域の光を透過可能な透明材料からなる。本実施形態において「透明材料」とは、可視光域の光の透過率が８０％以上の材料であることを意味する。
本実施形態の光学積層体１を形成している透明基材２としては、公知のものを用いることができる。
透明基材２は、可視光域の光を透過可能な透明材料からなる。本実施形態において「透明材料」とは、可視光域の光の透過率が８０％以上の材料であることを意味する。
透明基材２としては、例えば、プラスチックフィルムを用いることができる。プラスチックフィルムの材料としては、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂などが挙げられる。これらの中でも、プラスチックフィルムの材料としては、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂から選ばれるいずれか１種または２種以上を用いることが好ましく、特に、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）またはトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）を用いることが好ましい。
透明基材２は、光学積層体１の光学特性を損なわない限りにおいて、補強材料を含むものであってよい。補強材料としては、例えば、セルロースナノファイバー、ナノシリカなどが挙げられる。
透明基材２は、ガラスフィルムなどの無機材料からなるものであってもよい。
透明基材２は、ガラスフィルムなどの無機材料からなるものであってもよい。
透明基材２としては、表面処理が施されたものを使用してもよい。表面処理方法としては、例えば、スパッタリング、コロナ放電、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理、下塗り処理などが挙げられる。これらの表面処理方法から選ばれるいずれか１種または２種以上の方法を用いて透明基材２に表面処理を施すことにより、ハードコート層３との密着性が良好な透明基材２が得られる。
透明基材２としては、必要に応じて、光学的機能および／または物理的機能が付与されたフィルムを用いてもよい。光学的機能および／または物理的機能を有するフィルムとしては、例えば、偏光板フィルム、位相差補償フィルム、熱線遮断フィルム、導電フィルム、輝度向上フィルム、レンズシートなどが挙げられる。さらに、透明基材２としては、光学的機能および／または物理的機能を有するフィルムに、例えば、帯電防止機能などの機能を付与したものを用いてもよい。
透明基材２の厚みは、２５μｍ以上であることが好ましく、４０μｍ以上であることがより好ましい。透明基材２の厚みが２５μｍ以上であると、光学積層体１に応力が加わっても皺が発生しにくく好ましい。また、透明基材２の厚みが２５μｍ以上であると、光学積層体１を製造する際に透明基材２上にハードコート層３を形成しても、透明基材２に皺が生じにくく、歩留まりよく製造できる。また、透明基材２の厚みが２５μｍ以上であると、光学積層体１を製造する際に、製造途中の光学積層体１がカールしにくく、取り扱いが容易であり、好ましい。
透明基材２の厚みは、１ｍｍ以下であることが好ましく、５００μｍ以下であることがより好ましく、３００μｍ以下であることが特に好ましい。透明基材２の厚みが１ｍｍ以下であると、透明基材２の実質的な光学透明性を担保できる。また、透明基材２の厚みが１ｍｍ以下であると、透明基材２上に、枚葉方式であってもロールトウロール方式であっても成膜できる。特に、透明基材２の厚みが３００μｍ以下であると、ロールトウロール方式で光学積層体１を製造する場合に、ロール状に巻き付けられた透明基材２の１度に投入可能な長さを長くできる。このため、透明基材２の厚みが３００μｍ以下であると、ロールトウロール方式で光学積層体１を連続的に生産する場合に、生産性に優れる。また、透明基材２の厚みが３００μｍ以下であると、品質の良好な光学積層体１となるため、好ましい。
透明基材２の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の製造方法で製造できる。
透明基材２は、透明基材２上にハードコート層３を形成する前に、必要に応じて表面を洗浄してもよい。透明基材２の表面の洗浄方法としては、例えば、溶剤洗浄、超音波洗浄などが挙げられる。透明基材２の洗浄を行うことにより、透明基材２の表面を除塵でき、表面が清浄化されるため、好ましい。
透明基材２は、透明基材２上にハードコート層３を形成する前に、必要に応じて表面を洗浄してもよい。透明基材２の表面の洗浄方法としては、例えば、溶剤洗浄、超音波洗浄などが挙げられる。透明基材２の洗浄を行うことにより、透明基材２の表面を除塵でき、表面が清浄化されるため、好ましい。
（ハードコート層）
本実施形態の光学積層体１は、透明基材２と密着層４ａとの間に、ハードコート層３を備える。ハードコート層３としては、公知のものを用いることができ、例えば、バインダー樹脂とフィラーとを含むものが挙げられる。ハードコート層３は、バインダー樹脂とフィラーの他に、必要に応じて、レベリング剤などの公知の材料を含むものであってもよい。
ハードコート層３に含まれるバインダー樹脂としては、透明材料を用いることが好ましい。バインダー樹脂としては、例えば、電離放射線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを用いることができる。バインダー樹脂は、１種のみ用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
本実施形態の光学積層体１は、透明基材２と密着層４ａとの間に、ハードコート層３を備える。ハードコート層３としては、公知のものを用いることができ、例えば、バインダー樹脂とフィラーとを含むものが挙げられる。ハードコート層３は、バインダー樹脂とフィラーの他に、必要に応じて、レベリング剤などの公知の材料を含むものであってもよい。
ハードコート層３に含まれるバインダー樹脂としては、透明材料を用いることが好ましい。バインダー樹脂としては、例えば、電離放射線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを用いることができる。バインダー樹脂は、１種のみ用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ－ビニルピロリドン、ウレタンアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）およびペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）などが挙げられる。電離放射線硬化型樹脂としては、上述した化合物をＰＯ（プロピレンオキサイド）変性したもの、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性したもの、ＣＬ（カプロラクトン）変性したものなどを使用してもよい。
本実施形態において「（メタ）アクリレート」とは、メタクリレートおよび／またはアクリレートを意味する。
本実施形態において「（メタ）アクリレート」とは、メタクリレートおよび／またはアクリレートを意味する。
バインダー樹脂として電離放射線硬化型樹脂を含む場合、ハードコート層３は、公知の電離放射線硬化開始剤を含むものであってもよい。例えば、電離放射線硬化型樹脂として、（メタ）アクリレートなどの紫外線硬化型樹脂を含む場合、ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトンなどの紫外線硬化開始剤を含むことが好ましい。
熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂などが挙げられる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン－尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂（かご状、ラダー状などのいわゆるシルセスキオキサン等を含む）などが挙げられる。
ハードコート層３に含まれるフィラーとしては、光学積層体１の防眩性、密着層４ａとの密着性、アンチブロッキング性の観点から、光学積層体１の用途に応じて種々のものを選択して使用できる。具体的には、例えば、シリカ（Ｓｉの酸化物）粒子、アルミナ（酸化アルミニウム）粒子、有機微粒子など公知のものを用いることができる。
光学積層体１の防眩性を向上させる観点から、フィラーとして、アクリル樹脂などからなる有機微粒子を用いることが好ましい。有機微粒子の粒子径は、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがさらに好ましく、３μｍ以下であることが特に好ましい。
密着層４ａとの密着性を向上させる観点から、フィラーとして、シリカ粒子を用いることが好ましい。シリカ粒子の粒子径は、８００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることが特に好ましい。
密着層４ａとの密着性を向上させる観点から、フィラーとして、シリカ粒子を用いることが好ましい。シリカ粒子の粒子径は、８００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることが特に好ましい。
ハードコート層３の厚みは、例えば、０．５μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以上である。ハードコート層３の厚みは、１００μｍ以下であることが好ましい。
ハードコート層３は、単一の層からなるものであってもよいし、複数の層が積層されたものであってもよい。
ハードコート層３は、単一の層からなるものであってもよいし、複数の層が積層されたものであってもよい。
ハードコート層３の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の製造方法を用いて製造できる。例えば、ハードコート層３は、塗布法により製造できる。塗布法としては、例えば、ハードコート層３となる材料を溶剤に溶解および／または分散させた塗布液を、公知の方法を用いて透明基材２上に塗布し、硬化させる方法などが挙げられる。溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、ハードコート層３となる材料に応じて適宜決定できる。
（密着層）
本実施形態の光学積層体１においては、透明基材２上に設けられたハードコート層３と光学機能層４との間に、密着層４ａが備えられている。密着層４ａは、光学機能層４とハードコート層３とを密着させる機能を有する。
本実施形態の光学積層体１においては、透明基材２上に設けられたハードコート層３と光学機能層４との間に、密着層４ａが備えられている。密着層４ａは、光学機能層４とハードコート層３とを密着させる機能を有する。
密着層４ａは、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、スズ、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、アルミニウム、ジルコニウム、パラジウム等の金属；これらの金属の合金；これらの金属の酸化物、フッ化物、硫化物または窒化物；から選ばれるいずれか１種または２種以上からなるものであることが好ましい。
密着層４ａを、例えば、スパッタ法によって形成する場合、密着層４ａの材料として、融点が７００℃以下である金属を用いることが好ましい。密着層４ａが７００℃を超える高融点の金属からなるものであると、スパッタリングによってハードコート層３の表面に到達した金属が十分に広がらず、局在化するきらいがある。
密着層４ａを、例えば、スパッタ法によって形成する場合、密着層４ａの材料として、融点が７００℃以下である金属を用いることが好ましい。密着層４ａが７００℃を超える高融点の金属からなるものであると、スパッタリングによってハードコート層３の表面に到達した金属が十分に広がらず、局在化するきらいがある。
密着層４ａは、非化学量論組成の無機酸化物を含むものであってもよい。この場合、酸素欠乏状態にある金属酸化物からなるものであることが好ましく、特にＳｉＯｘ（Ｓｉ酸化物）を主成分とするものであることが好ましい。密着層４ａは、Ｓｉ酸化物のみからなるものであってもよいし、Ｓｉ酸化物とは別に、５０質量％以下の範囲、好ましくは１０質量％以下の範囲で、別の元素を含んでいてもよい。別の元素としては、密着層４ａの耐久性を向上させるためにＮａを含んでいてもよいし、密着層４ａの硬度を向上させるためにＺｒ、Ａｌ、Ｎから選ばれる１種または２種以上の元素を含んでいてもよい。
密着層４ａの厚みは、例えば、１ｎｍ～１０ｎｍであることが好ましく、１ｎｍ～５ｎｍであることがより好ましい。密着層４ａの厚みが上記範囲内であると、光学機能層４とハードコート層３とを密着させる機能がより効果的に得られる。密着層４ａの厚みが１ｎｍ以上であると、密着層４ａとハードコート層３との密着性がより良好となる。また、密着層の厚みが１０ｎｍ以下であると、物品に備えられた場合に、物品の視認角度を変化させることによる色むらがより一層視認されにくい光学積層体１となる。
密着層４ａの製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の製造方法を用いて製造できる。密着層４ａは、例えば、スパッタ法により形成できる。
（光学機能層）
光学機能層４は、低屈折率材料層（図１に示す例では第１低屈折率材料層４１ｃ、第２低屈折率材料層４２ｃ）と、低屈折率材料層よりも高屈折率の材料からなる高屈折率材料層（図１に示す例では第１高屈折率材料層４１ｂ、第２高屈折率材料層４２ｂ）とが、交互に積層された積層体からなる。
光学機能層４は、防汚層５側から光学積層体１に入射した光を拡散させる。このことにより、光学積層体１は、防汚層５側から光学積層体１に入射した光が、反射光として一方向に出射されることを防止する反射防止層として機能する。
光学機能層４は、低屈折率材料層（図１に示す例では第１低屈折率材料層４１ｃ、第２低屈折率材料層４２ｃ）と、低屈折率材料層よりも高屈折率の材料からなる高屈折率材料層（図１に示す例では第１高屈折率材料層４１ｂ、第２高屈折率材料層４２ｂ）とが、交互に積層された積層体からなる。
光学機能層４は、防汚層５側から光学積層体１に入射した光を拡散させる。このことにより、光学積層体１は、防汚層５側から光学積層体１に入射した光が、反射光として一方向に出射されることを防止する反射防止層として機能する。
本実施形態では、図１に示すように、光学機能層４が、透明基材２側から順に、第１高屈折率材料層４１ｂ、第１低屈折率材料層４１ｃ、第２高屈折率材料層４２ｂ、第２低屈折率材料層４２ｃの４層が積層された積層体からなる場合を例に挙げて説明する。
光学機能層４を形成している低屈折率材料層と高屈折率材料層の積層数の合計は、４層に限定されるものではなく、３層以下であってもよいし、５層以上であってもよく、光学機能層４に要求される光学特性に応じて適宜決定できる。
光学機能層４を形成している低屈折率材料層と高屈折率材料層の積層数の合計は、４層に限定されるものではなく、３層以下であってもよいし、５層以上であってもよく、光学機能層４に要求される光学特性に応じて適宜決定できる。
具体的には、光学機能層４を形成している低屈折率材料層と高屈折率材料層の積層数の合計は、４層～１０層であることが好ましく、４層～６層であることがより好ましく、４層であることが最も好ましい。光学機能層４が、上記の４層が積層された積層体である場合、積層数が少なく、厚みが薄いため、積層数が５層以上である場合と比較して、生産性に優れる。また、光学機能層４が、上記の４層が積層された積層体である場合、積層数が３層以下である場合と比較して、より一層低反射率の光学積層体１となるとともに、反射光の色相をより一層ニュートラル（無彩色）に近づけることができる。また、光学機能層４が、上記の４層が積層された積層体である場合、物品に備えられた場合に、物品の視認角度を変化させても色むらがより一層視認されにくい光学積層体１となる。
光学機能層４が２層以上の低屈折率材料層（図１に示す例では第１低屈折率材料層４１ｃと第２低屈折率材料層４２ｃ）を含む場合、複数の低屈折率材料層は、全て同じ屈折率を有するものであってもよいし、一部または全部の屈折率が異なっていてもよい。
光学機能層４が２層以上の高屈折率材料層（図１に示す例では第１高屈折率材料層４１ｂと第２高屈折率材料層４２ｂ）を含む場合、複数の高屈折率材料層は、全て同じ屈折率を有するものであってもよいし、一部または全部の屈折率が異なっていてもよい。
光学機能層４が２層以上の高屈折率材料層（図１に示す例では第１高屈折率材料層４１ｂと第２高屈折率材料層４２ｂ）を含む場合、複数の高屈折率材料層は、全て同じ屈折率を有するものであってもよいし、一部または全部の屈折率が異なっていてもよい。
第１低屈折率材料層４１ｃおよび第２低屈折率材料層４２ｃの屈折率は、好ましくは１．２０～１．６０であり、より好ましくは１．３０～１．５０である。
第１低屈折率材料層４１ｃおよび第２低屈折率材料層４２ｃは、ＳｉＯ２（屈折率１．４６）を主成分とするものであることが好ましい。第１低屈折率材料層４１ｃおよび／または第２低屈折率材料層４２ｃは、ＳｉＯ２のみからなるものであってもよいし、ＳｉＯ２とは別に、５０質量％以下の範囲、好ましくは１０質量％以下の範囲で、別の元素を含んでいてもよい。別の元素としては、第１低屈折率材料層４１ｃおよび／または第２低屈折率材料層４２ｃの耐久性を向上させるためにＮａを含んでいてもよいし、第１低屈折率材料層４１ｃおよび／または第２低屈折率材料層４２ｃの硬度を向上させるためにＺｒ、Ａｌ、Ｎから選ばれる１種または２種以上の元素を含んでいてもよい。
第１低屈折率材料層４１ｃおよび第２低屈折率材料層４２ｃは、ＳｉＯ２（屈折率１．４６）を主成分とするものであることが好ましい。第１低屈折率材料層４１ｃおよび／または第２低屈折率材料層４２ｃは、ＳｉＯ２のみからなるものであってもよいし、ＳｉＯ２とは別に、５０質量％以下の範囲、好ましくは１０質量％以下の範囲で、別の元素を含んでいてもよい。別の元素としては、第１低屈折率材料層４１ｃおよび／または第２低屈折率材料層４２ｃの耐久性を向上させるためにＮａを含んでいてもよいし、第１低屈折率材料層４１ｃおよび／または第２低屈折率材料層４２ｃの硬度を向上させるためにＺｒ、Ａｌ、Ｎから選ばれる１種または２種以上の元素を含んでいてもよい。
第１高屈折率材料層４１ｂおよび第２高屈折率材料層４２ｂの屈折率は、好ましくは２．００～２．６０であり、より好ましくは２．１０～２．４５である。
第１高屈折率材料層４１ｂおよび第２高屈折率材料層４２ｂの材料としては、例えば、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５、屈折率２．３３）、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率２．３３～２．５５）、酸化タングステン（ＷＯ３、屈折率２．２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率２．２）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５、屈折率２．１６）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率２．１）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ、屈折率２．０６）などが挙げられる。第１高屈折率材料層４１ｂおよび第２高屈折率材料層４２ｂは、五酸化ニオブからなるものであることが好ましい。
第１高屈折率材料層４１ｂおよび第２高屈折率材料層４２ｂの材料としては、例えば、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５、屈折率２．３３）、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率２．３３～２．５５）、酸化タングステン（ＷＯ３、屈折率２．２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率２．２）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５、屈折率２．１６）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率２．１）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ、屈折率２．０６）などが挙げられる。第１高屈折率材料層４１ｂおよび第２高屈折率材料層４２ｂは、五酸化ニオブからなるものであることが好ましい。
光学機能層４を構成する第１低屈折率材料層４１ｃ、第２低屈折率材料層４２ｃ、第１高屈折率材料層４１ｂ、第２高屈折率材料層４２ｂの膜厚は、光学機能層４に要求される光学特性に応じて、それぞれ適宜決定できる。
本実施形態の光学積層体１では、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を、表面に対して入射角５°～５０°で入射させたときの反射光のＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値およびｂ＊値が、ａ＊ｂ＊平面上の同一象限内となるように、第１低屈折率材料層４１ｃ、第２低屈折率材料層４２ｃおよび第１高屈折率材料層４１ｂの膜厚は、好ましくは以下に示す寸法とされる。
本実施形態の光学積層体１では、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を、表面に対して入射角５°～５０°で入射させたときの反射光のＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値およびｂ＊値が、ａ＊ｂ＊平面上の同一象限内となるように、第１低屈折率材料層４１ｃ、第２低屈折率材料層４２ｃおよび第１高屈折率材料層４１ｂの膜厚は、好ましくは以下に示す寸法とされる。
光学機能層４（積層体）の透明基材２側に配置された第１高屈折率材料層４１ｂの膜厚は、７．５ｎｍ以上であることが好ましく、７．５ｎｍ～１０ｎｍであることがより好ましい。
第１高屈折率材料層４１ｂに接して配置された第１低屈折率材料層４１ｃの膜厚は、２７ｎｍ～３７ｎｍであることが好ましく、２８ｎｍ～３３ｎｍであることがより好ましい。
光学機能層４の防汚層５側に配置された第２低屈折率材料層４２ｃの膜厚は、８５ｎｍ～１０３ｎｍであることが好ましく、９０ｎｍ～１００ｎｍであることがより好ましい。
第１高屈折率材料層４１ｂに接して配置された第１低屈折率材料層４１ｃの膜厚は、２７ｎｍ～３７ｎｍであることが好ましく、２８ｎｍ～３３ｎｍであることがより好ましい。
光学機能層４の防汚層５側に配置された第２低屈折率材料層４２ｃの膜厚は、８５ｎｍ～１０３ｎｍであることが好ましく、９０ｎｍ～１００ｎｍであることがより好ましい。
本実施形態の光学積層体１においては、第１低屈折率材料層４１ｃと第２低屈折率材料層４２ｃとの間に配置された第２高屈折率材料層４２ｂの膜厚は、１０５ｎｍ～１２０ｎｍであることが好ましく、１１０ｎｍ～１１５ｎｍであることがより好ましい。第２高屈折率材料層４２ｂの膜厚を上記範囲とすることにより、物品に備えられた場合に、物品の視認角度を変化させても色むらがより一層視認されにくい光学積層体１となる。
本実施形態の光学積層体１における光学機能層４の全体厚みは、２３０ｎｍ～２７０ｎｍであることが好ましく、２４０ｎｍ～２６０ｎｍであることがより好ましい。光学機能層４の全体厚みが上記範囲内であると、より一層低反射率の光学積層体１となるとともに、反射光の色相をより一層ニュートラル（無彩色）に近づけることができる。また、光学機能層４の全体厚みが上記範囲内であると、物品に備えられた場合に、物品の視認角度を変化させても色むらがより一層視認されにくい光学積層体１となる。光学機能層４の全体厚みが２３０ｎｍ以上であると、物品に備えられた場合に、物品の視認角度を変化させても色むらがより一層視認されにくい光学積層体１となる。また、光学機能層４の全体厚みが２７０ｎｍ以下であると、生産性が良好となる。
光学機能層４の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の製造方法を用いて製造できる。光学機能層４は、例えば、密着層４ａ上に、スパッタ法により、第１高屈折率材料層４１ｂ、第１低屈折率材料層４１ｃ、第２高屈折率材料層４２ｂ、第２低屈折率材料層４２ｃをこの順に形成する方法により製造できる。密着層４ａと光学機能層４の両方をスパッタ法により形成する場合、連続して形成することでき、好ましい。また、光学機能層４が、スパッタ法により形成されたものである場合、一般的な真空蒸着法または塗布法を用いて形成されたものと比較して、緻密なものとなる。その結果、水蒸気透過性が１．０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下である耐久性の良好な光学積層体１となる。
（防汚層）
防汚層５は、光学機能層４のハードコート層３と反対側の面に設けられている。防汚層５は、光学積層体１の汚損を防止し、光学機能層４の損耗を抑制する。
防汚層５は、フッ素系化合物を含有するものであることが好ましい。フッ素系化合物としては、例えば、フッ素変性有機基と、アルコキシシランなどの反応性シリル基とからなる化合物が好ましく用いられる。このような化合物としては、パーフルオロデシルトリエトキシシラン（ＦＤＴＳ）などが挙げられる。
防汚層５の材料として好適な市販品としては、オプツールＤＳＸ（ダイキン工業株式会社製）、ＫＹ－１２０３（信越化学工業株式会社製）、ＫＹ－１９０１（信越化学工業株式会社製）などが挙げられる。
防汚層５は、光学機能層４のハードコート層３と反対側の面に設けられている。防汚層５は、光学積層体１の汚損を防止し、光学機能層４の損耗を抑制する。
防汚層５は、フッ素系化合物を含有するものであることが好ましい。フッ素系化合物としては、例えば、フッ素変性有機基と、アルコキシシランなどの反応性シリル基とからなる化合物が好ましく用いられる。このような化合物としては、パーフルオロデシルトリエトキシシラン（ＦＤＴＳ）などが挙げられる。
防汚層５の材料として好適な市販品としては、オプツールＤＳＸ（ダイキン工業株式会社製）、ＫＹ－１２０３（信越化学工業株式会社製）、ＫＹ－１９０１（信越化学工業株式会社製）などが挙げられる。
防汚層５には、必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤、帯電防止剤、滑剤、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、難燃剤、赤外線吸収剤、界面活性剤などの添加剤が含まれていてもよい。
防汚層５の厚みは、例えば、１～２０ｎｍとすることができ、好ましくは３～１０ｎｍである。
防汚層５の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の製造方法で製造でき、必要とされる耐久性およびコストを勘案して適宜選択される。具体的には、防汚層５は、塗布法または蒸着法により製造できる。塗布法としては、例えば、防汚層５となる材料を溶剤に溶解した塗布液を、公知の方法を用いて光学機能層４上に塗布し、乾燥させる方法などが挙げられる。また、防汚層５を蒸着法により形成した場合、例えば、塗布法を用いて形成した防汚層と比較して、緻密で光学機能層４との密着性に優れるものとなる。このため、蒸着法により形成された防汚層５は、高い耐摩耗性を有する。
防汚層５の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の製造方法で製造でき、必要とされる耐久性およびコストを勘案して適宜選択される。具体的には、防汚層５は、塗布法または蒸着法により製造できる。塗布法としては、例えば、防汚層５となる材料を溶剤に溶解した塗布液を、公知の方法を用いて光学機能層４上に塗布し、乾燥させる方法などが挙げられる。また、防汚層５を蒸着法により形成した場合、例えば、塗布法を用いて形成した防汚層と比較して、緻密で光学機能層４との密着性に優れるものとなる。このため、蒸着法により形成された防汚層５は、高い耐摩耗性を有する。
本実施形態の光学積層体１においては、透明基材２のハードコート層３と反対側の面に、必要に応じて１層以上の層が設けられていてもよい。透明基材２のハードコート層３と反対側の面には、例えば、光学積層体１を、画像表示装置の表面などの他の部材に接着するための粘着剤層が設けられていてもよいし、粘着剤層と他の光学フィルムとがこの順に積層されていても良い。他の光学フィルムとしては、例えば、偏光フィルム、位相差補償フィルム、１／２波長板、１／４波長板などが挙げられる。また、透明基材２のハードコート層３と反対側の面に接して、上記の他の光学フィルムが形成されていてもよい。
本実施形態の光学積層体１は、透明基材２と、光学機能層４と、防汚層５とが、この順に積層され、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を、表面に対して入射角５°～５０°で入射させたときの反射光のＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値およびｂ＊値が、ａ＊ｂ＊平面上の同一象限内である。このため、本実施形態の光学積層体１は、物品に備えられ、物品の視認角度を変化させても色むらが視認されにくい。
［物品］
本実施形態の物品は、本実施形態の光学積層体１を備える。本実施形態の物品は、光学積層体１が、画像表示装置の表面に備えられたものであってもよい。画像表示装置としては、例えば、液晶表示パネル、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示パネルなどのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）が挙げられる。
本実施形態の物品は、本実施形態の光学積層体１を備える。本実施形態の物品は、光学積層体１が、画像表示装置の表面に備えられたものであってもよい。画像表示装置としては、例えば、液晶表示パネル、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示パネルなどのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）が挙げられる。
本実施形態の光学積層体１が貼付される画像表示装置の表面としては、例えば、携帯電話の画面、スマートフォンの画面、タブレット端末の画面、パーソナルコンピューターのディスプレイ、ナビゲーションシステムの画面、遊技機の操作画面など情報入力端末の画面、航空機、電車などの運行支援装置の操作画面、電光表示板などが挙げられる。これらの中でも光学積層体１が貼付される画像表示装置は、使用時に、様々な視認角度で視認される画像表示装置であることが好ましく、特に、ナビゲーションシステムの画面、携帯電話の画面、スマートフォンの画面であることが好ましい。
本実施形態の物品は、光学積層体１が、画像表示装置の表面に備えられたものに限定されない。例えば、本実施形態の光学積層体１が表面に備えられた窓ガラス、ゴーグル、太陽電池の受光面、ガラステーブル表面、計器盤、光学センサーの表面、ヘルメットのバイザー、鏡、ヘッドマウントディスプレイ、レンチキュラーレンズなどのレンズなどが挙げられる。
本実施形態の物品は、光学積層体１の備えられている表面が、平板状であってもよいし、曲面状であってもよい。
本実施形態の物品は、光学積層体１の備えられている表面が、平板状であってもよいし、曲面状であってもよい。
本実施形態の物品は、本実施形態の光学積層体１を備えているので、視認角度を変化させても色むらが視認されにくい。特に、本実施形態の物品が、光学積層体１が画像表示装置の表面に備えられたものである場合、視認角度を変化させても表示画像の色むらが視認されにくく、好ましい。
（実施例１、２、比較例１、２）
以下に示す方法により、図１に示す光学積層体１を製造した。
まず、透明基材２として、厚さ８０μｍのポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）からなるフィルムを用意した。そして、透明基材２上に、厚さ５μｍのハードコート層３を形成した。ハードコート層３は、表１に示す組成を有する塗布液を、バーコーターを用いて透明基材２上に塗布し、紫外線を照射して光重合させて、硬化させる方法により形成した。
以下に示す方法により、図１に示す光学積層体１を製造した。
まず、透明基材２として、厚さ８０μｍのポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）からなるフィルムを用意した。そして、透明基材２上に、厚さ５μｍのハードコート層３を形成した。ハードコート層３は、表１に示す組成を有する塗布液を、バーコーターを用いて透明基材２上に塗布し、紫外線を照射して光重合させて、硬化させる方法により形成した。
続いて、ハードコート層３上に、スパッタリングターゲットとしてＳｉターゲットとＮｂターゲットとを用い、ＡｒガスとＯ２ガスとの混合ガスを用いて反応性スパッタ法により、密着層４ａと、光学機能層４とを連続して形成した。
すなわち、ハードコート層３上に、表２に示す膜厚を有し、酸素欠乏があり得るＳｉ酸化物（ＳｉＯｘ）からなる密着層４ａと、表２に示す膜厚を有するＮｂ２Ｏ５からなる第１高屈折率材料層４１ｂと、表２に示す膜厚を有するＳｉＯ２からなる第１低屈折率材料層４１ｃと、表２に示す膜厚を有するＮｂ２Ｏ５からなる第２高屈折率材料層４２ｂと、表２に示す膜厚を有するＳｉＯ２からなる第２低屈折率材料層４２ｃとをこの順に成膜した。
すなわち、ハードコート層３上に、表２に示す膜厚を有し、酸素欠乏があり得るＳｉ酸化物（ＳｉＯｘ）からなる密着層４ａと、表２に示す膜厚を有するＮｂ２Ｏ５からなる第１高屈折率材料層４１ｂと、表２に示す膜厚を有するＳｉＯ２からなる第１低屈折率材料層４１ｃと、表２に示す膜厚を有するＮｂ２Ｏ５からなる第２高屈折率材料層４２ｂと、表２に示す膜厚を有するＳｉＯ２からなる第２低屈折率材料層４２ｃとをこの順に成膜した。
次に、光学機能層４上に、コイルバー（製品名：Ｎｏ．５７９、ロッドＮｏ．９、株式会社安田精機製作所製）を用いて塗布液を塗布し、８０℃で２分間乾燥させる方法により、膜厚５ｎｍの防汚層５を形成した。塗布液としては、フッ素溶剤（商品名：フロリナートＦＣ－３２８３：スリーエムジャパン株式会社製）中に、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物（商品名：オプツールＤＳＸ、ダイキン工業株式会社製）を０．１質量％含む溶液を用いた。
以上の工程により、実施例１、２、比較例１、２の光学積層体１を得た。
以上の工程により、実施例１、２、比較例１、２の光学積層体１を得た。
表２において、「総膜厚」とは、密着層４ａの膜厚と、光学機能層４の膜厚と、防汚層５の膜厚とを合計した膜厚である。
「反射光の色度および反射率の測定」
このようにして得られた実施例１、２、比較例１、２の光学積層体の透明基材２側の面を、それぞれアクリル系透明粘着剤を用いて黒色のアクリルパネルの表面に貼付し、裏面反射が除去される試験体とした。
そして、各試験体の透明基材２と反対側の面から、日本分光製Ｖ－５５０を用いて、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を、光学積層体の表面に対して入射角５°で入射し、計算式を用いて反射スペクトルから反射光の色度および反射率を計算した。色度としては、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるＬ＊値、ａ＊値およびｂ＊値を算出した。
さらに、各試験体について、上記光を光学積層体の表面に対して入射角５°で入射させたときと同様にして、入射角１０°、２０°、３０°、４０°、５０°で入射させ、それぞれ反射光の色度および反射率を算出した。その結果を表３～表６、図２～図９に示す。
このようにして得られた実施例１、２、比較例１、２の光学積層体の透明基材２側の面を、それぞれアクリル系透明粘着剤を用いて黒色のアクリルパネルの表面に貼付し、裏面反射が除去される試験体とした。
そして、各試験体の透明基材２と反対側の面から、日本分光製Ｖ－５５０を用いて、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を、光学積層体の表面に対して入射角５°で入射し、計算式を用いて反射スペクトルから反射光の色度および反射率を計算した。色度としては、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるＬ＊値、ａ＊値およびｂ＊値を算出した。
さらに、各試験体について、上記光を光学積層体の表面に対して入射角５°で入射させたときと同様にして、入射角１０°、２０°、３０°、４０°、５０°で入射させ、それぞれ反射光の色度および反射率を算出した。その結果を表３～表６、図２～図９に示す。
図２～図５は、光学積層体の表面に対して、入射角５°、１０°、２０°、３０°、４０°、５０°で標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を入射させたときの、反射光のＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値およびｂ＊値を示したグラフである。図２は、実施例１のａ＊値およびｂ＊値を示したグラフであり、図３は、実施例２のａ＊値およびｂ＊値を示したグラフであり、図４は、比較例１のａ＊値およびｂ＊値を示したグラフであり、図５は、比較例２のａ＊値およびｂ＊値を示したグラフである。
図６～図９は、光学積層体の表面に対して、入射角５°、１０°、２０°、３０°、４０°、５０°で標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を入射させたときの、反射率を示したグラフである。図６は、実施例１の反射率を示したグラフであり、図７は、実施例２の反射率を示したグラフであり、図８は、比較例１の反射率を示したグラフであり、図９は、比較例２の反射率を示したグラフである。
実施例１、２、比較例１、２の光学積層体について、それぞれ算出した表３～表６に示す入射角５°、１０°、２０°、３０°、４０°、５０°の光を表面に対して入射させた時の反射光のＬ＊値、ａ＊値およびｂ＊値を用いて、下記式（１）で示されるΔＥ＊ａｂを算出した。その結果を表３～表６に示す。
また、実施例１、２、比較例１、２の光学積層体について、それぞれ算出した表３～表６に示す入射角５°、１０°、２０°、３０°、４０°、５０°の光を表面に対して入射させた時の反射率Ｙを用いて、下記式（３）で示される△Ｙを算出した。その結果を表３～表６に示す。
△Ｙ＝（入射角１０°、２０°、３０°、４０°、５０°のいずれかで入射させた時の反射率）－（入射角５°で入射させた時の反射率） 式（３）
△Ｙ＝（入射角１０°、２０°、３０°、４０°、５０°のいずれかで入射させた時の反射率）－（入射角５°で入射させた時の反射率） 式（３）
表３および表４、図２および図３に示すように、実施例１および実施例２の光学積層体は、入射角５°～５０°で入射させたときのａ＊値およびｂ＊値は、いずれも０未満であり、ａ＊ｂ＊平面上の同一象限内であった。また、表３および表４に示すように、実施例１および実施例２の光学積層体は、入射角１０°、２０°、３０°、４０°、５０°のいずれにおいてもΔＥ＊ａｂが１０以下であった。
また、表３および表４、図６および図７に示すように、実施例１および実施例２の光学積層体は、入射角１０°、２０°、３０°、４０°、５０°のいずれにおいても、入射角５°との反射率の差△Ｙが、絶対値で１％以下であった。また、表３および表４、図６および図７に示すように、実施例１および実施例２の光学積層体は、入射角３０°での反射率が、最も低いものであった。
これに対し、比較例１の光学積層体は、表５および図４に示すように、入射角５°～３０°で入射させたときの反射光は、ａ＊値およびｂ＊値が０未満である。しかし、入射角４０°、５０°で入射させたときの反射光は、ｂ＊値が０超であった。よって、比較例１の光学積層体における５°～５０°で入射させたときのａ＊値およびｂ＊値は、ａ＊ｂ＊平面上の同一象限内ではなかった。また、表５に示すように、比較例１の光学積層体は、入射角４０°、５０°であるときのΔＥ＊ａｂが１０超であった。
また、比較例２の光学積層体は、表６および図５に示すように、入射角５°～２０°で入射させたときの反射光は、ａ＊値およびｂ＊値が０未満である。しかし、入射角３０°～５０°で入射させたときの反射光は、ｂ＊値が０超であった。よって、比較例２の光学積層体における５°～５０°で入射させたときのａ＊値およびｂ＊値は、ａ＊ｂ＊平面上の同一象限内ではなかった。また、表６に示すように、比較例２の光学積層体は、入射角５０°であるときのΔＥ＊ａｂが１０超であった。
また、表５および表６、図８および図９に示すように、比較例１および比較例２の光学積層体は、入射角５０°と入射角５°との反射率の差△Ｙが、絶対値で１％超であった。また、表５および表６、図８および図９に示すように、比較例１および比較例２の光学積層体は、入射角５°での反射率が、最も低いものであった。
１…光学積層体
２…透明基材
３…ハードコート層
４…光学機能層
４ａ…密着層
４１ｂ…第１高屈折率材料層
４１ｃ…第１低屈折率材料層
４２ｂ…第２高屈折率材料層
４２ｃ…第２低屈折率材料層
５…防汚層
２…透明基材
３…ハードコート層
４…光学機能層
４ａ…密着層
４１ｂ…第１高屈折率材料層
４１ｃ…第１低屈折率材料層
４２ｂ…第２高屈折率材料層
４２ｃ…第２低屈折率材料層
５…防汚層
Claims (8)
- プラスチックフィルムからなる透明基材と、光学機能層と、防汚層とが、この順に積層され、
前記光学機能層は、低屈折率材料層としてＳｉＯ ２ からなるスパッタ層と、高屈折率材料層としてＮｂ ２ Ｏ ５ からなるスパッタ層とが交互に積層された積層体からなり、
標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を、表面に対して入射角５°～５０°で入射させたときの反射光のＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ＊値およびｂ＊値が０未満であり、かつ前記光を前記表面に対して入射角１０°、２０°、３０°、４０°、５０°で入射させた時の反射率と、入射角５°で入射させた時の反射率との差の最大値が、絶対値で１％以下であって、
前記光を前記表面に対して入射角５°～５０°で入射させた時の前記反射光は、下記式（１）で示されるΔＥ＊ａｂが１０以下のものである、ことを特徴とする光学積層体；
- 前記光学機能層が、低屈折率材料層と、前記低屈折率材料層よりも高屈折率の材料からなる高屈折率材料層とが、交互に積層された積層体からなり、
前記積層体の前記透明基材側には、前記高屈折率材料層からなる膜厚７．５ｎｍ以上の第１高屈折率材料層が配置され、
前記第１高屈折率材料層に接して前記低屈折率材料層からなる膜厚２７ｎｍ～３７ｎｍの第１低屈折率材料層が配置され、
前記積層体の前記防汚層側には、前記低屈折率材料層からなる膜厚８５ｎｍ～１０３ｎｍの第２低屈折率材料層が配置されている請求項１に記載の光学積層体。 - 前記第１低屈折率材料層と前記第２低屈折率材料層との間に、高屈折率材料層からなる膜厚１０５ｎｍ～１２０ｎｍの第２高屈折率材料層が配置され、
前記光学機能層が、前記第１高屈折率材料層と前記第１低屈折率材料層と前記第２高屈折率材料層と前記第２低屈折率材料層の４層からなる請求項２に記載の光学積層体。 - 前記透明基材と前記光学機能層との間に、密着層が備えられ、
前記密着層が、金属、合金、金属酸化物、金属フッ化物、金属硫化物、金属窒化物から選ばれるいずれか１種または２種以上からなる請求項１～請求項３のいずれか一項に記載の光学積層体。 - 前記密着層が、酸素欠乏状態にある金属酸化物からなる請求項４に記載の光学積層体。
- 前記透明基材と前記密着層との間に、ハードコート層を備える請求項４または請求項５に記載の光学積層体。
- 請求項１～請求項６のいずれか一項に記載の光学積層体を備えることを特徴とする物品。
- 前記光学積層体が、画像表示装置の表面に備えられている請求項７に記載の物品。
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