JP2022085904A - 光学積層体および物品 - Google Patents
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Abstract
【課題】物品に備えられ、物品の視認角度を変化させても色むらが視認されにくい光学積層体を提供する。【解決手段】透明基材と、光学機能層と、防汚層とが、この順に積層され、標準光源D65による波長380nm~780nmの光を、表面に対して入射角5°~50°で入射させたときの反射光のCIE-Lab表色系におけるa*値およびb*値が、a*b*平面上の同一象限内である光学積層体とする。【選択図】なし
Description
本発明は、光学積層体および物品に関する。
フラットパネルディスプレイ(FPD)などの画像表示装置は、携帯電話、スマートフォン、カーナビゲーション装置などに広く使用されている。
従来の画像表示装置においては、視認角度による色むらを視認し難くすることが要求されている。
例えば、特許文献1には、標準光源D65による波長380nm~780nmの光Aを、入射角5°で入射させた際の視感度反射率が0.5%以下であり、該光Aの入射角を5°~50°の範囲で変化させた際の正反射光において、CIE-Lab表色系におけるa*値の最大値と最小値との差に対する、CIE-Lab表色系におけるb*値の最大値と最小値との差の比(b*値の差/a*値の差)が、2以上となる、反射防止フィルムが記載されている。
従来の画像表示装置においては、視認角度による色むらを視認し難くすることが要求されている。
例えば、特許文献1には、標準光源D65による波長380nm~780nmの光Aを、入射角5°で入射させた際の視感度反射率が0.5%以下であり、該光Aの入射角を5°~50°の範囲で変化させた際の正反射光において、CIE-Lab表色系におけるa*値の最大値と最小値との差に対する、CIE-Lab表色系におけるb*値の最大値と最小値との差の比(b*値の差/a*値の差)が、2以上となる、反射防止フィルムが記載されている。
画像表示装置上に設置される反射防止膜などの光学積層体は、これが設置された画像表示装置の視認角度を変化させても、色むらが視認されないことが好ましい。
しかしながら、従来の光学積層体は、これが設置された画像表示装置の視認角度を異ならせることによって、色むら(色調の違い)が視認される場合があった。
このため、画像表示装置に上に設置される従来の光学積層体においては、画像表示装置の視認角度を変化させても色むらが視認されにくいものとすることが要求されている。
しかしながら、従来の光学積層体は、これが設置された画像表示装置の視認角度を異ならせることによって、色むら(色調の違い)が視認される場合があった。
このため、画像表示装置に上に設置される従来の光学積層体においては、画像表示装置の視認角度を変化させても色むらが視認されにくいものとすることが要求されている。
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、物品に備えられ、物品の視認角度を変化させても色むらが視認されにくい光学積層体を提供することを目的とする。
また、本発明は、本発明の光学積層体が備えられ、視認角度を変化させても色むらが視認されにくい物品を提供することを目的とする。
また、本発明は、本発明の光学積層体が備えられ、視認角度を変化させても色むらが視認されにくい物品を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
[1] 透明基材と、光学機能層と、防汚層とが、この順に積層され、
標準光源D65による波長380nm~780nmの光を、表面に対して入射角5°~50°で入射させたときの反射光のCIE-Lab表色系におけるa*値およびb*値が、a*b*平面上の同一象限内であることを特徴とする光学積層体。
標準光源D65による波長380nm~780nmの光を、表面に対して入射角5°~50°で入射させたときの反射光のCIE-Lab表色系におけるa*値およびb*値が、a*b*平面上の同一象限内であることを特徴とする光学積層体。
[2] 前記光を前記表面に対して入射角5°~50°で入射させた時の前記反射光の前記a*値および前記b*値が0未満である[1]に記載の光学積層体。
[3] 前記光を前記表面に対して入射角10°、20°、30°、40°、50°で入射させた時の反射率と、入射角5°で入射させた時の反射率との差の最大値が、絶対値で1%以下である[1]または[2]に記載の光学積層体。
[3] 前記光を前記表面に対して入射角10°、20°、30°、40°、50°で入射させた時の反射率と、入射角5°で入射させた時の反射率との差の最大値が、絶対値で1%以下である[1]または[2]に記載の光学積層体。
[4] 前記光を前記表面に対して入射角5°~50°で入射させた時の前記反射光は、下記式(1)で示される△E*abが10以下のものである[1]~[3]のいずれかに記載の光学積層体。
[5] 前記光学機能層が、低屈折率材料層と、前記低屈折率材料層よりも高屈折率の材料からなる高屈折率材料層とが、交互に積層された積層体からなり、
前記積層体の前記透明基材側には、前記高屈折率材料層からなる膜厚7.5nm以上の第1高屈折率材料層が配置され、
前記第1高屈折率材料層に接して前記低屈折率材料層からなる膜厚27nm~37nmの第1低屈折率材料層が配置され、
前記積層体の前記防汚層側には、前記低屈折率材料層からなる膜厚85nm~103nmの第2低屈折率材料層が配置されている[1]~[4]のいずれかに記載の光学積層体。
前記積層体の前記透明基材側には、前記高屈折率材料層からなる膜厚7.5nm以上の第1高屈折率材料層が配置され、
前記第1高屈折率材料層に接して前記低屈折率材料層からなる膜厚27nm~37nmの第1低屈折率材料層が配置され、
前記積層体の前記防汚層側には、前記低屈折率材料層からなる膜厚85nm~103nmの第2低屈折率材料層が配置されている[1]~[4]のいずれかに記載の光学積層体。
[6] 前記第1低屈折率材料層と前記第2低屈折率材料層との間に、高屈折率材料層からなる膜厚105nm~120nmの第2高屈折率材料層が配置され、
前記光学機能層が、前記第1高屈折率材料層と前記第1低屈折率材料層と前記第2高屈折率材料層と前記第2低屈折率材料層の4層からなる[5]に記載の光学積層体。
前記光学機能層が、前記第1高屈折率材料層と前記第1低屈折率材料層と前記第2高屈折率材料層と前記第2低屈折率材料層の4層からなる[5]に記載の光学積層体。
[7] 前記透明基材と前記光学機能層との間に、密着層が備えられ、
前記密着層が、金属、合金、金属酸化物、金属フッ化物、金属硫化物、金属窒化物から選ばれるいずれか1種または2種以上からなる[1]~[6]のいずれかに記載の光学積層体。
[8] 前記密着層が、酸素欠乏状態にある金属酸化物からなる[7]に記載の光学積層体。
[9] 前記透明基材と前記密着層との間に、ハードコート層を備える[7]または[8]に記載の光学積層体。
前記密着層が、金属、合金、金属酸化物、金属フッ化物、金属硫化物、金属窒化物から選ばれるいずれか1種または2種以上からなる[1]~[6]のいずれかに記載の光学積層体。
[8] 前記密着層が、酸素欠乏状態にある金属酸化物からなる[7]に記載の光学積層体。
[9] 前記透明基材と前記密着層との間に、ハードコート層を備える[7]または[8]に記載の光学積層体。
[10] [1]~[9]のいずれかに記載の光学積層体を備えることを特徴とする物品。
[11] 前記光学積層体が、画像表示装置の表面に備えられている[10]に記載の物品。
[11] 前記光学積層体が、画像表示装置の表面に備えられている[10]に記載の物品。
本発明の光学積層体は、標準光源D65による波長380nm~780nmの光を、表面に対して入射角5°~50°で入射させたときの反射光のCIE-Lab表色系におけるa*値およびb*値が、a*b*平面上の同一象限内である。このため、本発明の光学積層体は、物品に備えられ、物品の視認角度を変化させても色むらが視認されにくいものである。
また、本発明の物品は、本発明の光学積層体を備えているので、視認角度を変化させても色むらが視認されにくい。
また、本発明の物品は、本発明の光学積層体を備えているので、視認角度を変化させても色むらが視認されにくい。
本発明者らは、上記課題を解決し、光学積層体を備えた物品の視認角度を変化させても色むら(色調の違い)が視認されにくい光学積層体を得るために、物品の視認角度と反射光の色度(色相)との関係に着目して、鋭意検討を重ねた。
その結果、標準光源D65による波長380nm~780nmの光を、表面に対して入射角5°~50°で入射させたときの反射光のCIE-Lab表色系におけるa*値およびb*値が、a*b*平面上の同一象限内であれば、物品の視認角度を5°~50°の広い範囲で変化させても色むらが視認されにくいという知見を得た。
さらに、本発明者らは、上記の知見に基づいて、光学積層体として、透明基材と、光学機能層と、防汚層とが、この順に積層され、光学機能層が、低屈折率材料層と、低屈折率材料層よりも高屈折率の材料からなる高屈折率材料層とが、交互に積層された積層体からなるものを用いて検討を重ねた。
その結果、積層体の透明基材側に、膜厚7.5nm以上の高屈折率材料層と、膜厚27nm~37nmの低屈折率材料層とをこの順に配置し、積層体の防汚層側に、膜厚85nm~103nmの低屈折率材料層を配置すればよいことを見出し、本発明を想到した。
その結果、積層体の透明基材側に、膜厚7.5nm以上の高屈折率材料層と、膜厚27nm~37nmの低屈折率材料層とをこの順に配置し、積層体の防汚層側に、膜厚85nm~103nmの低屈折率材料層を配置すればよいことを見出し、本発明を想到した。
以下、本発明の光学積層体および物品について、図を適宜参照しながら詳細に説明する。以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際とは異なっていることがある。以下の説明において例示される材質、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、その効果を奏する範囲で適宜変更して実施することが可能である。
[光学積層体]
図1は、本発明の光学積層体の一例を示した断面模式図である。
図1に示す光学積層体1は、物品(不図示)に備えられている。物品としては、例えば、画像表示装置(不図示)の表面に、光学積層体1が備えられているものなどが挙げられる。
図1は、本発明の光学積層体の一例を示した断面模式図である。
図1に示す光学積層体1は、物品(不図示)に備えられている。物品としては、例えば、画像表示装置(不図示)の表面に、光学積層体1が備えられているものなどが挙げられる。
図1に示す光学積層体1は、透明基材2と、ハードコート層3と、密着層4aと、光学機能層4と、防汚層5とが、この順に積層されたものである。本実施形態の光学積層体1に備えられている光学機能層4は、反射防止層として機能する。光学機能層4は、図1に示すように、第1高屈折率材料層41bと、第1低屈折率材料層41cと、第2高屈折率材料層42bと、第2低屈折率材料層42cとが、透明基材2側からこの順に積層された積層体からなる。
図2は、本実施形態の光学積層体1の一例の表面に対して、入射角5°、10°、20°、30°、40°、50°で標準光源D65による波長380nm~780nmの光を入射させたときの、反射光のCIE-Lab表色系におけるa*値およびb*値を示したグラフである。
図2において、a*値およびb*値は色度を示し、a*値およびb*値の絶対値が大きい座標の色であるほど彩度が大きい。すなわち、図2おいて、a*値およびb*値の絶対値が大きい座標の色であるほど鮮やかな色であり、a*値およびb*値の絶対値が小さい座標の色であるほど無彩色に近い色である。+a*の座標は赤方向の色相であり、-a*の座標は緑方向の色相であり、+b*の座標は黄方向の色相であり、-b*の座標は青方向の色相である。
図2において、a*値およびb*値は色度を示し、a*値およびb*値の絶対値が大きい座標の色であるほど彩度が大きい。すなわち、図2おいて、a*値およびb*値の絶対値が大きい座標の色であるほど鮮やかな色であり、a*値およびb*値の絶対値が小さい座標の色であるほど無彩色に近い色である。+a*の座標は赤方向の色相であり、-a*の座標は緑方向の色相であり、+b*の座標は黄方向の色相であり、-b*の座標は青方向の色相である。
本実施形態の光学積層体1は、標準光源D65による波長380nm~780nmの光を、表面に対して入射角5°~50°で入射させたときの反射光のCIE-Lab表色系におけるa*値およびb*値が、a*b*平面上の同一象限内である。したがって、本実施形態の光学積層体1に、入射角5°~50°で光を入射させたときに得られる反射光は、類似する色相である。よって、本実施形態の光学積層体1が設置された物品は、視認角度を変化させても、色むらが視認されにくい。
本実施形態の光学積層体1は、図2に示すように、光を表面に対して入射角5°~50°で入射させた時の反射光のa*値およびb*値が0未満であることが好ましい。この場合、光学積層体1の表面に入射角5°~50°で光を入射させたときの反射光は、全て青緑色の色相となる。青緑色の色相は、黄緑色、橙色などの色相と比較して、視感度が低く、物品の色相に影響を与えにくい。このため、入射角5°~50°で入射させた時の反射光のa*値およびb*値が0未満である場合、表面に光学積層体1が備えられている物品は、視認角度を変化させることによる色相(色味の傾向)の変化がより視認されにくく、色むらがより一層視認されにくいものとなる。しかも、b*値が0未満であると、b*値が0超である場合と比較して、反射率が低くなる。したがって、反射防止層としての機能がより一層良好な光学積層体1となる。
本実施形態の光学積層体1は、光を表面に対して入射角5°~50°で入射させた時の反射光のa*値が、絶対値で10.0以下であることが好ましく、5.0以下であることがより好ましい。a*値の絶対値が10.0以下であると、光学積層体1が設置された物品に反射される反射光を着色しにくく、物品の視認角度を変化させることによる色むらがより一層視認されにくいものとなる。
本実施形態の光学積層体1は、光を表面に対して入射角5°~50°で入射させた時の反射光のb*値が、絶対値で10.0以下であることが好ましく、6.0以下であることがより好ましい。b*値の絶対値が10.0以下であると、光学積層体1が設置された物品に反射される反射光を着色しにくく、物品の視認角度を変化させることによる色むらがより一層視認されにくいものとなる。
本実施形態の光学積層体1は、光を表面に対して入射角5°~50°で入射させた時の反射光のb*値が、絶対値で10.0以下であることが好ましく、6.0以下であることがより好ましい。b*値の絶対値が10.0以下であると、光学積層体1が設置された物品に反射される反射光を着色しにくく、物品の視認角度を変化させることによる色むらがより一層視認されにくいものとなる。
本実施形態の光学積層体1において、光を表面に対して入射角5°~50°で入射させた時の反射光は、下記式(1)で示される△E*abが10以下のものであることが好ましく、7以下のものであることがより好ましい。
入射角5°~50°で入射させた時の反射光が、式(1)で示されるΔE*abが10以下のものである場合、視認角度を変化させることによる色相(色味の傾向)および明度の変化が少ないものとなる。したがって、物品の視認角度を変化させることによる色むらが、より一層視認されにくい光学積層体1となる。式(1)で示される△Eが7以下であると、視認角度を変化させることによる色相および明度の変化が、さらに少ないものとなるため、好ましい。
本実施形態の光学積層体1において、表面に対して入射角5°~50°で入射させたときの反射光のCIE-Lab表色系におけるL*値、a*値およびb*値は、光学機能層4に含まれる第1高屈折率材料層41bの厚みと第1低屈折率材料層41cの厚みと第2低屈折率材料層42cの厚みを適宜選択することにより調整できる。
本実施形態の光学積層体1は、光を表面に対して入射角10°、20°、30°、40°、50°で入射させた時の反射率と、入射角5°で入射させた時の反射率との差の最大値が、絶対値で1%以下であることが好ましく、0.7%以下であることがより好ましい。上記反射率の差の最大値が、絶対値で1%以下であると、物品の視認角度を変化させることによる色むらがより一層視認されにくいものとなる。
(透明基材)
本実施形態の光学積層体1を形成している透明基材2としては、公知のものを用いることができる。
透明基材2は、可視光域の光を透過可能な透明材料からなる。本実施形態において「透明材料」とは、可視光域の光の透過率が80%以上の材料であることを意味する。
本実施形態の光学積層体1を形成している透明基材2としては、公知のものを用いることができる。
透明基材2は、可視光域の光を透過可能な透明材料からなる。本実施形態において「透明材料」とは、可視光域の光の透過率が80%以上の材料であることを意味する。
透明基材2としては、例えば、プラスチックフィルムを用いることができる。プラスチックフィルムの材料としては、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂などが挙げられる。これらの中でも、プラスチックフィルムの材料としては、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂から選ばれるいずれか1種または2種以上を用いることが好ましく、特に、ポリエチレンテレフタラート(PET)またはトリアセチルセルロース(TAC)を用いることが好ましい。
透明基材2は、光学積層体1の光学特性を損なわない限りにおいて、補強材料を含むものであってよい。補強材料としては、例えば、セルロースナノファイバー、ナノシリカなどが挙げられる。
透明基材2は、ガラスフィルムなどの無機材料からなるものであってもよい。
透明基材2は、ガラスフィルムなどの無機材料からなるものであってもよい。
透明基材2としては、表面処理が施されたものを使用してもよい。表面処理方法としては、例えば、スパッタリング、コロナ放電、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理、下塗り処理などが挙げられる。これらの表面処理方法から選ばれるいずれか1種または2種以上の方法を用いて透明基材2に表面処理を施すことにより、ハードコート層3との密着性が良好な透明基材2が得られる。
透明基材2としては、必要に応じて、光学的機能および/または物理的機能が付与されたフィルムを用いてもよい。光学的機能および/または物理的機能を有するフィルムとしては、例えば、偏光板フィルム、位相差補償フィルム、熱線遮断フィルム、導電フィルム、輝度向上フィルム、レンズシートなどが挙げられる。さらに、透明基材2としては、光学的機能および/または物理的機能を有するフィルムに、例えば、帯電防止機能などの機能を付与したものを用いてもよい。
透明基材2の厚みは、25μm以上であることが好ましく、40μm以上であることがより好ましい。透明基材2の厚みが25μm以上であると、光学積層体1に応力が加わっても皺が発生しにくく好ましい。また、透明基材2の厚みが25μm以上であると、光学積層体1を製造する際に透明基材2上にハードコート層3を形成しても、透明基材2に皺が生じにくく、歩留まりよく製造できる。また、透明基材2の厚みが25μm以上であると、光学積層体1を製造する際に、製造途中の光学積層体1がカールしにくく、取り扱いが容易であり、好ましい。
透明基材2の厚みは、1mm以下であることが好ましく、500μm以下であることがより好ましく、300μm以下であることが特に好ましい。透明基材2の厚みが1mm以下であると、透明基材2の実質的な光学透明性を担保できる。また、透明基材2の厚みが1mm以下であると、透明基材2上に、枚葉方式であってもロールトウロール方式であっても成膜できる。特に、透明基材2の厚みが300μm以下であると、ロールトウロール方式で光学積層体1を製造する場合に、ロール状に巻き付けられた透明基材2の1度に投入可能な長さを長くできる。このため、透明基材2の厚みが300μm以下であると、ロールトウロール方式で光学積層体1を連続的に生産する場合に、生産性に優れる。また、透明基材2の厚みが300μm以下であると、品質の良好な光学積層体1となるため、好ましい。
透明基材2の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の製造方法で製造できる。
透明基材2は、透明基材2上にハードコート層3を形成する前に、必要に応じて表面を洗浄してもよい。透明基材2の表面の洗浄方法としては、例えば、溶剤洗浄、超音波洗浄などが挙げられる。透明基材2の洗浄を行うことにより、透明基材2の表面を除塵でき、表面が清浄化されるため、好ましい。
透明基材2は、透明基材2上にハードコート層3を形成する前に、必要に応じて表面を洗浄してもよい。透明基材2の表面の洗浄方法としては、例えば、溶剤洗浄、超音波洗浄などが挙げられる。透明基材2の洗浄を行うことにより、透明基材2の表面を除塵でき、表面が清浄化されるため、好ましい。
(ハードコート層)
本実施形態の光学積層体1は、透明基材2と密着層4aとの間に、ハードコート層3を備える。ハードコート層3としては、公知のものを用いることができ、例えば、バインダー樹脂とフィラーとを含むものが挙げられる。ハードコート層3は、バインダー樹脂とフィラーの他に、必要に応じて、レベリング剤などの公知の材料を含むものであってもよい。
ハードコート層3に含まれるバインダー樹脂としては、透明材料を用いることが好ましい。バインダー樹脂としては、例えば、電離放射線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを用いることができる。バインダー樹脂は、1種のみ用いてもよいし、2種以上混合して用いてもよい。
本実施形態の光学積層体1は、透明基材2と密着層4aとの間に、ハードコート層3を備える。ハードコート層3としては、公知のものを用いることができ、例えば、バインダー樹脂とフィラーとを含むものが挙げられる。ハードコート層3は、バインダー樹脂とフィラーの他に、必要に応じて、レベリング剤などの公知の材料を含むものであってもよい。
ハードコート層3に含まれるバインダー樹脂としては、透明材料を用いることが好ましい。バインダー樹脂としては、例えば、電離放射線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを用いることができる。バインダー樹脂は、1種のみ用いてもよいし、2種以上混合して用いてもよい。
電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N-ビニルピロリドン、ウレタンアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)およびペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)などが挙げられる。電離放射線硬化型樹脂としては、上述した化合物をPO(プロピレンオキサイド)変性したもの、EO(エチレンオキサイド)変性したもの、CL(カプロラクトン)変性したものなどを使用してもよい。
本実施形態において「(メタ)アクリレート」とは、メタクリレートおよび/またはアクリレートを意味する。
本実施形態において「(メタ)アクリレート」とは、メタクリレートおよび/またはアクリレートを意味する。
バインダー樹脂として電離放射線硬化型樹脂を含む場合、ハードコート層3は、公知の電離放射線硬化開始剤を含むものであってもよい。例えば、電離放射線硬化型樹脂として、(メタ)アクリレートなどの紫外線硬化型樹脂を含む場合、ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンなどの紫外線硬化開始剤を含むことが好ましい。
熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂などが挙げられる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂(かご状、ラダー状などのいわゆるシルセスキオキサン等を含む)などが挙げられる。
ハードコート層3に含まれるフィラーとしては、光学積層体1の防眩性、密着層4aとの密着性、アンチブロッキング性の観点から、光学積層体1の用途に応じて種々のものを選択して使用できる。具体的には、例えば、シリカ(Siの酸化物)粒子、アルミナ(酸化アルミニウム)粒子、有機微粒子など公知のものを用いることができる。
光学積層体1の防眩性を向上させる観点から、フィラーとして、アクリル樹脂などからなる有機微粒子を用いることが好ましい。有機微粒子の粒子径は、10μm以下であることが好ましく、5μm以下であることがさらに好ましく、3μm以下であることが特に好ましい。
密着層4aとの密着性を向上させる観点から、フィラーとして、シリカ粒子を用いることが好ましい。シリカ粒子の粒子径は、800nm以下であることが好ましく、100nm以下であることが特に好ましい。
密着層4aとの密着性を向上させる観点から、フィラーとして、シリカ粒子を用いることが好ましい。シリカ粒子の粒子径は、800nm以下であることが好ましく、100nm以下であることが特に好ましい。
ハードコート層3の厚みは、例えば、0.5μm以上であることが好ましく、より好ましくは1μm以上である。ハードコート層3の厚みは、100μm以下であることが好ましい。
ハードコート層3は、単一の層からなるものであってもよいし、複数の層が積層されたものであってもよい。
ハードコート層3は、単一の層からなるものであってもよいし、複数の層が積層されたものであってもよい。
ハードコート層3の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の製造方法を用いて製造できる。例えば、ハードコート層3は、塗布法により製造できる。塗布法としては、例えば、ハードコート層3となる材料を溶剤に溶解および/または分散させた塗布液を、公知の方法を用いて透明基材2上に塗布し、硬化させる方法などが挙げられる。溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、ハードコート層3となる材料に応じて適宜決定できる。
(密着層)
本実施形態の光学積層体1においては、透明基材2上に設けられたハードコート層3と光学機能層4との間に、密着層4aが備えられている。密着層4aは、光学機能層4とハードコート層3とを密着させる機能を有する。
本実施形態の光学積層体1においては、透明基材2上に設けられたハードコート層3と光学機能層4との間に、密着層4aが備えられている。密着層4aは、光学機能層4とハードコート層3とを密着させる機能を有する。
密着層4aは、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、スズ、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、アルミニウム、ジルコニウム、パラジウム等の金属;これらの金属の合金;これらの金属の酸化物、フッ化物、硫化物または窒化物;から選ばれるいずれか1種または2種以上からなるものであることが好ましい。
密着層4aを、例えば、スパッタ法によって形成する場合、密着層4aの材料として、融点が700℃以下である金属を用いることが好ましい。密着層4aが700℃を超える高融点の金属からなるものであると、スパッタリングによってハードコート層3の表面に到達した金属が十分に広がらず、局在化するきらいがある。
密着層4aを、例えば、スパッタ法によって形成する場合、密着層4aの材料として、融点が700℃以下である金属を用いることが好ましい。密着層4aが700℃を超える高融点の金属からなるものであると、スパッタリングによってハードコート層3の表面に到達した金属が十分に広がらず、局在化するきらいがある。
密着層4aは、非化学量論組成の無機酸化物を含むものであってもよい。この場合、酸素欠乏状態にある金属酸化物からなるものであることが好ましく、特にSiOx(Si酸化物)を主成分とするものであることが好ましい。密着層4aは、Si酸化物のみからなるものであってもよいし、Si酸化物とは別に、50質量%以下の範囲、好ましくは10質量%以下の範囲で、別の元素を含んでいてもよい。別の元素としては、密着層4aの耐久性を向上させるためにNaを含んでいてもよいし、密着層4aの硬度を向上させるためにZr、Al、Nから選ばれる1種または2種以上の元素を含んでいてもよい。
密着層4aの厚みは、例えば、1nm~10nmであることが好ましく、1nm~5nmであることがより好ましい。密着層4aの厚みが上記範囲内であると、光学機能層4とハードコート層3とを密着させる機能がより効果的に得られる。密着層4aの厚みが1nm以上であると、密着層4aとハードコート層3との密着性がより良好となる。また、密着層の厚みが10nm以下であると、物品に備えられた場合に、物品の視認角度を変化させることによる色むらがより一層視認されにくい光学積層体1となる。
密着層4aの製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の製造方法を用いて製造できる。密着層4aは、例えば、スパッタ法により形成できる。
(光学機能層)
光学機能層4は、低屈折率材料層(図1に示す例では第1低屈折率材料層41c、第2低屈折率材料層42c)と、低屈折率材料層よりも高屈折率の材料からなる高屈折率材料層(図1に示す例では第1高屈折率材料層41b、第2高屈折率材料層42b)とが、交互に積層された積層体からなる。
光学機能層4は、防汚層5側から光学積層体1に入射した光を拡散させる。このことにより、光学積層体1は、防汚層5側から光学積層体1に入射した光が、反射光として一方向に出射されることを防止する反射防止層として機能する。
光学機能層4は、低屈折率材料層(図1に示す例では第1低屈折率材料層41c、第2低屈折率材料層42c)と、低屈折率材料層よりも高屈折率の材料からなる高屈折率材料層(図1に示す例では第1高屈折率材料層41b、第2高屈折率材料層42b)とが、交互に積層された積層体からなる。
光学機能層4は、防汚層5側から光学積層体1に入射した光を拡散させる。このことにより、光学積層体1は、防汚層5側から光学積層体1に入射した光が、反射光として一方向に出射されることを防止する反射防止層として機能する。
本実施形態では、図1に示すように、光学機能層4が、透明基材2側から順に、第1高屈折率材料層41b、第1低屈折率材料層41c、第2高屈折率材料層42b、第2低屈折率材料層42cの4層が積層された積層体からなる場合を例に挙げて説明する。
光学機能層4を形成している低屈折率材料層と高屈折率材料層の積層数の合計は、4層に限定されるものではなく、3層以下であってもよいし、5層以上であってもよく、光学機能層4に要求される光学特性に応じて適宜決定できる。
光学機能層4を形成している低屈折率材料層と高屈折率材料層の積層数の合計は、4層に限定されるものではなく、3層以下であってもよいし、5層以上であってもよく、光学機能層4に要求される光学特性に応じて適宜決定できる。
具体的には、光学機能層4を形成している低屈折率材料層と高屈折率材料層の積層数の合計は、4層~10層であることが好ましく、4層~6層であることがより好ましく、4層であることが最も好ましい。光学機能層4が、上記の4層が積層された積層体である場合、積層数が少なく、厚みが薄いため、積層数が5層以上である場合と比較して、生産性に優れる。また、光学機能層4が、上記の4層が積層された積層体である場合、積層数が3層以下である場合と比較して、より一層低反射率の光学積層体1となるとともに、反射光の色相をより一層ニュートラル(無彩色)に近づけることができる。また、光学機能層4が、上記の4層が積層された積層体である場合、物品に備えられた場合に、物品の視認角度を変化させても色むらがより一層視認されにくい光学積層体1となる。
光学機能層4が2層以上の低屈折率材料層(図1に示す例では第1低屈折率材料層41cと第2低屈折率材料層42c)を含む場合、複数の低屈折率材料層は、全て同じ屈折率を有するものであってもよいし、一部または全部の屈折率が異なっていてもよい。
光学機能層4が2層以上の高屈折率材料層(図1に示す例では第1高屈折率材料層41bと第2高屈折率材料層42b)を含む場合、複数の高屈折率材料層は、全て同じ屈折率を有するものであってもよいし、一部または全部の屈折率が異なっていてもよい。
光学機能層4が2層以上の高屈折率材料層(図1に示す例では第1高屈折率材料層41bと第2高屈折率材料層42b)を含む場合、複数の高屈折率材料層は、全て同じ屈折率を有するものであってもよいし、一部または全部の屈折率が異なっていてもよい。
第1低屈折率材料層41cおよび第2低屈折率材料層42cの屈折率は、好ましくは1.20~1.60であり、より好ましくは1.30~1.50である。
第1低屈折率材料層41cおよび第2低屈折率材料層42cは、SiO2(屈折率1.46)を主成分とするものであることが好ましい。第1低屈折率材料層41cおよび/または第2低屈折率材料層42cは、SiO2のみからなるものであってもよいし、SiO2とは別に、50質量%以下の範囲、好ましくは10質量%以下の範囲で、別の元素を含んでいてもよい。別の元素としては、第1低屈折率材料層41cおよび/または第2低屈折率材料層42cの耐久性を向上させるためにNaを含んでいてもよいし、第1低屈折率材料層41cおよび/または第2低屈折率材料層42cの硬度を向上させるためにZr、Al、Nから選ばれる1種または2種以上の元素を含んでいてもよい。
第1低屈折率材料層41cおよび第2低屈折率材料層42cは、SiO2(屈折率1.46)を主成分とするものであることが好ましい。第1低屈折率材料層41cおよび/または第2低屈折率材料層42cは、SiO2のみからなるものであってもよいし、SiO2とは別に、50質量%以下の範囲、好ましくは10質量%以下の範囲で、別の元素を含んでいてもよい。別の元素としては、第1低屈折率材料層41cおよび/または第2低屈折率材料層42cの耐久性を向上させるためにNaを含んでいてもよいし、第1低屈折率材料層41cおよび/または第2低屈折率材料層42cの硬度を向上させるためにZr、Al、Nから選ばれる1種または2種以上の元素を含んでいてもよい。
第1高屈折率材料層41bおよび第2高屈折率材料層42bの屈折率は、好ましくは2.00~2.60であり、より好ましくは2.10~2.45である。
第1高屈折率材料層41bおよび第2高屈折率材料層42bの材料としては、例えば、五酸化ニオブ(Nb2O5、屈折率2.33)、酸化チタン(TiO2、屈折率2.33~2.55)、酸化タングステン(WO3、屈折率2.2)、酸化セリウム(CeO2、屈折率2.2)、五酸化タンタル(Ta2O5、屈折率2.16)、酸化亜鉛(ZnO、屈折率2.1)、酸化インジウムスズ(ITO、屈折率2.06)などが挙げられる。第1高屈折率材料層41bおよび第2高屈折率材料層42bは、五酸化ニオブからなるものであることが好ましい。
第1高屈折率材料層41bおよび第2高屈折率材料層42bの材料としては、例えば、五酸化ニオブ(Nb2O5、屈折率2.33)、酸化チタン(TiO2、屈折率2.33~2.55)、酸化タングステン(WO3、屈折率2.2)、酸化セリウム(CeO2、屈折率2.2)、五酸化タンタル(Ta2O5、屈折率2.16)、酸化亜鉛(ZnO、屈折率2.1)、酸化インジウムスズ(ITO、屈折率2.06)などが挙げられる。第1高屈折率材料層41bおよび第2高屈折率材料層42bは、五酸化ニオブからなるものであることが好ましい。
光学機能層4を構成する第1低屈折率材料層41c、第2低屈折率材料層42c、第1高屈折率材料層41b、第2高屈折率材料層42bの膜厚は、光学機能層4に要求される光学特性に応じて、それぞれ適宜決定できる。
本実施形態の光学積層体1では、標準光源D65による波長380nm~780nmの光を、表面に対して入射角5°~50°で入射させたときの反射光のCIE-Lab表色系におけるa*値およびb*値が、a*b*平面上の同一象限内となるように、第1低屈折率材料層41c、第2低屈折率材料層42cおよび第1高屈折率材料層41bの膜厚は、好ましくは以下に示す寸法とされる。
本実施形態の光学積層体1では、標準光源D65による波長380nm~780nmの光を、表面に対して入射角5°~50°で入射させたときの反射光のCIE-Lab表色系におけるa*値およびb*値が、a*b*平面上の同一象限内となるように、第1低屈折率材料層41c、第2低屈折率材料層42cおよび第1高屈折率材料層41bの膜厚は、好ましくは以下に示す寸法とされる。
光学機能層4(積層体)の透明基材2側に配置された第1高屈折率材料層41bの膜厚は、7.5nm以上であることが好ましく、7.5nm~10nmであることがより好ましい。
第1高屈折率材料層41bに接して配置された第1低屈折率材料層41cの膜厚は、27nm~37nmであることが好ましく、28nm~33nmであることがより好ましい。
光学機能層4の防汚層5側に配置された第2低屈折率材料層42cの膜厚は、85nm~103nmであることが好ましく、90nm~100nmであることがより好ましい。
第1高屈折率材料層41bに接して配置された第1低屈折率材料層41cの膜厚は、27nm~37nmであることが好ましく、28nm~33nmであることがより好ましい。
光学機能層4の防汚層5側に配置された第2低屈折率材料層42cの膜厚は、85nm~103nmであることが好ましく、90nm~100nmであることがより好ましい。
本実施形態の光学積層体1においては、第1低屈折率材料層41cと第2低屈折率材料層42cとの間に配置された第2高屈折率材料層42bの膜厚は、105nm~120nmであることが好ましく、110nm~115nmであることがより好ましい。第2高屈折率材料層42bの膜厚を上記範囲とすることにより、物品に備えられた場合に、物品の視認角度を変化させても色むらがより一層視認されにくい光学積層体1となる。
本実施形態の光学積層体1における光学機能層4の全体厚みは、230nm~270nmであることが好ましく、240nm~260nmであることがより好ましい。光学機能層4の全体厚みが上記範囲内であると、より一層低反射率の光学積層体1となるとともに、反射光の色相をより一層ニュートラル(無彩色)に近づけることができる。また、光学機能層4の全体厚みが上記範囲内であると、物品に備えられた場合に、物品の視認角度を変化させても色むらがより一層視認されにくい光学積層体1となる。光学機能層4の全体厚みが230nm以上であると、物品に備えられた場合に、物品の視認角度を変化させても色むらがより一層視認されにくい光学積層体1となる。また、光学機能層4の全体厚みが270nm以下であると、生産性が良好となる。
光学機能層4の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の製造方法を用いて製造できる。光学機能層4は、例えば、密着層4a上に、スパッタ法により、第1高屈折率材料層41b、第1低屈折率材料層41c、第2高屈折率材料層42b、第2低屈折率材料層42cをこの順に形成する方法により製造できる。密着層4aと光学機能層4の両方をスパッタ法により形成する場合、連続して形成することでき、好ましい。また、光学機能層4が、スパッタ法により形成されたものである場合、一般的な真空蒸着法または塗布法を用いて形成されたものと比較して、緻密なものとなる。その結果、水蒸気透過性が1.0g/m2/day以下である耐久性の良好な光学積層体1となる。
(防汚層)
防汚層5は、光学機能層4のハードコート層3と反対側の面に設けられている。防汚層5は、光学積層体1の汚損を防止し、光学機能層4の損耗を抑制する。
防汚層5は、フッ素系化合物を含有するものであることが好ましい。フッ素系化合物としては、例えば、フッ素変性有機基と、アルコキシシランなどの反応性シリル基とからなる化合物が好ましく用いられる。このような化合物としては、パーフルオロデシルトリエトキシシラン(FDTS)などが挙げられる。
防汚層5の材料として好適な市販品としては、オプツールDSX(ダイキン工業株式会社製)、KY-1203(信越化学工業株式会社製)、KY-1901(信越化学工業株式会社製)などが挙げられる。
防汚層5は、光学機能層4のハードコート層3と反対側の面に設けられている。防汚層5は、光学積層体1の汚損を防止し、光学機能層4の損耗を抑制する。
防汚層5は、フッ素系化合物を含有するものであることが好ましい。フッ素系化合物としては、例えば、フッ素変性有機基と、アルコキシシランなどの反応性シリル基とからなる化合物が好ましく用いられる。このような化合物としては、パーフルオロデシルトリエトキシシラン(FDTS)などが挙げられる。
防汚層5の材料として好適な市販品としては、オプツールDSX(ダイキン工業株式会社製)、KY-1203(信越化学工業株式会社製)、KY-1901(信越化学工業株式会社製)などが挙げられる。
防汚層5には、必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤、帯電防止剤、滑剤、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、難燃剤、赤外線吸収剤、界面活性剤などの添加剤が含まれていてもよい。
防汚層5の厚みは、例えば、1~20nmとすることができ、好ましくは3~10nmである。
防汚層5の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の製造方法で製造でき、必要とされる耐久性およびコストを勘案して適宜選択される。具体的には、防汚層5は、塗布法または蒸着法により製造できる。塗布法としては、例えば、防汚層5となる材料を溶剤に溶解した塗布液を、公知の方法を用いて光学機能層4上に塗布し、乾燥させる方法などが挙げられる。また、防汚層5を蒸着法により形成した場合、例えば、塗布法を用いて形成した防汚層と比較して、緻密で光学機能層4との密着性に優れるものとなる。このため、蒸着法により形成された防汚層5は、高い耐摩耗性を有する。
防汚層5の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の製造方法で製造でき、必要とされる耐久性およびコストを勘案して適宜選択される。具体的には、防汚層5は、塗布法または蒸着法により製造できる。塗布法としては、例えば、防汚層5となる材料を溶剤に溶解した塗布液を、公知の方法を用いて光学機能層4上に塗布し、乾燥させる方法などが挙げられる。また、防汚層5を蒸着法により形成した場合、例えば、塗布法を用いて形成した防汚層と比較して、緻密で光学機能層4との密着性に優れるものとなる。このため、蒸着法により形成された防汚層5は、高い耐摩耗性を有する。
本実施形態の光学積層体1においては、透明基材2のハードコート層3と反対側の面に、必要に応じて1層以上の層が設けられていてもよい。透明基材2のハードコート層3と反対側の面には、例えば、光学積層体1を、画像表示装置の表面などの他の部材に接着するための粘着剤層が設けられていてもよいし、粘着剤層と他の光学フィルムとがこの順に積層されていても良い。他の光学フィルムとしては、例えば、偏光フィルム、位相差補償フィルム、1/2波長板、1/4波長板などが挙げられる。また、透明基材2のハードコート層3と反対側の面に接して、上記の他の光学フィルムが形成されていてもよい。
本実施形態の光学積層体1は、透明基材2と、光学機能層4と、防汚層5とが、この順に積層され、標準光源D65による波長380nm~780nmの光を、表面に対して入射角5°~50°で入射させたときの反射光のCIE-Lab表色系におけるa*値およびb*値が、a*b*平面上の同一象限内である。このため、本実施形態の光学積層体1は、物品に備えられ、物品の視認角度を変化させても色むらが視認されにくい。
[物品]
本実施形態の物品は、本実施形態の光学積層体1を備える。本実施形態の物品は、光学積層体1が、画像表示装置の表面に備えられたものであってもよい。画像表示装置としては、例えば、液晶表示パネル、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示パネルなどのフラットパネルディスプレイ(FPD)が挙げられる。
本実施形態の物品は、本実施形態の光学積層体1を備える。本実施形態の物品は、光学積層体1が、画像表示装置の表面に備えられたものであってもよい。画像表示装置としては、例えば、液晶表示パネル、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示パネルなどのフラットパネルディスプレイ(FPD)が挙げられる。
本実施形態の光学積層体1が貼付される画像表示装置の表面としては、例えば、携帯電話の画面、スマートフォンの画面、タブレット端末の画面、パーソナルコンピューターのディスプレイ、ナビゲーションシステムの画面、遊技機の操作画面など情報入力端末の画面、航空機、電車などの運行支援装置の操作画面、電光表示板などが挙げられる。これらの中でも光学積層体1が貼付される画像表示装置は、使用時に、様々な視認角度で視認される画像表示装置であることが好ましく、特に、ナビゲーションシステムの画面、携帯電話の画面、スマートフォンの画面であることが好ましい。
本実施形態の物品は、光学積層体1が、画像表示装置の表面に備えられたものに限定されない。例えば、本実施形態の光学積層体1が表面に備えられた窓ガラス、ゴーグル、太陽電池の受光面、ガラステーブル表面、計器盤、光学センサーの表面、ヘルメットのバイザー、鏡、ヘッドマウントディスプレイ、レンチキュラーレンズなどのレンズなどが挙げられる。
本実施形態の物品は、光学積層体1の備えられている表面が、平板状であってもよいし、曲面状であってもよい。
本実施形態の物品は、光学積層体1の備えられている表面が、平板状であってもよいし、曲面状であってもよい。
本実施形態の物品は、本実施形態の光学積層体1を備えているので、視認角度を変化させても色むらが視認されにくい。特に、本実施形態の物品が、光学積層体1が画像表示装置の表面に備えられたものである場合、視認角度を変化させても表示画像の色むらが視認されにくく、好ましい。
(実施例1、2、比較例1、2)
以下に示す方法により、図1に示す光学積層体1を製造した。
まず、透明基材2として、厚さ80μmのポリエチレンテレフタラート(PET)からなるフィルムを用意した。そして、透明基材2上に、厚さ5μmのハードコート層3を形成した。ハードコート層3は、表1に示す組成を有する塗布液を、バーコーターを用いて透明基材2上に塗布し、紫外線を照射して光重合させて、硬化させる方法により形成した。
以下に示す方法により、図1に示す光学積層体1を製造した。
まず、透明基材2として、厚さ80μmのポリエチレンテレフタラート(PET)からなるフィルムを用意した。そして、透明基材2上に、厚さ5μmのハードコート層3を形成した。ハードコート層3は、表1に示す組成を有する塗布液を、バーコーターを用いて透明基材2上に塗布し、紫外線を照射して光重合させて、硬化させる方法により形成した。
続いて、ハードコート層3上に、スパッタリングターゲットとしてSiターゲットとNbターゲットとを用い、ArガスとO2ガスとの混合ガスを用いて反応性スパッタ法により、密着層4aと、光学機能層4とを連続して形成した。
すなわち、ハードコート層3上に、表2に示す膜厚を有し、酸素欠乏があり得るSi酸化物(SiOx)からなる密着層4aと、表2に示す膜厚を有するNb2O5からなる第1高屈折率材料層41bと、表2に示す膜厚を有するSiO2からなる第1低屈折率材料層41cと、表2に示す膜厚を有するNb2O5からなる第2高屈折率材料層42bと、表2に示す膜厚を有するSiO2からなる第2低屈折率材料層42cとをこの順に成膜した。
すなわち、ハードコート層3上に、表2に示す膜厚を有し、酸素欠乏があり得るSi酸化物(SiOx)からなる密着層4aと、表2に示す膜厚を有するNb2O5からなる第1高屈折率材料層41bと、表2に示す膜厚を有するSiO2からなる第1低屈折率材料層41cと、表2に示す膜厚を有するNb2O5からなる第2高屈折率材料層42bと、表2に示す膜厚を有するSiO2からなる第2低屈折率材料層42cとをこの順に成膜した。
次に、光学機能層4上に、コイルバー(製品名:No.579、ロッドNo.9、株式会社安田精機製作所製)を用いて塗布液を塗布し、80℃で2分間乾燥させる方法により、膜厚5nmの防汚層5を形成した。塗布液としては、フッ素溶剤(商品名:フロリナートFC-3283:スリーエムジャパン株式会社製)中に、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物(商品名:オプツールDSX、ダイキン工業株式会社製)を0.1質量%含む溶液を用いた。
以上の工程により、実施例1、2、比較例1、2の光学積層体1を得た。
以上の工程により、実施例1、2、比較例1、2の光学積層体1を得た。
表2において、「総膜厚」とは、密着層4aの膜厚と、光学機能層4の膜厚と、防汚層5の膜厚とを合計した膜厚である。
「反射光の色度および反射率の測定」
このようにして得られた実施例1、2、比較例1、2の光学積層体の透明基材2側の面を、それぞれアクリル系透明粘着剤を用いて黒色のアクリルパネルの表面に貼付し、裏面反射が除去される試験体とした。
そして、各試験体の透明基材2と反対側の面から、日本分光製V-550を用いて、標準光源D65による波長380nm~780nmの光を、光学積層体の表面に対して入射角5°で入射し、計算式を用いて反射スペクトルから反射光の色度および反射率を計算した。色度としては、CIE-Lab表色系におけるL*値、a*値およびb*値を算出した。
さらに、各試験体について、上記光を光学積層体の表面に対して入射角5°で入射させたときと同様にして、入射角10°、20°、30°、40°、50°で入射させ、それぞれ反射光の色度および反射率を算出した。その結果を表3~表6、図2~図9に示す。
このようにして得られた実施例1、2、比較例1、2の光学積層体の透明基材2側の面を、それぞれアクリル系透明粘着剤を用いて黒色のアクリルパネルの表面に貼付し、裏面反射が除去される試験体とした。
そして、各試験体の透明基材2と反対側の面から、日本分光製V-550を用いて、標準光源D65による波長380nm~780nmの光を、光学積層体の表面に対して入射角5°で入射し、計算式を用いて反射スペクトルから反射光の色度および反射率を計算した。色度としては、CIE-Lab表色系におけるL*値、a*値およびb*値を算出した。
さらに、各試験体について、上記光を光学積層体の表面に対して入射角5°で入射させたときと同様にして、入射角10°、20°、30°、40°、50°で入射させ、それぞれ反射光の色度および反射率を算出した。その結果を表3~表6、図2~図9に示す。
図2~図5は、光学積層体の表面に対して、入射角5°、10°、20°、30°、40°、50°で標準光源D65による波長380nm~780nmの光を入射させたときの、反射光のCIE-Lab表色系におけるa*値およびb*値を示したグラフである。図2は、実施例1のa*値およびb*値を示したグラフであり、図3は、実施例2のa*値およびb*値を示したグラフであり、図4は、比較例1のa*値およびb*値を示したグラフであり、図5は、比較例2のa*値およびb*値を示したグラフである。
図6~図9は、光学積層体の表面に対して、入射角5°、10°、20°、30°、40°、50°で標準光源D65による波長380nm~780nmの光を入射させたときの、反射率を示したグラフである。図6は、実施例1の反射率を示したグラフであり、図7は、実施例2の反射率を示したグラフであり、図8は、比較例1の反射率を示したグラフであり、図9は、比較例2の反射率を示したグラフである。
実施例1、2、比較例1、2の光学積層体について、それぞれ算出した表3~表6に示す入射角5°、10°、20°、30°、40°、50°の光を表面に対して入射させた時の反射光のL*値、a*値およびb*値を用いて、下記式(1)で示されるΔE*abを算出した。その結果を表3~表6に示す。
また、実施例1、2、比較例1、2の光学積層体について、それぞれ算出した表3~表6に示す入射角5°、10°、20°、30°、40°、50°の光を表面に対して入射させた時の反射率Yを用いて、下記式(3)で示される△Yを算出した。その結果を表3~表6に示す。
△Y=(入射角10°、20°、30°、40°、50°のいずれかで入射させた時の反射率)-(入射角5°で入射させた時の反射率) 式(3)
△Y=(入射角10°、20°、30°、40°、50°のいずれかで入射させた時の反射率)-(入射角5°で入射させた時の反射率) 式(3)
表3および表4、図2および図3に示すように、実施例1および実施例2の光学積層体は、入射角5°~50°で入射させたときのa*値およびb*値は、いずれも0未満であり、a*b*平面上の同一象限内であった。また、表3および表4に示すように、実施例1および実施例2の光学積層体は、入射角10°、20°、30°、40°、50°のいずれにおいてもΔE*abが10以下であった。
また、表3および表4、図6および図7に示すように、実施例1および実施例2の光学積層体は、入射角10°、20°、30°、40°、50°のいずれにおいても、入射角5°との反射率の差△Yが、絶対値で1%以下であった。また、表3および表4、図6および図7に示すように、実施例1および実施例2の光学積層体は、入射角30°での反射率が、最も低いものであった。
これに対し、比較例1の光学積層体は、表5および図4に示すように、入射角5°~30°で入射させたときの反射光は、a*値およびb*値が0未満である。しかし、入射角40°、50°で入射させたときの反射光は、b*値が0超であった。よって、比較例1の光学積層体における5°~50°で入射させたときのa*値およびb*値は、a*b*平面上の同一象限内ではなかった。また、表5に示すように、比較例1の光学積層体は、入射角40°、50°であるときのΔE*abが10超であった。
また、比較例2の光学積層体は、表6および図5に示すように、入射角5°~20°で入射させたときの反射光は、a*値およびb*値が0未満である。しかし、入射角30°~50°で入射させたときの反射光は、b*値が0超であった。よって、比較例2の光学積層体における5°~50°で入射させたときのa*値およびb*値は、a*b*平面上の同一象限内ではなかった。また、表6に示すように、比較例2の光学積層体は、入射角50°であるときのΔE*abが10超であった。
また、表5および表6、図8および図9に示すように、比較例1および比較例2の光学積層体は、入射角50°と入射角5°との反射率の差△Yが、絶対値で1%超であった。また、表5および表6、図8および図9に示すように、比較例1および比較例2の光学積層体は、入射角5°での反射率が、最も低いものであった。
1…光学積層体
2…透明基材
3…ハードコート層
4…光学機能層
4a…密着層
41b…第1高屈折率材料層
41c…第1低屈折率材料層
42b…第2高屈折率材料層
42c…第2低屈折率材料層
5…防汚層
2…透明基材
3…ハードコート層
4…光学機能層
4a…密着層
41b…第1高屈折率材料層
41c…第1低屈折率材料層
42b…第2高屈折率材料層
42c…第2低屈折率材料層
5…防汚層
Claims (11)
- 透明基材と、光学機能層と、防汚層とが、この順に積層され、
標準光源D65による波長380nm~780nmの光を、表面に対して入射角5°~50°で入射させたときの反射光のCIE-Lab表色系におけるa*値およびb*値が、a*b*平面上の同一象限内であることを特徴とする光学積層体。 - 前記光を前記表面に対して入射角5°~50°で入射させた時の前記反射光の前記a*値および前記b*値が0未満である請求項1に記載の光学積層体。
- 前記光を前記表面に対して入射角10°、20°、30°、40°、50°で入射させた時の反射率と、入射角5°で入射させた時の反射率との差の最大値が、絶対値で1%以下である請求項1または請求項2に記載の光学積層体。
- 前記光を前記表面に対して入射角5°~50°で入射させた時の前記反射光は、下記式(1)で示されるΔE*abが10以下のものである請求項1~請求項3のいずれか一項に記載の光学積層体。
- 前記光学機能層が、低屈折率材料層と、前記低屈折率材料層よりも高屈折率の材料からなる高屈折率材料層とが、交互に積層された積層体からなり、
前記積層体の前記透明基材側には、前記高屈折率材料層からなる膜厚7.5nm以上の第1高屈折率材料層が配置され、
前記第1高屈折率材料層に接して前記低屈折率材料層からなる膜厚27nm~37nmの第1低屈折率材料層が配置され、
前記積層体の前記防汚層側には、前記低屈折率材料層からなる膜厚85nm~103nmの第2低屈折率材料層が配置されている請求項1~請求項4のいずれか一項に記載の光学積層体。 - 前記第1低屈折率材料層と前記第2低屈折率材料層との間に、高屈折率材料層からなる膜厚105nm~120nmの第2高屈折率材料層が配置され、
前記光学機能層が、前記第1高屈折率材料層と前記第1低屈折率材料層と前記第2高屈折率材料層と前記第2低屈折率材料層の4層からなる請求項5に記載の光学積層体。 - 前記透明基材と前記光学機能層との間に、密着層が備えられ、
前記密着層が、金属、合金、金属酸化物、金属フッ化物、金属硫化物、金属窒化物から選ばれるいずれか1種または2種以上からなる請求項1~請求項6のいずれか一項に記載の光学積層体。 - 前記密着層が、酸素欠乏状態にある金属酸化物からなる請求項7に記載の光学積層体。
- 前記透明基材と前記密着層との間に、ハードコート層を備える請求項7または請求項8に記載の光学積層体。
- 請求項1~請求項9のいずれか一項に記載の光学積層体を備えることを特徴とする物品。
- 前記光学積層体が、画像表示装置の表面に備えられている請求項10に記載の物品。
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