JP7042340B2 - 加工装置、加工方法及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Description
31 チャック
40 搬送ユニット
90 粗研削ユニット
100 中研削ユニット
110 仕上研削ユニット
130 制御部
W、Wa、Wb ウェハ
Claims (15)
- 基板を加工する加工装置であって、
基板を保持する保持部と、
前記保持部に保持された基板の加工面を研削する研削部と、
前記保持部に対して基板を搬送する搬送部と、
前記保持部に保持された基板を検出する検出部と、
前記保持部、前記研削部、前記搬送部及び検出部を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、
前記加工装置が稼働中に停止しさらに当該加工装置を再起動させた後、前記保持部の初期化、前記研削部の初期化及び前記搬送部の初期化を行うことと、
前記保持部における基板を検出することと、
検出された基板に対し、前記研削部による研削の要否を指定することと、
研削が必要と指定された基板の加工面を、前記研削部によって研削することと、を実行するように、前記保持部、前記研削部、前記搬送部及び検出部を制御し、
前記加工装置が停止した際の、前記保持部における基板の有無を記憶し、
前記保持部における基板の検出において、前記制御部に記憶された加工装置停止時の基板の有無と、前記検出部による検出結果とに基づいて、前記保持部における基板を検出し、研削の要否を指定する、加工装置。 - 前記制御部は、
前記加工装置が停止した際の、前記保持部における基板の有無を記憶し、
前記保持部において基板を検出した場合、前記制御部に記憶された加工装置停止時の基板の有無に基づいて、当該基板の研削を必要と指定する、請求項1に記載の加工装置。 - 前記保持部を複数保持し、当該保持部を複数の加工位置に配置すべく回転自在の回転テーブルを有し、
前記研削部は、前記複数の加工位置のそれぞれに設けられて基板の加工面を研削し、
前記制御部は、前記加工面の研削において、前記複数の加工位置で前記研削部によって基板の加工面を連続して研削し、一の前記加工位置の次に他の前記加工位置で基板の加工面を研削した後、前記回転テーブルによって前記一の加工位置に基板を移動させるように、前記研削部と前記回転テーブルを制御する、請求項1又は2に記載の加工装置。 - 前記制御部は、前記研削の要否の指定の後であって前記加工面の研削の前に、前記保持部の第1の準備処理と前記研削部の第1の準備処理を行うように、前記保持部と前記研削部を制御する、請求項1~3のいずれか一項に記載の加工装置。
- 前記制御部は、前記加工面の研削の後に、前記保持部の第2の準備処理と前記研削部の第2の準備処理を行うように、前記保持部と前記研削部を制御する、請求項1~4のいずれか一項に記載の加工装置。
- 前記保持部に保持される前の基板の水平方向の向きを調節するアライメント部を有し、
前記制御部は、前記加工面の研削の後に、前記アライメント部にある基板を前記搬送部によって前記保持部に搬送し、当該保持部に保持された基板の加工面を前記研削部によって研削するように、前記アライメント部、前記搬送部、前記保持部及び前記研削部を制御する、請求項1~5のいずれか一項に記載の加工装置。 - 前記制御部は、前記保持部、前記研削部及び前記搬送部の初期化において、前記搬送部の初期化、前記研削部の初期化及び保持部の初期化をこの順で行うように、前記搬送部、前記研削部及び前記保持部を制御する、請求項1~6のいずれか一項に記載の加工装置。
- 加工装置を用いた基板の加工方法であって、
前記加工装置は、
基板を保持する保持部と、
前記保持部に保持された基板の加工面を研削する研削部と、
前記保持部に対して基板を搬送する搬送部と、
前記保持部に保持された基板を検出する検出部と、を有し、
前記加工方法は、
前記加工装置が稼働中に停止しさらに当該加工装置を再起動させた後、前記保持部の初期化、前記研削部の初期化及び前記搬送部の初期化を行うことと、
前記保持部における基板を検出することと、
検出された基板に対し、前記研削部による研削の要否を指定することと、
研削が必要と指定された基板の加工面を、前記研削部によって研削することと、を有し、
前記保持部、前記研削部及び前記搬送部の初期化の前に、前記加工装置が停止した際の、前記保持部における基板の有無を記憶し、
前記保持部における基板の検出において、前記記憶された加工装置停止時の基板の有無と、前記検出部による検出結果とに基づいて、前記保持部における基板を検出し、研削の要否を指定する、加工方法。 - 前記保持部、前記研削部及び前記搬送部の初期化の前に、前記加工装置が停止した際の、前記保持部における基板の有無を記憶し、
前記保持部における基板の検出において前記保持部における基板を検出した場合、前記記憶された加工装置停止時の基板の有無に基づいて、当該基板の研削を必要と指定する、請求項8に記載の加工方法。 - 前記加工装置は、前記保持部を複数保持し、当該保持部を複数の加工位置に配置すべく回転自在の回転テーブルを有し、
前記研削部は、前記複数の加工位置のそれぞれに設けられて基板の加工面を研削し、
前記加工面の研削において、前記複数の加工位置で前記研削部によって基板の加工面を連続して研削し、一の前記加工位置の次に他の前記加工位置で基板の加工面を研削した後、前記回転テーブルによって前記一の加工位置に基板を移動させる、請求項8又は9に記載の加工方法。 - 前記研削の要否の指定の後であって前記加工面の研削の前に、前記保持部の第1の準備処理と前記研削部の第1の準備処理を行う、請求項8~10のいずれか一項に記載の加工方法。
- 前記加工面の研削の後に、前記保持部の第2の準備処理と前記研削部の第2の準備処理を行う、請求項8~11のいずれか一項に記載の加工方法。
- 前記加工装置は、前記保持部に保持される前の基板の水平方向の向きを調節するアライメント部を有し、
前記加工面の研削の後に、前記アライメント部にある基板を前記搬送部によって前記保持部に搬送し、当該保持部に保持された基板の加工面を前記研削部によって研削する、請求項8~12のいずれか一項に記載の加工方法。 - 前記保持部、前記研削部及び前記搬送部の初期化において、前記搬送部の初期化、前記研削部の初期化及び保持部の初期化をこの順で行う、請求項8~13のいずれか一項に記載の加工方法。
- 請求項8~14のいずれか一項に記載の加工方法を加工装置によって実行させるように、当該加工装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
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Citations (2)
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---|---|---|---|---|
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US6168683B1 (en) * | 1998-02-24 | 2001-01-02 | Speedfam-Ipec Corporation | Apparatus and method for the face-up surface treatment of wafers |
JP4387557B2 (ja) * | 2000-05-16 | 2009-12-16 | 株式会社ディスコ | 研削装置におけるチャックテーブルの洗浄方法および洗浄装置 |
US6945258B2 (en) * | 2001-04-19 | 2005-09-20 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus and method |
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US7364922B2 (en) * | 2005-01-24 | 2008-04-29 | Tokyo Electron Limited | Automated semiconductor wafer salvage during processing |
TWI383936B (zh) * | 2006-02-01 | 2013-02-01 | Olympus Corp | 基板交換裝置、基板處理裝置及基板檢查裝置 |
JP4900904B2 (ja) * | 2006-02-28 | 2012-03-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理条件変更方法及び記憶媒体 |
JP2007301690A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Nikon Corp | 研磨装置 |
JP5433977B2 (ja) * | 2008-05-09 | 2014-03-05 | 株式会社ニコン | 自動機の制御装置 |
JP5305729B2 (ja) * | 2008-05-12 | 2013-10-02 | 株式会社荏原製作所 | 研磨方法及び研磨装置、並びに研磨装置制御用プログラム |
JP5275016B2 (ja) * | 2008-12-25 | 2013-08-28 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
JP5523230B2 (ja) * | 2010-07-15 | 2014-06-18 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
JP2012028698A (ja) * | 2010-07-27 | 2012-02-09 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研削装置 |
JP5926042B2 (ja) * | 2011-12-01 | 2016-05-25 | 株式会社ディスコ | 板状基板の割れ検知方法 |
JP5741501B2 (ja) * | 2012-03-26 | 2015-07-01 | 株式会社デンソー | 研削装置 |
JP6537382B2 (ja) * | 2015-07-14 | 2019-07-03 | 株式会社ディスコ | 研削装置のアイドリング方法 |
JP6357187B2 (ja) * | 2016-03-31 | 2018-07-11 | キヤノン株式会社 | 搬送装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |
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