JP6961174B2 - 光学フィルム、位相差フィルム、偏光板 - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルム、位相差フィルム及び偏光板に関する。

位相差フィルムは、主に液晶ディスプレイや有機エレクトロルミネッセンス（以下「有機ＥＬ」ということがある。）ディスプレイの構成部材、例えば、視野角拡大フィルムとして、あるいは円偏光板の構成部材として利用されている。位相差フィルムに要求される特性としては、透明性、適度な位相差発現性、位相差の波長分散性などの光学特性の他、これらの光学特性を安定して発現するための低光弾性係数及び耐熱性が挙げられる。

液晶ディスプレイは、液晶セル、偏光板及び位相差フィルムなどで構成されている。反射型及び透過型液晶ディスプレイでは、例えば、位相差フィルムは偏光板と組み合わせられ、円偏光板として利用されている。円偏光板は、入射した無偏光の光を、偏光板で直線偏光成分のみを取り出し、位相差フィルムで円偏光にして、出射する。

有機ＥＬディスプレイにおいては、屋外などの外光下における視認性を改善するため、円偏光板が使用されている。有機ＥＬの表示装置は、電極に反射率の高い金属材料が用いられており、外光が電極の界面で反射して、画面のコントラスト低下や映り込みといった問題が生じることがある。円偏光板を用いることで、外光の反射を抑制し、このような悪現象の発生を防いでいる。

位相差フィルムとしては、例えば、芳香族ポリカーボネート樹脂からなるフィルムや、脂環族ジカルボン酸成分及び脂環族ジオール成分を含むポリエステル樹脂からなるフィルムが用いられている（特許文献１及び２など）。

特開２００７−１９７６５１号公報 特開２００７−２２４２８１号公報

しかしながら、従来の芳香族ポリカーボネート樹脂からなる光学フィルムは、耐熱性及び機械強度は有しているものの、光弾性係数が大きいといった問題がある。例えば、位相差フィルムとして、偏光板と貼り合わせて、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置に用いる場合、偏光板あるいはフィルム自身の熱収縮、熱膨張又は吸水膨張等により、位相差フィルムに応力がかかり、その結果、位相差斑が発生し画質の均一性が保てなくなるといった問題が生じていた。

また、一般的に芳香環を含むポリエステル樹脂からなる光学フィルムは、光弾性係数が大きく、光学特性に劣る。結晶性が高い場合には、成形時に白化が進行し、透明性が損なわれることもある。一方で、全脂肪族ポリエステル樹脂からなる光学フィルムは耐熱性に劣るといった問題がある。これらの理由により、従来のポリエステル樹脂からなる光学フィルムは、耐熱性、透明性及び光学特性の点で十分とは言えない。

本発明は、以上の従来技術が有する問題点に鑑みなされたものであり、光弾性係数が小さく（光学特性に優れ）、耐熱性及び透明性に優れた位相差フィルムなどの光学フィルム、及び該フィルムを含んで得られる偏光板の提供を目的とする。

本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ねた結果、特定の脂環式構造を構成単位として含むポリエステル樹脂からなる光学フィルムが、上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させた。

すなわち、本発明は、以下のとおりである。

［１］
下記一般式（１）で表される単位（Ａ）を含むポリエステル樹脂からなる光学フィルム。

（前記一般式（１）において、Ｒ₁は水素原子、ＣＨ₃又はＣ₂Ｈ₅であり、Ｒ₂及びＲ₃は、それぞれ独立に水素原子又はＣＨ₃であり、ｎは０又は１である。）。

［２］
前記一般式（１）におけるｎが１である、［１］に記載の光学フィルム。

［３］
前記一般式（１）におけるＲ₁、Ｒ₂、及びＲ₃が水素原子である、［１］又は［２］に記載の光学フィルム。

［４］
前記ポリエステル樹脂が下記（１）及び（２）を満たし、前記光学フィルムが下記（３）を満たす、［１］〜［３］のいずれか一項に記載の光学フィルム。
（１）前記ポリエステル樹脂のガラス転移温度が９０℃以上である。
（２）前記ポリエステル樹脂の降温時結晶化発熱量が５Ｊ／ｇ以下である。
（３）前記光学フィルムの光弾性係数の絶対値が４０×１０^-12Ｐａ^-1以下である。

［５］
［１］〜［４］のいずれか一項に記載の光学フィルムを含んでなる、位相差フィルム。

［６］
［１］〜［５］のいずれか一項に記載の光学フィルムを含んでなる、円偏光板又は楕円偏光板。

本発明によれば、光弾性係数が小さく、耐熱性及び透明性に優れる位相差フィルムなどの光学フィルム、及び該フィルムを含んで得られる偏光板を提供することができる。

モノマー合成例で得られた主反応生成物の¹Ｈ−ＮＭＲ測定の結果を示す。 モノマー合成例で得られた主反応生成物の¹³Ｃ−ＮＭＲ測定の結果を示す。 モノマー合成例で得られた主反応生成物のＣＯＳＹ−ＮＭＲ測定の結果を示す。

以下、本発明を実施するための形態（以下、単に「本実施形態」という。）について詳細に説明する。以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨の範囲内で適宜に変形して実施できる。

［ポリエステル樹脂］
本実施形態の光学フィルムは、下記一般式（１）で表される単位（Ａ）（以下、「単位（Ａ）」、「構成単位（Ａ）」ともいう。）を含むポリエステル樹脂からなる。また、該樹脂は、必要に応じて、ジオール単位（Ｂ）（以下、「単位（Ｂ）」、「構成単位（Ｂ）」ともいう。）、及びジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体単位（Ｃ）（以下、「単位（Ｃ）」、「構成単位（Ｃ）」ともいう。）を含む。

（前記一般式（１）において、Ｒ₁は水素原子、ＣＨ₃又はＣ₂Ｈ₅であり、Ｒ₂及びＲ₃は、それぞれ独立に水素原子又はＣＨ₃であり、ｎは０又は１である。）

上記のように構成されているため、本実施形態の光学フィルムは、透明性、耐熱性及び光学特性に優れる。なお、本実施形態において、「耐熱性に優れる」とは、後述する実施例に記載の方法により測定されるガラス転移温度（Ｔｇ）が十分に高いことを指し、「光学特性に優れる」とは、後述する実施例に記載の方法により測定される光弾性係数の絶対値が十分に低いことを指す。

一般式（１）において、Ｒ₁は、好ましくは水素原子又はＣＨ₃であり、Ｒ₂及びＲ₃は、好ましくは水素原子である。本実施形態において、耐熱性の観点から、一般式（１）におけるＲ₁、Ｒ₂、及びＲ₃が水素原子であることがより好ましい。

上記一般式（１）において、耐熱性をより向上させる観点から、ｎは１であることが好ましい。

本実施形態において、透明性、耐熱性及び光学特性のバランスを考慮すると、ポリエステル樹脂が有する全構成単位に対する構成単位（Ａ）の含有量は、１０〜９５ｍｏｌ％であることが好ましい。上記含有量が１０ｍｏｌ％以上であると、十分に良好な耐熱性及び光学特性が得られる傾向にある。また、上記含有量が９５ｍｏｌ％以下であると、良好な耐熱性及び光学特性を確保しつつ成形性を向上させることができるため好ましい。上記と同様の観点から、単位（Ａ）の含有量は、１５〜９５ｍｏｌ％であることがより好ましく、さらに好ましくは２０〜９５ｍｏｌ％である。

本発明の光学フィルムは、構成単位（Ａ）からなるホモポリエステル樹脂からなることが好ましい態様の一つである。

本発明の光学フィルムは、構成単位（Ａ）、構成単位（Ｂ）及び構成単位（Ｃ）を含む共重合ポリエステル樹脂からなることも好ましい態様の一つである。

構成単位（Ｂ）としては、ジオールに由来する単位であれば特に限定されず、その具体例としては、エチレングリコール、トリメチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，２−デカヒドロナフタレンジメタノール、１，３−デカヒドロナフタレンジメタノール、１，４−デカヒドロナフタレンジメタノール、１，５−デカヒドロナフタレンジメタノール、１，６−デカヒドロナフタレンジメタノール、２，７−デカヒドロナフタレンジメタノール、テトラリンジメタノール、ノルボルナンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール、デカヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレンジメタノール、ノルボルナンジオール、シクロヘキサンジオール、２，２'-ビス（４-ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、アダマンタンジオール、デカヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレンジオール、９，９−ビス[４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル]フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル]フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシプロポキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル]フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシプロポキシ）−３−フェニルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス（２−ヒドロキシエチル）フルオレン、キシリレングリコール、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，４：３，６−ジアンヒドロ−Ｄ−ソルビトール、２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオール等のジオールに由来する単位が挙げられる。

構成単位（Ｂ）は、良好な光学特性が得られることから、脂肪族ジオール又はフルオレン構造を有するジオールに由来する単位であることが好ましい。また、上記フルオレン構造を有するジオールに由来する単位については、フルオレン構造と共にカルド構造を有していることがより好ましい。このような脂肪族ジオールに由来する単位としては、１，４−シクロヘキサンジメタノール、エチレングリコール、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，４：３，６−ジアンヒドロ−Ｄ−ソルビトール、デカヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレンジメタノールに由来する単位がより好ましい。また、フルオレン構造を有するジオールに由来する単位としては、９，９−ビス[４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル]フルオレン、９，９−ビス[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル]フルオレン、９，９−ビス[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル]フルオレンに由来する単位がより好ましい。なお、これらの光学異性体は、シス体、トランス体、これらの混合物のいずれであってもよく、特に限定されない。

上記した単位は、１種を単独で含まれていてもよく、２種以上を組み合わせて含まれていてもよい。

構成単位（Ｃ）としては、ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体に由来する単位であれば特に限定されず、その具体例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，３−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、２−メチルテレフタル酸、ビフェニルジカルボン酸、テトラリンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸及び／又はその誘導体に由来する構成単位；コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸、ノルボルナンジカルボン酸、トリシクロデカンジカルボン酸、ペンタシクロペンタデカンジカルボン酸、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−カルボキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、５−カルボキシ−５−エチル−２−（１，１−ジメチル−２−カルボキシエチル）−１，３−ジオキサン、１，４：５，８−ジメタノデカヒドロナフタレンジカルボン酸、アダマンタンジカルボン酸、ダイマー酸等の脂肪族ジカルボン酸及び／又はその誘導体に由来する単位；９，９−ビス（カルボキシメチル）フルオレン、９，９−ビス（１−カルボキシエチル）フルオレン、９，９−ビス（２−カルボキシエチル）フルオレン、９，９−ビス（１−カルボキシプロピル）フルオレン、９，９−ビス（２−カルボキシプロピル）フルオレン、９，９−ビス（２−カルボキシ−１−メチルエチル）フルオレン、９，９−ビス（２−カルボキシ−１−メチルプロピル）フルオレン、９，９−ビス（２−カルボキシブチル）フルオレン、９，９−ビス（２−カルボキシ−１−メチルブチル）フルオレン、９，９−ビス（５−カルボキシペンチル）フルオレン等のフルオレン構造を有するジカルボン酸及び／又はその誘導体に由来する単位が挙げられる。

構成単位（Ｃ）は、良好な光学特性が得られることから、脂肪族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体、若しくはフルオレン構造を有するジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体に由来する単位であることが好ましい。また、上記フルオレン構造を有するジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体に由来する単位については、フルオレン構造と共にカルド構造を有していることがより好ましい。脂肪族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体に由来する単位としては、透明性、耐熱性と光学特性との物性バランスの観点から、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルに由来する単位がより好ましい。また、フルオレン構造を有するジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体に由来する単位としては、透明性、耐熱性と光学特性との物性バランスの観点から、９，９−ビス（メトキシカルボニルメチル）フルオレン、９，９−ビス（２−メトキシカルボニルエチル）フルオレン、９，９−ビス（メトキシカルボニルプロピル）フルオレンに由来する単位がより好ましい。なお、これらの光学異性体は、シス体、トランス体、これらの混合物のいずれであってもよく、特に限定されない。

上記した単位は、１種を単独で含まれていてもよく、２種以上を組み合わせて含まれていてもよい。

本実施形態において、ポリエステル樹脂は、単位（Ａ）〜（Ｃ）以外に、ヒドロキシル基及びカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体単位（Ａ１）等の他の単位を含んでもよい。単位（Ａ１）としては、特に限定はされないが、例えば、グリコール酸、乳酸、ヒドロキシ酪酸、２−ヒドロキシイソ酪酸、ヒドロキシ安息香酸、６−ヒドロキシカプロン酸、４−ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸等のオキシ酸及び／又はその誘導体に由来する単位等が挙げられる。

本実施形態において、十分な耐熱性を確保する観点から、ポリエステル樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、本発明の効果を有する限り特に限定されないが、好ましくは９０℃以上であり、より好ましくは９５℃以上であり、さらに好ましくは１００℃以上である。なお、上限値は特に限定されないが、例えば、２４０℃である。上記Ｔｇは、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。また、上記Ｔｇは、例えば、ポリエステル樹脂の原料モノマーの共重合比率を適宜調整すること等により上記範囲に調整することができる。

本実施形態において、十分な透明性を確保する観点から、ポリエステル樹脂の降温時結晶化発熱量は、本発明の効果を有する限り特に限定されないが、好ましくは５Ｊ／ｇ以下であり、より好ましくは１Ｊ／ｇ以下であり、さらに好ましくは０．３Ｊ／ｇ以下である。なお、下限値は特に限定されないが、例えば、０Ｊ／ｇである。上記降温時結晶化発熱量は、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。また、上記降温時結晶化発熱量は、例えば、ポリエステル樹脂の原料モノマーの共重合比率を適宜調整すること等により上記範囲に調整することができる。

本実施形態において、十分な光学特性を確保する観点から、ポリエステル樹脂からなる光学フィルムの光弾性係数の絶対値は、本発明の効果を有する限り特に限定されないが、好ましくは４０×１０^-12Ｐａ^-1以下であり、より好ましくは３５×１０^-12Ｐａ^-1以下であり、さらに好ましくは３０×１０^-12Ｐａ^-1以下である。なお、下限値は特に限定されないが、例えば、０．０１×１０^-12Ｐａ^-1である。上記光弾性係数の絶対値は、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。また、上記光弾性係数の絶対値は、例えば、ポリエステル樹脂の原料モノマーの共重合比率を適宜調整すること等により上記範囲に調整することができる。

さらに本実施形態のポリエステル樹脂を使用する際には、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、流動性改質剤、結晶核剤、強化剤、染料、帯電防止剤あるいは抗菌剤等の公知の添加剤を添加することが好適に実施される。

［ポリエステル樹脂の製造方法］
ポリエステル樹脂は、単位（Ａ）を単独重合することにより、また、単位（Ａ）〜（Ｃ）に対応する各単量体を共重合することにより、得ることができる。以下、単位（Ａ）に対応する単量体の製造方法について説明する。かかる単量体は、例えば、下記一般式（２）で表される。

上記一般式（２）において、Ｒ₁は、水素原子、ＣＨ₃又はＣ₂Ｈ₅であり、Ｒ₂及びＲ₃は、それぞれ独立に水素原子又はＣＨ₃であり、Ｘは、水素原子又は炭素数４以下のヒドロキシル基を含有してもよい炭化水素基である。
式（２）において、Ｒ₁は、好ましくは水素原子又はＣＨ₃である。Ｒ₂及びＲ₃は、好ましくは水素原子である。上記炭化水素基としては、以下に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基、２−ヒドロキシエチル基、４−ヒドロキシブチル基等が挙げられる。

本実施形態における一般式（２）で表される化合物は、ジシクロペンタジエン又はシクロペンタジエンと官能基を有するオレフィンを原料として、例えば、下記式（Ｉ）に示すルートで合成することが可能である。

（式（Ｉ）中、Ｒ₁は水素原子、ＣＨ₃又はＣ₂Ｈ₅であり、Ｒ₂及びＲ₃は、それぞれ独立に水素原子又はＣＨ₃であり、Ｘは水素原子又は炭素数４以下のヒドロキシル基を含有してもよい炭化水素基である。）

〔式（Ｉ）中の一般式（４）で表される炭素数１３〜２１のモノオレフィンの製造〕
前記一般式（４）で表される炭素数１３〜２１のモノオレフィンは、例えば、官能基を有するオレフィンとジシクロペンタジエンのディールスアルダー反応を行うこと等で製造することが可能である。

前記ディールスアルダー反応に用いる官能基を有するオレフィンの具体例としては、以下に限定されないが、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ビニル、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−４−ヒドロキシブチル、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ビニル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アクリル酸−４−ヒドロキシブチル、クロトン酸、クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、３−メチルクロトン酸、３−メチルクロトン酸メチル、３−メチルクロトン酸エチル等が挙げられ、好ましいオレフィンとして、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチルが挙げられ、より好ましいオレフィンとしてメタクリル酸メチル、アクリル酸メチルが挙げられる。

さらに、前記ディールスアルダー反応に用いる官能基を有するオレフィンの例として、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクロレイン、メタクロレインを挙げられる。これらのオレフィンを原料とする場合、例えば、下記式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）に示すルート等を経て一般式（４'）で表されるモノオレフィンを製造することができる。

（式（ＩＩ）中、Ｒ₁は水素原子又はＣＨ₃である）

（式（ＩＩＩ）中、Ｒ₁は水素原子又はＣＨ₃である）

前記ディールスアルダー反応に用いるジシクロペンタジエンは高純度のものが好ましく、ブタジエン、イソプレン等の含有量を低減することが好ましい。ジシクロペンタジエンの純度は、９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましい。また、ジシクロペンタジエンは加熱条件下で解重合しシクロペンタジエン（所謂モノシクロペンタジエン）になる傾向にあるため、ジシクロペンタジエンの代わりにシクロペンタジエンを使用することも可能である。尚、一般式（４）で表される炭素数１３〜２１のモノオレフィンは、実質的に下記一般式（７）で表される炭素数８〜１６のモノオレフィン（１段目ディールスアルダー反応生成物）を経由して生成していると考えられ、生成した一般式（７）のモノオレフィンが新たな親ジエン化合物（Ｄｉｅｎｏｐｈｉｌｅ）として反応系内に存在するシクロペンタジエン（Ｄｉｅｎｅ）とディールスアルダー反応（２段目ディールスアルダー反応）に預かり、一般式（４）で表される炭素数１３〜２１のモノオレフィンが生成するものと考えられる。

以上の観点から、例えば、上記式（Ｉ）に示す反応ルートにおいて、１段目ディールスアルダー反応の反応条件を適宜制御することにより、式（４）で表される炭素数１３〜２１のモノオレフィンあるいは式（７）で表される炭素数８〜１６のモノオレフィンを選択的に得ることができる。

（式（７）中、Ｒ₁は水素原子、ＣＨ₃又はＣ₂Ｈ₅を示し、Ｒ₂及びＲ₃は、それぞれ独立に水素原子又はＣＨ₃を示し、Ｘは水素原子又は炭素数４以下のヒドロキシル基を含有してもよい炭化水素基を示す。）

前記２段階のディールスアルダー反応を効率的に進行させる、すなわち、式（４）で表される炭素数１３〜２１のモノオレフィンを選択的に得る観点からは、反応系内にシクロペンタジエンが存在することが重要であるため、反応温度として１００℃以上が好ましく、１２０℃以上がより好ましく、１３０℃以上がさらに好ましい。一方で、式（７）で表される炭素数８〜１６のモノオレフィンを選択的に得るためには、反応温度として１８０℃未満が好ましい。なお、いずれの場合においても、高沸物質の副生を抑えるためには２５０℃以下の温度で反応を行うことが好ましい。

上記のようにして得られた式（４）で表される炭素数１３〜２１のモノオレフィンを、後述するヒドロホルミル化反応及び還元反応に供することで、式（１）においてｎ＝１である場合に対応する単量体（すなわち、式（２）で表される化合物）を得ることができる。また、上記のようにして得られた式（７）で表される炭素数８〜１６のモノオレフィンを、同様のヒドロホルミル化反応及び還元反応に供することで、式（１）においてｎ＝０である場合に対応する単量体（すなわち、式（８）で表される化合物）を得ることができる。
なお、反応溶媒として炭化水素類やアルコール類、エステル類等を使用することも可能であり、炭素数６以上の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン、プロパノール、ブタノール等が好ましい。また、必要に応じて、ＡｌＣｌ₃等公知の触媒を添加してもよい。

（上記式（８）において、Ｒ₁は、水素原子、ＣＨ₃又はＣ₂Ｈ₅であり、Ｒ₂及びＲ₃は、それぞれ独立に水素原子又はＣＨ₃であり、Ｘは、水素原子又は炭素数４以下のヒドロキシル基を含有してもよい炭化水素基である。）

前記ディールスアルダー反応の反応方式としては、槽型反応器等による回分式、反応条件下の槽型反応器に基質や基質溶液を供給する半回分式、管型反応器に反応条件下で基質類を流通させる連続流通式等、多様な反応方式を採ることが可能である。

前記ディールスアルダー反応で得られた反応生成物は、そのまま次のヒドロホルミル化反応の原料として用いることもできるが、蒸留、抽出、晶析などの方法によって精製した後、次工程に供してもよい。

〔式（Ｉ）中の（３）で表される炭素数１４〜２２の二官能性化合物の製造〕
前記式（Ｉ）中の一般式（３）で表される炭素数１４〜２２の二官能性化合物は、例えば、一般式（４）で表される炭素数１３〜２１モノオレフィンと一酸化炭素及び水素ガスをロジウム化合物、有機リン化合物の存在下でヒドロホルミル化反応させること等で製造することができる。

前記ヒドロホルミル化反応で使用されるロジウム化合物は、有機リン化合物と錯体を形成し、一酸化炭素と水素の存在下でヒドロホルミル化活性を示す化合物であればよく、その前駆体の形態は特に限定されない。例えば、ロジウムアセチルアセトナートジカルボニル（以下、Ｒｈ(ａｃａｃ)(ＣＯ)₂と記す）、Ｒｈ₂Ｏ₃、Ｒｈ₄(ＣＯ)₁₂、Ｒｈ₆(ＣＯ)₁₆、Ｒｈ(ＮＯ₃)₃等の触媒前駆物質を有機リン化合物と共に反応混合物中に導入し、反応容器内で触媒活性を持つロジウム金属ヒドリドカルボニルリン錯体を形成させてもよいし、予めロジウム金属ヒドリドカルボニルリン錯体を調製してそれを反応器内に導入してもよい。好ましい具体例としてはＲｈ(ａｃａｃ)(ＣＯ)₂を溶媒の存在下で有機リン化合物と反応させた後、過剰の有機リン化合物と共に反応器に導入し、触媒活性を有するロジウム−有機リン錯体とする方法が挙げられる。

本発明者らの検討により、一般式（４）で表されるような比較的分子量の大きな内部オレフィンを有する２段階ディールスアルダー反応生成物が極めて少量のロジウム触媒でヒドロホルミル化されることがわかっている。本ヒドロホルミル化反応におけるロジウム化合物の使用量は、ヒドロホルミル化反応の基質である一般式（４）で表される炭素数１３〜２１のモノオレフィン1モルに対して０．１〜６０マイクロモルが好ましく、０．１〜３０マイクロモルがより好ましく、０．２〜２０マイクロモルが更に好ましく、０．５〜１０マイクロモルが特に好ましい。ロジウム化合物の使用量が炭素数１３〜２１のモノオレフィン１モルに対して６０マイクロモルより少ない場合、実用上、ロジウム錯体の回収リサイクル設備を設けなくてもよい水準と評価できる。このように、本実施形態によれば、回収リサイクル設備に関わる経済的負担を減らすことができ、ロジウム触媒にかかるコストを低減することが可能である。

本実施形態におけるヒドロホルミル化反応において、ロジウム化合物とヒドロホルミル化反応の触媒を形成する有機リン化合物としては、特に限定されないが、例えば、一般式Ｐ（−Ｒ_a）（−Ｒ_b）（−Ｒ_c）で表されるホスフィン又はＰ（−ＯＲ_a）（−ＯＲ_b）（−ＯＲ_c）で表されるホスファイトが挙げられる。Ｒ_a、Ｒ_b、Ｒ_cの具体例としては、以下に限定されないが、炭素数１〜４のアルキル基又はアルコキシ基で置換され得るアリール基や、炭素数１〜４のアルキル基又はアルコキシ基で置換され得る脂環式アルキル基等が挙げられ、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスファイトが好適に用いられる。有機リン化合物の使用量はロジウム化合物中のロジウム原子に対して３００倍モル〜１００００倍モルが好ましく、５００倍モル〜１００００倍モルがより好ましく、更に好ましくは７００倍モル〜５０００倍モル、特に好ましくは９００倍モル〜２０００倍モルである。有機リン化合物の使用量がロジウム原子の３００倍モル以上である場合、触媒活物質であるロジウム金属ヒドリドカルボニルリン錯体の安定性が十分に確保できる傾向にあり、結果として良好な反応性が確保される傾向にある。また、有機リン化合物の使用量がロジウム原子の１００００倍モル以下である場合、有機リン化合物に掛かるコストを十分に低減する観点から好ましい。

前記ヒドロホルミル化反応は溶媒を使用せずに行うことも可能であるが、反応に不活性な溶媒を使用することにより、より好適に実施することができる。ヒドロホルミル化反応に使用できる溶媒としては、一般式（４）で表される炭素数１３〜２１のモノオレフィン、ジシクロペンタジエン又はシクロペンタジエン、前記ロジウム化合物、及び前記有機リン化合物を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、以下に限定されないが、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水素類；脂肪族エステル、脂環式エステル、芳香族エステル等のエステル類；脂肪族アルコール、脂環式アルコール等のアルコール類；芳香族ハロゲン化物等の溶媒が挙げられる。これらのうち炭化水素類が好適に用いられ、中でも脂環式炭化水素、芳香族炭化水素がより好適に用いられる。

前記ヒドロホルミル化反応を行う場合の温度としては４０℃〜１６０℃が好ましく、８０℃〜１４０℃がより好ましい。反応温度が４０℃以上の場合には十分な反応速度が得られる傾向にある、原料であるモノオレフィンの残留がより抑えられる傾向にある。また、反応温度が１６０℃以下にすることで原料モノオレフィンや反応生成物由来の副生物の生成を抑え、反応成績の低下を効果的に防止できる傾向にある。

本実施形態におけるヒドロホルミル化反応を行う場合、一酸化炭素（以下「ＣＯ」と記載することもある）及び水素（以下「Ｈ₂」と記載することもある）ガスによる加圧下で反応を行うことが好ましい。その際、ＣＯ及びＨ₂ガスは各々独立に反応系内に導入することも、また、予め調製された混合ガスとして反応系内に導入することも可能である。反応系内に導入されるＣＯ及びＨ₂ガスのモル比（＝ＣＯ／Ｈ₂）は０．２〜５が好ましく、０．５〜２がより好ましく、０．８〜１．２が更に好ましい。ＣＯ及びＨ₂ガスのモル比が上記範囲に調整する場合、ヒドロホルミル化反応の反応活性や目的とするアルデヒドの選択率が良好となる傾向にある。反応系内に導入したＣＯ及びＨ₂ガスは反応の進行に伴い減少していくため、予め調製されたＣＯとＨ₂の混合ガスを利用すると反応制御が簡便な場合がある。

前記ヒドロホルミル化反応の反応圧力としては、１〜１２ＭＰａが好ましく、１．２〜９ＭＰａがより好ましく、１．５〜５ＭＰａが更に好ましい。反応圧力が１ＭＰａ以上とすることで十分な反応速度が得られる傾向にあり、原料であるモノオレフィンの残留を十分に抑制できる傾向にある。また、反応圧力が１２ＭＰａ以下にすることで、耐圧性能に優れる高価な設備を必要としなくなるため経済的に有利である。特に、回分式や半回分式で反応を行う場合、反応終了後にＣＯ及びＨ₂ガスを排出・落圧する必要があり、低圧になるほどＣＯ及びＨ₂ガスの損失が少なくなるため経済的に有利である。

前記ヒドロホルミル化反応を行う場合の反応方式としては、回分式反応や半回分式反応が好適である。半回分式反応はロジウム化合物、有機リン化合物、前記溶媒を反応器に加え、ＣＯ／Ｈ₂ガスによる加圧や加温等を行い、既述の反応条件とした後に原料であるモノオレフィン又はその溶液を反応器に供給することにより行うことが可能である。

前記ヒドロホルミル化反応で得られた反応生成物は、そのまま次の還元反応の原料として用いることも出来るが、例えば蒸留や抽出、晶析等により精製した後、次工程に供してもよい。

〔式（２）で表される炭素数１４〜２２の化合物の製造〕
前記式（Ｉ）中の一般式（２）で表される炭素数１４〜２２の化合物は、一般式（３）で表される炭素数１４〜２２の化合物を、水素化能を有する触媒及び水素の存在下で還元することにより製造することが出来る。

前記還元反応では、水素化能を有する触媒として、銅、クロム、鉄、亜鉛、アルミニウム、ニッケル、コバルト、及びパラジウムからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を含む触媒を用いることが好ましい。より好ましい触媒としては、Ｃｕ−Ｃｒ触媒、Ｃｕ−Ｚｎ触媒、Ｃｕ−Ｚｎ−Ａｌ触媒等の他、Ｒａｎｅｙ−Ｎｉ触媒、Ｒａｎｅｙ−Ｃｏ触媒等が挙げられ、さらに好ましい触媒はＣｕ−Ｃｒ触媒、Ｒａｎｅｙ−Ｃｏ触媒である。

前記水素化触媒の使用量は、基質である一般式（３）で表される炭素数１４〜２２の化合物に対して１〜１００質量％、好ましくは２〜５０質量％、より好ましくは５〜３０質量％である。触媒使用量をこれらの範囲とすることで好適に水素化反応を実施することが出来る。触媒使用量が１質量％以上である場合、十分に反応が進行し、結果として目的物の収率を十分に確保できる傾向にある。また、触媒使用量が１００質量％以下である場合、反応に供した触媒量と反応速度の向上効果とのバランスが良好となる傾向にある。

前記還元反応の反応温度は６０〜２００℃が好ましく、８０℃〜１５０℃がより好ましい。反応温度を２００℃以下にすることで、副反応や分解反応の発生を抑制し高い収率で目的物が得られる傾向にある。また、反応温度を６０℃以上にすることで、適度な時間で反応を完結させることができ、生産性の低下や目的物収率の低下を回避できる傾向にある。

前記還元反応の反応圧力は、水素分圧として０．５〜１０ＭＰａが好ましく、１〜５ＭＰａがより好ましい。水素分圧を１０ＭＰａ以下にすることで、副反応や分解反応の発生を抑制し高い収率で目的物が得られる傾向にある。また、水素分圧を０．５ＭＰａ以上にすることで、適度な時間で反応を完結させることができ、生産性の低下や目的物収率の低下を回避できる傾向にある。尚、還元反応に不活性なガス（例えば窒素又はアルゴン）を共存させることも可能である。

前記還元反応においては溶媒を使用することが可能である。還元反応に用いられる溶媒としては、脂肪族炭化水素類、脂環式炭化水素類、芳香族炭化水素類、アルコール類等が挙げられ、中でも脂環式炭化水素類、芳香族炭化水素類、アルコール類が好ましい。その具体例としてはシクロヘキサン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、1-プロパノール等が挙げられる。

前記還元反応の反応方式としては槽型反応器等による回分式、反応条件下の槽型反応器に基質や基質溶液を供給する半回分式、成型触媒を充填した管型反応器に反応条件下で基質や基質溶液を流通させる連続流通式等、多様な反応方式を採ることが可能である。

前記還元反応で得られた反応生成物は、例えば蒸留や抽出、晶析等により精製することができる。

本実施形態における一般式（２）で表される化合物又は式（８）で表される化合物を単位（Ａ）に対応する単量体とし、単位（Ｂ）〜（Ｃ）に対応する各単量体と共重合させる方法としては、特に限定されず、従来公知のポリエステルの製造方法を適用することができる。例えば、エステル交換法、直接エステル化法等の溶融重合法、又は溶液重合法等を挙げることができる。

本実施形態のポリエステル樹脂の製造時には、通常のポリエステル樹脂の製造時に用いるエステル交換触媒、エステル化触媒、重縮合触媒等を使用することができる。これらの触媒としては特に限定されないが、例えば、亜鉛、鉛、セリウム、カドミウム、マンガン、コバルト、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、ニッケル、マグネシウム、バナジウム、アルミニウム、チタン、アンチモン、ゲルマニウム、スズ等の金属の化合物（例えば、脂肪酸塩、炭酸塩、リン酸塩、水酸化物、塩化物、酸化物、アルコキシド）や金属マグネシウム等が挙げられる。これらは単独で又は二種以上を組み合わせて使用することができる。触媒としては、上記した中でマンガン、コバルト、亜鉛、チタン、カルシウム、アンチモン、ゲルマニウム、スズの化合物が好ましく、マンガン、チタン、アンチモン、ゲルマニウム、スズの化合物がより好ましい。これらの触媒の使用量は、特に限定されないが、ポリエステル樹脂の原料に対して金属成分としての量が、好ましくは１〜１０００ｐｐｍ、より好ましくは３〜７５０ｐｐｍ、更に好ましくは５〜５００ｐｐｍである。

前記重合反応における反応温度は触媒の種類、その使用量などによるが、通常１５０℃から３００℃の範囲で選ばれ、反応速度及び樹脂の着色を考慮すると１８０℃〜２８０℃が好ましい。反応層内の圧力は、大気雰囲気下から最終的には１ｋＰａ以下に調節することが好ましく、最終的には０．５ｋＰａ以下とするのがより好ましい。

前記重合反応を行う際には、所望によりリン化合物を添加してもよい。リン化合物としては、以下に限定されないが、例えば、リン酸、亜リン酸、リン酸エステル、亜リン酸エステル等を挙げることができる。リン酸エステルとしては、以下に限定されないが、例えば、リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸ブチル、リン酸フェニル、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジブチル、リン酸ジフェニル、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリブチル、リン酸トリフェニル等を挙げることができる。亜リン酸エステルとしては、以下に限定されないが、例えば、亜リン酸メチル、亜リン酸エチル、亜リン酸ブチル、亜リン酸フェニル、亜リン酸ジメチル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジブチル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリブチル、亜リン酸トリフェニル等を挙げることができる。これらは単独で又は二種以上を組み合わせて使用することができる。本実施形態の共重合ポリエステル樹脂中のリン原子の濃度は１〜５００ｐｐｍが好ましく、５〜４００ｐｐｍがより好ましく、１０〜２００ｐｐｍがさらに好ましい。

また、本実施形態のポリエステル樹脂の製造時には、エーテル化防止剤、熱安定剤、光安定剤等の各種安定剤、重合調整剤等を使用することができる。

本実施形態のポリエステル樹脂には、本実施形態の目的を損なわない範囲で、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、増量剤、艶消し剤、乾燥調節剤、帯電防止剤、沈降防止剤、界面活性剤、流れ改良剤、乾燥油、ワックス類、フィラー、着色剤、補強剤、表面平滑剤、レベリング剤、硬化反応促進剤、増粘剤等の各種添加剤、成形助剤を添加することができる。

本実施形態のポリエステル樹脂は、本実施形態の所望とする効果を損なわない範囲で、本実施形態におけるポリエステル樹脂以外の樹脂を併用した樹脂組成物とすることができる。そのような樹脂としては、特に限定されないが、例えば、本実施形態におけるポリエステル樹脂以外のポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、シクロオレフィン樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアセタール樹脂及びメチルメタクリレート−スチレン共重合樹脂からなる群より選択される少なくとも１つの樹脂が挙げられる。これらは種々公知のものを用いることができ、１種を単独で又は２種以上を併用して樹脂組成物に加えることができる。

［光学フィルム及びその製造方法］
本発明の光学フィルムの製造方法としては、厚みの均一性に優れ、ゲル、フィッシュアイ、スクラッチ等が生じない方法及び異物の含有量が少ない方法が好ましく、例えば公知の溶液キャスト法、溶融押出法、カレンダー法、熱プレス成形等が挙げられる。フィルムの延伸方法としても公知の方法が使用可能であり、縦一軸、横一軸、多段延伸、同時二軸延伸等を用いても良い。
本発明の光学フィルムは、透明性に優れ、ヘーズ値は３％以下、全光線透過率は８５％以上が好ましい。延伸加工における延伸倍率は、任意の条件が可能であるが、好ましくは１．１〜５倍、より好ましくは１．２〜３倍である。延伸温度は、ガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ−３０℃〜Ｔｇ＋５０℃の範囲が良く、より好ましくはＴｇ−２０℃〜Ｔｇ＋３０℃である。光学フィルムの厚みは、特に限定されないが、通常１〜２５０μｍの範囲であり、好ましくは５〜２００μｍであり、より好ましくは１０〜１５０μｍ、さらに好ましくは１５〜１００μｍの範囲である。

［位相差フィルム］
本発明の光学フィルムを位相差フィルムとして使用する場合、一軸延伸、二軸延伸加工等により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向の屈折率を制御する事で、視野角の改善が可能である。また、複数枚用いて所望の光学特性を得る事も可能である。例えば２分の１波長板と４分の１波長板を作製し、適当な角度で貼り合わせることにより、広帯域４分の１波長フィルムを形成することが可能である。同様に、２分の１波長板同士を適当な角度で貼り合わせることにより、広帯域２分の１波長板を形成することも可能である。

［偏光板］
本発明の光学フィルムは、粘着層、接着層を介して偏光板若しくは偏光フィルムと貼り合わせて、視野角拡大フィルム、円偏光板又は楕円偏光板とすることができる。視野角拡大フィルムは液晶表示装置に使用でき、円偏光板は反射防止フィルムとして、有機又は無機エレクトロルミネセンス表示装置又は素子、タッチパネル、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ、液晶表示装置等に好適に用いることができる。また、本発明の光学フィルムとは異なる他の位相差フィルム、例えば、高分子液晶からなる光学補償フィルムや、ディスコチック液晶を配向硬化させた視野角拡大フィルム等と一緒に液晶表示装置中にて使用しても良い。

[積層体（積層フィルム）]
本発明の光学フィルムは、用途に応じて、該フィルムの少なくとも一方の表面に、ハードコート性、自己修復性、防眩性、反射防止性、低反射性、及び帯電防止性からなる群より選択される１種以上の機能を示す層（「表面層」ともいう）が積層されていてもよい。かかる積層体（積層フィルム）としては、例えば、ハードコートフィルム、反射防止（ＡＲ）フィルム、光拡散シート、プリズムレンズシート、透明導電性フィルム、赤外線吸収フィルム、電磁波吸収フィルム等が挙げられる

［表面層］
前記表面層の厚みは、その機能により異なるが、好ましくは１０ｎｍ〜３０μｍの範囲であり、５０ｎｍ〜２０μｍがより好ましい。これよりも薄いと効果が不十分になり、厚くなると光学性能などに悪影響を及ぼす可能性がある。

ハードコート性とは、表面の硬度を高めることにより、傷がつきにくくする機能である。該機能としては、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に記載の引っかき硬度（鉛筆法）による評価にて、好ましくはＨＢ以上、より好ましくは２Ｈ以上である。また、＃００００のスチールウールを用いて、２００ｇ／ｃｍ²、１０往復の条件で行う耐擦傷性試験（スチールウール耐擦傷性試験）では、好ましくは傷が１０本未満、より好ましくは５本未満である。

自己修復性とは、弾性回復により傷を修復することで、傷がつきにくくする機能である。該機能としては、５００ｇの荷重をかけた真鍮ブラシで表面を擦過した際、好ましくは３分以内で、より好ましくは１分以内で傷が回復するものである。

防眩性とは、表面での光散乱により外光の映り込みを抑制することで、視認性を向上させる機能である。該機能としては、ＪＩＳ Ｋ７１３６（２０００）に記載の評価にて、ヘーズが２〜５０％であることが好ましく、より好ましくは２〜４０％、特に好ましくは２〜３０％である。

反射防止性、低反射性とは、光の干渉効果により表面での反射率を低減することで、視認性を向上させる機能である。該機能としては、反射率分光測定により、好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下である。

帯電防止性とは、表面からの剥離や表面への擦過により発生した摩擦電気を、漏洩させることにより除去する機能である。該機能の目安としては、ＪＩＳ Ｋ６９１１（２００６）に記載の表面抵抗率が、好ましくは１０¹¹Ω／□以下であり、より好ましくは１０⁹Ω／□以下である。帯電防止性の付与は、公知の帯電防止剤を含有した層である他、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子を含有した層からなるものであってもよい。

［その他の用途］
本発明の光学フィルムの利用用途については、その特性を生かせる分野であれば特に制約はなく、位相差フィルムや偏光板のほかに、例えば、視野角拡大フィルム、液晶表示装置、有機又は無機のエレクトロルミネッセンス表示装置又は素子、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ、液晶プロジェクター、光記録再生装置における光ピックアップ光学系、タッチパネル、反射防止フィルム等の光学装置において好適に用いられる。

以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例によりその範囲を限定されるものではない。

〔ポリエステル樹脂の評価法〕
（１）共重合組成
ポリエステル樹脂の共重合組成は、¹Ｈ−ＮＭＲ及び¹³Ｃ−ＮＭＲを測定し、各構成単位由来のピーク面積比から算出した。測定装置は核磁気共鳴装置（ブルカー・バイオスピン（株）製、商品名：ＡＶＡＮＣＥ ＩＩＩ ５００／Ａｓｃｅｎｄ ５００）を使用し、５００ＭＨｚで測定した。溶媒には重クロロホルムを用いた。

（２）ガラス転移温度（Ｔｇ）
ポリエステル樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱量計（（株）島津製作所製、商品名：ＤＳＣ−６０／ＴＡ−６０ＷＳ）を使用して測定した。ポリエステル樹脂５〜１０ｍｇをアルミニウム製非密封容器に入れ、窒素ガス（５０ｍＬ／分）気流中、昇温速度２０℃／分で２８０℃まで昇温後、急冷して測定用試料とした。該試料を同条件で再度昇温し、ＤＳＣ曲線が転移前後における基線の差の１／２だけ変化した際の温度（中間点ガラス転移温度）をガラス転移温度とした。

（３）降温時結晶化発熱量（ΔＨｃ）
ポリエステル樹脂の降温時結晶化発熱量は、上記Ｔｇを測定後２８０℃で１分間保持した後、５℃／分の速度で降温した際に現れる発熱ピークの面積から算出した。

〔光学フィルムの評価法〕
（１）光弾性係数（ε）
厚さ約１００μｍの光学フィルムから１ｃｍ×５ｃｍの試験片を切出し、測定用試料とした。エリプソメーター（日本分光（株）製、商品名：Ｍ２２０）を使用し、波長６３２．８ｎｍにおける荷重変化に対する複屈折測定から算出した。

（２）位相差の波長分散特性
厚さ約１００μｍの光学フィルムから５ｃｍ×５ｃｍの試験片を切出し、樹脂のガラス転移温度より１５℃高い温度下、延伸倍率１．５倍の条件にて一軸延伸を行い、測定用試料とした。エリプソメーター（日本分光（株）製、商品名：Ｍ２２０）を用いて、４００〜８００ｎｍの波長領域で位相差を測定し、波長４５０ｎｍ及び波長５５０ｎｍにおける位相差比、並びに波長５５０ｎｍ及び波長６５０ｎｍにおける位相差比を算出して、位相差の波長分散特性を評価した。

＜モノマー合成例＞
５００ｍＬステンレス製反応器にアクリル酸メチル１７３ｇ（２．０１ｍｏｌ）、ジシクロペンタジエン１６７ｇ（１．２６ｍｏｌ）を仕込み１９５℃で２時間反応を行った。上記反応により、下記式（４ａ）で表されるモノオレフィン９６ｇを含有する反応液を取得し、これを蒸留精製した後、一部を以下の反応に供した。

３００ｍＬステンレス製反応器を使用し、蒸留精製した式（４ａ）で表されるモノオレフィンのヒドロホルミル化反応をＣＯ／Ｈ₂混合ガス（ＣＯ／Ｈ₂モル比＝１）を用いて行った。反応器に式（４ａ）で表されるモノオレフィン７０ｇ、トルエン１４０ｇ、亜リン酸トリフェニル０．５０ｇ、別途調製したＲｈ（ａｃａｃ）（ＣＯ）₂のトルエン溶液５５０μＬ（濃度０．００３ｍｏｌ／Ｌ）を加えた。窒素及びＣＯ／Ｈ₂混合ガスによる置換を各々３回行った後、ＣＯ／Ｈ₂混合ガスで系内を加圧し、１００℃、２ＭＰａにて５時間反応を行った。反応終了後、反応液のガスクロマトグラフィー分析を行い、式（３ａ）で表される化合物７６ｇ、式（４ａ）で表されるモノオレフィン１．４ｇを含む反応液（転化率９８％、選択率９７％）であることを確認すると共に、これを蒸留精製した後、一部を以下の反応に供した。

３００ｍＬステンレス製反応器に蒸留精製した式（３ａ）で表される化合物５４ｇ、スポンジコバルト触媒（日興リカ株式会社製：Ｒ−４００）７ｍＬ、トルエン１０９ｇを添加し、水素ガスで系内を加圧し、３ＭＰａ、１００℃で９時間反応を行った。反応後、得られたスラリーから、孔径０．２μｍのメンブレンフィルターで触媒をろ過した。その後、エバポレーターを使用して溶媒を留去し、ガスクロマトグラフィー及びＧＣ−ＭＳで分析し、分子量２５０の式（２ａ）で表される主生成物５１ｇを含有することが確認された（主生成物収率９３％）。これをさらに蒸留精製し、主生成物（Ｄ−ＮＨＥｓ）を取得した。

＜生成物の同定＞
モノマー合成例で取得した成分のＮＭＲ分析を行った。ＮＭＲスペクトルを図１〜３に示す。以下に示すＧＣ−ＭＳ分析、及び図１〜３のＮＭＲ分析の結果から、モノマー合成例で得られた主生成物は、前記式（２ａ）で表される化合物であることが確認された。

＜分析方法＞
１）ガスクロマトグラフィー測定条件
・分析装置 ：株式会社島津製作所製 キャピラリガスクロマトグラフＧＣ−２０１０ Ｐｌｕｓ
・分析カラム ：ジーエルサイエンス株式会社製、ＩｎｅｒｔＣａｐ１（３０ｍ、０．３２ｍｍＩ．Ｄ．、膜厚０．２５μｍ
・オーブン温度：６０℃（０．５分間）−１５℃／分−２８０℃（４分間）
・検出器 ：ＦＩＤ、温度２８０℃

２）ＧＣ−ＭＳ測定条件
・分析装置 ：株式会社島津製作所製、ＧＣＭＳ−ＱＰ２０１０ Ｐｌｕｓ
・イオン化電圧：７０ｅＶ
・分析カラム
：Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ製、ＤＢ−１（３０ｍ、０．３２ｍｍＩ．Ｄ．、膜厚１．００μｍ）
・オーブン温度：６０℃（０．５分間）−１５℃／分−２８０℃（４分間）

３）ＮＭＲ測定条件
・装置 ：日本電子株式会社製，ＪＮＭ−ＥＣＡ５００（５００ＭＨｚ）
・測定モード ：^１Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ、ＣＯＳＹ−ＮＭＲ
・溶媒 ：ＣＤＣｌ₃（重クロロホルム）
・内部標準物質：テトラメチルシラン

〔ポリエステル樹脂の合成〕
＜実施例１〜８＞
撹拌機、加熱装置、窒素導入管、及びコールドトラップを備えた小型ポリエステル製造装置に、表１に記載の量の原料モノマー及びチタン（ＩＶ）テトラブトキシドを仕込み、窒素雰囲気下、２４０〜２５０℃まで昇温し、撹拌した。該温度にて５時間以上保持した後、昇温と減圧を徐々に行い、最終的に２６０〜２７０℃、０．１ｋＰａ以下で保持した。適度な溶融粘度となった時点で装置内に窒素を吹き込んで常圧とし、生成したポリエステル樹脂を回収した。
ポリエステル樹脂の評価結果を表１に示す。

＜比較例１＞
撹拌機、加熱装置、窒素導入管、分縮器、全縮器、及びコールドトラップを備えたポリエステル製造装置に、表１に記載の量の原料モノマー及びオクチル酸スズ（ＩＩ）を仕込み、窒素雰囲気下、２４０〜２５０℃まで昇温し、撹拌した。該温度にて５時間以上保持した後、昇温と減圧を徐々に行い、最終的に２６０〜２７０℃、０．１ｋＰａ以下で保持した。適度な溶融粘度となった時点で装置内に窒素を吹き込んで常圧とし、生成したポリエステル樹脂を回収した。
ポリエステル樹脂の評価結果を表１に示す。

＜比較例２及び３＞
比較例２及び比較例３は、下記の市販品を購入し、評価を行った。
・比較例２：Ｅａｓｔａｒ（登録商標） ５０１１（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製）

・比較例３：ユーピロン（登録商標） Ｓ−２０００（三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製）

〔光学フィルムの作製〕
＜実施例１〜８＞
溶液キャスト法にて厚さ約１００μｍの光学フィルムを作製した。具体的には、樹脂をジクロロメタンに５ｗｔ％濃度となるように溶解させ、水平を確認した金型に樹脂溶液を流し込み、徐々にジクロロメタンを揮発させて、金型上にフィルムを作製した。得られた光学フィルムは、金型から剥離した後、乾燥機にてガラス転移温度より２０℃低い温度で十分に乾燥を実施した。
光学フィルムの評価結果を表１に示す。

＜比較例１〜３＞
熱プレス成形にて厚さ１５０〜２５０μｍの光学フィルムを作製した。具体的には、金型に樹脂を３ｇ乗せ、樹脂のガラス転移温度より１２０〜１４０℃高い温度に設定したプレス成形機にて、５０〜１００ｋｇｆ／ｃｍ^２の圧力下、２分間プレスを行った。所定時間経過後、冷却水を通水した冷却用プレス成形機に速やかに金型を移動し、１００ｋｇｆ／ｃｍ^２の圧力下、２分間プレスを行った。所定時間経過後、冷却用プレス成形機から金型を取り出し、光学フィルムを得た。
なお、得られた光学フィルムは、乾燥機にてガラス転移温度より２０℃低い温度で１０時間アニール処理を実施した。

製膜時における白化現象の進行や、金型からの離型不良により、溶液キャスト法での光学フィルム作製が不可だったものについては、熱プレス成形にてフィルムを作製した。

なお、表中の略記の意味は下記の通りである。
Ｄ−ＮＨＥｓ：デカヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレン−２−メトキシカルボニル−６（７）−メタノール
ＤＭＣＤ：１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル（シス体／トランス体＝７／３）
ＦＤＰＭ：９，９−ビス（２−メトキシカルボニルエチル）フルオレン（「フルオレンジプロピオン酸ジメチル」ともいう）
ＤＭＴ：テレフタル酸ジメチル
ＣＨＤＭ：１，４−シクロヘキサンジメタノール（シス体／トランス体＝３／７）
ＥＧ：エチレングリコール
ＢＰＥＦ：９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（「ビスフェノキシエタノールフルオレン」ともいう）
ＢＰＡ−ＰＣ：ビスフェノールＡからなるポリカーボネート樹脂

本出願は、２０１６年９月２８日出願の日本特許出願（特願２０１６−１９０３００号）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

本発明の光学フィルムは、透明性、耐熱性及び光学特性に優れており、とりわけこれらの物性が要求される用途に好適に用いることができる。

本発明の光学フィルムの利用用途については、その特性を生かせる分野であれば特に制約はなく、位相差フィルムや偏光板のほかに、例えば、視野角拡大フィルム、液晶表示装置、有機又は無機のエレクトロルミネッセンス表示装置又は素子、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ、液晶プロジェクター、光記録再生装置における光ピックアップ光学系、タッチパネル、反射防止フィルム等の光学装置において好適に用いられる。
すなわち、本発明の工業的意義は大きい。

Claims (5)

1. 下記一般式（１）で表される単位（Ａ）を含むポリエステル樹脂からなる光学フィルム。
   

   

   （前記一般式（１）において、Ｒ₁は水素原子、ＣＨ₃又はＣ₂Ｈ₅であり、Ｒ₂及びＲ₃は、それぞれ独立に、水素原子又はＣＨ₃であり、ｎは１である。）。
2. 前記一般式（１）におけるＲ₁、Ｒ₂、及びＲ₃が水素原子である、請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記ポリエステル樹脂が下記（１）及び（２）を満たし、前記光学フィルムが下記（３）を満たす、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
   （１）前記ポリエステル樹脂のガラス転移温度が９０℃以上である。
   （２）前記ポリエステル樹脂の降温時結晶化発熱量が５Ｊ／ｇ以下である。
   （３）前記光学フィルムの光弾性係数の絶対値が４０×１０^-12Ｐａ^-1以下である。
4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルムを含んでなる、位相差フィルム。
5. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルムを含んでなる、円偏光板又は楕円偏光板。

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