JP6959606B2 - 化粧シート及び化粧シートの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、建築内装材、建具の表面材、家電製品の表面材などに用いられる化粧シート及び化粧シートの製造方法に関する。化粧シートは、例えば木質ボード類、無機系ボード類、金属板などの基板に貼り合わせて化粧板として用いられる。

近年、特許文献１、２に示すように、ポリ塩化ビニル製の化粧シートに替わる化粧シートとして、オレフィン系樹脂を使用した化粧シートが多く提案されている。これらの化粧シートは、塩化ビニル樹脂を使用しないことで、焼却時における有毒ガス等の発生が抑制される。
しかし、従来のオレフィン系樹脂製の化粧シートは、一般的なポリプロピレンシートを使用しているために表面の耐傷性が悪く、従来のポリ塩化ビニル製の化粧シートに比べて耐傷性に劣っているものであった。

これに対し、本発明者等は、これらの欠点を解消するべく、特許文献３に記載のような表面の耐傷性に優れた化粧シートを提案した。しかし、このような化粧シートを用いた化粧板の用途が益々拡大しているとともに、消費者の品質に対する意識も益々高度化していることから、化粧シートに対し耐傷性以外の品質の向上、特に、Ｖ溝曲げ加工等などの耐後加工性の向上が求められている。
ここで、後加工性を向上させた化粧シートとして、特許文献４〜６に記載の化粧シートが提案されている。これらの化粧シートは、ランダム重合タイプのポリプロピレン樹脂に軟質成分を添加した透明樹脂層をもつ化粧シートである。しかしながら、この化粧シートは、後加工性の向上に伴いシートが柔軟になっていることから、耐傷性が悪化するという問題点がある。

特開平２−１２８８４３号公報 特開平６−１９８８３１号公報 特許第３７７２６３４号公報 特許第３１８５５９０号公報 特許第３５６７８９９号公報 特許第３１７５４８２号公報

本発明は、以上のような点に着目してなされたもので、高い耐傷性と透明性を維持しつつ、Ｖ溝曲げ加工性（後加工性）の優れた透明樹脂層を有する化粧シート及び化粧シートの製造方法を提供することを目的とする。

この課題を解決するべく本発明者等は、鋭意研究を行い、高結晶性ポリプロピレン樹脂を主成分とする透明樹脂層に対して、引張り弾性率が２５〜５００ＭＰａの低結晶性ポリプロピレン樹脂を０．１〜２０質量部添加することにより、高い耐傷性と透明性を保ちつつ、後加工性の優れた透明樹脂層となるとの知見を得た。
課題を解決するために、本発明の一態様である化粧シートは、高結晶性ポリプロピレン樹脂を主成分とする透明樹脂層を少なくとも具備してなる化粧シートであって、
上記透明樹脂層は、高結晶性ポリプロピレン樹脂１００質量部に対し、引張り弾性率が２５ＭＰａ以上５００ＭＰａ以下の低結晶性ポリプロピレン樹脂が０．１質量部以上２０質量部以下で添加されている。
また、本発明の一態様である化粧シートの製造方法は、上記透明樹脂層を、上記高結晶性ポリプロピレン樹脂に、ナノサイズの造核剤を添加して形成する。

本発明の態様によれば、透明樹脂層の主成分を高結晶性ポリプロピレン樹脂とすることで、化粧シートの表面強度（耐傷性）が高くなる。
また、低結晶性ポリプロピレン樹脂は高結晶性ポリプロピレン樹脂と高い相溶性を示すため、引張り弾性率が上記の範囲である低結晶性ポリプロピレン樹脂を添加することで、透明樹脂層に対して高い透明性を付与しつつ後加工性を向上させることができる。さらに、低結晶性ポリプロピレン樹脂の添加量を上記の範囲とすることによって、耐傷性と後加工性に優れた化粧シートを得ることができる。
また、上記の高結晶性ポリプロピレン樹脂にナノサイズの造核剤を添加して、上記の透明樹脂層を形成することで、高結晶性ポリプロピレン樹脂の結晶化度が向上し、極めて高い透明性を有する化粧シートを得ることができる。また、化粧シートの耐傷性と後加工性とをさらに向上させることができる。

本発明に基づく実施形態に係る化粧シート及び化粧板の構成を示す図である。

次に、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
ここで、図面は模式的なものであり、厚さと平面寸法との関係、各層の厚さの比率等は現実のものとは異なる。また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、構成部品の材質、形状、構造等が下記のものに特定するものでない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。

本実施形態の化粧シート１は、基材層６の表面側に、複数の樹脂層が積層し且つその複数の樹脂層のうちの表面側の樹脂層として透明樹脂層３が配置される。具体的には、本実施形態の化粧シート１は、図１に示すように、原反層を構成する基材層６の一方の面（表面）の上に、絵柄模様層５、透明樹脂層３、及び表面保護層２がこの順に積層している。符号４は接着剤層を示す。
また、基材層６の他方の面（裏面）に、隠蔽層７、プライマー層８がこの順に形成されている。なお、隠蔽層７は、基材層６と絵柄模様層５との間に形成しても良いし、省略しても構わない。

また上記構成の化粧シート１の層厚は、例えば、印刷作業性やコストなどを考慮して、表面保護層２は３〜２０μｍ、透明樹脂層３は２０〜２００μｍ、接着剤層４は１〜２０μｍ、絵柄模様層５は３〜２０μｍ、基材層６は２０〜１５０μｍ、隠蔽層７は２〜２０μｍ、プライマー層８は０．１〜２０μｍの範囲内とし、化粧シート１の総厚は４９〜４５０μｍの範囲内とする。
なお、図１においては、本実施形態の化粧シート１を基材Ｂに貼り付けて化粧板を構成する場合を例示している。

＜基材層６＞
基材層６は、紙、樹脂シート、箔などから構成される。紙としては、薄葉紙、チタン紙、樹脂含浸紙、有機もしくは無機系の不織布、合成紙等が例示出来る。樹脂シートの樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、アクリル等の合成樹脂、あるいはこれら合成樹脂の発泡体、エチレン−プロピレン共重合ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合ゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合ゴム、ポリウレタン等のゴムが例示出来る。箔としては、アルミニウム、鉄、金、銀等の金属箔等が例示出来る。

＜絵柄模様層５＞
絵柄模様層５は、既知の印刷手法を用いて設けることが出来る。基材層６が巻取りの状態で用意できる場合には、ロールツーロールの印刷装置で絵柄模様層５の形成のための印刷を行うことができる。印刷手法は特に限定するものではないが、生産性や絵柄の品位を考慮すれば、例えばグラビア印刷法を用いることができる。
絵柄模様は、床材や壁材などの使用箇所に応じた意匠性を考慮して任意の絵柄模様を採用すればよく、木質系の絵柄であれば各種木目が好んで用いられることが多く、木目以外にもコルクを絵柄模様とすることもできる。例えば大理石などの石材の床をイメージしたものであれば大理石の石目などの絵柄模様として用いられることもある。また天然材料の絵柄模様以外にそれらをモチーフとした人工的絵柄模様や幾何学模様などの人工的絵柄模様も用いることができる。

印刷インキについては、特に限定するものではないが、印刷方式に対応したインキを適宜選ぶことができる。とくに樹脂製の基材層６に対する密着性や印刷適性また化粧材としての耐候性等を考慮して選択することが好ましい。
印刷インキには、適宜、通常のインキに含まれている顔料、染料等の着色剤、体質顔料、溶剤、バインダーを添加する。顔料としては、縮合アゾ、不溶性アゾ、キナクリドン、イソインドリン、アンスラキノン、イミダゾロン、コバルト、フタロシアニン、カーボン、酸化チタン、酸化鉄、雲母等のパール顔料等が挙げられる。なお、バインダーは、水性、溶剤系、エマルジョンタイプのいずれでもよく、硬化方法についても１液タイプ、主剤と硬化剤とからなる２液タイプ、もしくは、紫外線や電子線などによって硬化するタイプなど特に限定するものではない。中でも最も一般的な方法は、２液タイプのもので、ウレタン系の主剤と、イソシアネートからなる硬化剤を用いる方法である。この他にも、各種金属の蒸着やスパッタリングで意匠を施すようにしてもよい。

＜接着剤層４＞
接着剤層４は、基材層６および絵柄模様層５と透明樹脂層３の接着を強固にする目的で設けられる。この接着が強固であることによって、化粧シート１に対し、曲面や直角面に追随する曲げ加工性を付与することができる。接着剤層４は透明であることが好ましい。
接着剤層４は、その接着方法としては任意の材料選定が可能で、熱ラミネート、押出ラミネート、ドライラミネート等による積層方法があり、接着剤はアクリル系、ポリエステル系、ポリウレタン系、エポキシ系などから適宜選択できる。通常はその凝集力から２液硬化タイプのものとして、特にイソシアネートを用いたポリオールとの反応で得られるウレタン系の材料を用いることが望ましい。なお、接着剤層４は、透明樹脂層３と絵柄模様層５との接着強度が十分に得られる場合には、省略してもよい。

＜透明樹脂層３＞
透明樹脂層３は、例えば透明樹脂シートとして製造して積層する。
透明樹脂層３は、高結晶性ポリプロピレン樹脂を主成分とする。主成分とは、例えば、透明樹脂層３を構成する樹脂のうちの８０〜１００質量部、好ましくは９０〜１００質量部であることを指す。
本実施形態の透明樹脂層３には、高結晶性ポリプロピレン樹脂１００質量部に対し、引張り弾性率が２５ＭＰａ以上５００ＭＰａ以下の低結晶性ポリプロピレン樹脂が０．１〜２０質量部添加されている。引張り弾性率は、より好ましくは５０〜１２０ＭＰａである。

［高結晶性ポリプロピレン樹脂］
透明樹脂層３の主成分となる高結晶性ポリプロピレン樹脂は、例えば、ペンタッド分率の異なるアイソタクチックポリプロピレンとシンジオタクチックポリプロピレン、ランダムポリプロピレン、ブロックポリプロピレンおよびこれらの混合物から適宜選択して設計することができる。本実施形態においては、当該高結晶性ポリプロピレン樹脂が、ペンタッド分率（ｍｍｍｍ分率）が９５％以上、より好ましくは９６％以上のプロピレンの単独重合体、すなわちホモポリマーである高結晶性ホモポリプロピレン樹脂とされることが好ましい。

なお、上記ペンタッド分率（ｍｍｍｍ分率）とは、質量数１３の炭素Ｃ（核種）を用いた^１３Ｃ−ＮＭＲ測定法（核磁気共鳴測定法）により、透明樹脂層３を構成する樹脂組成物を所定の共鳴周波数にて共鳴させて得られる数値（電磁波吸収率）から算出されるものである。そして、このペンタッド分率（ｍｍｍｍ分率）は、樹脂組成物中の原子配置、電子構造、分子の微細構造を規定する。ポリプロピレン樹脂のペンタッド分率とは、^１３Ｃ−ＮＭＲにより求めたプロピレン単位が５個並んだ割合のことであって、結晶化度あるいは立体規則性の尺度として用いられる。そして、このようなペンタッド分率は、主に表面の耐傷性を決定付ける重要な要因の一つであり、基本的にはペンタッド分率が高いほどシートの結晶化度が高くなるため、耐傷性が向上する。
そして、透明樹脂層３の主成分を高結晶性ポリプロピレン樹脂とすることで、化粧シートの表面強度（耐傷性）が高くなる。

［低結晶性ポリプロピレン樹脂］
透明樹脂層３に添加する低結晶性ポリプロピレン樹脂としては、下記に示す特徴のうちの少なくとも１つを満たすポリプロピレン樹脂であることが好ましい。
・メソペンタッド分率が２０〜６０％
（より好ましくは、４０〜５５％）
・２３０℃におけるＭＦＲが３０〜１００
（より好ましくは、３０〜６０）
・質量平均分子量（Ｍｗ）が１０，０００〜５００，０００
（より好ましくは、５０，０００〜２００，０００）
・分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が４未満
・示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用いて、窒素雰囲気下で、−１０℃で５分間保持した後１０℃／分で昇温させることによって得られた融解吸熱カーブの最も高温側に観測されるピークのピークトップとして定義される融点が０〜１２０℃
（より好ましくは、４０〜１００℃）

低結晶性ポリプロピレン樹脂は、低結晶性、軟質、低融点、溶剤への高い溶解性という性能の傾向があり、このような低結晶性ポリプロピレン樹脂を採用することで、高結晶性ポリプロピレン樹脂に添加した場合に、高い相溶性、結晶化速度の遅化という性能を有しつつ、高結晶性ポリプロピレン樹脂の結晶化度に影響がないか、結晶化度への影響が大幅に低く抑えられる。

［造核剤］
透明樹脂層３に、ナノサイズの造核剤が添加されていることが好ましい。特に、ナノサイズの造核剤が、単層膜の外膜を具備するベシクルに内包された、造核剤ベシクルの形で添加されていることが好ましい。
高結晶性ポリプロピレン樹脂に対して造核剤ベシクルを添加することにより、高結晶性ポリプロピレン樹脂の結晶化度を向上させて、極めて高い透明性を有する透明樹脂シートを得ることができる。即ち、ナノサイズの造核剤を添加することで、耐傷性をさらに向上させることが出来る。
造核剤ベシクルは、Ｂａｎｇｈａｍ法、エクストルージョン法、水和法、界面活性剤透析法、逆相蒸発法、凍結融解法、超臨界逆相蒸発法などによって調製することができる。その中でも特に超臨界逆相蒸発法がより好ましい。

超臨界逆相蒸発法とは、超臨界状態または臨界点以上の温度条件下もしくは臨界点以上の圧力条件下の二酸化炭素を用いて対象物質を内包したナノサイズのベシクル（カプセル）を作製する方法である。超臨界状態の二酸化炭素とは、臨界温度（３０．９８℃）および臨界圧力（７．３７７３±０．００３０ＭＰａ）以上の超臨界状態にある二酸化炭素を意味し、臨界点以上の温度条件下もしくは臨界点以上の圧力条件下の二酸化炭素とは、臨界温度だけ、あるいは臨界圧力だけが臨界条件を超えた条件下の二酸化炭素を意味する。

具体的には、超臨界二酸化炭素とリン脂質と内包物質としての造核剤の混合流体中に水相を注入し、攪拌することによって超臨界二酸化炭素と水相のエマルジョンが生成する。その後、減圧すると二酸化炭素が膨張・蒸発して転相が生じ、リン脂質が造核剤ナノ粒子の表面を単層膜で覆ったナノベシクルが生成する。この超臨界逆相蒸発法によれば、単層膜のベシクルを生成することができるので、極めて小さいサイズのベシクルを得ることができる。

ナノサイズの造核剤を内包した造核剤ベシクルの平均粒径は、可視光波長（４００〜７５０ｎｍ）の１／２以下、より具体的には２００ｎｍ〜３７５ｎｍ以下とされていることが好ましい。造核剤の粒径を上記の範囲内のように極小サイズとすることにより、光の散乱を小さくして高い透明性を有する透明樹脂層３を実現することができる。

造核剤としては、樹脂が結晶化する際に結晶化の起点となる物質であれば特に限定するものではない。造核剤としては、例えば、リン酸エステル金属塩、安息香酸金属塩、ピメリン酸金属塩、ロジン金属塩、ベンジリデンソルビトール、キナクリドン、シアニンブルーおよびタルク等が挙げられる。特に、ナノ化処理の効果を最大限に得るべく、非溶融型で良好な透明性が期待できるリン酸エステル金属塩、安息香酸金属塩、ピメリン酸金属塩、ロジン金属塩を用いることが好ましいが、ナノ化処理によって材料自体の透明化が可能な場合には、有色のキナクリドン、シアニンブルー、タルクなども用いることができる。また、非溶融型の造核剤に対して、溶融型のベンジリデンソルビトールを適宜混合して用いるようにしてもよい。

上述のように、本実施形態の化粧シートの特徴（発明特定事項）の一つは、「透明樹脂層は、ベシクルに内包された造核剤を含有する」ことにある。そして、造核剤をベシクルに内包させた状態で樹脂組成物に添加することで、樹脂材料中、すなわち透明樹脂層中への造核剤の分散性を飛躍的に向上するという効果が奏するが、その特徴を、完成された化粧シートの状態における物の構造や特性にて直接特定することは、状況により困難な場合も想定され、非実際的であるといえる。その理由は次の通りである。ベシクルの状態で添加された造核剤は、高い分散性を有して分散された状態になっていて、作製した化粧シートの状態においても、造核剤は透明樹脂層に高分散されている。しかしながら、透明樹脂層を構成する樹脂組成物に造核剤をベシクルの状態で添加して透明樹脂層を作製した後の、化粧シートの作製工程においては、通常、積層体への圧縮処理や硬化処理などの種々の処理が施されるが、このような処理によって、造核剤を内包するベシクルの外膜が破砕や化学反応して、造核剤が外膜で包含（包皮）されていない可能性も高く、その外膜が破砕や化学反応している状態が化粧シートの処理工程によってばらつくためである。そして、この造核剤が外膜で包含されていないなどの状況は、物性自体を数値範囲で特定することが困難であり、また破砕された外膜の構成材料が、ベシクルの外膜なのか造核剤とは別に添加された材料なのか判定が困難な場合も想定される。このように、本願発明は、従来に比して造核剤が高分散で配合されている点で相違があるものの、造核剤を内包するベシクルの状態で添加されたためなのかどうかが、化粧シートの状態において、その構造や特性を測定に基づき解析した数値範囲で特定することが非実際的である場合も想定される。

＜表面保護層２＞
化粧シート１の最表面には、表面の保護や艶の調整としての役割を果たす表面保護層２が設けられている。
表面保護層２の材料としては、ポリウレタン系、アクリルシリコン系、フッ素系、エポキシ系、ビニル系、ポリエステル系、メラミン系、アミノアルキッド系、尿素系などから適宜選択して用いることができる。材料の形態は、水性、エマルジョン、溶剤系など特に限定されるものではない。硬化法についても一液タイプ、二液タイプ、紫外線硬化法など適宜選択して行うことができる。

特に、表面保護層２の主成分としては、イソシアネートを用いたウレタン系のものが作業性、価格、樹脂自体の凝集力などの観点から好適である。イソシアネートには、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、リジンジイソシアネート（ＬＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、メチルヘキサンジイソシアネート（ＨＴＤＩ）、メチルシクロヘキサノンジイソシアネート（ＨＸＤＩ）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤＩ）などから適宜選択することができるが、耐候性を考慮すると、直鎖状の分子構造を有するヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）が好適である。この他にも、表面硬度の向上を図る場合には、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する樹脂を用いることが好ましい。なお、これらの樹脂は相互に組み合わせて用いることが可能であり、例えば、熱硬化型と光硬化型とのハイブリッド型とすることにより、表面硬度の向上、硬化収縮の抑制および密着性の向上を図ることができる。

＜隠蔽層７＞
隠蔽層７は、隠蔽性を保たせることを目的として、例えば、絵柄模様層５と同様に印刷によって形成される。インキに含ませる顔料としては不透明な顔料、酸化チタン、酸化鉄等を使用することが好ましい。また隠蔽性を上げるために金、銀、銅、アルミ等の金属を添加することも可能である。一般的にはフレーク状のアルミを添加することが多い。なお、隠蔽層７は、基材層６が不透明で隠蔽性を有している場合には、省略することができる。

＜プライマー層８＞
プライマー層８は、基材Ｂとの密着性を向上させるために形成する。
プライマー層８は、基材Ｂが木質系基材Ｂの場合には、例えば、エステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール系樹脂、ニトロセルロース系樹脂等を挙げることができ、これらの樹脂は単独ないし混合して接着組成物とし、ロールコート法やグラビア印刷法等の適宜の塗布手段を用いて形成することができる。この場合、プライマー層８を構成する樹脂としては、ウレタン−アクリレート系樹脂が好ましい、すなわち、アクリル系樹脂とウレタン系樹脂との共重合体とイソシアネートとからなる樹脂で形成するのが特に好ましい。

＜本実施形態の効果＞
（１）高結晶性ポリプロピレン樹脂を主成分とする透明樹脂層３に、引張り弾性率を本実施形態の範囲とする低結晶性ポリプロピレン樹脂を本実施形態の範囲内で添加する。
低結晶性ポリプロピレン樹脂は、高結晶性ポリプロピレン樹脂と高い相溶性を示すため、透明樹脂層３に対して高い透明性を付与することができる。
さらに、低結晶性ポリプロピレン樹脂の添加量を本実施形態の範囲とすることによって、耐傷性と後加工性に優れた化粧シートを得ることができる。

（２）低結晶性ポリプロピレン樹脂のメソペンタッド分率が２０〜６０％である。
メソペンタッド分率を２０〜６０％とすることで、溶融押出時に固化が遅くならず、製膜後の透明樹脂層３がべたつくのを抑制することができる。
（３）低結晶性ポリプロピレン樹脂の２３０℃におけるＭＦＲが３０〜１００である。
低結晶性ポリプロピレン樹脂のＭＦＲを該範囲とすることにより、低結晶性ポリプロピレン樹脂の流動性が適度となり、溶融押出機にて問題なく製膜することができる。

（４）低結晶性ポリプロピレン樹脂の質量平均分子量（Ｍｗ）が１０，０００〜５００，０００である。
低結晶性ポリプロピレン樹脂の質量平均分子量を該範囲とすることにより、低結晶性ポリプロピレン樹脂の粘度が適度となり、溶融押出時に問題なく製膜することができる。
（５）低結晶性ポリプロピレン樹脂の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が４未満である。
分子量分布を該範囲とすることにより、透明樹脂層３の製膜性の低下が抑制される。

（６）低結晶性ポリプロピレン樹脂が、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用いて、窒素雰囲気下−１０℃で５分間保持した後１０℃／分で昇温させることによって得られた融解吸熱カーブの最も高温側に観測されるピークのピークトップとして定義される融点が０〜１２０℃である。
このような低結晶性ポリプロピレン樹脂を使用することで、透明樹脂層３に含まれる添加剤のブリードを抑制することができる。

（７）透明樹脂層３に、ナノ化処理された造核剤が添加されている。
造核剤にナノ化処理を施すことによって、透明樹脂層３に対する造核剤の分散性を著しく向上させることができる。これによって、透明性と後加工性を維持したまま、耐傷性を向上させることができる。

（８）透明樹脂層３を、高結晶性ポリプロピレン樹脂に、ナノ化処理された造核剤を添加して形成する。
造核剤にナノ化処理を施すことによって、透明樹脂層３に対する造核剤の分散性を著しく向上させることができる。これによって、透明性と後加工性を維持したまま、耐傷性を向上させることができる。

（９）造核剤は、単層膜の外膜を具備するベシクルに造核剤が内包されている造核剤ベシクルである。
造核剤をベシクルに内包させることによって、透明樹脂層３に対する造核剤の分散性をさらに向上させることができる。これによって、透明性と後加工性を維持したまま、耐傷性をさらに向上させることができる。

（１０）造核剤は、超臨界逆相蒸発法によってベシクルに内包されている。
超臨界逆相蒸発法を用いることによって、造核剤をベシクルに確実に内包させることができる。

次に、本発明の実施例について説明する。
＜実施例１〜２２＞
各実施例として、透明樹脂層３の主成分である高結晶性ポリプロピレン樹脂１００質量部に対して、表１に示すように、低結晶性ポリプロピレン樹脂を添加した透明樹脂層３を有する化粧シート１とした。
各化粧シートの基本的な製造方法については以下のとおりである。
高結晶性ポリプロピレン樹脂としてペンタッド分率が９７．８％、ＭＦＲ（メルトフローレート）が１５ｇ／１０ｍｉｎ（２３０℃）、分子量分布ＭＷＤ（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．３の高結晶性ホモポリプロピレン樹脂を使用した。

その高結晶性ポリプロピレン樹脂に対し、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（イルガノックス１０１０：ＢＡＳＦ社製）を５００ＰＰＭと、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（チヌビン３２８：ＢＡＳＦ社製）を２０００ＰＰＭと、ヒンダードアミン系光安定化剤（キマソーブ９４４：ＢＡＳＦ社製）を２０００ＰＰＭと、低結晶性ポリプロピレン樹脂とを添加した樹脂を、溶融押出機を用いて押し出し、透明樹脂層３として使用する、厚さ８０μｍの高結晶性ポリプロピレン樹脂製の透明樹脂シートを製膜した。

得られた透明樹脂シートの両面にコロナ処理を施し、透明樹脂シート表面の濡れ張力を４０ｄｙｎ／ｃｍ以上とした。他方、隠蔽性のある７０μｍのポリエチレンシート（基材層６）の一方の面に、２液型ウレタンインキ（Ｖ１８０；東洋インキ製造（株）製）に、そのインキのバインダー樹脂分に対してヒンダードアミン系光安定化剤（キマソーブ９４４；ＢＡＳＦ社製）を０．５質量％添加したインキを用いてグラビア印刷方式にて絵柄印刷を施して絵柄模様層５を設けた。

また、基材層６の他方の面にプライマー層８を設けた。しかる後、基材層６の一方の面側に、接着剤層４としてのドライラミネート用接着剤（タケラックＡ５４０；三井化学（株）製；塗布量２ｇ／ｍ^２）を介して透明樹脂シート３をドライラミネート法にて貼り合わせた。そして、透明樹脂シート３の表面にエンボス模様３ａを施した後、２液硬化型ウレタントップコート（Ｗ１８４；ＤＩＣグラフィックス社製）を塗布厚６ｇ／ｍ^２にて塗布して表面保護層２を形成し、総厚１７０μｍの図２に示す本発明の化粧シートを得た。
各実施例において、添加する低結晶性ポリプロピレン樹脂は、表１に記載の通りである。
また、実施例１７と実施例２１については、ナノ化した造核剤を添加した。ナノ化した造核剤は、後述の通り、超臨界逆相蒸発法によりベシクル化された造核剤ベシクルを使用した。
すなわち、次のようにして、超臨界逆相蒸発法を用いて透明樹脂層３を形成する樹脂組成物の調製を行った。

まず、超臨界逆相蒸発法を用いた造核剤のベシクル化処理方法は、メタノール１００質量部、造核剤としてのリン酸エステル金属塩系造核剤（アデカスタブＮＡ−１１、ＡＤＥＫＡ社製）８２質量部、ベシクルの外膜を構成する物質としてのホスファチジルコリン５質量部を６０℃に保たれた高圧ステンレス容器に入れて密閉し、圧力が２０ＭＰａとなるように二酸化炭素を注入して超臨界状態とした後、激しく攪拌混合しながらイオン交換水を１００質量部注入する。容器内の温度および圧力を超臨界状態に保持した状態で１５分間攪拌後、二酸化炭素を排出して大気圧に戻すことによって造核剤を内包したリン脂質からなる外膜を具備する造核剤リポソームを得る。実際に透明樹脂層３としての透明樹脂シートを形成する際には、ペンタッド分率が９７．８％、ＭＦＲ（メルトフローレート）が１５ｇ／１０ｍｉｎ（２３０℃）、分子量分布ＭＷＤ（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．３の高結晶性ホモポリプロピレン樹脂に、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（イルガノックス１０１０：ＢＡＳＦ社製）を５００ＰＰＭと、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（チヌビン３２８：ＢＡＳＦ社製）を２０００ＰＰＭと、ヒンダードアミン系光安定化剤（キマソーブ９４４：ＢＡＳＦ社製）を２０００ＰＰＭと、上記造核剤リポソームを１０００ＰＰＭと、を添加した樹脂を、溶融押出機を用いて押し出し、透明樹脂層３として使用する厚さ８０μｍの高結晶性ポリプロピレン樹脂製の透明樹脂シートを製膜して得る。
ここで、外膜がリン脂質のような生体脂質から構成されるベシクルをリポソームと称する。
＜比較例１〜７＞
低結晶性ポリプロピレン樹脂の有無及びその構成、造核剤の有無を、表２のように設定して、比較例の化粧シートを製造した。その他は実施例と同じようにして製造した。

＜性能評価＞
各実施例の化粧シート、及び各比較例の化粧シートについて、製膜性、結晶性の低下（結晶化度）、透明性、耐傷性、後加工性にて評価を行った。
その結果を、表３，表４に示す。

［製膜性］
溶融押出時の透明樹脂シートの状態を目視にて観察した。
評価は下記の２段階にて行った。
○：良好（ネックインやフィルムの破断が確認できなかった）
×：劣る（ネックインやフィルムの破断が認められた）
［結晶性の低下］
結晶性について、ＩＲにて結晶化度を算出したのち、低結晶性ポリプロピレン樹脂を添加していない場合（比較例１）と数値を比較した。
結晶化度は、フーリエ型赤外分光測定において得られた吸光スペクトルから下記の数式１を用いて算出した。ここで、数式１において、Ｉ９９７は波数９９７ｃｍ^−１のピーク強度値、Ｉ９３８は波数９３８ｃｍ^−１のピーク強度値、Ｉ９７３は波数９７３ｃｍ^−１のピーク強度値をあらわす。

評価は下記の２段階にて行った。
○：良好（比較例１の結晶化度と同等以上）
×：劣る（比較例１の結晶化度より劣る）
［透明性］
製造した透明樹脂層３を目視で観察し、下層の絵柄模様の視認性によって評価した。
評価は下記の３段階にて行った。
○：良好（透明である）
△：意匠性は問題ないが、やや白濁している（実用上問題ないレベル）
×：劣る（白濁している）
［耐傷性］
鉛筆硬度試験にて評価した。
試験方法はＪＩＳ−Ｋ５６００に準拠し、評価方法としては、透明樹脂層３の表面に凹みが付かない最高硬度がＨＢ以上の場合「◎」、２Ｂ以上の場合「○」、３Ｂ以下の場合「×」とした。

［後加工性］
Ｖ溝曲げ加工適性試験に評価した。
以下に、Ｖ溝曲げ加工適性試験の詳しい方法について述べる。
まず、基材Ｂを構成する中質繊維板（ＭＤＦ）の一方の面に対して、上記の方法で作製した各化粧シート１をウレタン系の接着剤を用いて貼り付け、基材Ｂの他方の面に対して、反対側の化粧シート１にキズが付かないようにＶ型の溝を基材Ｂと化粧シート１とを貼り合わせている境界まで入れる。次に、化粧シート１の面が山折りとなるように基材Ｂを当該Ｖ型の溝に沿って９０度まで曲げ、化粧シート１の表面の折れ曲がった部分に白化や亀裂などが生じていないかを光学顕微鏡を用いて観察し、耐後加工性の優劣の評価を行う。
評価は下記の３段階にて行った。
○：白化・亀裂などが認められなかった
△：軽微な白化・亀裂が認められるが、実用上問題ないレベルである
×：化粧シートとして容認できない白化・亀裂が認められた

表３，表４から分かるように、実施例においては、低結晶性ポリプロピレン樹脂を添加することにより、柔軟性が付与され、さらに、耐傷性も良好である。これは、結晶化度の低下が見られていないことから、低結晶性ポリプロピレン樹脂が、高結晶性ポリプロピレン樹脂の非晶部に選択的に入り込んでいるものと考察される。これにより、耐傷性と後加工性のバランスが保たれているものと思われる。

一方、比較例１の化粧シートでは、Ｖ溝加工時に白化することが分かる。
また、比較例２の化粧シートでは、溶融押出時にネックインが発生し、製膜不良となっている。更に軟らかすぎて耐傷性が劣化した。
また、比較例３の化粧シートでは、溶融押出時にネックインが発生し、製膜不良となっている。更に軟らかすぎて耐傷性が劣化した。
また、比較例４の化粧シートでは、Ｖ溝加工時に白化した。
また、比較例５の化粧シートでは、Ｖ溝加工時に白化した。
また、比較例６の化粧シートでは、低結晶性ポリプロピレン樹脂の添加量が少なすぎて、後加工性が良化しなかった、すなわち、白化した。
また、比較例７の化粧シートでは、低結晶性ポリプロピレン樹脂の添加量が多すぎるため、溶融押出時にネックインが発生するとともに、樹脂が軟化しすぎてしまうことによって耐傷性が劣化した。

１ 化粧シート
２ 表面保護層
３ 透明樹脂層
３ａ エンボス模様
４ 接着剤層
５ 絵柄模様層
６ 基材層
７ 隠蔽層
８ プライマー層
Ｂ 基材

Claims (17)

1. 高結晶性ポリプロピレン樹脂を主成分とする透明樹脂層を有する化粧シートであって、
   上記透明樹脂層は、高結晶性ポリプロピレン樹脂１００質量部に対し、引張り弾性率が２５ＭＰａ以上５００ＭＰａ以下の低結晶性ポリプロピレン樹脂が０．１質量部以上２０質量部以下で添加されており、
   上記低結晶性ポリプロピレン樹脂は、メソペンタッド分率が５５％以上６０％以下であることを特徴とする化粧シート。
2. 上記低結晶性ポリプロピレン樹脂は、２３０℃におけるＭＦＲ(melt flow rate)が３０以上１００以下であることを特徴とする請求項１に記載の化粧シート。
3. 上記低結晶性ポリプロピレン樹脂は、質量平均分子量（Ｍｗ）が１０，０００以上５００，０００以下であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の化粧シート。
4. 上記低結晶性ポリプロピレン樹脂の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が４未満であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の化粧シート。
5. 上記低結晶性ポリプロピレン樹脂は、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用いて、窒素雰囲気下、−１０℃で５分間保持した後、１０℃／分で昇温させることによって得られた融解吸熱カーブの最も高温側に観測されるピークのピークトップとして定義される融点が、０℃以上１２０℃以下であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の化粧シート。
6. 上記透明樹脂層に、ナノサイズの造核剤が添加されていることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の化粧シート。
7. 上記透明樹脂層を、上記高結晶性ポリプロピレン樹脂に、ナノサイズの造核剤を添加して形成することを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の化粧シート。
8. 上記造核剤は、単層膜の外膜を具備するベシクルに造核剤が内包されている造核剤ベシクルであることを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の化粧シート。
9. 超臨界逆相蒸発法によって、上記造核剤をベシクルに内包させたことを特徴とする請求項８に記載の化粧シート。
10. 上記造核剤は、ピメリン酸金属塩、またはベンジリデンソルビトールであることを特徴とする請求項６〜請求項９のいずれか１項に記載の化粧シート。
11. 上記造核剤は、非溶融型の造核剤に対して、溶融型の造核剤が混合された造核剤であることを特徴とする請求項６〜請求項９のいずれか１項に記載の化粧シート。
12. 上記溶融型の造核剤は、ベンジリデンソルビトールであることを特徴とする請求項１１に記載の化粧シート。
13. 上記造核剤は、リン脂質が造核剤の表面を単層膜で覆ったナノベシクルであることを特徴とする請求項１０〜請求項１２のいずれか１項に記載の化粧シート。
14. 上記透明樹脂層は、高結晶性ポリプロピレン樹脂１００質量部に対し、上記低結晶性ポリプロピレン樹脂が０．１質量部以上５質量部以下で添加されていることを特徴とする請求項１〜請求項１３のいずれか１項に記載の化粧シート。
15. 請求項１〜請求項１４のいずれか１項に記載の化粧シートの製造方法であって、
    上記透明樹脂層を、上記高結晶性ポリプロピレン樹脂に、ナノサイズの造核剤を添加して形成することを特徴とする化粧シートの製造方法。
16. 上記造核剤は、単層膜の外膜を具備するベシクルに造核剤が内包されている造核剤ベシクルであることを特徴とする請求項１５に記載の化粧シートの製造方法。
17. 超臨界逆相蒸発法によって、上記造核剤をベシクルに内包させることを特徴とする請求項１６に記載の化粧シートの製造方法。

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