JP6924136B2 - 空間的原子層堆積におけるガス分離制御 - Google Patents
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Claims (11)
- チャンバ容積を画定する壁を有する処理チャンバであって、サセプタアセンブリ及びガス供給アセンブリを含み、前記ガス供給アセンブリと前記サセプタアセンブリとの間に少なくとも1つの第1の処理領域、及び、前記ガス供給アセンブリと前記サセプタアセンブリとの間に少なくとも1つの第2の処理領域を有し、前記少なくとも1つの第1の処理領域と前記少なくとも1つの第2の処理領域の各々が、ガスカーテンによって分離されている、処理チャンバ、
前記チャンバ容積および真空源と流体連通するチャンバ排気システムであって、前記処理チャンバの下流且つ当該真空源の上流にチャンバ排気スロットルバルブを含む、チャンバ排気システム、
前記少なくとも1つの第1の処理領域および真空源と流体連通する第1の排気システムであって、第1のスロットルバルブ、及び当該第1のスロットルバルブの下流且つ当該真空源の上流にある第1の圧力計を備えた、第1の排気システム、
前記少なくとも1つの第2の処理領域および真空源と流体連通する第2の排気システムであって、第2のスロットルバルブ、及び当該第2のスロットルバルブの下流且つ当該真空源の上流にある第2の圧力計を備えた、第2の排気システム、並びに
前記第1の排気システム及び前記第2の排気システムと通信し、前記第1の圧力計及び前記第2の圧力計からの信号に応答して、前記第1のスロットルバルブ及び前記第2のスロットルバルブを制御して、前記第1の処理領域および前記第2の処理領域の各々に供給されるガス量を前記第1の処理領域および前記第2の処理領域の各々から除去されるガス量に等しくする、コントローラを備え、
前記ガス供給アセンブリは、
前記少なくとも1つの第1の処理領域に向けてガスを注入する第1のガスポートと、
前記少なくとも1つの第2の処理領域に向けてガスを注入する第2のガスポートと、
を備え、
前記第1の排気システムは、前記第1のガスポートを囲む第1の真空ポートを備え、
前記第2の排気システムは、前記第2のガスポートを囲む第2の真空ポートを備える、
空間的原子層堆積システム。 - 前記第1の圧力計と前記第2の圧力計が、絶対圧力ゲージである、請求項1に記載の空間的原子層堆積システム。
- 前記コントローラが、前記第1の圧力計に対する前記第2の圧力計によって測定された圧力における差異を決定する、請求項2に記載の空間的原子層堆積システム。
- 前記第1の圧力計が絶対圧力ゲージであり、前記第2の圧力計が差圧計である、請求項1に記載の空間的原子層堆積システム。
- 前記コントローラが、前記第1の処理領域と前記第2の処理領域におけるガスの分離を維持する、請求項1に記載の空間的原子層堆積システム。
- 前記処理チャンバが、前記ガス供給アセンブリと前記サセプタアセンブリとの間に少なくとも1つの第3の処理領域、及び、前記ガス供給アセンブリと前記サセプタアセンブリとの間に少なくとも1つの第4の処理領域を更に含み、前記少なくとも1つの第1の処理領域、前記少なくとも1つの第2の処理領域、前記少なくとも1つの第3の処理領域、及び前記少なくとも1つの第4の処理領域の各々が、ガスカーテンによって分離され、前記処理チャンバが、
前記少なくとも1つの第3の処理領域と流体連通する第3の排気システムであって、第3のスロットルバルブ及び第3の圧力計を備えた、第3の排気システム、並びに
前記少なくとも1つの第4の処理領域と流体連通する第4の排気システムであって、第4のスロットルバルブ及び第4の圧力計を備えた、第4の排気システムを更に備え、
前記コントローラが、前記第1の排気システム、前記第2の排気システム、前記第3の排気システム、及び前記第4の排気システムと通信し、前記第1の圧力計、前記第2の圧力計、前記第3の圧力計、及び前記第4の圧力計からの信号に応答して、前記第1のスロットルバルブ、前記第2のスロットルバルブ、前記第3のスロットルバルブ、前記第4のスロットルバルブを制御する、請求項1に記載の空間的原子層堆積システム。 - 前記第1の圧力計が前記第1のスロットルバルブの下流にあり、前記第2の圧力計が前記第2のスロットルバルブの下流にあり、前記第3の圧力計が前記第3のスロットルバルブの下流にあり、且つ、前記第4の圧力計が前記第4のスロットルバルブの下流にある、請求項6に記載の空間的原子層堆積システム。
- 前記第1の圧力計、前記第2の圧力計、前記第3の圧力計、及び前記第4の圧力計の各々が、絶対圧力ゲージである、請求項6に記載の空間的原子層堆積システム。
- 前記コントローラが、前記第1の圧力計に対する、前記第2の圧力計、前記第3の圧力計、又は前記第4の圧力計のうちの1以上によって測定された圧力における差異を決定する、請求項8に記載の空間的原子層堆積システム。
- 前記第1の圧力計が、前記第1のスロットルバルブの下流に配置された絶対圧力ゲージであり、前記第2の圧力計が、前記第2のスロットルバルブの下流に配置された絶対圧力ゲージであり、前記第3の圧力計が、前記第1の圧力計に対する圧力差を測定する差圧計であり、前記第4の圧力計が、前記第2の圧力計に対する圧力差を測定する差圧計である、請求項6に記載の空間的原子層堆積システム。
- チャンバ容積を画定する壁を有する処理チャンバであって、サセプタアセンブリ及びガス供給アセンブリを含み、少なくとも1つの第1の処理領域、少なくとも1つの第2の処理領域、少なくとも1つの第3の処理領域、及び少なくとも1つの第4の処理領域を有し、前記処理領域の各々が、前記ガス供給アセンブリと前記サセプタアセンブリとの間に配置され、前記処理領域の各々が、ガスカーテンによって隣接する処理領域から分離されている、処理チャンバ、
前記チャンバ容積および真空源と流体連通するチャンバ排気システムであって、前記処理チャンバの下流且つ当該真空源の上流にチャンバ排気スロットルバルブを含む、チャンバ排気システム、
前記少なくとも1つの第1の処理領域および真空源と流体連通する第1の排気システムであって、当該真空源の上流に第1のスロットルバルブ及び第1の圧力計を備えた、第1の排気システム、
前記少なくとも1つの第2の処理領域および真空源と流体連通する第2の排気システムであって、当該真空源の上流に第2のスロットルバルブ及び第2の圧力計を備えた、第2の排気システム、
前記少なくとも1つの第3の処理領域および真空源と流体連通する第3の排気システムであって、当該真空源の上流に第3のスロットルバルブ及び第3の圧力計を備えた、第3の排気システム、
前記少なくとも1つの第4の処理領域および真空源と流体連通する第4の排気システムであって、当該真空源の上流に第4のスロットルバルブ及び第4の圧力計を備えた、第4の排気システム、並びに
前記第1の排気システム、前記第2の排気システム、前記第3の排気システム、及び前記第4の排気システムと通信し、前記第1の圧力計からの信号に応答して、前記第1のスロットルバルブを制御し、前記第2の圧力計からの信号に応答して、前記第2のスロットルバルブを制御し、前記第3の圧力計からの信号に応答して、前記第3のスロットルバルブを制御し、前記第4の圧力計からの信号に応答して、前記第4のスロットルバルブを制御して、前記第1〜第4の処理領域の各々に供給されるガス量を前記第1〜第4の処理領域の各々から除去されるガス量に等しくする、コントローラを備え、
前記第1の圧力計が、前記第1のスロットルバルブの下流に配置された絶対圧力ゲージであり、前記第2の圧力計が、前記第2のスロットルバルブの下流に配置された絶対圧力ゲージであり、前記第3の圧力計が、前記第3のスロットルバルブの下流に配置された、前記第1の圧力計に対する圧力差を測定する差圧計であり、前記第4の圧力計が、前記第4のスロットルバルブの下流に配置された、前記第2の圧力計に対する圧力差を測定する差圧計であり、
前記ガス供給アセンブリは、
前記少なくとも1つの第1の処理領域に向けてガスを注入する第1のガスポートと、
前記少なくとも1つの第2の処理領域に向けてガスを注入する第2のガスポートと、
前記少なくとも1つの第3の処理領域に向けてガスを注入する第3のガスポートと、
前記少なくとも1つの第4の処理領域に向けてガスを注入する第4のガスポートと、
を備え、
前記第1の排気システムは、前記第1のガスポートを囲む第1の真空ポートを備え、
前記第2の排気システムは、前記第2のガスポートを囲む第2の真空ポートを備え、
前記第3の排気システムは、前記第3のガスポートを囲む第3の真空ポートを備え、
前記第4の排気システムは、前記第4のガスポートを囲む第4の真空ポートを備える、
空間的原子層堆積システム。
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