JP5462671B2 - 気相成長方法 - Google Patents
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(特徴1)気相成長室への混合原料ガスの導入量が気相成長室からの排出量に等しく、気相成長室への希釈ガスの導入量が気相成長室からの排出量に等しい。
(特徴2)気相成長室へ導入する混合原料ガスはトリクロロシランガスと水素ガスを含んでおり、気相成長室へ導入する希釈ガスは水素ガスである。希釈ガスは、混合原料ガスの原料として使用される水素ガスと同じガス槽から供給される。そのため、希釈ガスのためだけのガス槽を用意する必要がない。
(特徴3)第1段階及び第2段階の継続時間は、夫々2秒である。
(特徴4)気相成長室と攪拌室の間に、気相成長室からの混合原料ガスの排出量を調整するためのバルブが設けられている。
(特徴5)部分調整手段には、混合原料ガスの導入量が基板の中心部よりも端部に多くなるように調整可能な様々な手段が含まれる。例えば、部分調整手段の一例には、気相成長室に設けられたシャワープレートの開口率が異なるものが含まれる。このシャワープレートでは、基板の中心部に対向する範囲の開口率が小さく、基板の端部に対向する範囲の開口率が大きく形成されている。
SiHCl3+H2→Si+3HCl
Si+3HCl→SiHCl3+H2
2a,4a,6a,8a:調整装置
3:攪拌羽
14:連通路
15:光照射装置
34:載置台
38:気相成長室
44:基板
100,200,300:気相成長装置
Claims (6)
- 基板の表面に半導体膜を成長させる気相成長方法であって、
複数の原料ガスを攪拌して混合原料ガスを生成する工程と、
前記混合原料ガスを気相成長室に対して導入する導入量を調整し、前記混合原料ガスを前記気相成長室に導入することにより前記半導体膜が成長する第1段階と、希釈ガスを前記気相成長室に導入することにより前記半導体膜を成長させない第2段階を繰返す工程と、を有しており、
前記第1段階で前記気相成長室に導入する混合原料ガスの導入量と前記第2段階で前記気相成長室に導入する希釈ガスの導入量が異なっている気相成長方法。 - 基板の表面に半導体膜を成長させる気相成長方法であって、
複数の原料ガスを攪拌して混合原料ガスを生成する工程と、
前記混合原料ガスを気相成長室に対して導入する導入量を調整し、前記混合原料ガスを前記気相成長室に導入することにより前記半導体膜が成長する第1段階と、希釈ガスを前記気相成長室に導入することにより前記半導体膜を成長させない第2段階を繰返す工程と、を有しており、
前記混合原料ガスの粘性が前記希釈ガスの粘性よりも高く、
前記第1段階で前記気相成長室に導入する混合原料ガスの導入量が、前記第2段階で前記気相成長室に導入する希釈ガスの導入量よりも少ない気相成長方法。 - 前記複数の原料ガスが、前記半導体膜にドーパントを提供するドーパントガスを含む請求項1又は2に記載の気相成長方法。
- 前記第1段階の継続期間が50秒以下である請求項1〜3のいずれか一項に記載の気相成長方法。
- 前記第2段階では、前記基板の表面に向けて光を照射する請求項1〜4のいずれか一項に記載の気相成長方法。
- 前記第1段階では、前記基板に供給する前記混合原料ガスを、前記基板の中心部よりも端部に多く供給する請求項1〜5のいずれか一項に記載の気相成長方法。
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