JP6919836B2 - 転写シート及び該転写シートを使用したメラミン化粧板の製造方法 - Google Patents
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[1]第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を有するとともに、前記第1面側の表面として凹凸面を有する基材層と、前記凹凸面上に設けられた転写層とを備える転写シートであって、
前記凹凸面を構成する凹凸の中心線平均粗さRaが1.8μm以上3.0μm以下であり、
前記凹凸面を構成する凹凸の最大高さRmaxが11.0μm以上21.0μm以下であり、
前記凹凸面を構成する凹凸の十点平均粗さRzが10.0μm以上20.0μm以下であり、
前記凹凸面を構成する凹凸の平均間隔Smが30.0μm以上65.0μm以下である、前記転写シート。
[2]前記基材層が、基材シートと、前記基材シートの前記第1面側に設けられた樹脂層とを備え、
前記凹凸面が、前記樹脂層の表面により形成されている、[1]に記載の転写シート。
[3]前記樹脂層が微粒子を含む、[2]に記載の転写シート。
[4]前記微粒子の平均粒径が8μm以上15μm以下である、[3]に記載の転写シート。
[5]前記樹脂層に含まれる前記微粒子の量が、前記樹脂層の総質量を基準として40質量%以上60質量%以下である、[3]又は[4]に記載の転写シート。
[6]前記樹脂層に含まれる前記微粒子がアクリルビーズである、[3]〜[5]のいずれかに記載の転写シート。
[7]前記樹脂層が電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含む、[2]〜[6]のいずれかに記載の転写シート。
[8]前記基材層が、前記基材シートと前記樹脂層との間に位置する層間プライマー層をさらに備える、[2]〜[7]のいずれかに記載の転写シート。
[9]前記層間プライマー層が微粒子を含む、[8]に記載の転写シート。
[10]前記層間プライマー層に含まれる前記微粒子がシリカ微粒子である、[9]に記載の転写シート。
[11]前記転写層が電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含む、[1]〜[10]のいずれかに記載の転写シート。
[12]前記転写層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物で形成されている、[11]に記載の転写シート。
[13]前記電離放射線硬化性樹脂組成物が多官能性モノマーを含む、[12]に記載の転写シート。
[14]前記電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる前記多官能性モノマーの量が、前記前記電離放射線硬化性樹脂組成物の固形分総質量を基準として50質量%以上100質量%以下である、[13]に記載の転写シート。
[15]前記転写層の厚みが30μm以上50μm以下である、[11]〜[14]のいずれかに記載の転写シート。
[16]前記転写シートが、前記転写層の前記第1面側に設けられた表面プライマー層をさらに備え、
前記第1面が、前記表面プライマー層の表面により形成されている、[1]〜[15]のいずれかに記載の転写シート。
[17][1]〜[16]のいずれかに記載の転写シートを使用して、凹凸面を有するメラミン化粧板を製造する方法であって、
(a)コア層と、前記コア層上に設けられた未硬化メラミン樹脂層と、前記転写シートの前記第1面が前記未硬化メラミン樹脂層と接するように、前記未硬化メラミン樹脂層上に設けられた前記転写シートとを備える積層体を準備する工程、
(b)前記積層体を加圧及び加熱し、前記未硬化メラミン樹脂層を硬化させる工程、並びに、
(c)前記積層体から前記基材層を剥離する工程
を含む、前記方法。
以下、図1に基づいて、本発明の一実施形態に係る転写シート1の構成について説明する。図1は、転写シート1の構成を模式的に示す断面図である。
図1に示すように、基材層11は、第1面S1側の表面として凹凸面110を有する。凹凸面110を構成する凹凸の中心線平均粗さRa、最大高さRmax、十点平均粗さRz及び平均間隔Smは、以下の範囲である。これにより、転写シート1を使用して製造されるメラミン化粧板の凹凸面が、低い艶を有するとともに、優れた易掃性及び耐指紋性を有するものとなる。
・先端径:R2μm
・スキッド:R40mm×R2mm
・材質:サファイア
・針圧:0.7μN
・触針の送り速さ:0.5mm/s
2)測定条件
・カットオフ値(基準長さ):0.08mm
・測定長さ(カットオフ値×100):8mm
・縦倍率:1000倍
・横倍率:10倍
基材シート111は、その上に設けられた層を支持し得る限り特に限定されない。基材シート111は可撓性を有することが好ましい。基材シート111が可撓性を有すると、基材層11の剥離が容易となる。基材シート111は、例えば、プラスチックシートである。プラスチックシートを構成する合成樹脂としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、オレフィン系熱可塑性エラストマー等のポリオレフィン樹脂;ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂等のビニル系樹脂;ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエステル系熱可塑性エラストマー等のポリエステル樹脂;ポリ(メタ)アクリル酸メチル樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エチル樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル樹脂等のアクリル樹脂;ナイロン6又はナイロン66等で代表されるポリアミド樹脂;三酢酸セルロース樹脂、セロファン等のセルロース系樹脂;ポリスチレン樹脂;ポリカーボネート樹脂;ポリアリレート樹脂;ポリイミド樹脂等が挙げられる。これらのうち、耐熱性及び寸法安定性に優れている点から、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、特に2軸延伸したポリエステル樹脂が好ましい。
樹脂層112は、基材シート111の第1面S1側に設けられている。樹脂層112は、平面視において基材シート111の全体と重なるように設けられていてもよいし、平面視において基材シート111の一部と重なるように設けられていてもよい。樹脂層112は、連続した1つの層で構成されていてもよいし、不連続な複数の層で構成されていてもよい。なお、本発明において、「平面視」とは、対象となる部材又は部分を、転写シート1の第1面S1の法線方向(厚み方向)から観察することを意味する。例えば、図1において、同図に向かって上方から下方を見降ろすことを意味する。また、「平面視」は、対象となる部材又は部分がその他の部材又は部分に隠れて実際には観察できない場合であっても観察できるものとして取り扱う仮想的な概念である。すなわち、「平面視」は、対象となる部材又は部分を、転写シート1の厚さ方向に対して垂直な仮想平面に投影することに相当する。
層間プライマー層113は、基材シート111の第1面S1側の表面の一部又は全体に設けられている。なお、層間プライマー層113は、必要に応じて設けられる層であり、本発明には、層間プライマー層113が省略された実施形態も包含される。また、本発明には、基材シート111と層間プライマー層113との間に1又は2以上の層が設けられた実施形態も包含される。このような層は、当該層に求められる機能に応じて適宜選択することができる。
図1に示すように、転写層12は、基材層11の凹凸面110上に設けられている。
図1に示すように、表面プライマー層13は、転写層12の第1面S1側に設けられている。表面プライマー層13は、転写層12と、転写層12を転写すべき対象物との密着性を向上させることを目的として、必要に応じて転写シート1の最外層として設けられ、転写シート1の第1面S1を形成する。このようなプライマー層は、転写層12を転写すべき対象物が有してもよい。したがって、表面プライマー層13は省略可能である。表面プライマー層13が省略された実施形態において、転写シート1の第1面S1は、例えば、転写層12により形成される。なお、本発明には、転写層12と表面プライマー層13との間に1又は2以上の層が設けられた実施形態も包含される。このような層は、当該層に求められる機能に応じて適宜選択することができる。
電離放射線硬化性樹脂組成物は、1種又は2種以上の電離放射線硬化性樹脂を含む。電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線の照射により架橋重合反応を生じ、3次元の高分子構造に変化する樹脂である。電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線(UV)又は電子線(EB)が使用されるが、その他、X線、γ線等の電磁波、α線、イオン線等の荷電粒子線も含むものである。電離放射線硬化性樹脂の中でも、電子線硬化性樹脂は、無溶剤化が可能であり、安定な硬化特性が得られる点で好ましい。
以下、方法Aを使用した転写シート1の製造について説明する。
転写シート1は、凹凸面を有するメラミン化粧板を製造するために使用される。以下、図2A〜図2Cに基づいて、転写シート1を使用して、凹凸面を有するメラミン化粧板を製造する方法の一実施形態について説明する。図2A〜図2Cは、転写シート1を使用してメラミン化粧板3を製造する方法を説明するための図である。
含浸率(%)=〔(含浸後の含浸紙の質量)−(含浸前の原紙の質量)〕/(含浸前の原紙の質量×100
マルテンス硬度=F/(26.43×h2)
により、マルテンス硬度を求める。押し込みは、温度23℃及び相対湿度38%の環境下、凹凸面30に対して、図3Bに示すように、まず0〜40mNまでの負荷を10秒間で加え、次に40mNの負荷で5秒間保持し、最後に40〜0mNまでの除荷を10秒間で行う。凹凸面30の10箇所のマルテンス硬度を測定し、その平均値を凹凸面30のマルテンス硬度とする。
弾性変形率(%)=Welast/Wtotal×100
により、弾性変形率を求める。押し込みは、温度23℃及び相対湿度38%の環境下、凹凸面30に対して、図3Bに示すように、まず0〜40mNまでの負荷を10秒間で加え、次に40mNの負荷で5秒間保持し、最後に40〜0mNまでの除荷を10秒間で行う。凹凸面30の10箇所の弾性変形率を測定し、その平均値を凹凸面30の弾性変形率とする。
(1)転写シートの製造
厚み50μmの易接着性ポリエステル(PET)フィルム(東洋紡社製A4100)の易接着性面上に、グラビア印刷法を使用して、シリカ微粒子(平均粒径:3μm)及び2液硬化型ウレタン樹脂(昭和インク工業社製EBF)を含有する層間プライマー層形成用組成物を塗布し、層間プライマー層(厚み1μm)を形成した。層間プライマー層形成用組成物に含まれるシリカ微粒子及び2液硬化型ウレタン樹脂の量は、それぞれ、層間プライマー層形成用組成物に含まれる固形分の総質量を基準として、28質量%及び70質量%である。
水溶性メチロールメラミン(日本カーバイド社製ニカレジンS−260)100質量部を水60質量部で希釈してメラミン−ホルムアルデヒド水溶液を調製した後、坪量80g/m2の化粧板用原紙に対して含浸量80g/m2(乾燥時)となるように含浸させて乾燥し、メラミン樹脂含浸紙を製造した。この際、白色化粧板を製造する際には、チタン原紙として、KJ特殊紙社製KW−801Pを、黒色化粧板を製造する際には、チタン原紙として、KJ特殊紙社製PM−802PKを使用した。
転写シート及びメラミン化粧板の特性の評価方法は、以下の通りである。転写シートの特性(基材層の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ等)及びメラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表1に示す。
基材層の凹凸面及びメラミン化粧板(黒色チタン紙を使用して製造したメラミン化粧板)の凹凸面に関し、凹凸面を構成する凹凸の中心線平均粗さRa(JIS B0601−1982)、凹凸面を構成する凹凸の最大高さRmax(JIS B0601−1982)、凹凸面を構成する凹凸の十点平均粗さRz(JIS B0601−1982)、及び、凹凸面を構成する凹凸の平均間隔Sm(JIS B0601−1994)を、表面粗さ測定器(小坂研究所製三次元表面粗さ測定器SE−30K)及び表面粗さ解析装置(小坂研究所製サーフコーダーAY−31)を使用して、下記の条件に従って測定した。
1)表面粗さ検出部の触針
・先端径:R2μm
・スキッド:R40mm×R2mm
・材質:サファイア
・針圧:0.7μN
・触針の送り速さ:0.5mm/s
2)測定条件
・カットオフ値(基準長さ):0.08mm
・測定長さ(カットオフ値×100):8mm
・縦倍率:1000倍
・横倍率:10倍
基材層の凹凸面及びメラミン化粧板(黒色チタン紙を使用して製造したメラミン化粧板)の凹凸面に関し、凹凸面の60°光沢度を、JIS Z8741:1997に準拠して測定した。具体的には、グロス計として、村上色彩技術研究所製GMX−202を使用して、入射角=60°の条件で、凹凸面の60°光沢度を測定した。
メラミン化粧板(白色チタン紙を使用して製造したメラミン化粧板)の凹凸面に関し、水性サインペン(ぺんてる社製)を使用して凹凸面に文字を書いた後、乾いた布で拭き取り、凹凸面の状態を以下の基準で評価した。
A:サインペンで書いた文字が容易に拭き取れ、インキによる汚染が全く生じていない。
B:サインペンで書いた文字が拭き取れ、インキによる汚染がほとんど生じていない。
C:サインペンで書いた文字が拭き取れず、インキによる汚染が生じている。
メラミン化粧板(黒色チタン紙を使用して製造したメラミン化粧板)に関し、人工指紋液(JIS−K2246準拠。精製水500mL、メタノール500mL、塩化ナトリウム7g、尿素1g及び乳酸4gを含有。)を凹凸面に塗布した後、自然乾燥させ、乾燥後の凹凸面を目視観察し、凹凸面の耐指紋性を以下の基準で評価した。
A::人工指紋液を塗布した場所と、人工指紋液を塗布しなかった場所との間で、表面状態にほとんど差が観察されない。
B:人工指紋液を塗布した場所が、人工指紋液を塗布しなかった場所よりも白くなり、人工指紋液を塗布した場所と、人工指紋液を塗布しなかった場所との間で、表面状態に差が観察される。
C:人工指紋液を塗布した場所が、人工指紋液を塗布しなかった場所よりも顕著に白くなり、人工指紋液を塗布した場所と、人工指紋液を塗布しなかった場所との間で、表面状態に顕著な差が観察される。
メラミン化粧板(黒色チタン紙を使用して製造したメラミン化粧板)に関し、対面角60°のダイヤモンド針を使用して、10gずつ荷重を増加させながらメラミン化粧板の凹凸面に対して表面スクラッチを行った。スクラッチ痕を光学顕微鏡で観察してクラックの有無を確認し、クラックの入らない最大荷重を求めた。
凹凸面のマルテンス硬度の測定方法は、次の通りである。凹凸面のマルテンス硬度は、表面皮膜物性試験機(PICODENTOR HM−500、株式会社フィッシャー・インストルメンツ製)を使用して、温度23℃及び相対湿度38%の環境下で測定した。具体的には、図3Aに示す対面角136°のダイヤモンド圧子(ビッカース圧子)を使用して、凹凸面にダイヤモンド圧子を押し込み、押し込み荷重Fと押し込み深さh(圧痕深さ)から、次式:
マルテンス硬度=F/(26.43×h2)
により、マルテンス硬度を求めた。押し込みは、温度23℃及び相対湿度38%の環境下、凹凸面に対して、図3Bに示すように、まず0〜40mNまでの負荷を10秒間で加え、次に40mNの負荷で5秒間保持し、最後に40〜0mNまでの除荷を10秒間で行った。凹凸面の10箇所のマルテンス硬度を測定し、その平均値を凹凸面のマルテンス硬度とした。
凹凸面の弾性変形率の測定方法は、次の通りである。凹凸面の弾性変形率は、表面皮膜物性試験機(PICODENTOR HM−500、株式会社フィッシャー・インストルメンツ製)を使用して、温度23℃及び相対湿度38%の環境下で測定した。具体的には、図3Aに示す対面角136°のダイヤモンド圧子(ビッカース圧子)を使用して、凹凸面にダイヤモンド圧子を押し込み、その際の押込み弾性変形回復仕事量Welastと機械的押込み全仕事量Wtotalから、次式:
弾性変形率(%)=Welast/Wtotal×100
により、弾性変形率を求めた。押し込みは、温度23℃及び相対湿度38%の環境下、凹凸面に対して、図3Bに示すように、まず0〜40mNまでの負荷を10秒間で加え、次に40mNの負荷で5秒間保持し、最後に40〜0mNまでの除荷を10秒間で行った。凹凸面の10箇所の弾性変形率を測定し、その平均値を凹凸面の弾性変形率とした。
実施例2は、転写層の形成の際、電子線硬化性樹脂組成物の塗膜の乾燥後の厚みを30μmとなるように調整した点を除き、実施例1と同様である。転写シートの製造条件、転写シートの特性(基材層の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ等)及びメラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表1に示す。
実施例3は、転写層の形成の際、電子線硬化性樹脂組成物の塗膜の乾燥後の厚みを10μmとなるように調整した点を除き、実施例1と同様である。転写シートの製造条件、転写シートの特性(基材層の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ等)及びメラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表1に示す。
実施例4は、転写層を形成するための電子線硬化性樹脂組成物として、3官能アクリルモノマー(重量平均分子量:300)及びアクリルポリマー(重量平均分子量:120,000)を含有する電子線硬化性樹脂組成物を使用した点を除き、実施例1と同様である。実施例4で使用し電子線硬化性樹脂組成物に含まれる3官能アクリルモノマー及びアクリルポリマーの量は、それぞれ、電子線硬化性樹脂組成物に含まれる固形分の総質量を基準として、50質量%及び50質量%である。転写シートの製造条件、転写シートの特性(基材層の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ等)及びメラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表1に示す。
実施例5は、転写層を形成するための電子線硬化性樹脂組成物として、3官能アクリルモノマー(重量平均分子量:300)及び2官能アクリルオリゴマー(重量平均分子量:10,000)を含有する電子線硬化性樹脂組成物を使用した点を除き、実施例1と同様である。実施例5で使用した電子線硬化性樹脂組成物に含まれる3官能アクリルモノマー及び2官能アクリルオリゴマーの量は、それぞれ、電子線硬化性樹脂組成物に含まれる固形分の総質量を基準として、50質量%及び50質量%である。転写シートの製造条件、転写シートの特性(基材層の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ等)及びメラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表1に示す。
実施例6は、転写層を形成するための電子線硬化性樹脂組成物として、3官能アクリルモノマー(重量平均分子量:300)及び2官能アクリルオリゴマー(重量平均分子量:20,000)を含有する電子線硬化性樹脂組成物を使用した点を除き、実施例1と同様である。実施例6で使用した電子線硬化性樹脂組成物に含まれる3官能アクリルモノマー及び2官能アクリルオリゴマーの量は、それぞれ、電子線硬化性樹脂組成物に含まれる固形分の総質量を基準として、50質量%及び50質量%である。なお、実施例6で使用した2官能アクリルオリゴマーは、実施例5で使用した2官能アクリルオリゴマーとは異なる。転写シートの製造条件、転写シートの特性(基材層の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ等)及びメラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表1に示す。
実施例7は、転写層を形成するための電子線硬化性樹脂組成物として、6官能ウレタンアクリレートオリゴマー(重量平均分子量:1,000)を含有する電子線硬化性樹脂組成物を使用した点を除き、実施例1と同様である。実施例7で使用した電子線硬化性樹脂組成物に含まれる6官能ウレタンアクリレートオリゴマーの量は、電子線硬化性樹脂組成物に含まれる固形分の総質量を基準として、100質量%である。転写シートの製造条件、転写シートの特性(基材層の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ等)及びメラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表1に示す。
実施例8は、転写層を形成するための電子線硬化性樹脂組成物として、2官能ウレタンアクリレートオリゴマー(重量平均分子量:3,000)及び6官能ウレタンアクリレートオリゴマー(重量平均分子量:1,000)を含有する電子線硬化性樹脂組成物を使用した点を除き、実施例1と同様である。実施例8で使用した電子線硬化性樹脂組成物に含まれる2官能ウレタンアクリレートオリゴマー及び6官能ウレタンアクリレートオリゴマーの量は、それぞれ、電子線硬化性樹脂組成物に含まれる固形分の総質量を基準として、50質量%及び50質量%である。転写シートの製造条件、転写シートの特性(基材層の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ等)及びメラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表1に示す。
実施例9は、転写層を形成するための電子線硬化性樹脂組成物として、2液硬化型ウレタン樹脂を含有する熱硬化性樹脂組成物を使用した点を除き、実施例1と同様である。実施例9で使用した熱硬化性樹脂組成物に含まれる2液硬化型ウレタン樹脂の量は、熱硬化性樹脂組成物に含まれる固形分の総質量を基準として、100質量%である。転写シートの製造条件、転写シートの特性(基材層の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ等)及びメラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表1に示す。
比較例1は、樹脂層を形成するための電子線硬化性樹脂組成物に関し、アクリルビーズ量を、電子線硬化性樹脂組成物に含まれる固形分の総質量を基準として、37.5質量%に変更し、P/V比(アクリルビーズ量/アクリレートオリゴマー量)を、0.6に変更した点、並びに、電子線硬化性樹脂組成物の塗膜の乾燥後の重量を7.2g/m2となるように調整した点を除き、実施例1と同様である。転写シートの製造条件、転写シートの特性(基材層の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ等)及びメラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表2に示す。
比較例2は、樹脂層を形成するための電子線硬化性樹脂組成物に関し、アクリルビーズの平均粒径を7μmに変更した点、並びに、電子線硬化性樹脂組成物の塗膜の乾燥後の重量を8.9g/m2となるように調整した点を除き、実施例1と同様である。転写シートの製造条件、転写シートの特性(基材層の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ等)及びメラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表2に示す。
比較例3は、樹脂層を形成するための電子線硬化性樹脂組成物に関し、アクリルビーズの平均粒径を16μmに変更した点、並びに、電子線硬化性樹脂組成物の塗膜の乾燥後の重量を13.7g/m2となるように調整した点を除き、実施例1と同様である。転写シートの製造条件、転写シートの特性(基材層の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ等)及びメラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表2に示す。
比較例4〜7は、基材層として、ソマール社製サンドブラストPET W3(比較例4)、きもと社製サンドブラストPET UG(比較例5)、東洋クロス社製トークロマットフィルムSP3000CE(比較例6)、東洋紡社製E5007(比較例7)を使用した点を除き、実施例1と同様である。転写シートの製造条件、転写シートの特性(基材層の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ等)及びメラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表2に示す。
比較例8は、転写シートを使用せずに、化粧板を製造した点を除き、実施例1と同様である。メラミン化粧板の特性(メラミン化粧板の凹凸面に関する60°光沢度、表面粗さ、易掃性、耐指紋性、耐傷性等)を表2に示す。
11・・・基材層
110・・・基材層の凹凸面
111・・・基材シート
112・・・樹脂層
113・・・層間プライマー層
12・・・転写層
13・・・表面プライマー層
S1・・・転写シートの第1面
T1・・・転写シートの第2面
2・・・積層体
21・・・コア層
22・・・未硬化メラミン樹脂層
3・・・メラミン化粧板
30・・・メラミン化粧板の凹凸面
31・・・コア層
32・・・硬化樹脂層
33・・・表面層
Claims (17)
- 第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を有するとともに、前記第1面側の表面として凹凸面を有する基材層と、前記凹凸面上に設けられた転写層とを備える転写シートであって、
前記凹凸面を構成する凹凸の中心線平均粗さRaが1.8μm以上3.0μm以下であり、
前記凹凸面を構成する凹凸の最大高さRmaxが11.0μm以上21.0μm以下であり、
前記凹凸面を構成する凹凸の十点平均粗さRzが10.0μm以上20.0μm以下であり、
前記凹凸面を構成する凹凸の平均間隔Smが30.0μm以上65.0μm以下である、前記転写シート。 - 前記基材層が、基材シートと、前記基材シートの前記第1面側に設けられた樹脂層とを備え、
前記凹凸面が、前記樹脂層の表面により形成されている、請求項1に記載の転写シート。 - 前記樹脂層が微粒子を含む、請求項2に記載の転写シート。
- 前記微粒子の平均粒径が8μm以上15μm以下である、請求項3に記載の転写シート。
- 前記樹脂層に含まれる前記微粒子の量が、前記樹脂層の総質量を基準として40質量%以上60質量%以下である、請求項3又は4に記載の転写シート。
- 前記樹脂層に含まれる前記微粒子がアクリルビーズである、請求項3〜5のいずれか一項に記載の転写シート。
- 前記樹脂層が電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含む、請求項2〜6のいずれか一項に記載の転写シート。
- 前記基材層が、前記基材シートと前記樹脂層との間に位置する層間プライマー層をさらに備える、請求項2〜7のいずれか一項に記載の転写シート。
- 前記層間プライマー層が微粒子を含む、請求項8に記載の転写シート。
- 前記層間プライマー層に含まれる前記微粒子がシリカ微粒子である、請求項9に記載の転写シート。
- 前記転写層が電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含む、請求項1〜10のいずれか一項に記載の転写シート。
- 前記転写層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物で形成されている、請求項11に記載の転写シート。
- 前記電離放射線硬化性樹脂組成物が多官能性モノマーを含む、請求項12に記載の転写シート。
- 前記電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる前記多官能性モノマーの量が、前記前記電離放射線硬化性樹脂組成物の固形分総質量を基準として50質量%以上100質量%以下である、請求項13に記載の転写シート。
- 前記転写層の厚みが30μm以上50μm以下である、請求項11〜14のいずれか一項に記載の転写シート。
- 前記転写シートが、前記転写層の前記第1面側に設けられた表面プライマー層をさらに備え、
前記第1面が、前記表面プライマー層の表面により形成されている、請求項1〜15のいずれか一項に記載の転写シート。 - 請求項1〜16のいずれか一項に記載の転写シートを使用して、凹凸面を有するメラミン化粧板を製造する方法であって、
(a)コア層と、前記コア層上に設けられた未硬化メラミン樹脂層と、前記転写シートの前記第1面が前記未硬化メラミン樹脂層と接するように、前記未硬化メラミン樹脂層上に設けられた前記転写シートとを備える積層体を準備する工程、
(b)前記積層体を加圧及び加熱し、前記未硬化メラミン樹脂層を硬化させる工程、並びに、
(c)前記積層体から前記基材層を剥離する工程
を含む、前記方法。
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