JP6905521B2 - 新規なピリダジノン除草剤 - Google Patents
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Description
本発明は、特定のピリダジノン除草剤、そのＮ−オキシド、塩および組成物、ならびに望ましくない植生の防除のためのその使用方法に関する。
望ましくない植生の防除は、高い農作物生産効率を達成する上で極めて重要である。とりわけイネ、ダイズ、サトウダイコン、トウモロコシ、ジャガイモ、コムギ、オオムギ、トマト、およびプランテーション農作物のような有用な農作物において雑草の成長の選択的防除を達成することは、殊に望ましい。このような有用な農作物において雑草の成長を放置すると、生産性の大幅な低下をもたらす可能性があり、消費者へのコスト増加という結果を招く可能性がある。非農耕地における望ましくない植生の防除も同様に重要である。この目的のために多くの製品が市販されているが、より効果的で、より安価で、より毒性が低く、より環境に安全であり、または作用部位が異なる新しい化合物に対する必要性は、依然として存在する。
本発明は、式１の化合物とその全ての立体異性体、Ｎ−オキシド、および塩、それらを含有する農業用組成物、ならびにそれらの除草剤としての使用に関する
（式中、
Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルキルカルボニルアルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシ、ベンジルもしくはフェニル；または炭素ならびに１個以下のＯおよび１個以下のＳから選択される環員を含有する５もしくは６員の飽和もしくは部分飽和の複素環式環であり；
Ｗは、ＯまたはＳであり；
Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルキルカルボニルアルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシ、ベンジルもしくはフェニル；または炭素ならびに１個以下のＯおよび１個以下のＳから選択される環員を含有する５もしくは６員の飽和もしくは部分飽和の複素環式環であり；
Ｗは、ＯまたはＳであり；
Ａは、
から選択され；
Ｇは、Ｇ１またはＷ１Ｇ１であり；
Ｗ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルカンジイルまたはＣ２〜Ｃ４アルケンジイルであり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−Ｃ（＝Ｓ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ８、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ７、−ＣＯＮＲ９Ｒ１０、−Ｓ（Ｏ）２ＮＲ９Ｒ１０もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルキニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル；または５もしくは６員複素環式環であり；
Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＣＨＯ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルキルカルボニルアルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ７アルキルカルボニルオキシ、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノ、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオもしくはＣ２〜Ｃ３アルコキシカルボニル；またはハロ
ゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキルもしくはＣ１〜Ｃ４ハロアルキルによって場合により置換されているフェニルであり；
各Ｘ１は、独立してＮまたはＣＲ３であり；
各Ｘ２は、独立してＮまたはＣＲ３であり；
各Ｘ３は、独立してＮまたはＣＲ３であり；
各Ｘ４、Ｘ５およびＸ６は、独立してＮまたはＣＲ４であり；
各Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０は、独立してＮまたはＣＲ５であり；
Ｙ１は、Ｏ、ＳまたはＮＲ６であり；
Ｙ２は、Ｏ、ＳまたはＮＲ６であり；
Ｙ４は、Ｏ、ＳまたはＮＲ６であり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、ニトロ、−ＣＮ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５アルキニル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ５シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルキニル、Ｃ２〜Ｃ５アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキルチオまたはＣ２〜Ｃ５アルコキシカルボニルであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、ニトロ、−ＣＮ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５アルキニル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ５シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルキニル、Ｃ２〜Ｃ５アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキルチオまたはＣ２〜Ｃ５アルコキシカルボニルであり；
各Ｒ５は、独立してＨ、ハロゲン、−ＣＮ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５アルキニル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ５シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルキニル、Ｃ２〜Ｃ５アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキルチオまたはＣ２〜Ｃ５アルコキシカルボニルであり；
Ｒ６は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル；またはフェニル、ベンジルもしくは５〜６員複素環式環であり、各フェニル、ベンジルもしくは複素環式環は、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＣ１〜Ｃ４ハロアルキルによって場合により置換されており；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル；またはフェニル、ベンジルもしくは５〜６員複素環式環であり、各フェニル、ベンジルもしくは複素環式環は、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＣ１〜Ｃ４ハロアルキルによって場合により置換されており；
Ｒ９は、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル；またはフェニル、ベンジルもしくは５〜６員複素環式環であり、各フェニル、ベンジルもしくは複素環式環は、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＣ１〜Ｃ４ハロアルキルによって場合により置換されてお
り；
Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ１〜Ｃ７アルコキシであり；
ただし、
ｉ）ＡがＡ−３であり、Ｘ２がＣＲ３である場合、Ｘ３はＣＲ３以外であり；
ｉｉ）ＡがＡ−３であり、Ｘ３がＣＲ３である場合、Ｘ２はＣＲ３以外であり；
ｉｉｉ）ＡがＡ−４であり、Ｙ４がＯ、ＳまたはＮＲ６である場合、Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０のうちの少なくとも１つはＣＲ５以外であり；
ｉｖ）Ｒ１がＣＨ３であり；ＧがＨまたはＣ（＝Ｏ）ＣＨ３であり；Ｒ２がＣｌまたはＢｒである場合；Ａ−３は４−キノリニル（５−Ｃｌ）、５−キノリニル、４−イソキノリニル、５−イソキノリニル、６−イソキノリニルおよび８−イソキノリニル以外である）。
Ｇは、Ｇ１またはＷ１Ｇ１であり；
Ｗ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルカンジイルまたはＣ２〜Ｃ４アルケンジイルであり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−Ｃ（＝Ｓ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ８、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ７、−ＣＯＮＲ９Ｒ１０、−Ｓ（Ｏ）２ＮＲ９Ｒ１０もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルキニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル；または５もしくは６員複素環式環であり；
Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＣＨＯ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルキルカルボニルアルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ７アルキルカルボニルオキシ、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノ、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオもしくはＣ２〜Ｃ３アルコキシカルボニル；またはハロ
ゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキルもしくはＣ１〜Ｃ４ハロアルキルによって場合により置換されているフェニルであり；
各Ｘ１は、独立してＮまたはＣＲ３であり；
各Ｘ２は、独立してＮまたはＣＲ３であり；
各Ｘ３は、独立してＮまたはＣＲ３であり；
各Ｘ４、Ｘ５およびＸ６は、独立してＮまたはＣＲ４であり；
各Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０は、独立してＮまたはＣＲ５であり；
Ｙ１は、Ｏ、ＳまたはＮＲ６であり；
Ｙ２は、Ｏ、ＳまたはＮＲ６であり；
Ｙ４は、Ｏ、ＳまたはＮＲ６であり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、ニトロ、−ＣＮ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５アルキニル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ５シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルキニル、Ｃ２〜Ｃ５アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキルチオまたはＣ２〜Ｃ５アルコキシカルボニルであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、ニトロ、−ＣＮ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５アルキニル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ５シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルキニル、Ｃ２〜Ｃ５アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキルチオまたはＣ２〜Ｃ５アルコキシカルボニルであり；
各Ｒ５は、独立してＨ、ハロゲン、−ＣＮ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５アルキニル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ５シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルキニル、Ｃ２〜Ｃ５アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキルチオまたはＣ２〜Ｃ５アルコキシカルボニルであり；
Ｒ６は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル；またはフェニル、ベンジルもしくは５〜６員複素環式環であり、各フェニル、ベンジルもしくは複素環式環は、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＣ１〜Ｃ４ハロアルキルによって場合により置換されており；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル；またはフェニル、ベンジルもしくは５〜６員複素環式環であり、各フェニル、ベンジルもしくは複素環式環は、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＣ１〜Ｃ４ハロアルキルによって場合により置換されており；
Ｒ９は、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル；またはフェニル、ベンジルもしくは５〜６員複素環式環であり、各フェニル、ベンジルもしくは複素環式環は、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＣ１〜Ｃ４ハロアルキルによって場合により置換されてお
り；
Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ１〜Ｃ７アルコキシであり；
ただし、
ｉ）ＡがＡ−３であり、Ｘ２がＣＲ３である場合、Ｘ３はＣＲ３以外であり；
ｉｉ）ＡがＡ−３であり、Ｘ３がＣＲ３である場合、Ｘ２はＣＲ３以外であり；
ｉｉｉ）ＡがＡ−４であり、Ｙ４がＯ、ＳまたはＮＲ６である場合、Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０のうちの少なくとも１つはＣＲ５以外であり；
ｉｖ）Ｒ１がＣＨ３であり；ＧがＨまたはＣ（＝Ｏ）ＣＨ３であり；Ｒ２がＣｌまたはＢｒである場合；Ａ−３は４−キノリニル（５−Ｃｌ）、５−キノリニル、４−イソキノリニル、５−イソキノリニル、６−イソキノリニルおよび８−イソキノリニル以外である）。
より詳細には、本発明は、式１の化合物（全ての立体異性体を含む）、そのＮ−オキシドまたは塩に関する。本発明は更に、本発明の化合物（即ち、除草有効量の）と、界面活性剤、固体希釈剤、および液体希釈剤からなる群から選択される少なくとも１種の成分とを含む除草用組成物に関する。本発明は更に、植生またはその環境に本発明の化合物（例えば、本明細書に記載する組成物としての）の除草有効量を接触させることを含む、望ましくない植生の成長を防除する方法に関する。
本発明は更に、以下に記載するように、（ａ）式１から選択される化合物、そのＮ−オキシドおよび塩と、（ｂ）（ｂ１）〜（ｂ１６）；および、（ｂ１）〜（ｂ１６）の化合物の塩から選択される少なくとも１種の追加の有効成分とを含む除草用混合物を含む。
本明細書において使用する場合、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」、「含有する（ｃｏｎｔａｉｎｓ）」、「含有する（ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ）」、「特徴とする（ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚｅｄ ｂｙ）」という用語またはそれらの任意の他の変形は、明示的に示された制限に従って非排他的包摂を包含することを意図している。例えば、列挙した要素を含む組成物、混合物、プロセスまたは方法は、必ずしもそれらの要素に限定されるものではなく、明確に列挙されていない他の要素、またはそうした組成物、混合物、プロセスもしくは方法に特有な他の要素を含んでもよい。
「からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」という移行句は、指定されていない要素、工程、または原材料を除外する。請求項の中にある場合、そうした移行句は、請求項が、通常それに付随する不純物を除く、記載されたもの以外の材料を包含しないことを意味する。「からなる」という句が、プリアンブルの直後ではなく、請求項の本文の分節に出てきた場合、その分節に記載された要素のみを限定し、他の要素は、全体としてその請求項から除外されない。
「本質的に〜からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」という移行句は、文字通り開示されたものに追加の材料、工程、特徴物、成分、または要素を含む組成物または方法を定義するために使用される。ただし、これら追加の材料、工程、特徴物、成分、または要素は、特許請求される発明の基本的な特性および新規な特性に実質的に影響を及ぼさない。「本質的に〜からなる」という用語は、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」と「からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」の中間の地位を占める。
出願人が、発明またはその一部を「含む」のようなオープンエンドの用語を用いて定義していた場合、記載が（別段の記載がない限り）、そうした発明を「本質的に〜からなる」または「からなる」という用語を使用して説明しているとも解釈すべきであることは、容易に理解されるべきである。
更に、反対のことが明示的に述べられていない限り、「または」は、排他的「または」ではなく包括的「または」を意味する。例えば、条件ＡまたはＢは、以下のいずれかによって満たされる：Ａが真であり（または存在する）Ｂが偽である（または存在しない）、Ａが偽であり（または存在しない）Ｂが真である（または存在する）、およびＡとＢがどちらも真である（または存在する）。
また、本発明の要素または成分に先行する不定冠詞「ａ」および「ａｎ」は、その要素または成分の事例（即ち、発生）の数に関して非制限的であることを意図している。従って、「ａ」または「ａｎ」は、１つまたは少なくとも１つを含むものとして読み取るべきであり、要素または成分の単語の単数形は、その数が明らかに単数を意図していない限り、複数も含む。
本明細書において言及している場合、単独で、または単語の組合せにおいて使用される「実生」という用語は、種子の胚から成長している若い植物を意味する。
本明細書において言及している場合、単独で、または「広葉雑草」のような言葉の中で使用される「広葉」という用語は、２枚の子葉を持つ胚を特徴とする被子植物の群を説明するために使用される用語である双子葉植物または双子葉類を意味する。
本明細書において使用する場合、「アルキル化」という用語は、求核試薬が炭素含有ラジカルからハライドまたはスルホナートのような脱離基を置き換える反応を指す。別段の指示がない限り、「アルキル化」という用語は、炭素含有ラジカルをアルキルに限定しない。
上記の記述において、単独で、または「アルキルチオ」もしくは「ハロアルキル」のような複合語において使用される「アルキル」という用語は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、または異なるブチル、ペンチルもしくはヘキシル異性体のような、直鎖または分枝アルキルを含む。「アルケニル」は、エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、ならびに異なるブテニル、ペンテニルおよびヘキセニル異性体のような、直鎖または分枝アルケンを含む。「アルケニル」は、１，２−プロパジエニルおよび２，４−ヘキサジエニルのようなポリエンを更に含む。「アルキニル」は、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、ならびに異なるブチニル、ペンチニルおよびヘキシニル異性体のような、直鎖または分枝アルキンを含む。「アルキニル」は、２，５−ヘキサジイニルのような複数の三重結合で構成される部分を更に含むことができる。
「アルコキシ」は、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ならびに異なるブトキシ、ペントキシおよびヘキシルオキシ異性体を含む。「アルコキシアルキル」は、アルキル上でのアルコキシ置換を表す。「アルコキシアルキル」の例としては、ＣＨ３ＯＣＨ２、ＣＨ３ＯＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２およびＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２が挙げられる。「アルコキシアルコキシ」は、アルコキシ上でのアルコキシ置換を表す。「アルキルチオ」は、メチルチオ、エチルチオ、ならびに様々なプロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオおよびヘキシルチオ異性体のような分枝または直鎖アルキルチオ部分を含む。「アルキルチオアルキル」は、アルキル上でのアルキルチオ置換を表す。「アルキルチオアルキル」の例としては、ＣＨ３ＳＣＨ２、ＣＨ３ＳＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ３ＣＨ２ＳＣＨ２、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２およびＣＨ３ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２が挙げられる。「シアノアルキル」は、１つのシアノ基で置換されたアルキル基を表す。「シアノアルキル」の例としては、ＮＣＣＨ２およびＮＣＣＨ２ＣＨ２（代替的にＣＨ２ＣＨ２ＣＮと表される）が挙げられる。
「シクロアルキル」は、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルを含む。「シクロアルキルアルキル」の例としては、シクロプロピルメチル、シクロペンチルエチル、および直鎖または分枝アルキル基に結合した他のシクロアルキル部分が挙げられる。
「ハロゲン」という用語は、単独で、もしくは「ハロアルキル」のような複合語において、または「ハロゲンで置換されているアルキル」のような記載において使用される場合、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を含む。更に、「ハロアルキル」のような複合語において使用される場合、または「ハロゲンで置換されているアルキル」のような記載において使用される場合、前記アルキルは、同一であっても異なっていてもよいハロゲン原子で部分的にまたは完全に置換されていてもよい。「ハロアルキル」または「ハロゲンで置換されているアルキル」の例としては、Ｆ３Ｃ、ＣｌＣＨ２、ＣＦ３ＣＨ２およびＣＦ３ＣＣｌ２が挙げられる。「ハロアルコキシ」、「ハロアルキルチオ」、「ハロアルケニル」、「ハロアルキニル」などの用語は、「ハロアルキル」という用語と同様に定義される。「ハロアルコキシ」の例としては、ＣＦ３Ｏ−、ＣＣｌ３ＣＨ２Ｏ−、ＨＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−およびＣＦ３ＣＨ２Ｏ−が挙げられる。「ハロアルキルチオ」の例としては、ＣＣｌ３Ｓ−、ＣＦ３Ｓ−、ＣＣｌ３ＣＨ２Ｓ−およびＣｌＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓ−が挙げられる。「ハロアルケニル」の例としては、（Ｃｌ）２Ｃ＝ＣＨＣＨ２−およびＣＦ３ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−が挙げられる。「ハロアルキニル」の例としては、ＨＣ≡ＣＣＨＣｌ−、ＣＦ３Ｃ≡Ｃ−、ＣＣｌ３Ｃ≡Ｃ−およびＦＣＨ２Ｃ≡ＣＣＨ２−が挙げられる。
「アルコキシカルボニル」は、Ｃ（＝Ｏ）部分に結合した直鎖または分枝アルコキシ部分を表す。「アルコキシカルボニル」の例としては、ＣＨ３ＯＣ（＝Ｏ）−、ＣＨ３ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）−、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）−、（ＣＨ３）２ＣＨＯＣ（＝Ｏ）−および様々なブトキシまたはペントキシカルボニル異性体が挙げられる。アルカンジイルまたはアルケンジイルという用語はそれぞれ、直鎖または分枝のアルカンまたはアルケン結合鎖を指す。アルカンジイルの例としては、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が挙げられる。アルケンジイルの例としては、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２Ｃ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）−が挙げられる。置換基の位置を示す文脈における「隣接」という用語は、「〜の隣」または「〜のすぐ隣」という意味である。
置換基中の炭素原子の総数は、「Ｃｉ〜Ｃｊ」という接頭辞によって示され、ここで、ｉおよびｊは、１〜７の数である。例えば、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルは、メチルスルホニル〜ブチルスルホニルを指定し；Ｃ２アルコキシアルキルは、ＣＨ３ＯＣＨ２−を指定し；Ｃ３アルコキシアルキルは、例えば、ＣＨ３ＣＨ（ＯＣＨ３）−、ＣＨ３ＯＣＨ２ＣＨ２−またはＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２−を指定し；Ｃ４アルコキシアルキルは、全部で４個の炭素原子を含有するアルコキシ基で置換されているアルキル基の様々な異性体を指定し、例としては、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２−およびＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−が挙げられる。
置換基の数が１を超えることがあることを示す下付き文字を伴う置換基で化合物が置換されている場合、前記置換基は（１を超える場合）、定義された置換基の群、（例えば、（Ｒ３）ｎのｎが１、２、３または４である場合）から独立して選択される。基が、水素である可能性がある置換基、例えばＲ２またはＲ４を含有し、この置換基が水素であると考えられる場合、これは、前記基が無置換であることと同義であると認識される。可変基が場合によりある位置に結合していると示されている場合（例えば、（Ｒ３）ｎのｎが０であり得る場合）、可変基の定義に記載されていなくても、水素がその位置にあってもよい。ある基上の１つまたはそれ以上の位置が「置換されていない」または「非置換」と記載される場合、水素原子が結合して任意の自由原子価を取る。
ＧがＨである（即ち、式１の「ＯＧ」置換基がヒドロキシ部分である）式１の化合物は、植物酵素または受容体上の活性部位に結合して植物に除草効果をもたらす化合物であると考えられる。置換基Ｇが植物または環境中でヒドロキシ部分に変換され得る基である式１の他の化合物は、同様の除草効果をもたらし、本発明の範囲に含まれる。従って、Ｇは、式１の化合物の除草活性を消失させず、植物または土壌中で加水分解、酸化、還元、または他の方法で代謝されて、ｐＨ次第で解離した形態または解離していない形態にあるカルボン酸官能基を提供する、または提供する可能性がある当技術分野で公知の任意の誘導体とすることができる。「環系」という用語は、２つ以上の縮合環を表す。「二環式環系」という用語は、２つの縮合環からなる環系を表す。
本発明の化合物は、１つまたはそれ以上の立体異性体として存在することができる。様々な立体異性体は、エナンチオマー、ジアステレオマー、アトロプ異性体および幾何異性体を含む。立体異性体は、構成が同一であるが、空間における原子の配置が異なる異性体であり、エナンチオマー、ジアステレオマー、シス−トランス異性体（幾何異性体としても公知である）およびアトロプ異性体を含む。アトロプ異性体は、異性体種の単離が可能であるほど回転障壁が十分に大きい単結合周りの束縛回転によって生じる。当業者であれば理解することであるが、１種の立体異性体が他の立体異性体（複数可）と比して豊富化された場合、または他の立体異性体（複数可）から分離された場合、活性が高まる、および／または有益な効果を発揮することがある。更に、当業者には、前記立体異性体を分離、豊富化、および／または選択的に製造する方法は公知である。本発明の化合物は、立体異性体の混合物、個別の立体異性体、または光学的に活性な形態として存在してもよい。
式１の化合物は、典型的には２種以上の形態で存在し、従って、式１は、それが表す化合物の結晶形態および非結晶形態全てを含む。非結晶形態は、ワックスおよびゴムのような固体である実施形態、ならびに溶液および溶融物のような液体である実施形態を含む。結晶形態は、本質的に単結晶型を表す実施形態、および、多形体（即ち、異なる結晶型）の混合物を表す実施形態を含む。「多形体」という用語は、異なる結晶形態で結晶化が可能である化合物の特定の結晶形態を指し、これらの形態は、結晶格子中に分子の異なる配置および／または配座を有する。多形体は同一の化学組成を有する場合があるが、これらは、格子中に弱くまたは強く結合可能な共結晶化水または他の分子の存在または不在により、組成が異なっている場合もある。多形体は、結晶形状、密度、硬度、色、化学的安定性、融点、吸湿性、懸濁性、溶解速度および生物学的利用可能性のような化学的、物理的および生物学的性質が異なっている場合がある。当業者であれば理解することであるが、式１の化合物の多形体は、式１の同一の化合物の他の多形体または多形体の混合物に比して、有益な効果（例えば、有用な製剤の製造に対する適合性、生物学的性能の向上）を示す可能性がある。式１の化合物の特定の多形体の製造および単離は、例えば、選択した溶媒および温度を用いる結晶化を含む、当業者に公知の方法により達成可能である。多形性に係る包括的な考察については、Ｒ．Ｈｉｌｆｉｋｅｒ、Ｅｄ．、ｐｏｌｙｍｏｒｐｈｉｓｍ ｉｎ ｔｈｅ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ、Ｗｅｉｎｈｅｉｍ、２００６を参照されたい。
当業者であれば理解することであるが、窒素は、酸化物への酸化のためには利用可能な孤立電子対を必要とするため、全ての窒素含有複素環がＮ−オキシドを形成可能ではない；当業者であれば、Ｎ−オキシドを形成可能な窒素含有複素環を認識する。更に、当業者であれば理解することであるが、第三級アミンはＮ−オキシドを形成可能である。複素環および第三級アミンのＮ−オキシド製造のための合成方法は当業者に周知であり、過酢酸およびｍ−クロロ過安息香酸（ＭＣＰＢＡ）のようなペルオキシ酸、過酸化水素、ｔ−ブチルヒドロペルオキシドのようなアルキルヒドロペルオキシド、過ホウ酸ナトリウム、ならびにジメチルジオキシランのようなジオキシランによる複素環および第三級アミンの酸化が含まれる。Ｎ−オキシドの製造のためのこれらの方法は、文献において広範に記載および概説されており、例えば：Ｔ．Ｌ．ＧｉｌｃｈｒｉｓｔのＣｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、第７巻、７４８〜７５０頁、Ｓ．Ｖ．Ｌｅｙ編、Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ；Ｍ．ＴｉｓｌｅｒおよびＢ．ＳｔａｎｏｖｎｉｋのＣｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第３巻、１８〜２０頁、Ａ．Ｊ．ＢｏｕｌｔｏｎおよびＡ．ＭｃＫｉｌｌｏｐ編、Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ；Ｍ．Ｒ．ＧｒｉｍｍｅｔｔおよびＢ．Ｒ．Ｔ．ＫｅｅｎｅのＡｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第４３巻、１４９〜１６１頁、Ａ．Ｒ．Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ編、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ；Ｍ． ＴｉｓｌｅｒおよびＢ． ＳｔａｎｏｖｎｉｋのＡｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第９巻、２８５〜２９１頁、Ａ．Ｒ．ＫａｔｒｉｔｚｋｙおよびＡ．Ｊ．Ｂｏｕｌｔｏｎ編、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ；ならびにＧ．Ｗ．Ｈ．ＣｈｅｅｓｅｍａｎおよびＥ．Ｓ．Ｇ．ＷｅｒｓｔｉｕｋのＡｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第２２巻、３９０〜３９２頁、Ａ．Ｒ．ＫａｔｒｉｔｚｋｙおよびＡ．Ｊ．Ｂｏｕｌｔｏｎ編、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓを参照されたい。
当業者であれば認識することであるが、環境中、および生理学的条件下では、化合物の塩はその対応する非塩形態と平衡状態にあるので、塩が非塩形態の生物学的有用性を共有する。従って、式１の化合物の多種多様な塩が、望ましくない植生の防除に有用である（即ち、農学的に適切である）。式１の化合物の塩としては、臭化水素酸、塩酸、硝酸、リン酸、硫酸、酢酸、酪酸、フマル酸、乳酸、マレイン酸、マロン酸、シュウ酸、プロピオン酸、サリチル酸、酒石酸、４−トルエンスルホン酸または吉草酸のような無機酸または有機酸との酸付加塩が挙げられる。式１の化合物がエノール官能基（例えば、ＧがＨである場合）のような酸性部分を含有する場合、塩には、ピリジン、トリエチルアミンもしくはアンモニアのような有機塩基もしくは無機塩基と共に形成された塩、またはナトリウム、カリウム、リチウム、カルシウム、マグネシウムもしくはバリウムのアミド、水素化物、水酸化物または炭酸塩も含まれる。従って、本発明は、式１から選択される化合物、そのＮ−オキシドおよび農業的に適切な塩を含む。
Ｒ７、Ｒ８またはＲ９が５または６員窒素含有複素環式環である場合、他様の記載がない限り、任意の利用可能な炭素または窒素環原子を介して式１の残部に結合していてもよい。上記のように、Ｒ７、Ｒ８またはＲ９は、（とりわけ）発明の概要において定義した置換基の群から選択される１つまたはそれ以上の置換基で場合により置換されているフェニルとすることができる。１〜５個の置換基で場合により置換されているフェニルの例は、提示１にＵ−１として図示する環であり、ここで、Ｒｖは、発明の概要においてＲ７、Ｒ８またはＲ９上の置換基として定義したものであり、ｒは整数である。
上記のように、Ｒ７、Ｒ８またはＲ９は、（とりわけ）飽和または不飽和であってもよく、発明の概要において定義した置換基の群から選択される１つまたはそれ以上の置換基で場合により置換されている５または６員複素環式環とすることができる。１つまたはそれ以上の置換基で場合により置換されている５または６員不飽和芳香族複素環式環の例としては、提示１に図示する環Ｕ−２〜Ｕ−６１が挙げられ、ここで、Ｒｖは、発明の概要においてＲ７、Ｒ８またはＲ９について定義した任意の置換基（即ち、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＣ１〜Ｃ４ハロアルキル）であり、ｒは０〜４の整数であって、各Ｕ基上の利用可能な位置の数によって限定される。Ｕ−２９、Ｕ−３０、Ｕ−３６、Ｕ−３７、Ｕ−３８、Ｕ−３９、Ｕ−４０、Ｕ−４１、Ｕ−４２およびＵ−４３は利用可能な位置が１つしかないため、これらのＵ基についてはｒは０または１の整数に限定され、ｒが０であるということは、Ｕ基が非置換であって、（Ｒｖ）ｒで示される位置に水素が存在することを意味する。
Ｒ７、Ｒ８またはＲ９が発明の概要においてＲ７、Ｒ８またはＲ９について定義した置換基の群から選択される１つまたはそれ以上の置換基で場合により置換されている５または６員の飽和または不飽和非芳香族複素環式環である場合、複素環の炭素環員の１つまたは２つは、場合によりカルボニル部分の酸化形態であり得ることに留意されたい。
２個以下のＯ原子および２個以下のＳ原子から選択される環員を含有し、炭素原子環員上で５個以下のハロゲン原子で場合により置換されている飽和または非芳香族不飽和複素環式環である５または６員の複素環式環の例としては、提示２に図示するような環Ｔ−１〜Ｔ−３５が挙げられる。Ｔ基上の結合点が浮遊しているものとして図示されている場合、Ｔ基は、Ｔ基の任意の利用可能な炭素または窒素を介し、水素原子の置換によって式１の残部に結合し得ることに留意されたい。Ｒｖに対応する任意選択の置換基は、水素原子を置換することにより任意の利用可能な炭素または窒素に結合することができる。これらのＴ環の場合、ｒは典型的には０〜４の整数であり、各Ｔ基上の利用可能な位置の数によって限定される。「場合により置換されている」という用語は、「置換されている、または置換されていない」という意味である。
Ｒ７、Ｒ８またはＲ９が、Ｔ−２８〜Ｔ−３５から選択される環を含む場合、Ｇ２はＯ、ＳまたはＮから選択されることに留意されたい。Ｔ２がＮである場合、窒素原子は、Ｈまたは発明の概要においてＲ７、Ｒ８またはＲ９について定義したＲｖに対応する置換基との置換によってその原子価を満たすことができることに留意されたい。Ｒ１の例示的な値としては、Ｔ−１、Ｔ−２、Ｔ−７およびＴ−９が挙げられる。
構造Ｕ−１〜Ｕ−６１にＲｖ基が示されているが、これらは任意選択の置換基であるため、存在する必要はないことに留意されたい。ＲｖがＨであり原子に結合している場合、前記原子は非置換であるのと同じであることに留意されたい。置換して原子価を満たす必要のある窒素原子は、ＨまたはＲｖで置換される。（Ｒｖ）ｒとＵ基との間の結合点が浮遊しているものとして図示されている場合、（Ｒｖ）ｒは、Ｕ基の任意の利用可能な炭素原子または窒素原子に結合可能であることに留意されたい。Ｕ基上の結合点が浮遊しているものとして図示されている場合、Ｕ基は、Ｕ基の任意の利用可能な炭素または窒素を介し、水素原子の置換によって式１の残部に結合可能であることに留意されたい。Ｕ基の一部は、４個未満のＲｖ基でのみ置換されることが可能であることに留意されたい（例えば、Ｕ−２〜Ｕ−５、Ｕ−７〜Ｕ−４８、およびＵ−５２〜Ｕ−６１）。
芳香族および非芳香族の複素環式環および環系の製造を可能にする多種多様な合成方法が、当技術分野で公知である；包括的概説については、全８巻のＣｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、Ａ．Ｒ．ＫａｔｒｉｔｚｋｙおよびＣ．Ｗ．Ｒｅｅｓ監修、Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ、Ｏｘｆｏｒｄ、１９８４、および全１２巻のＣｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＩＩ、Ａ．Ｒ．Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ、Ｃ．Ｗ．ＲｅｅｓおよびＥ．Ｆ．Ｖ．Ｓｃｒｉｖｅｎ監修、Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ、Ｏｘｆｏｒｄ、１９９６を参照されたい。
発明の概要に記載の本発明の実施形態は以下を含み、（ここで、以下の実施形態において用いられる式１はそのＮ−オキシドおよび塩を含む）：
実施形態１．発明の概要に記載するような、式１の化合物、そのＮ−オキシドおよび塩、それらを含有する組成物、ならびに望ましくない植生の防除のためのその使用方法。
実施形態２．Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルキルカルボニルアルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシ、ベンジルまたはフェニルである、実施形態１の化合物。
実施形態３．Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシまたはベンジルである、実施形態１または２の化合物。
実施形態４．Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルである、実施形態３の化合物。
実施形態５．Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、ＮＣＣＨ２ＣＨ２−、Ｃ１〜Ｃ２ハロアルキルまたは２−メトキシエチルである、実施形態４の化合物。
実施形態６．Ｒ１は、メチル、エチル、ｎ−プロピルまたは２−メトキシエチルである、実施形態５の化合物。
実施形態７．Ｒ１は、メチルまたはエチルである、実施形態６の化合物。
実施形態８．Ｒ１は、メチルである、実施形態６の化合物。
実施形態９．Ｒ１は、Ｈ以外である、実施形態１の化合物。
実施形態１０．Ｒ１は、フェニル以外である、実施形態１の化合物。
実施形態１１．Ｗは、Ｏである、実施形態１〜１０のいずれか１つの化合物。
実施形態１２．Ａは、Ａ−１、Ａ−２またはＡ−３である、実施形態１〜１１のいずれか１つの化合物。
実施形態１３．Ａは、Ａ−３である、実施形態１２の化合物。
実施形態１４．Ａは、Ａ−１またはＡ−２である、実施形態１２の化合物。
実施形態１５．Ａは、Ａ−１である、実施形態１４の化合物。
実施形態１６．Ａは、Ａ−２である、実施形態１４の化合物。
実施形態１７．Ａは、Ａ−３またはＡ−４である、実施形態１〜１１のいずれか１つの化合物。
実施形態１８．Ａは、Ａ−４である、実施形態１７の化合物。
実施形態１９．Ａは、
から選択される、実施形態１〜１２、１４または１５のいずれか１つの化合物。
実施形態２０．Ａは、Ａ−１−ＡおよびＡ−１−Ｂから選択される、実施形態１９の化合物。
実施形態２１．Ａは、Ａ−１−Ａである、実施形態２０の化合物。
実施形態２２．Ａは、
から選択される、実施形態１〜１２、１４または１６のいずれか１つの化合物。
実施形態２３．Ａは、Ａ−２−Ａである、実施形態２２の化合物。
実施形態２４．
ｍは、０または１であり；
ｎは、０または１である、
実施形態１９〜２３のいずれか１つの化合物。
ｍは、０または１であり；
ｎは、０または１である、
実施形態１９〜２３のいずれか１つの化合物。
実施形態２５．
ｍは、１であり、ＯまたはＳヘテロ原子に隣接する位置に位置し；
ｎは、１であり、式１の残部の結合点に隣接する位置に位置する、
実施形態２４の化合物。
ｍは、１であり、ＯまたはＳヘテロ原子に隣接する位置に位置し；
ｎは、１であり、式１の残部の結合点に隣接する位置に位置する、
実施形態２４の化合物。
実施形態２６．
ｍは、０であり；
ｎは、１である、
実施形態２４の化合物。
ｍは、０であり；
ｎは、１である、
実施形態２４の化合物。
実施形態２７．
ｍは、１であり；
ｎは、０である、
実施形態２４の化合物。
ｍは、１であり；
ｎは、０である、
実施形態２４の化合物。
実施形態２８．Ａは、
である、実施形態１〜１３、または１７のいずれか１つの化合物。
実施形態２９．Ａは、
である、実施形態１〜１１、１７または１８のいずれか１つの化合物。
実施形態３０．
ｍは、０または１であり；
ｎは、０または１である、
実施形態２８または２９の化合物。
ｍは、０または１であり；
ｎは、０または１である、
実施形態２８または２９の化合物。
実施形態３１．
ｍは、０であり；
ｎは、１である、
実施形態３０の化合物。
ｍは、０であり；
ｎは、１である、
実施形態３０の化合物。
実施形態３２．
ｍは、１であり；
ｎは、０である、
実施形態３０の化合物。
ｍは、１であり；
ｎは、０である、
実施形態３０の化合物。
実施形態３３．Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−Ｃ（＝Ｓ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ８、−ＣＯＮＲ９Ｒ１０もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルキニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキルである、実施形態１〜３２のいずれか１つの化合物。
実施形態３４．Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８、−ＣＯＮＲ９Ｒ１０もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルケニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキルである、実施形態３３の化合物。
実施形態３５．Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルである、実施形態３４の化合物。
実施形態３６．Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８；またはＣ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルである、実施形態３５の化合物。
実施形態３７．Ｇ１は、Ｈである、実施形態３６の化合物。
実施形態３８．Ｇ１は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７である、実施形態３６の化合物。
実施形態３９．Ｇ１は、−ＣＯ２Ｒ８である、実施形態３６の化合物。
実施形態４０．Ｇ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキルである、実施形態３６の化合物。
実施形態４１．Ｇ１は、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルである、実施形態３６の化合物。
実施形態４２．Ｇは、Ｇ１である、実施形態１〜４１のいずれか１つの化合物。
実施形態４３．Ｇは、Ｗ１Ｇ１である、実施形態１〜４１のいずれか１つの化合物。
実施形態４４．Ｗ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルカンジイルまたはＣ２〜Ｃ３アルケンジイルである、実施形態４３の化合物。
実施形態４５．Ｗ１は、−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−である、実施形態４４の化合物。
実施形態４６．Ｗ１は、−ＣＨ２−である、実施形態４５の化合物。
実施形態４７．Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＣＨＯ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルキルカルボニルアルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ７アルキルカルボニルオキシ、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノ、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシまたはＣ１〜Ｃ５アルキルチオである、実施形態１〜４６のいずれか１つの化合物。
実施形態４８．Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＣＨＯ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ７アルキルカルボニルオキシ、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキルまたはＣ１〜Ｃ７アルコキシである、実施形態４７の化合物。
実施形態４９．Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシである、実施形態４８の化合物。
実施形態５０．Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、シクロプロピル、Ｃ１〜Ｃ２ハロアルキル、メトキシまたはエトキシである、実施形態４９の化合物。
実施形態５１．Ｒ２は、Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、メチルまたはメトキシである、実施形態５０の化合物。
実施形態５２．Ｒ２は、Ｈ、Ｃｌ、メチルまたはメトキシである、実施形態５１の化合物。
実施形態５３．Ｒ２は、Ｃｌまたはメチルである、実施形態５２の化合物。
実施形態５４．Ｒ２は、Ｈ以外である、実施形態１〜５２のいずれか１つの化合物。
実施形態５５．Ｒ２は、フェニル以外である、実施形態１〜５２のいずれか１つの化合物。
実施形態５６．各Ｘ１は、独立してＮである、実施形態１〜５５のいずれか１つの化合物。
実施形態５７．各Ｘ１は、独立してＣＲ３である、実施形態１〜５５のいずれか１つの化合物。
実施形態５８．各Ｘ２は、独立してＮである、実施形態１〜５７のいずれか１つの化合物。
実施形態５９．各Ｘ２は、独立してＣＲ３である、実施形態１〜５７のいずれか１つの化合物。
実施形態６０．各Ｘ３は、独立してＮである、実施形態１〜５９のいずれか１つの化合物。
実施形態６１．各Ｘ３は、独立してＣＲ３である、実施形態１〜５９のいずれか１つの化合物。
実施形態６２．各Ｘ４は、独立してＮである、実施形態１〜６１のいずれか１つの化合物。
実施形態６３．各Ｘ４は、独立してＣＲ４である、実施形態１〜６１のいずれか１つの化合物。
実施形態６４．各Ｘ５は、独立してＮである、実施形態１〜６３のいずれか１つの化合物。
実施形態６５．各Ｘ５は、独立してＣＲ４である、実施形態１〜６３のいずれか１つの化合物。
実施形態６６．各Ｘ６は、独立してＮである、実施形態１〜６５のいずれか１つの化合物。
実施形態６７．各Ｘ６は、独立してＣＲ４である、実施形態１〜６５のいずれか１つの化合物。
実施形態６８．Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−として一緒になる（即ち、Ａ−３またはＡ−４の残部と一緒になって環を形成する）、実施形態１〜６７のいずれか１つの化合物。
実施形態６９．Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０は、−Ｎ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−として一緒になる（即ち、Ａ−３またはＡ−４の残部と一緒になって環を形成する）、実施形態１〜６７のいずれか１つの化合物。
実施形態７０．Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０は、−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−として一緒になる（即ち、Ａ−３またはＡ−４の残部と一緒になって環を形成する）、実施形態１〜６７のいずれか１つの化合物。
実施形態７１．Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０は、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｎ＝ＣＨ−として一緒になる（即ち、Ａ−３またはＡ−４の残部と一緒になって環を形成する）、実施形態１〜６７のいずれか１つの化合物。
実施形態７２．Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０は、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ−として一緒になる（即ち、Ａ−３またはＡ−４の残部と一緒になって環を形成する）、実施形態１〜６７のいずれか１つの化合物。
実施形態７３．Ｙ１は、ＯまたはＳである、実施形態１〜７２のいずれか１つの化合物。
実施形態７４．Ｙ１は、Ｏである、実施形態７３の化合物。
実施形態７５．Ｙ１は、Ｓである、実施形態７３の化合物。
実施形態７６．Ｙ２は、ＯまたはＳである、実施形態１〜７２のいずれか１つの化合物。
実施形態７７．Ｙ２は、Ｏである、実施形態７６の化合物。
実施形態７８．Ｙ２は、Ｓである、実施形態７６の化合物。
実施形態７９．Ｙ４は、ＯまたはＳである、実施形態１〜７２のいずれか１つの化合物。
実施形態８０．Ｙ４は、Ｏである、実施形態７９の化合物。
実施形態８１．Ｙ４は、Ｓである、実施形態７９の化合物。
実施形態８２．各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシである、式１または実施形態１〜８１のいずれか１つの化合物。
実施形態８３．各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、シクロプロピルまたはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルである、実施形態８２の化合物。
実施形態８４．各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３である、実施形態８３の化合物。
実施形態８５．各Ｒ３は、独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒまたはメチルである、実施形態８４の化合物。
実施形態８６．各Ｒ３は、独立してＨである、実施形態８５の化合物。
実施形態８７．各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシである、実施形態１〜８６のいずれか１つの化合物。
実施形態８８．各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、シクロプロピルまたはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルである、実施形態８７の化合物。
実施形態８９．各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３である、実施形態８８の化合物。
実施形態９０．各Ｒ４は、独立してＨ、メチルまたはエチルである、実施形態８９の化合物。
実施形態９１．Ｒ４は、メチルである、実施形態９０の化合物。
実施形態９２．各Ｒ５は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシである、実施形態１〜８６のいずれか１つの化合物。
実施形態９３．各Ｒ５は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、シクロプロピルまたはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルである、実施形態９２の化合物。
実施形態９４．各Ｒ５は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３である、実施形態９３の化合物。
実施形態９５．各Ｒ５は、独立してＨ、メチルまたはエチルである、実施形態９４の化合物。
実施形態９６．Ｒ５は、Ｈである、実施形態９５の化合物。
実施形態９７．Ｒ６は、ＨまたはＣ１〜Ｃ３アルキルである、実施形態１〜９６のいずれか１つの化合物。
実施形態９８．Ｒ６は、ＨまたはＣＨ３である、実施形態９７の化合物。
実施形態９９．Ｒ６は、ＣＨ３である、実施形態９８の化合物。
実施形態１００．Ｒ７は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルである、実施形態１〜９９のいずれか１つの化合物。
実施形態１０１．Ｒ７は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルである、実施形態１００の化合物。
実施形態１０２．Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルである、実施形態１０１の化合物。
実施形態１０３．Ｒ７は、独立してＣ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルである、実施形態１０２の化合物。
実施形態１０４．Ｒ８は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルである、実施形態１〜９９のいずれか１つの化合物。
実施形態１０５．Ｒ８は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルである、実施形態１０４の化合物。
実施形態１０６．Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルである、実施形態１０５の化合物。
実施形態１０７．Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルである、実施形態１０６の化合物。
実施形態１０８．Ｒ９は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルである、実施形態１〜９９のいずれか１つの化合物。
実施形態１０９．Ｒ９は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルである、実施形態１０８の化合物。
実施形態１１０．Ｒ９は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルである、実施形態１０９の化合物。
実施形態１１１．Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルである、実施形態１〜９９のいずれか１つの化合物。
実施形態１１２．Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルである、実施形態１１１の化合物。
実施形態１１３．Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシである、実施形態１〜９９のいずれか１つの化合物。
実施形態１１４．Ｒ１１は、ＣＨ３またはＯＣＨ３である、実施形態１１３の化合物。
実施形態１１５．Ｒ１１は、ＯＣＨ３である、実施形態１１４の化合物。
実施形態１１６．ＡがＡ−１であり、Ｒ１がＣＨ３であり、Ｒ２がＣＨ３であり、ＧがＧ１であり、Ｇ１がＨであり、Ｘ１がＣＢｒであり、Ｘ２およびＸ３がいずれもＣＨであり、Ｘ５がＮであり、Ｘ６がＮである場合、Ｙ１は、Ｎ−ＣＨ３以外である、式１の化合物。
実施形態１１７．ＡがＡ−１であり、Ｒ１がＣＨ３であり、Ｒ２がＣｌであり、ＧがＧ１であり、Ｇ１がＨであり、各Ｘ１、Ｘ２およびＸ３がＣＨであり、Ｘ５がＮであり、Ｘ６がＮである場合、Ｙ１は、Ｎ−ＣＨ３以外である、式１の化合物。
実施形態１１８．ＡがＡ−１であり、Ｒ１がＣＨ３であり、Ｒ２がＣＨ３であり、ＧがＧ１であり、Ｇ１が−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７であり、Ｒ７がフェニルであり、Ｘ１、Ｘ２がいずれもＣＨであり、Ｘ３がＣＣｌであり、Ｘ５がＣＣＨ３であり、Ｘ６がＣＨである場合、Ｙ１は、Ｏ以外である、式１の化合物。
実施形態１１９．ＡがＡ−１であり、Ｒ１がＣＨ３であり、Ｒ２がＣｌであり、ＧがＧ１であり、Ｇ１がＨであり、Ｘ１、Ｘ２ Ｘ３がＣＨであり、Ｘ５がＮであり、Ｘ６がＮである場合、Ｙ１は、Ｎ−ＣＨ３以外である、式１の化合物。
実施形態１２０．ＡがＡ−３であり、Ｒ１がＣＨ３であり、Ｒ２がＨであり、ＧがＧ１であり、Ｇ１がＨであり、各Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ７、Ｘ９およびＸ１０がＣＨである場合、Ｘ８は、Ｎ以外である、式１の化合物。
実施形態１２１．Ｒ２は、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノまたはＣ３〜Ｃ７シクロアルキルである、実施形態４７の化合物。
実施形態１２２．Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノまたはＣ２〜Ｃ８ジアルキルアミノである、実施形態１２１の化合物。
実施形態１２３．Ａは、
である、実施形態１〜１３、または１７のいずれか１つの化合物。
実施形態１２４．Ａは、Ａ−１、Ａ−２またはＡ−４である、実施形態１〜１１のいずれか１つの化合物。
実施形態１２５．ＡがＡ−４であり；Ｙ４がＯ、ＳまたはＮＲ６であり；Ｒ６がＨ、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ１〜Ｃ３ハロアルキル以外である場合；Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０のうちの少なくとも１つは、ＣＲ５以外である、式１の化合物。
実施形態１２６．ＡがＡ−３であり；Ｒ１がＣＨ３であり；ＧがＨまたはＣ（＝Ｏ）ＣＨ３であり；Ｒ２がＣｌまたはＢｒである場合、各Ｘ２およびＸ３は、独立してＣＲ３であり；各Ｘ７、Ｘ８およびＸ９は、独立してＣＲ５である、式１の化合物。
実施形態１２７．ＡがＡ−３であり；Ｒ１がＣＨ３であり；ＧがＨまたはＣ（＝Ｏ）ＣＨ３であり；Ｒ２がＣｌまたはＢｒであり；Ｘ２、Ｘ３、Ｘ７、Ｘ８またはＸ９のいずれか１つがＮである場合、第２のＸ２、Ｘ３、Ｘ７、Ｘ８またはＸ９は、ＮまたはＣＲ３であり、Ｒ３は、Ｈ以外である、式１の化合物。
本発明の実施形態は、上記実施形態１〜１２７だけでなく本明細書に記載する他の任意の実施形態も含め、どのように組み合わせることも可能であり、実施形態における可変要素についての説明は、式１の化合物だけでなく、式１の化合物の製造に有用な出発化合物および中間化合物にも関連する。加えて、本発明の実施形態は、上記実施形態１〜１２７だけでなく本明細書に記載する他の任意の実施形態およびそれらの任意の組合せも含め、本発明の組成物および方法に関連する。
実施形態Ａ．
Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルキルカルボニルアルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシ、ベンジルまたはフェニルであり；
Ｗは、Ｏであり；
Ａは、Ａ−１、Ａ−２またはＡ−３であり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−Ｃ（＝Ｓ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ８、−ＣＯＮＲ９Ｒ１０もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルキニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキルであり；
Ｗ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルカンジイルまたはＣ２〜Ｃ３アルケンジイルであり；
Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＣＨＯ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルキルカルボニルアルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ７アルキルカルボニルオキシ、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノ、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシまたはＣ１〜Ｃ５アルキルチオであり；
各Ｘ１は、独立してＣＲ３であり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシであり；
各Ｒ５は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシであり；
Ｒ６は、ＨまたはＣ１〜Ｃ３アルキルであり；
Ｒ７は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ９は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシである、
式１の化合物、そのＮ−オキシドおよび塩、それらを含有する組成物、ならびに望ましくない植生の防除のためのその使用方法。
Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルキルカルボニルアルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシ、ベンジルまたはフェニルであり；
Ｗは、Ｏであり；
Ａは、Ａ−１、Ａ−２またはＡ−３であり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−Ｃ（＝Ｓ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ８、−ＣＯＮＲ９Ｒ１０もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルキニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキルであり；
Ｗ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルカンジイルまたはＣ２〜Ｃ３アルケンジイルであり；
Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＣＨＯ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルキルカルボニルアルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ７アルキルカルボニルオキシ、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノ、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシまたはＣ１〜Ｃ５アルキルチオであり；
各Ｘ１は、独立してＣＲ３であり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシであり；
各Ｒ５は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシであり；
Ｒ６は、ＨまたはＣ１〜Ｃ３アルキルであり；
Ｒ７は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ９は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシである、
式１の化合物、そのＮ−オキシドおよび塩、それらを含有する組成物、ならびに望ましくない植生の防除のためのその使用方法。
実施形態Ｂ．
Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシまたはベンジルであり；
Ａは、Ａ−１またはＡ−２であり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８、−ＣＯＮＲ９Ｒ１０もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルケニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキルであり；
Ｗ１は、−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＣＨＯ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ７アルキルカルボニルオキシ、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキルまたはＣ１〜Ｃ７アルコキシであり；
各Ｘ２は、独立してＣＲ３であり；
各Ｘ５は、独立してＣＲ４であり；
Ｙ１は、ＯまたはＳであり；
Ｙ２は、ＯまたはＳであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、シクロプロピルまたはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、シクロプロピルまたはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルであり；
Ｒ７は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ９は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、ＣＨ３またはＯＣＨ３である、
実施形態Ａの化合物。
Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシまたはベンジルであり；
Ａは、Ａ−１またはＡ−２であり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８、−ＣＯＮＲ９Ｒ１０もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルケニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキルであり；
Ｗ１は、−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＣＨＯ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ７アルキルカルボニルオキシ、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキルまたはＣ１〜Ｃ７アルコキシであり；
各Ｘ２は、独立してＣＲ３であり；
各Ｘ５は、独立してＣＲ４であり；
Ｙ１は、ＯまたはＳであり；
Ｙ２は、ＯまたはＳであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、シクロプロピルまたはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、シクロプロピルまたはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルであり；
Ｒ７は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ９は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、ＣＨ３またはＯＣＨ３である、
実施形態Ａの化合物。
実施形態Ｃ．
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルであり；
Ａは、
から選択され；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり；
Ｗ１は、−ＣＨ２−であり；
Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３であり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３であり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、ＯＣＨ３である、
実施形態Ｂの化合物。
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルであり；
Ａは、
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり；
Ｗ１は、−ＣＨ２−であり；
Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３であり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３であり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、ＯＣＨ３である、
実施形態Ｂの化合物。
実施形態Ｄ．
Ｒ１は、メチル、エチル、ｎ−プロピルまたは２−メトキシエチルであり；
Ａは、Ａ−１−ＡおよびＡ−１−Ｂから選択され；
Ｇは、Ｇ１であり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８；またはＣ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり；
Ｒ２は、Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、メチルまたはメトキシであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒまたはメチルであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、メチルまたはエチルであり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルである、
実施形態Ｃの化合物。
Ｒ１は、メチル、エチル、ｎ−プロピルまたは２−メトキシエチルであり；
Ａは、Ａ−１−ＡおよびＡ−１−Ｂから選択され；
Ｇは、Ｇ１であり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８；またはＣ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり；
Ｒ２は、Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、メチルまたはメトキシであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒまたはメチルであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、メチルまたはエチルであり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルである、
実施形態Ｃの化合物。
実施形態Ｅ．
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルであり；
Ａは、
から選択され；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり；
Ｗ１は、−ＣＨ２−であり；
Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３であり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３であり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、ＯＣＨ３である、
実施形態Ｂの化合物。
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルであり；
Ａは、
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり；
Ｗ１は、−ＣＨ２−であり；
Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３であり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３であり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、ＯＣＨ３である、
実施形態Ｂの化合物。
実施形態Ｆ．
Ｒ１は、メチル、エチル、ｎ−プロピルまたは２−メトキシエチルであり；
Ａは、Ａ−２−Ａであり；
Ｇは、Ｇ１であり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８；またはＣ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり；
Ｒ２は、Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、メチルまたはメトキシであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒまたはメチルであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、メチルまたはエチルであり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルである、
実施形態Ｅの化合物。
Ｒ１は、メチル、エチル、ｎ−プロピルまたは２−メトキシエチルであり；
Ａは、Ａ−２−Ａであり；
Ｇは、Ｇ１であり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８；またはＣ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり；
Ｒ２は、Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、メチルまたはメトキシであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒまたはメチルであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、メチルまたはエチルであり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルである、
実施形態Ｅの化合物。
特定の実施形態は、以下からなる群から選択される式１の化合物を含む：
４−（２，６−ジメチル−７−ベンゾフラニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１０）；
５−（アセチルオキシ）−４−（２，６−ジメチル−７−ベンゾフラニル）−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１１）；
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（３−メチル−１，２−ベンゾイソチアゾール−４−イル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物２５）；
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（５−メチルベンゾ［ｂ］チエン−４−イル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物２９）；および
１，６−ジヒドロ−１，３−ジメチル−５−（５−メチルベンゾ［ｂ］チエン−４−イル）−６−オキソ−４−ピリダジニルエチルカルボナート（化合物３０）。
４−（２，６−ジメチル−７−ベンゾフラニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１０）；
５−（アセチルオキシ）−４−（２，６−ジメチル−７−ベンゾフラニル）−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１１）；
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（３−メチル−１，２−ベンゾイソチアゾール−４−イル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物２５）；
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（５−メチルベンゾ［ｂ］チエン−４−イル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物２９）；および
１，６−ジヒドロ−１，３−ジメチル−５−（５−メチルベンゾ［ｂ］チエン−４−イル）−６−オキソ−４−ピリダジニルエチルカルボナート（化合物３０）。
特定の実施形態は、以下からなる群から選択される式１の化合物を含む：
４−（２，６−ジメチル−７−ベンゾフラニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１０）；
５−（アセチルオキシ）−４−（２，６−ジメチル−７−ベンゾフラニル）−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１１）；および
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（３−メチル−１，２−ベンゾイソチアゾール−４−イル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物２５）。
４−（２，６−ジメチル−７−ベンゾフラニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１０）；
５−（アセチルオキシ）−４−（２，６−ジメチル−７−ベンゾフラニル）−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１１）；および
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（３−メチル−１，２−ベンゾイソチアゾール−４−イル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物２５）。
本発明の特定の実施形態は、以下である式１の化合物である：
４−（２，６−ジメチル−７−ベンゾフラニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１０）。
４−（２，６−ジメチル−７−ベンゾフラニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１０）。
本発明は更に、本発明の化合物（例えば、本明細書に記載する組成物として）の除草有効量を植生の生息地に施用することを含む、望ましくない植生を防除する方法に関する。使用方法に関する実施形態として注目すべきは、上記実施形態の化合物が関与するものである。本発明の化合物は、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、ダイズ、ヒマワリ、ワタ、ナタネおよびイネ、ならびにサトウキビ、柑橘類、果樹および堅果農作物のような特殊農作物のような農作物における雑草の選択的な防除に特に有用である。
上記実施形態の化合物を含む本発明の除草用組成物も、実施形態として注目に値する。
本発明は、（ａ）式１から選択される化合物、そのＮ−オキシドおよび塩と、（ｂ）（ｂ１）光化学系ＩＩ阻害剤、（ｂ２）アセトヒドロキシ酸シンターゼ（ＡＨＡＳ）阻害剤、（ｂ３）アセチル−ＣｏＡカルボキシラーゼ（ＡＣＣａｓｅ）阻害剤、（ｂ４）オーキシン模倣体、（ｂ５）５−エノール−ピルビルシキミ酸−３−リン酸（ＥＰＳＰ）シンターゼ阻害剤、（ｂ６）光化学系Ｉ電子ダイバータ、（ｂ７）プロトポルフィリノーゲンオキシダーゼ（ＰＰＯ）阻害剤、（ｂ８）グルタミンシンセターゼ（ＧＳ）阻害剤、（ｂ９）超長鎖脂肪酸（ＶＬＣＦＡ）エロンガーゼ阻害剤、（ｂ１０）オーキシン輸送阻害剤、（ｂ１１）フィトエンデサチュラーゼ（ＰＤＳ）阻害剤、（ｂ１２）４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ（ＨＰＰＤ）阻害剤、（ｂ１３）ホモゲンチジン酸ソラネシルトランスフェラーゼ（ＨＳＴ）阻害剤、（ｂ１４）セルロース生合成阻害剤、（ｂ１５）有糸分裂撹乱物質、有機ヒ素剤、アシュラム、ブロモブチド、シンメシリン、クミルロン、ダゾメット、ジフェンゾコート、ダイムロン、エトベンザニド、フルレノール、ホサミン、ホサミン−アンモニウム、ヒダントシジン、メタム、メチルダイムロン、オレイン酸、オキサジクロメフォン、ペラルゴン酸およびピリブチカルブを含む他の除草剤、および（ｂ１６）除草剤薬害軽減剤；ならびに（ｂ１）〜（ｂ１６）の化合物の塩から選択される少なくとも１種の追加の有効成分とを含む除草用混合物を更に含む。
「光化学系ＩＩ阻害剤」（ｂ１）は、ＱＢ結合ニッチにおいてＤ−１タンパク質に結合し、それにより、葉緑体チラコイド膜におけるＱＡからＱＢへの電子輸送をブロックする化合物である。光化学系ＩＩを介した受け渡しがブロックされた電子は、一連の反応を介して輸送されて毒性のある化合物を形成し、これが細胞膜を破壊して、葉緑体の膨潤、膜漏出を生じさせ、究極的には細胞破壊をもたらす。ＱＢ結合ニッチは３つの異なる結合部位を有し：結合部位Ａは、アトラジンのようなトリアジン、ヘキサジノンのようなトリアジノン、およびブロマシルのようなウラシルを結合させ、結合部位Ｂは、ジウロンのようなフェニル尿素を結合させ、結合部位Ｃは、ベンタゾンのようなベンゾチアジアゾール、ブロモキシニルのようなニトリル、およびピリデートのようなフェニルピリダジンを結合させる。光化学系ＩＩ阻害剤の例としては、アメトリン、アミカルバゾン、アトラジン、ベンタゾン、ブロマシル、ブロモフェノキシム、ブロモキシニル、クロルブロムロン、クロリダゾン、クロロトルロン、クロロクスロン、クミルロン、シアナジン、ダイムロン、デスメディファム、デスメトリン、ジメフロン、ジメタメトリン、ジウロン、エチジムロン、フェヌロン、フルオメツロン、ヘキサジノン、アイオキシニル、イソプロツロン、イソウロン、レナシル、リニュロン、メタミトロン、メタベンズチアズロン、メトブロムロン、メトクスロン、メトリブジン、モノリニュロン、ネブロン、ペンタノクロール、フェンメディファム、プロメトン、プロメトリン、プロパニル、プロパジン、ピリダホル、ピリデート、シデュロン、シマジン、シメトリン、テブチウロン、ターバシル、テルブメトン、テルブチラジン、テルブトリンおよびトリエタジンが挙げられる。
「ＡＨＡＳ阻害剤」（ｂ２）は、アセト乳酸シンターゼ（ＡＬＳ）としても公知のアセトヒドロキシ酸シンターゼ（ＡＨＡＳ）を阻害し、それにより、タンパク質合成および細胞成長に必要なバリン、ロイシンおよびイソロイシンのような分枝鎖脂肪族アミノ酸の産生を阻害して植物を死滅させる化合物である。ＡＨＡＳ阻害剤の例としては、アミドスルフロン、アジムスルフロン、ベンスルフロン−メチル、ビスピリバク−ナトリウム、クロランスラム−メチル、クロリムロン−エチル、クロルスルフロン、シノスルフロン、シクロスルファムロン、ジクロスラム、エタメトスルフロン−メチル、エトキシスルフロン、フラザスルフロン、フロラスラム、フルカルバゾン−ナトリウム、フルメツラム、フルピルスルフロン−メチル、フルピルスルフロン−ナトリウム、ホラムスルフロン、ハロスルフロン−メチル、イマザメタベンゾ−メチル、イマザモキス、イマザピック、イマザピル、イマザキン、イマゼタピル、イマゾスルフロン、ヨードスルフロン−メチル（ナトリウム塩を含む）、イオフェンスルフロン（２−ヨード−Ｎ−［［（４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−トリアジン−２−イル）アミノ］カルボニル］ベンゼンスルホンアミド）、メソスルフロン−メチル、メタゾスルフロン（３−クロロ−４−（５，６−ジヒドロ−５−メチル−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−Ｎ−［［（４，６−ジメトキシ−２−ピリミジニル）アミノ］カルボニル］−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−スルホンアミド）、メトスラム、メトスルフロン−メチル、ニコスルフロン、オキサスルフロン、ペノキススラム、プリミスルフロン−メチル、プロポキシカルバゾン−ナトリウム、プロピリスルフロン（２−クロロ−Ｎ−［［（４，６−ジメトキシ−２−ピリミジニル）アミノ］カルボニル］−６−プロピルイミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジン−３−スルホンアミド）、プロスルフロン、ピラゾスルフロン−エチル、ピリベンゾオキシム、ピリフタリド、ピリミノバク−メチル、ピリチオバク−ナトリウム、リムスルフロン、スルホメツロン−メチル、スルホスルフロン、チエンカルバゾン、チフェンスルフロン−メチル、トリアファモン（Ｎ−［２−［（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）カルボニル］−６−フルオロフェニル］−１，１−ジフルオロ−Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）、トリアスルフロン、トリベヌロン−メチル、トリフロキシスルフロン（ナトリウム塩を含む）、トリフルスルフロン−メチルおよびトリトスルフロンが挙げられる。
「ＡＣＣａｓｅ阻害剤」（ｂ３）は、植物における脂質および脂肪酸合成の早期段階の触媒作用を担うアセチル−ＣｏＡカルボキシラーゼ酵素を阻害する化合物である。脂質は細胞膜の必須成分であり、脂質なしで新しい細胞を生成することはできない。アセチルＣｏＡカルボキシラーゼの阻害と、その後の脂質産生の不足によって、とりわけ、分裂組織のような活発な成長領域における細胞膜の完全性が失われることとなる。最終的に、苗条および根茎の成長が止まり、苗条分裂組織および根茎芽の枝枯れが始まる。ＡＣＣａｓｅ阻害剤の例としては、アロキシジム、ブトロキシジム、クレトジム、クロジナホップ、シクロキシジム、シハロホップ、ジクロホップ、フェノキサプロップ、フルアジホップ、ハロキシホップ、ピノキサデン、プロホキシジム、プロパキザホップ、キザロホップ、セトキシジム、テプラロキシジムおよびトラルコキシジムが挙げられ、フェノキサプロップ−Ｐ、フルアジホップ−Ｐ、ハロキシホップ−Ｐおよびキザロホップ−Ｐのような分割形態、ならびにクロジナホップ−プロパルギル、シハロホップ−ブチル、ジクロホップ−メチルおよびフェノキサプロップ−Ｐ−エチルのようなエステル形態が含まれる。
オーキシンは、多くの植物組織において成長を制御する植物ホルモンである。「オーキシン模倣体」（ｂ４）は、植物成長ホルモンであるオーキシンを模倣し、それにより、制御されない無秩序な成長を生じさせ、感受性種における植物死を生じさせる化合物である。オーキシン模倣体の例としては、アミノシクロピラクロル（６−アミノ−５−クロロ−２−シクロプロピル−４−ピリミジンカルボン酸）とそのメチルエステルおよびエチルエステルならびにそのナトリウム塩およびカリウム塩、アミノピラリド、ベナゾリン−エチル、クロラムベン、クラシホス、クロメプロップ、クロピラリド、ジカンバ、２，４−Ｄ、２，４−ＤＢ、ジクロルプロップ、フルロキシピル、ハラウキシフェン（４−アミノ−３−クロロ−６−（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）−２−ピリジンカルボン酸）、ハラウキシフェン−メチル（メチル４−アミノ−３−クロロ−６−（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）−２−ピリジンカルボキシラート）、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、メコプロップ、ピクロラム、キンクロラック、キンメラック、２，３，６−ＴＢＡ、トリクロピル、およびメチル４−アミノ−３−クロロ−６−（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）−５−フルオロ−２−ピリジンカルボキシラートが挙げられる。
「ＥＰＳＰシンターゼ阻害剤」（ｂ５）は、チロシン、トリプトファンおよびフェニルアラニンのような芳香族アミノ酸の合成に関与する酵素である５−エノール−ピルビルシキミ酸−３−リン酸シンターゼを阻害する化合物である。ＥＰＳＰ阻害剤除草剤は、植物群葉を介して容易に吸収され、師部内を成長点へと移動する。グリホサートは、この群に属する比較的非選択的な発生後処理除草剤である。グリホサートとしては、アンモニウム、イソプロピルアンモニウム、カリウム、ナトリウム（セスキナトリウムを含む）およびトリメシウム（代替名：スルホサート）などのエステルおよび塩が挙げられる。
「光化学系Ｉ電子ダイバータ」（ｂ６）は、光化学系Ｉから電子を受け取り、数サイクル後にヒドロキシルラジカルを生成する化合物である。これらのラジカルは極めて反応性が高く、膜脂肪酸およびクロロフィルを含む不飽和脂質を容易に破壊する。これにより細胞膜の完全性が損なわれ、従って、細胞および細胞小器官に「漏出」を生じさせ、葉が急速にしおれ、乾燥することとなり、最終的には植物死に至る。この第２のタイプの光合成阻害剤の例としては、ジクワットおよびパラコートが挙げられる。
「ＰＰＯ阻害剤」（ｂ７）は、酵素であるプロトポルフィリノーゲンオキシダーゼを阻害して、植物中において、細胞膜を破壊し細胞液を漏出させる反応性の高い化合物を急速に形成させる化合物である。ＰＰＯ阻害剤の例としては、アシフルオルフェン−ナトリウム、アザフェニジン、ベンズフェンジゾン、ビフェノキス、ブタフェナシル、カルフェントラゾン、カルフェントラゾン−エチル、クロメトキシフェン、シニドン−エチル、フルアゾレート、フルフェンピル−エチル、フルミクロラク−ペンチル、フルミオキサジン、フルオログリコフェン−エチル、フルチアセト−メチル、ホメサフェン、ハロサフェン、ラクトフェン、オキサジアルギル、オキサジアゾン、オキシフルオルフェン、ペントキサゾン、プロフルアゾール、ピラクロニル、ピラフルフェン−エチル、サフルフェナシル、スルフェントラゾン、チジアジミン、トリフルジモキサジン（ジヒドロ−１，５−ジメヒル−６−チオキソ−３−［２，２，７−トリフルオロ−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−４−（２−プロピン−１−イル）−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−６−イル］−１，３，５−トリアジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオン）およびチアフェナシル（メチルＮ−［２−［［２−クロロ−５−［３，６−ジヒドロ−３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１（２Ｈ）−ピリミジニル］−４−フルオロフェニル］チオ］−１−オキソプロピル］−β−アラニネート）が挙げられる。
「ＧＳ阻害剤」（ｂ８）は、植物がアンモニアのグルタミンへの転換に用いるグルタミンシンセターゼ酵素の活性を阻害する化合物である。従って、アンモニアが蓄積し、グルタミンレベルが低下する。植物損傷は、おそらく、アンモニアの毒性と他の代謝プロセスに必要なアミノ酸の欠乏との複合効果により生じる。ＧＳ阻害剤としては、グルホシネートと、グルホシネート−アンモニウムおよび他のホスフィノトリシン誘導体、グルホシネート−Ｐ（（２Ｓ）−２−アミノ−４−（ヒドロキシメチルホスフィニル）ブタン酸）およびビラナホスのようなそのエステルおよび塩が挙げられる。
「ＶＬＣＦＡエロンガーゼ阻害剤」（ｂ９）は、エロンガーゼを阻害する多種多様な化学構造を有する除草剤である。エロンガーゼは、ＶＬＣＦＡの生合成に関与する、葉緑体中またはその付近に存在する酵素の１種である。植物中で、超長鎖脂肪酸は、葉面における乾燥を防止し、花粉粒に安定性をもたらす疎水性ポリマーの主要構成成分である。このような除草剤としては、アセトクロール、アラクロール、アニロホス、ブタクロール、カフェンストロール、ジメタクロール、ジメテナミド、ジフェナミド、フェノキサスルホン（３−［［（２，５−ジクロロ−４−エトキシフェニル）メチル］スルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール）、フェントラザミド、フルフェナセット、インダノファン、メフェナセット、メタザクロール、メトラクロール、ナプロアニリド、ナプロパミド、ナプロパミド−Ｍ（（２Ｒ）−Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−（１−ナフタレニルオキシ）プロパンアミド）、ペトキサミド、ピペロホス、プレチラクロール、プロパクロール、プロピソクロール、ピロキサスルホン、およびテニルクロールが挙げられ、Ｓメトラクロール、クロロアセタミドおよびオキシアセタミドのような分割形態が含まれる。
「オーキシン輸送阻害剤」（ｂ１０）は、オーキシン担体タンパク質と結合することなどにより植物中のオーキシン輸送を阻害する化学物質である。オーキシン輸送阻害剤の例としては、ジフルフェンゾピル、ナプタラム（Ｎ−（１−ナフチル）−フタルアミド酸および２−［（１−ナフタレニルアミノ）カルボニル］安息香酸としても公知である）が挙げられる。
「ＰＤＳ阻害剤」（ｂ１１）は、フィトエンデサチュラーゼ工程におけるカロテノイド生合成経路を阻害する化合物である。ＰＤＳ阻害剤の例としては、ベフルブタミド、ジフルフェニカン、フルリドン、フルロクロリドン、フルルタモンノルフルルゾンおよびピコリナフェンが挙げられる。
「ＨＰＰＤ阻害剤」（ｂ１２）は、４−ヒドロキシフェニル−ピルビン酸ジオキシゲナーゼの合成の生合成を阻害する化学物質である。ＨＰＰＤ阻害剤の例としては、ベンゾビシクロン、ベンゾフェナプ、ビシクロピロン（４−ヒドロキシ−３−［［２−［（２−メトキシエトキシ）メチル］−６−（トリフルオロメチル）−３−ピリジニル］カルボニル］ビシクロ［３．２．１］オクタ−３−エン−２−オン）、フェンキノトリオン（２−［［８−クロロ−３，４−ジヒドロ−４−（４−メトキシフェニル）−３−オキソ−２−キノキサリニル］カルボニル］−１，３−シクロヘキサンジオン）、イソキサクロルトール、イソキサフルトール、メソトリオン、ピラスルホトール、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、スルコトリオン、テフリルトリオン、テンボトリオン、トルピラレート（１−［［１−エチル−４−［３−（２−メトキシエトキシ）−２−メチル−４−（メチルスルホニル）ベンゾイル］−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］オキシ］エチルメチルカルボネート）、トプラメゾン、５−クロロ−３−［（２−ヒドロキシ−６−オキソ−１−シクロヘキセン−１−イル）カルボニル］−１−（４−メトキシフェニル）−２（１Ｈ）−キノキサリノン、４−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン、４−（４−フルオロフェニル）−６−［（２−ヒドロキシ−６−オキソ−１−シクロヘキセン−１−イル）カルボニル］−２−メチル−１，２，４−トリアジン−３，５（２Ｈ，４Ｈ）−ジオン、５−［（２−ヒドロキシ−６−オキソ−１−シクロヘキセン−１−イル）カルボニル］−２−（３−メトキシフェニル）−３−（３−メトキシプロピル）−４（３Ｈ）−ピリミジノン、２−メチル−Ｎ−（４−メチル−１，２，５−オキサジアゾール−３−イル）−３−（メチルスルフィニル）−４−（トリフルオロメチル）ベンズアミドおよび２−メチル−３−（メチルスルホニル）−Ｎ−（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）−４−（トリフルオロメチル）ベンズアミドが挙げられる。
ＨＳＴ阻害剤（ｂ１３）は、ホモゲンチジン酸を２−メチル−６−ソラニル−１，４−ベンゾキノンに変換する植物の能力を撹乱し、それにより、カロテノイド生合成を撹乱する。ＨＳＴ阻害剤の例としては、シクロピリモレート（６−クロロ−３−（２−シクロプロピル−６−メチルフェノキシ）−４−ピリダジニル４−モルホリンカルボキシレート）、ハロキシジン、ピリクロル、３−（２−クロロ−３，６−ジフルオロフェニル）−４−ヒドロキシ−１−メチル−１，５−ナフチリジン−２（１Ｈ）−オン、７−（３，５−ジクロロ−４−ピリジニル）−５−（２，２−ジフルオロエチル）−８−ヒドロキシピリド［２，３−ｂ］ピラジン−６（５Ｈ）−オンおよび４−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンが挙げられる。
ＨＳＴ阻害剤としては更に、式ＡおよびＢの化合物が挙げられる。
（式中、Ｒｄ１は、Ｈ、ＣｌまたはＣＦ３であり；Ｒｄ２は、Ｈ、ＣｌまたはＢｒであり；Ｒｄ３は、ＨまたはＣｌであり；Ｒｄ４は、Ｈ、ＣｌまたはＣＦ３であり；Ｒｄ５は、ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ３またはＣＨ２ＣＨＦ２であり；Ｒｄ６は、ＯＨまたは−ＯＣ（＝Ｏ）−ｉ−Ｐｒであって；Ｒｅ１は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＨ３またはＣＨ２ＣＨ３であり；Ｒｅ２は、ＨまたはＣＦ３であり；Ｒｅ３は、Ｈ、ＣＨ３またはＣＨ２ＣＨ３であり；Ｒｅ４は、Ｈ、ＦまたはＢｒであり；Ｒｅ５は、Ｃｌ、ＣＨ３、ＣＦ３、ＯＣＦ３またはＣＨ２ＣＨ３であり；Ｒｅ６は、Ｈ、ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨＦ２またはＣ≡ＣＨであり；Ｒｅ７は、ＯＨ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｅｔ、−ＯＣ（＝Ｏ）−ｉ−Ｐｒまたは−ＯＣ（＝Ｏ）−ｔ−Ｂｕであり；Ａｅ８は、ＮまたはＣＨである。）
「セルロース生合成阻害剤」（ｂ１４）は、特定の植物におけるセルロースの生合成を阻害する。若い植物または急速に成長する植物に対して発生前または発生後早期に施用した場合に最も効果的である。セルロース生合成阻害剤の例としては、クロルチアミド、ジクロベニル、フルポキサム、インダジフラム（Ｎ２−［（１Ｒ，２Ｓ）−２，３−ジヒドロ−２，６−ジメチル−１Ｈ−インデン−１−イル］−６−（１−フルオロエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン）、イソキサベンおよびトリアジフラムが挙げられる。
「他の除草剤」（ｂ１５）は、有糸分裂撹乱物質（例えば、フラムプロップ−Ｍ−メチルおよびフラムプロップ−Ｍ−イソプロピル）、有機ヒ素（例えば、ＤＳＭＡ、およびＭＳＭＡ）、７，８−ジヒドロプテロイン酸シンターゼ阻害剤、葉緑体イソプレノイド合成阻害剤および細胞壁生合成阻害剤のような、多様に異なる作用形態を介して作用する除草剤を含む。他の除草剤は、未知の作用形態を有するか、または、（ｂ１）〜（ｂ１４）に列挙した特定のカテゴリに属さないか、または、上記に列挙した作用形態の組合せを介して作用する除草剤を含む。他の除草剤の例としては、アクロニフェン、アスラム、アミトロール、ブロモブチド、シンメチリン、クロマゾン、クミルウロン、ダイムロン、ジフェンゾクアット、エトベンザニド、フルオメツロン、フルレノール、ホサミン、ホサミン−アンモニウム、ダゾメット、ジムロン、イプフェンカルバゾン（１−（２，４−ジクロロフェニル）−Ｎ−（２，４−ジフルオロフェニル）−１，５−ジヒドロ−Ｎ−（１−メチルエチル）−５−オキソ−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−４−カルボキサミド）、メタム、メチルジムロン、オレイン酸、オキサジクロメホン、ペラルゴン酸、ピリブチカルブおよび５−［［（２，６−ジフルオロフェニル）メトキシ］メチル］−４，５−ジヒドロ−５−メチル−３−（３−メチル−２−チエニル）イソオキサゾールが挙げられる。「他の除草剤」（ｂ１５）は、式（ｂ１５Ａ）の化合物を更に含む
（式中、
Ｒ１２は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルまたはＣ４〜Ｃ８シクロアルキルであり；
Ｒ１３は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシであり；
Ｑ１は、フェニル、チエニル、ピリジニル、ベンゾジオキソリル、ナフチル、ナフタレニル、ベンゾフラニル、フラニル、ベンゾチオフェニルおよびピラゾリルからなる群から選択される、場合により置換されている環系であって、置換されている場合、前記環系は１〜３個のＲ１４により置換されており；
Ｑ２は、フェニル、ピリジニル、ベンゾジオキソリル、ピリジノニル、チアジアゾリル、チアゾリルおよびオキサゾリルからなる群から選択される、場合により置換されている環系であって、置換されている場合、前記環系は、１〜３個のＲ１５により置換されており；
各Ｒ１４は、独立してハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ３〜Ｃ８シアノアルキル、シアノ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、ＳＦ５、ＮＨＲ１７；または１〜３個のＲ１６によって場合により置換されているフェニル；または１〜３個のＲ１６によって場合により置換されているピラゾリルであり；
各Ｒ１５は、独立してハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１
〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルであり；
各Ｒ１６は、独立してハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたはＣ１〜Ｃ６ハロアルキルであり；
Ｒ１７は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニルである）。
Ｒ１２は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルまたはＣ４〜Ｃ８シクロアルキルであり；
Ｒ１３は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシであり；
Ｑ１は、フェニル、チエニル、ピリジニル、ベンゾジオキソリル、ナフチル、ナフタレニル、ベンゾフラニル、フラニル、ベンゾチオフェニルおよびピラゾリルからなる群から選択される、場合により置換されている環系であって、置換されている場合、前記環系は１〜３個のＲ１４により置換されており；
Ｑ２は、フェニル、ピリジニル、ベンゾジオキソリル、ピリジノニル、チアジアゾリル、チアゾリルおよびオキサゾリルからなる群から選択される、場合により置換されている環系であって、置換されている場合、前記環系は、１〜３個のＲ１５により置換されており；
各Ｒ１４は、独立してハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ３〜Ｃ８シアノアルキル、シアノ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、ＳＦ５、ＮＨＲ１７；または１〜３個のＲ１６によって場合により置換されているフェニル；または１〜３個のＲ１６によって場合により置換されているピラゾリルであり；
各Ｒ１５は、独立してハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１
〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルであり；
各Ｒ１６は、独立してハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたはＣ１〜Ｃ６ハロアルキルであり；
Ｒ１７は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニルである）。
「他の除草剤」（ｂ１５）が式（ｂ１５Ａ）の化合物を更に含む一実施形態において、Ｒ１２は、ＨまたはＣ１〜Ｃ６アルキルであることが好適であり；より好ましくは、Ｒ１２は、Ｈまたはメチルである。好ましくは、Ｒ１３は、Ｈである。好ましくは、Ｑ１は、フェニル環またはピリジニル環のいずれかであり、各環は、１〜３個のＲ１４により置換されており；より好ましくは、Ｑ１は、１〜２個のＲ１４により置換されているフェニル環である。好ましくは、Ｑ２は、１〜３個のＲ１５により置換されているフェニル環であり；より好ましくは、Ｑ２は、１〜２個のＲ１５により置換されているフェニル環である。好ましくは、各Ｒ１４は、独立してハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシまたはＣ１〜Ｃ３ハロアルコキシであり；より好ましくは、各Ｒ１４は、独立してクロロ、フルオロ、ブロモ、Ｃ１〜Ｃ２ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ２ハロアルコキシまたはＣ１〜Ｃ２アルコキシである。好ましくは、各Ｒ１５は、独立してハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルコキシであり；より好ましくは、各Ｒ１５は、独立してクロロ、フルオロ、ブロモ、Ｃ１〜Ｃ２ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ２ハロアルコキシまたはＣ１〜Ｃ２アルコキシである。「他の除草剤」（ｂ１５）として特に好適なものとしては、以下の（ｂ１５Ａ−１）〜（ｂ１５Ａ−１５）のいずれか１つが挙げられる：
「他の除草剤」（ｂ１５）は、式（ｂ１５Ｂ）の化合物を更に含む
（式中、
Ｒ１８は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルまたはＣ４〜Ｃ８シクロアルキルであり；
各Ｒ１９は、独立してハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ６ハロアルコキシであり；
ｐは、０、１、２または３の整数であり；
各Ｒ２０は、独立してハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ６ハロアルコキシであり；
ｑは、０、１、２または３の整数である）。
Ｒ１８は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルまたはＣ４〜Ｃ８シクロアルキルであり；
各Ｒ１９は、独立してハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ６ハロアルコキシであり；
ｐは、０、１、２または３の整数であり；
各Ｒ２０は、独立してハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ６ハロアルコキシであり；
ｑは、０、１、２または３の整数である）。
「他の除草剤」（ｂ１５）が式（ｂ１５Ｂ）の化合物を更に含む一実施形態において、Ｒ１８は、Ｈ、メチル、エチルまたはプロピルであることが好適であり；より好ましくは、Ｒ１８はＨまたはメチルであり；最も好ましくは、Ｒ１８はＨである。好ましくは、各Ｒ１９は、独立してクロロ、フルオロ、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ３ハロアルコキシであり；より好ましくは、各Ｒ１９は、独立してクロロ、フルオロ、Ｃ１フルオロアルキル（即ち、フルオロメチル、ジフルオロメチルもしくはトリフルオロメチル）またはＣ１フルオロアルコキシ（即ち、トリフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシもしくはフルオロメトキシ）である。好ましくは、各Ｒ２０は、独立してクロロ、フルオロ、Ｃ１ハロアルキルまたはＣ１ハロアルコキシであり；より好ましくは、各Ｒ２０は、独立してクロロ、フルオロ、Ｃ１フルオロアルキル（即ち、フルオロメチル、ジフルオロメチルもしくはトリフルオロメチル）またはＣ１フルオロアルコキシ（即ち、トリフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシもしくはフルオロメトキシ）である。「他の除草剤」（ｂ１５）として特に好適なものとしては、以下の（ｂ１５Ｂ−１）〜（ｂ１５Ｂ−１９）のいずれか１つが挙げられる：
「除草剤薬害軽減剤」（ｂ１６）は、特定の農作物に対する除草剤の植物毒性効果を排除または低減するために、除草剤製剤に添加される物質である。これらの化合物は、除草剤による被害から農作物を保護するが、典型的には、除草剤による望ましくない植生の防除を妨げないものである。除草剤薬害軽減剤の例としては、ベノキサコール、クロキントセト−メキシル、クミルウロン、シオメトリニル、シプロスルファミド、ダイムロン、ジクロルミド、ジシクロノン、ジエトレート、ジメピペレート、フェンクロラゾール−エチル、フェンクロリム、フルラゾール、フルキソフェニム、フリラゾール、イソキサジフェン−エチル、メフェンピル−ジエチル、メフェネート、メトキシフェノン、ナフタル酸無水物、オキサベトリニル、Ｎ−（アミノカルボニル）−２−メチルベンゼンスルホンアミドおよびＮ−（アミノカルボニル）−２−フルオロベンゼンスルホンアミド、１−ブロモ−４−［（クロロメチル）スルホニル］ベンゼン、２−（ジクロロメチル）−２−メチル−１，３−ジオキソラン（ＭＧ １９１）、４−（ジクロロアセチル）−１−オキサ−４−アゾスピロ［４．５］デカン（ＭＯＮ ４６６０）、２，２−ジクロロ−１−（２，２，５−トリメチル−３−オキサゾリジニル）−エタノンおよび２−メトキシ−Ｎ−［［４−［［（メチルアミノ）カルボニル］アミノ］フェニル］スルホニル］−ベンズアミドが挙げられるが、これらに限定されない。
スキーム１〜２５に記載の以下の方法およびそれらの変形の１つまたはそれ以上を用いて式１の化合物を製造することが可能である。以下の式１〜４２の化合物における基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｗ、ＸおよびＧの定義は、特に断りのない限り、発明の概要において上記に定義されている通りである。式１ａ、１ｂおよび１ｃは、式１の化合物の部分集合であり、式１ａ、１ｂおよび１ｃに係る全ての置換基は、特に断りのない限り式１について上記で定義されている通りである。式６ａ、６ｂおよび６ｃは、式６の化合物の部分集合であり、式６ａ、６ｂおよび６ｃに係る全ての置換基は、特に断りのない限り式６について定義した通りである。式３１ａおよび３１ｂは、式３１の化合物の部分集合であり、式３１ａおよび３１ｂに係る全ての置換基は、特に断りのない限り式３１について定義した通りである。
スキーム１に示すように、式１ａのピリダジノン（ＷはＯであり、Ｇは上記に定義した通りであるが、水素以外である、式１の化合物の部分集合）は、適切な溶媒中、塩基の存在下、式１ｂの置換された５−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、Ｗは、Ｏであり、Ｇは、Ｈである、式１）を式２の適切な求電子試薬（即ち、Ｚ１−Ｇ、式中、Ｚ１は、ハロゲンのようなヌクレオフュージ（ｎｕｃｌｅｏｆｕｇｅ）としても知られている脱離基である）と反応させることによって製造することができる。Ｚ１はＣｌである式２を表す試薬クラスの幾つかの例には、酸クロリド（Ｇは−（Ｃ＝Ｏ）Ｒ７）、クロロホルマート（Ｇは−ＣＯ２Ｒ８）、カルバモイルクロリド（Ｇは−ＣＯＮＲ９Ｒ１０）、スルホニルクロリド（Ｇは−Ｓ（Ｏ）２Ｒ７）、およびクロロスルホンアミド（Ｇは−Ｓ（Ｏ）２ＮＲ９Ｒ１０）が含まれる。この反応に適切な塩基の例としては、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウムまたはカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドが挙げられるが、これらに限定されず、使用される特定の塩基に応じ、適切な溶媒はプロトン性または非プロトン性とすることができ、無水で、または水性混合物として使用される。この反応に好適な溶媒としては、アセトニトリル、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、ジクロロメタン、またはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが挙げられる。反応は、一定の温度範囲下で、典型的には０℃〜溶媒の還流温度の範囲の温度で行うことができる。
式１ｂの置換された５−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ピリダジノンは、スキーム２に概説するように、塩基および溶媒の存在下、式３のヒドラジドエステル（式中、Ｒ３０はアルキル、典型的にはメチルまたはエチルである）の環化によって製造することができる。この反応に適する塩基としては、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、カリウムｔ−ブトキシド、または１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンが挙げられるが、これらに限定されない。使用される特定の塩基に応じ、適切な溶媒はプロトン性または非プロトン性とすることができ、無水で、または水性混合物として使用される。この環化のための溶媒としては、アセトニトリル、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジクロロメタン、またはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが挙げられる。この環化のための温度は一般に、０℃〜溶媒の還流温度の範囲である。式ＣＨ３（ＣＯ２Ｃ２Ｈ５）Ｃ＝ＮＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２Ａｒ（式中、Ａｒは式３に示す二環式環系ではなく、置換フェニルである）のヒドラジドエステル中間体を環化して対応する４−アリール−５−ヒドロキシ−ピリダジノンとする文献の方法が、米国特許第８，５４１，４１４号および第８，４７０，７３８号に開示されている。これらの特許に報告されているものと同じ条件が、式３のヒドラゾンエステルの式１ｂのピリダジノンへの環化に適用可能である。スキーム２の方法は、合成例３の工程Ｇに示されている。
式３の置換ヒドラジドエステルは、スキーム３に概説するように、塩基および溶媒の存在下、式４のヒドラゾンエステル（式中、Ｒ３０はアルキル、典型的にはメチルまたはエチルである）と式５の酸クロリドとのカップリングによって製造することができる。この反応に好適な塩基は通常、トリエチルアミンのような第三級アミン、またはヒューニッヒ塩基であるが、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、またはカリウムｔ−ブトキシドなどの他の塩基も使用可能である。使用される特定の塩基に応じ、適切な溶媒はプロトン性または非プロトン性とすることができ、ここで、反応は、無水条件下で、またはショッテン・バウマン条件下で水性混合物として行われる。窒素上でのこのアシル化に使用される溶媒としては、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、トルエン、１，２−ジメトキシエタン、ジクロロメタン、またはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが挙げられる。この反応のための温度は、０℃〜溶媒の還流温度の範囲とすることができる。式ＣＨ３（ＣＯ２Ｃ２Ｈ５）Ｃ＝ＮＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）Ａｒ（式中、Ａｒは置換フェニルである）の関連するヒドラジドエステル中間体を製造する方法が特許文献に公開されており、米国特許第８，５４１，４１４号および８，４７０，７３８号、ならびに米国特許出願公開第２０１０／０２６７５６１号を参照されたい。これらの特許公報に開示されている手順は、スキーム３に示すように、本化合物の製造に有用な中間体の製造に直接適用可能である。
式４のヒドラゾンエステルは、エタノール、メタノール、アセトニトリルまたはジオキサンまたはジクロロメタンのような適切な溶媒中、一般に０〜８０℃の範囲の温度で、式Ｒ１ＮＨＮＨ２の適切に置換されたヒドラジンと式Ｒ２（Ｃ＝Ｏ）ＣＯ２Ｒ３０（式中、Ｒ３０は典型的にはメチルまたはエチル）のケトンまたはアルデヒドエステルとを反応させることによって容易に入手することができる。米国特許出願公開第２００７／０１１２０３８号および第２００５／０２５６１２３号は、メチルヒドラジンおよびケトエステルＣＨ３（Ｃ＝Ｏ）ＣＯ２Ｃ２Ｈ５からこのヒドラゾンを形成する手順を開示する。
スキーム４に示すように、式５の二環式アセチルクロリドは、Ｒ３１は典型的にはメチルまたはエチルである式６の対応する二環式酢酸エステルから、エステル加水分解および酸クロリド形成によって製造することができる。この変換のための標準的な方法は、文献において公知である。例えば、エステル加水分解は、式６のエステルのアルコール溶液をアルカリ金属水酸化物の水溶液と共に加熱し、続いて鉱酸で酸性化することにより達成可能である。次いで、形成された式７のカルボン酸を、ジクロロメタンのような不活性溶媒中、オキサリルクロリドと触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドで処理することにより、式５の対応するアシルクロリドに変換することができる。Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．１９８３、２０（６）、１６９７〜１７０３；Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２００７、５０（１）、４０〜６４；ならびにＰＣＴ特許公報ＷＯ２００５／０１２２９１、ＷＯ９８／４９１４１およびＷＯ９８／４９１５８は、ベンゾフラン−およびベンゾチオフェン−酢酸エステルの対応する酢酸への加水分解を開示している。Ｍｏｎａｔｓｈｅｆｔｅ ｆｕｒ Ｃｈｅｍｉｅ １９６８、９９（２）７１５〜７２０、ならびに特許公報ＷＯ２００４０４６１２２、ＷＯ２００９／０３８９７４およびＪＰ０９０７７７６７は、ベンゾフラン−およびベンゾチオフェン−酢酸の対応する酸クロリドへの変換を開示している。スキーム４の加水分解工程は、合成例３の工程Ｄに示されている。
スキーム５に示すように、式６ａのビシクロフランアセタート（即ち、Ｙ４はＯである式６）は、テトラヒドロフランまたはトルエンのような不活性溶媒中、Ｒ３１は典型的にはメチルまたはエチルである式９の（トリフェニルホスホラニリジン）アセタートとのウィッティヒ反応により、または、一般には無水テトラヒドロフランまたはジオキサンである適切な溶媒中、水素化ナトリウムまたはカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのような塩基の存在下、Ｒ３１は典型的にはメチルまたはエチルである式１０のホスホナートアセタートを使用したワズワース・エモンズ反応によって、式８の二環式フラン−３−オン（式中、ＡはＡ−４である）から製造することができる。この反応は、最初に形成される環外二重結合（ジヒドロベンゾフラン置換不飽和エステルの形成）の二環式フラン環系内部への移動を伴うことにより、式６ａの二環式フランアセタートを生成する。ウィッティヒ変換のための例示的な条件は、ＰＣＴ特許公報ＷＯ２００８／０７４７５２に記載されている。温度は、典型的には０℃〜溶媒の還流温度の範囲である。場合によっては、エステルと共役した環外二重結合を完全二環式フラン環系内の環内位置に移動させるために、より長時間の加熱が必要である。スキーム５の方法は、合成例３の工程Ｂに示されている。
スキーム６に示すように、Ｒ４は水素またはアルキルである式８（式中、Ａは、Ａ−４である）の置換された二環式フラン−３−オンまたは二環式チオフェン−３−オンは、第一に、適切な溶媒、例えば、アセトニトリル、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサンまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中、炭酸カリウムまたは水素化ナトリウムのような塩基の存在下、０℃〜溶媒の還流温度の範囲の温度で、式１１のサリチラートを式１２のα−ブロモエステル（式中、Ｒ３２は、典型的にはメチルまたはエチルである）でアルキル化することによって製造することができる。次に、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのような不活性溶媒中、式１３のビスエステルを金属ハライドまたはアルコキシド、例えば、水素化ナトリウムまたはカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドで処理して式８の対応する二環式フラン−３−オンを形成する。式１３のジエステルを式８の二環式フラン−３−オンに変換する代替的なより段階的な方法が、ＰＣＴ特許公報ＷＯ２００８／０７４７５２に報告されているが、スキーム５の方法は、簡便な一工程で式８の二環式フラン−３−オンを提供するための式１３のジエステルの環化とそれに続くエステル加水分解および脱炭酸を可能にする。
スキーム７に図示するように、Ｒ４は水素またはアルキルである式６ｂの置換された二環式チオフェン（即ち、ＸはＳである式６）は、式１４の適切に置換されたフェニルチオケトエステルを、一般には、酸性条件下、好ましくはポリリン酸（ＰＰＡ）をそのまま、または不活性な概して高沸点の溶媒、例えば、クロロベンゼン、キシレンまたはトルエン中で用いて環化することによって、容易に入手可能である。クロロベンゼンが好適な溶媒である。クロロベンゼン中でＰＰＡを使用するこの環化の文献例については、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．１９８８、２５、１２７１〜１２７２を参照されたい。更に、このＰＰＡ媒介環化を用いてベンゾチオフェンアセタートを製造するための公表された実験の詳細については、米国特許第５３７６６７７号を参照されたい。
スキーム８に示すように、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．１９８８、２５、１２７１〜１２７２および米国特許第５３７６６７７号においても教示されている方法により、溶媒中、塩基の存在下、式１６の４−ブロモ−１，３−ケトエステル（即ち、Ｒ４ＣＨＢｒ（Ｃ＝Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ、式中、Ｒは、一般にメチルまたはエチルである）で式１５のチオ複素環をアルキル化することによって、式１４の置換された４−フェニルチオ−１，３−ケトエステルを容易に製造することができる。アセトニトリルまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのような極性非プロトン性の溶媒中、アルカリまたは炭酸カリウムのようなアルカリ炭酸塩でのアルキル化が一般に好適である。
スキーム９に示すように、式６ｃのヘテロアリール酢酸誘導体（即ち、Ｘは−Ｃ（Ｒ６）＝Ｃ（Ｒ７）−である式６）は、式１７の適切に置換されたヘテロアリールアミンから製造することができる。この方法によれば、１，１−ジクロロエテン（１８）の存在下、式１７のアミンがジアゾ化（好ましくは、アセトニトリル中塩化第二銅の存在下、亜硝酸ｔ−ブチルで）され、式１９の対応するトリクロロエチル複素環が得られる。次いで、式２１のアルコールのような適切な溶媒中、式１９のトリクロロエチル複素環を式２０のナトリウムアルコキシドのような適切なアルカリまたはアルカリ土類アルコキシドと共に加熱し、続いて濃硫酸などを用いて酸性化して式６ｃの複素環式酢酸エステルを得る。この方法は、Ｐｅｓｔ．Ｍａｎａｇ．Ｓｃｉ．２０１１、６７、１４９９〜１５２１、および米国特許第５３７６６７７号に教示されている。
式６ｃのヘテロアリール酢酸エステルを製造する代替的な方法を、スキーム１０に概説する。Ｐｅｓｔ．Ｍａｎａｇ．Ｓｃｉ．２０１１、６７、１４９９〜１５２１に記載の方法に教示されるように、式２２のメチル複素環を、ジクロロメタン、ジクロロエタン、またはテトラクロロメタンのような不活性溶媒中、フリーラジカル条件（例えば、触媒としての過酸化ベンゾイル）下、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（ＮＢＳ）で臭素化して式２３のヘテロアリールメチルブロミドを得ることができる。式２３の化合物をアルカリまたはアルカリシアン化物（例えば、シアン化カリウム）と反応させることによって臭素をシアン化物で置き換えると、式２４のヘテロアリールアセトニトリルが得られ、これを酸性アルコール（例えば、メタノールまたはエタノール中のＨＣｌ）中、一般に溶媒の還流温度で加熱することにより、加水分解して式６ｃの酢酸エステルへエステル化することができる。アルコールＲ３１ＯＨは、低級アルカノールである。
ピリダジノン環の５位の脱離基の加水分解を、スキーム１１に示すように達成することができる。ＬＧ基が低級アルコキシ、低級アルキルスルフィド（スルホキシドまたはスルホン）、ハライド、またはＮ−結合アゾールである場合、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、またはジオキサンのような溶媒中、０〜１２０℃の温度での水酸化テトラブチルアンモニウムのような塩基性試薬による加水分解によって除去することができる。この加水分解に有用な他の水酸化物試薬としては、水酸化カリウム、水酸化リチウムおよび水酸化ナトリウムが挙げられる（例えば、ＷＯ２００９／０８６０４１を参照されたい）。ＬＧ基が低級アルコキシである場合、ＬＧ基の加水分解は、三臭化ホウ素またはモルホリンのような脱アルキル化試薬を用いて達成することもできる（例えば、ＷＯ２００９／０８６０４１、ＷＯ２０１３／１６０１２６およびＷＯ２０１３／０５０４２１を参照されたい）。
ピリダジノンの６位におけるハロゲンの導入は、亜鉛化（ｚｉｎｃａｔｉｏｎ）とそれに続くハロゲン化よって達成可能である。ピリダジノンの亜鉛化の条件、試薬、および例については、Ｖｅｒｈｅｌｓｔ，Ｔ．、Ｐｈ．Ｄ．ｔｈｅｓｉｓ、Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ Ａｎｔｗｅｒｐ、２０１２を参照されたい。典型的には、式２６のピリダジノンを、テトラヒドロフラン中、−２０〜３０℃で、Ｚｎ（ＴＭＰ）−ＬｉＣｌまたはＺｎ（ＴＭＰ）２−ＭｇＣｌ２−ＬｉＣｌ（即ち、トルエン／テトラヒドロフラン中の２，２，６，６−ビス（テトラメチルピペリジン）亜鉛、塩化マグネシウム、塩化リチウム複合体）の溶液で処理して亜鉛試薬を形成する。その後の臭素、Ｎ−ブロモコハク酸イミドまたはヨウ素の添加により、式２７の化合物（式中、Ｒ２は、それぞれＢｒまたはＩである）が得られる。トリクロロイソシアヌル酸または１，３−ジクロロ−５，５−ジメチルヒダントインのような試薬が、式２７の化合物（式中、Ｒ２は、Ｃｌである）を生成する。この方法をスキーム１２に示す。種々の適切な亜鉛化試薬の製造については、Ｗｕｎｄｅｒｌｉｃｈ，Ｓ．Ｐｈ．Ｄ．ｔｈｅｓｉｓ、Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ Ｍｕｎｉｃｈ、２０１０およびこれに引用されている参考文献、ならびにＷＯ２００８／１３８９４６およびＷＯ２０１０／０９２０９６を参照されたい。ピリダジノン環の６位における亜鉛化は、ピリダジノン環の４位に芳香族／ヘテロ芳香族置換基、アルコキシ置換基もしくはハロゲンが存在する場合、またはピリダジノン環の５位にハロゲンまたはアルコキシ置換基が存在する場合に達成可能である。
式２８（式中、Ｒ２はハロゲンまたはスルホナートである）の化合物のＲ２置換基は更に、他の官能基に変換可能である。Ｒ２がアルキル、シクロアルキルまたは置換アルキルである化合物は、スキーム１３に示すように、式２８の化合物の遷移金属触媒反応によって製造可能である。これらのタイプの反応の総説については、以下を参照されたい：Ｅ．Ｎｅｇｉｓｈｉ、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｐａｌｌａｄｉｕｍ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、２００２、Ｎ．Ｍｉｙａｕｒａ、Ｃｒｏｓｓ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ ｒｅａｃｔｉｏｎｓ：Ａ Ｐｒａｃｔｉｃａｌ Ｇｕｉｄｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、２００２、Ｈ． Ｃ．Ｂｒｏｗｎら、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｖｉａ Ｂｏｒａｎｅｓ、Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．、Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ、Ｖｏｌ．３、２００２、Ｓｕｚｕｋｉら、Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗｓ １９９５、９５、２４５７〜２４８３ および Ｍｏｌａｎｄｅｒ ら、Ａｃｃｏｕｎｔｓ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ２００７、４０、２７５〜２８６。更に、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｓｅｒｉｅｓ Ｖｏｌ．２６：Ｐａｌｌａｄｉｕｍ ｉｎ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第２版、ＧｒｉｂｂｌｅおよびＬｉ編、Ｅｌｓｅｖｉｅｒ、Ａｍｓｔｅｒｄａｍ、２００７を参照されたい。ブッフバルト・ハートウィッグ化学の概説については、ＹｕｄｉｎおよびＨａｒｔｗｉｇ、Ｃａｔａｌｙｚｅｄ Ｃａｒｂｏｎ−Ｈｅｔｅｒｏａｔｏｍ Ｂｏｎｄ Ｆｏｒｍａｔｉｏｎ、２０１０、Ｗｉｌｅｙ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋを参照されたい。
式３０ａのＲ２位に他の官能基を導入するための関連する合成方法は、当技術分野で公知である。ＣＦ３基の導入には、銅触媒反応が有用である。この反応のための試薬の最近の包括的概説については、Ｗｕ，ＮｅｕｍａｎｎおよびＢｅｌｌｅｒ、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ：Ａｎ Ａｓｉａｎ Ｊｏｕｒｎａｌ、２０１２、ＡＳＡＰ、およびこれに引用されている参考文献を参照されたい。この位置における硫黄含有置換基の導入については、ＷＯ２０１３／１６０１２６に開示された方法を参照されたい。シアノ基の導入については、ＷＯ２０１４／０３１９７１を参照されたい。ニトロ基の導入については、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、２００９、１２８９８を参照されたい。フルオロ置換基の導入については、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、２０１４、３７９２を参照されたい。
式２８の化合物は、スキーム１４に示すように、式３０の有機金属試薬と４位に反応基を有する式３０ａのピリダジノンとの反応によって製造可能である。脱離基によっては、遷移金属触媒が望ましい場合がある。脱離基が低級アルコキシ、Ｎ−結合アゾール（ピラゾールまたはトリアゾールのような）、またはスルホナートである場合、触媒は不要であり、マグネシウム試薬またはリチウム試薬との直接的な反応が４位において起こり得る。この反応は、有機マグネシウム試薬と反応しない種々の溶媒中で行うことができる。典型的な反応条件は、溶媒としてのテトラヒドロフラン、−２０〜６５℃の反応温度、および過剰量の有機マグネシウムまたは有機リチウム試薬を含む。４位の反応基がハロゲンである場合、遷移金属触媒およびリガンドが有用である。ホウ素（鈴木反応）、スズ（スティル反応）、および亜鉛（根岸反応）を含む、種々の異なるカップリングパートナーを使用可能である；これらの反応は、多種多様なリガンドを有するパラジウムおよびニッケル触媒による触媒作用を受けることができる。これらの反応のための条件は、当技術分野で公知である；例えば、Ｐａｌｌａｄｉｕｍ−Ｃａｔａｌｙｚｅｄ Ｃｏｕｐｌｉｎｇ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ：Ｐｒａｃｔｉｃａｌ Ａｓｐｅｃｔｓ ａｎｄ Ｆｕｔｕｒｅ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ｅｄｉｔｅｄ ｂｙ Ａｒｐａｄ Ｍｏｌｎａｒ、Ｗｉｌｅｙ、２０１３、およびこれに引用されている参考文献を参照されたい。非触媒法で使用される有機マグネシウム試薬は、マグネシウムを炭素−ハロゲン結合に直接挿入（場合によりハロゲン化リチウムの存在下で）することにより、ｉ−プロピルマグネシウムハライドとのグリニャール交換反応（場合によりハロゲン化リチウムの存在下で）により、または臭化マグネシウムエーテラートのようなマグネシウム塩との反応による有機リチウム試薬の変換により製造可能である。有機マグネシウム試薬に対して不活性な種々の基が、これらの反応においてピリダジノンのＲ２および５位に存在可能である。式３０の化合物は、Ｋｎｏｃｈｅｌら、Ａｎｇｅｗ．２０１１、５０、９７９４〜９８２４、およびＨｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ ２０１４、８８、８２７〜８４４に見出される方法に従って製造可能である。
式３０ａの化合物は、当技術分野で公知であるか、ＭａｅｓおよびＬｅｍｉｅｒｅ、Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＩＩＩ Ｖｏｌｕｍｅ ８、Ｋａｔｒｉｔｓｋｙ，Ｒａｍｓｄｅｎ，ＳｃｒｉｖｅおよびＴａｙｌｏｒ編、ならびにこれに引用されている参考文献に記載された方法によって製造可能である。更に、Ｖｅｒｈｅｌｓｔ，Ｐｈ．Ｄ．ｔｈｅｓｉｓ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ Ａｎｔｗｅｒｐ、およびこれに引用されている参考文献を参照されたい。ピリダジノン上における官能基変換は、Ｓｔｅｖｅｎｓｏｎら、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．２００５、４２、４２７；米国特許第６，０７７，９５３号；ＷＯ２００９／０８６０４１およびこれに引用されている参考文献；米国特許第２，７８２，１９５号；ＷＯ２０１３／１６０１２６；ならびにＷＯ２０１３／０５０４２１にも記載されている。
式１ｂの化合物は、水性塩基中での式３１のスルホンの加水分解によっても製造可能である。適する塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、または水酸化テトラブチルアンモニウムが挙げられる。典型的な反応温度は、０〜８０℃の範囲であり、典型的な反応時間は１〜１２時間である。この方法をスキーム１５に示す。
式３１の化合物は、Ｒ１はＨである式３１ａの化合物をハロゲン化アルキルおよびスルホナートでアルキル化することによって製造可能である。この方法に有用な典型的な塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムまたは炭酸セシウムが挙げられる。典型的な溶媒としては、スキーム１６に示すように、アセトニトリル、テトラヒドロフランまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが挙げられる。
式３１ａの化合物は、塩基での処理による式３２の化合物の環化によって製造可能である。この方法に有用な典型的な塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、または炭酸セシウムが挙げられる。典型的な溶媒としては、スキーム１７に示すように、アセトニトリル、テトラヒドロフランまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが挙げられる。
式３２の化合物は、スキーム１８に示す方法によって製造可能である。この方法において、式３３の化合物は、塩基の存在下で式３４の化合物とカップリングされる。この方法に有用な塩基としては、トリエチルアミン、炭酸ナトリウムもしくは炭酸カリウム、ピリジン、またはジイソプロピルエチルアミンが挙げられる。
式３３の化合物は、当技術分野で公知の方法によって製造可能である。
式３４の化合物は、幾つかの方法によって製造可能である。スキーム１９に示す一方法においては、三塩化アルミニウムの存在下で式３５の化合物をまずＣｌＣ（Ｏ）ＣＯ２Ｍｅで処理する。その後のカルボン酸への加水分解とそれに続くオキサリルクロリドでの処理により、式３４のアシルクロリドが得られる。
式３５の化合物は、市販されているか、当技術分野で公知の方法によって製造可能である。
式３４の化合物は、ヘテロ芳香族有機金属試薬と式３６の活性シュウ酸エステルとの反応によっても製造可能である。活性化基は、アルキルエステル、ハロゲン、またはイミダゾールとすることができる。金属は、リチウムまたはマグネシウムとすることができる。パラジウム触媒を利用する場合は、亜鉛およびスズのような他の金属基を使用してもよい。
スキーム２１に示すように、式１ｃの化合物は、式３７の化合物の転位によって製造可能である。この転位は、１１０と３００℃の間の温度で実行可能である。適する溶媒としては、キシレン、ジエチルベンゼン、およびメシチレンのような芳香族炭化水素、ならびにジクロロベンゼンのようなハロゲン化芳香族化合物が挙げられるが、これらに限定されない。Ｄｏｗｔｈｅｒｍ Ａおよびジグリムのような他の高沸点溶媒を採用することも好都合である。特に、イオン性液体を媒体に添加する場合は、沸点がより低い他の多くの溶媒をマイクロ波加熱と併用することができる。
式３７の化合物は、スキーム２２に示すように、式３８のピリダジノンを式３９のハロゲン化アルキルでアルキル化することにより製造可能である。反応は、アセトン、２−ブタノン、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリジノン、ジメチルスルホキシド、およびジメチルホルムアミドのような種々の溶媒中で実施できる。限定されるものではないが、炭酸セシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、または水酸化ナトリウムのような酸受容体の存在が好適である。脱離基Ｙは、ハロゲンまたはスルホナートとすることができる。
式３７の化合物は、スキーム２３に示すように、式４０のピリダジノンと式４１のアルコールとの求核置換反応によっても製造可能である。適する溶媒としては、ジオキサン、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリジノン、ジメチルスルホキシド、およびジメチルホルムアミドが挙げられる。適する酸受容体としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、およびリチウムヘキサメチルジシラジドが挙げられるが、これらに限定されない。
式２５の化合物は、式４２の有機金属ピリダジノンカップリングパートナーと、ハロゲン化ヘテロアリールおよび式４３のスルホナートとのカップリング反応によって製造可能である。有機金属カップリングパートナーは、例えば、有機亜鉛、有機マグネシウム、有機スズ、または有機ホウ素試薬とすることができる。パラジウムテトラキス（トリフェニルホスフィン）のようなパラジウム触媒、ならびにＰｄ２ｄｂａ３およびＰｄ（ＯＡｃ）２のような他のパラジウム源およびホスフィンまたはＮ−複素環式カルベンリガンドから生成された触媒をカップリング手順に使用することができる（Ｍａｅｓら、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、２０１１、７６、９６４８〜９６５９）。Ｘ−Ｐｈｏｓ、Ｓ−ＰｈｏｓおよびＲｕ−Ｐｈｏｓのようなジアルキルビアリールホスフィンリガンドに基づくパラジウムプレ触媒（Ｂｕｃｈｗａｌｄら、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．、２０１３、５２（２）、６１５〜６１９．）、またはＰＥＰＰＳＩ−ｉ−ＰｒおよびＰＥＰＰＳＩ−ｉ−ＰｅｎｔのようなＮ−複素環式カルベンリガンドに由来するプレ触媒（Ｏｒｇａｎら、Ｅｕｒ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２０１０、４３４３〜４３５４）も、このカップリングに影響を及ぼすことができる。反応は、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、およびジオキサンのような溶媒中で実行可能である。カップリングパートナーは、複素環式ハライドまたはスルホナートのいずれかであり得る。反応に特に有用なカップリングパートナーのクラスは、ヘテロ芳香族化合物のノナフラート（ＯＳＯ２Ｃ４Ｆ９）に基づくものである。ハロゲン化複素環式カップリングパートナーは、市販されているか、文献において公知である。とりわけ有用なハロゲン化ベンゾフランは、ＷＯ２００３／０４３６２４に詳述されている方法によってハロゲン化フェノールから製造可能である。ハロゲン化チオフェノールからハロゲン化ベンゾチオフェンを製造するとりわけ有用な方法が、ＷＯ２００１／００２４１１に記載されている。複素環式ハライドの他の有用なクラスおよび合成経路は、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｓｅｒｉｅｓ Ｖｏｌ．２６：Ｐａｌｌａｄｉｕｍ ｉｎ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第２版、ＧｒｉｂｂｌｅおよびＬｉ編、Ｅｌｓｅｖｉｅｒ、Ａｍｓｔｅｒｄａｍ、２００７に記載されている。
ピリダジノンの４位の亜鉛化は、トルエン／テトラヒドロフラン中の２，２，６，６−ビス（テトラメチルピペリジン）亜鉛、塩化マグネシウム、塩化リチウム複合体（即ち、Ｚｎ（ＴＭＰ）−ＬｉＣｌまたはＺｎ（ＴＭＰ）２−ＭｇＣｌ２−ＬｉＣｌ）のような亜鉛化試薬を用いて達成可能である。
この位置のマグネシウム化（ｍａｇｎｅｓｉａｔｉｏｎ）は、Ｍｇ（ＴＭＰ）−ＬｉＣｌでの処理によっても達成可能である。ピリダジノンメタル化、ならびに４−亜鉛化および４−マグネシウム化ピリダジノンのパラジウム触媒クロスカップリングのための条件については、Ｖｅｒｈｅｌｓｔ、Ｔ．，Ｐｈ．Ｄ．ｔｈｅｓｉｓ、Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ Ａｎｔｗｅｒｐ、２０１２を参照されたい。４−スタニルピリダジノンの合成およびクロスカップリング条件は、Ｓｔｅｖｅｎｓｏｎら、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．２００５、４２、４２７により公知である。
スキーム２５に示すように、一般にはピリジン中の五硫化リン、または適切な溶媒（例えば、トルエン、テトラヒドロフラン、またはジオキサン）中のローソン試薬（２，４−ビス−（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン２，４−ジスルフィド）であるチオン化試薬を用い、一般に０℃〜室温の範囲の温度で式１ａのピリダジノン（ＷはＯである式１の化合物の部分集合）をチオン化（ｔｈｉｏｎａｔｅ）して式１ｃの対応するチオン（即ち、ＷはＳである式１）を得ることができる。
当業者であれば認識することであるが、様々な官能基を他の官能基に変換して異なる式１の化合物を得ることが可能である。官能基の相互変換を単純にわかりやすく例示している貴重な資料としては、Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ：Ａ Ｇｕｉｄｅ ｔｏ Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇｒｏｕｐ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｓ、第２版、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９９９を参照されたい。例えば、式１の化合物の製造のための中間体は、芳香族ニトロ基を含有していてもよく、これをアミノ基に還元し、次いで、ザンドマイヤー反応のような当技術分野で周知の反応を介して様々なハロゲン化物に変換して式１の化合物をもたらすことが可能である。上記の反応はまた、多くの事例において、代替的な順序で実行可能である。
式１の化合物の製造について上述した試薬および反応条件の一部は、中間体に存在する特定の官能基には適合しない可能性があることが認識されている。そうした事例においては、保護／脱保護手順または官能基相互変換を合成に組み込むことが、所望の生成物の入手に役立つ。保護基の使用および選択は、化学合成における当業者には明らかである（例えば、Ｇｒｅｅｎｅ，Ｔ．Ｗ．；Ｗｕｔｓ，Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、第２版；Ｗｉｌｅｙ：Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９９１を参照されたい）。当業者であれば認識することであるが、場合によっては、式１の化合物の合成を完了させるために、個々のスキームのいずれかにおいて示されているような所与の試薬を導入した後、詳細には記載されていない追加の慣例的な合成工程を実施する必要がある場合がある。当業者であれば更に認識することであるが、上記のスキームに例示されている工程の組合せを、式１の化合物を製造するために特に示唆されている順序以外の順序で実施する必要がある場合がある。
当業者であれば更に認識することであるが、本明細書に記載の式１の化合物および中間体は、置換基を付加するために、または、既存の置換基を修飾するために、様々な求電子性反応、求核性反応、ラジカル反応、有機金属反応、酸化反応および還元反応に供することが可能である。
更なる詳細がなくても、先行する記載を使用する当業者は、本発明を最大限に利用可能であると考えられる。以下の非限定的な実施例は本発明を例示するものである。以下の実施例における工程は、合成変換全体における各工程のための手法を例示するものであり、各工程のための出発材料は、必ずしも、手法が他の実施例または工程において記載されている特定の製造実験によって製造されていなくてもよい。パーセンテージは、クロマトグラフ溶媒混合物の場合、または、他に記載のある場合を除き、重量基準である。クロマトグラフ溶媒混合物に対する部およびパーセンテージは、別段の指示がない限り体積基準である。質量スペクトル（ＭＳ）は、Ｈ＋（分子量１）の分子への付加により形成される同位体存在度が最も高い親イオン（Ｍ＋１）の分子量、または、分子からのＨ＋（分子量１）の損失により形成される（Ｍ−１）の分子量として報告され、これらは、いずれかの大気圧化学イオン化（ＡＰ＋）を用いる質量分光計（ＬＣＭＳ）に結合させた液体クロマトグラフィーを用いて観察した。ここで、「ａｍｕ」は統一原子質量単位を意味する。ＮＭＲスペクトルは全て、別段の指示がない限り４００ＭＨｚでのテトラメチルシランからのＣＤＣｌ３低磁場側において報告されており、ｓは一重項を意味し、ｂｒｓは、広幅一重項を意味し、ｄは二重項を意味し、ｔは三重項を意味し、ｍは多重項を意味し、ｄｄｄは二重二重項の二重項を意味する。
合成例１
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（２−メチル−７−ベンゾフラニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１２）の製造
工程Ａ：１−ブロモ−２−（２−プロピン−１−イルオキシ）−ベンゼンの製造
２−ブロモフェノール（１５ｇ、８６．７ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２２５ｍＬ）溶液に臭化プロパルギル（トルエン中８０％、１９．１８ｇ、１３０．０５ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（２４ｇ、１７３．４ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１６時間撹拌した。反応混合物をＨ２Ｏでクエンチし、酢酸エチル（３×１５０ｍＬ）、続いてブライン溶液で抽出し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗物質を石油エーテル中３％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、表題化合物を淡黄色液体（１２ｇ）として単離した。
1H-NMR δ 2.43 (s, 1H), 4.78 (s, 2H), 6.91 (t, 1H), 7.08 (d, 1H), 7.28 (m, 1H), 7.56 (d, 1H).
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（２−メチル−７−ベンゾフラニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１２）の製造
工程Ａ：１−ブロモ−２−（２−プロピン−１−イルオキシ）−ベンゼンの製造
２−ブロモフェノール（１５ｇ、８６．７ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２２５ｍＬ）溶液に臭化プロパルギル（トルエン中８０％、１９．１８ｇ、１３０．０５ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（２４ｇ、１７３．４ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１６時間撹拌した。反応混合物をＨ２Ｏでクエンチし、酢酸エチル（３×１５０ｍＬ）、続いてブライン溶液で抽出し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗物質を石油エーテル中３％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、表題化合物を淡黄色液体（１２ｇ）として単離した。
1H-NMR δ 2.43 (s, 1H), 4.78 (s, 2H), 6.91 (t, 1H), 7.08 (d, 1H), 7.28 (m, 1H), 7.56 (d, 1H).
工程Ｂ：７−ブロモ−２−メチル−ベンゾフランの製造
１−ブロモ−２−（２−プロピン−１−イルオキシ）−ベンゼン（即ち、実施例１、工程Ａで得られた生成物）（１２ｇ、５６．８７ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジエチルアニリン（９６０ｍＬ）溶液に、フッ化セシウム（１２．９ｇ、８５．３０ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を２３０℃で５時間撹拌した。反応混合物を周囲温度に冷却し、セライト床を通してろ過し、酢酸エチルで洗浄した。母液を２Ｎ塩酸水溶液（２×５０ｍＬ）、続いてブライン溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。粗残留物を、石油エーテル中３％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、淡黄色液体（９ｇ）を得た。Ｍ．Ｓ．＝２１０（Ｍ＋１）。
１−ブロモ−２−（２−プロピン−１−イルオキシ）−ベンゼン（即ち、実施例１、工程Ａで得られた生成物）（１２ｇ、５６．８７ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジエチルアニリン（９６０ｍＬ）溶液に、フッ化セシウム（１２．９ｇ、８５．３０ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を２３０℃で５時間撹拌した。反応混合物を周囲温度に冷却し、セライト床を通してろ過し、酢酸エチルで洗浄した。母液を２Ｎ塩酸水溶液（２×５０ｍＬ）、続いてブライン溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。粗残留物を、石油エーテル中３％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、淡黄色液体（９ｇ）を得た。Ｍ．Ｓ．＝２１０（Ｍ＋１）。
工程Ｃ：４，５−ジクロロ−６−ヨード−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンの製造
テトラヒドロフラン８０ｍＬに溶解させた４，５−ジクロロ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（５．０ｇ、２７．９ｍｍｏｌ）に、トルエン／テトラヒドロフラン中の２，２，６，６ビス（テトラメチルピペリジン）亜鉛、塩化マグネシウム、塩化リチウム複合体０．３５Ｍ（即ち、テトラヒドロフラン／トルエン中のＺｎ（ＴＭＰ）２−ＬｉＣｌ−ＭｇＣｌ２５４ｍＬ、０．３５Ｍ）１８．７５ｍｍｏｌ）を３〜５分かけて添加した。混濁した反応混合物を１５分間撹拌し、次いで、ヨウ素（８．５ｇ、３３．５１ｍｍｏｌ）を添加した。得られた混合物を周囲温度で１５分間撹拌した。反応混合物を重亜硫酸ナトリウム水溶液で（過剰なヨウ素色を除くために）、次いで水（２００ｍＬ）、続いて１Ｎ塩酸水溶液（１００ｍＬ）でクエンチした。混合物を酢酸エチル（３００ｍＬ、次いで２００ｍＬ）で抽出した。得られた粗生成物を、石油エーテル中１０％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。固体をジエチルエーテルとペンタンで粉砕し、得られた淡黄色固体を乾燥させた（３ｇ）。
1H NMR δ 3.83 (s, 3H).
テトラヒドロフラン８０ｍＬに溶解させた４，５−ジクロロ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（５．０ｇ、２７．９ｍｍｏｌ）に、トルエン／テトラヒドロフラン中の２，２，６，６ビス（テトラメチルピペリジン）亜鉛、塩化マグネシウム、塩化リチウム複合体０．３５Ｍ（即ち、テトラヒドロフラン／トルエン中のＺｎ（ＴＭＰ）２−ＬｉＣｌ−ＭｇＣｌ２５４ｍＬ、０．３５Ｍ）１８．７５ｍｍｏｌ）を３〜５分かけて添加した。混濁した反応混合物を１５分間撹拌し、次いで、ヨウ素（８．５ｇ、３３．５１ｍｍｏｌ）を添加した。得られた混合物を周囲温度で１５分間撹拌した。反応混合物を重亜硫酸ナトリウム水溶液で（過剰なヨウ素色を除くために）、次いで水（２００ｍＬ）、続いて１Ｎ塩酸水溶液（１００ｍＬ）でクエンチした。混合物を酢酸エチル（３００ｍＬ、次いで２００ｍＬ）で抽出した。得られた粗生成物を、石油エーテル中１０％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。固体をジエチルエーテルとペンタンで粉砕し、得られた淡黄色固体を乾燥させた（３ｇ）。
1H NMR δ 3.83 (s, 3H).
工程Ｄ：５−クロロ−６−ヨード−４−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンの製造
１，４−ジオキサン（３０ｍＬ）中の４，５−ジクロロ−６−ヨード−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、工程Ｃで得られた生成物）（３ｇ、９．８６ｍｍｏｌ）に、ナトリウムメトキシド（メタノール中２５％ｗ／ｗ溶液、２．７２ｍＬ、１２．６３ｍｍｏｌ）を添加し、得られた混合物を周囲温度で１時間撹拌した。反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液でクエンチし、酢酸エチル（１００ｍＬ、次いで５０ｍＬ）で２回抽出した。得られた粗生成物を石油エーテル中５％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。固体をジエチルエーテルとペンタンで粉砕し、得られたオフホワイト色固体を乾燥させた（２ｇ）。
1H NMR δ 3.75 (s, 3H), 4.28 (s, 3H).
１，４−ジオキサン（３０ｍＬ）中の４，５−ジクロロ−６−ヨード−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、工程Ｃで得られた生成物）（３ｇ、９．８６ｍｍｏｌ）に、ナトリウムメトキシド（メタノール中２５％ｗ／ｗ溶液、２．７２ｍＬ、１２．６３ｍｍｏｌ）を添加し、得られた混合物を周囲温度で１時間撹拌した。反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液でクエンチし、酢酸エチル（１００ｍＬ、次いで５０ｍＬ）で２回抽出した。得られた粗生成物を石油エーテル中５％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。固体をジエチルエーテルとペンタンで粉砕し、得られたオフホワイト色固体を乾燥させた（２ｇ）。
1H NMR δ 3.75 (s, 3H), 4.28 (s, 3H).
工程Ｅ：５−クロロ−４−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンの製造
１，４−ジオキサン（２０ｍＬ）中の５−クロロ−６−ヨード−４−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、工程Ｄで得られた生成物）（２ｇ、６．６６ｍｍｏｌ）、トリメチルボロキシン（１．２１ｍＬ、８．６６ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（６．５０ｇ、１９．９ｍｍｏｌ）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）（０．２７ｇ、０．３３ｍｍｏｌ）の混合物を溶媒の還流温度で５時間加熱した。反応混合物を冷却し、ブラインと酢酸エチルの混合物でクエンチした。水層を酢酸エチル（４０ｍＬ、次いで２０ｍＬ）で２回抽出した。得られた残留物を、石油エーテル中５％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、固体をジエチルエーテルとペンタンで粉砕した。オフホワイト色固体を集め、乾燥させた（１ｇ）。
1H NMR δ 2.37 (s, 3H), 3.72 (s, 3H), 4.26 (s, 3H).
１，４−ジオキサン（２０ｍＬ）中の５−クロロ−６−ヨード−４−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、工程Ｄで得られた生成物）（２ｇ、６．６６ｍｍｏｌ）、トリメチルボロキシン（１．２１ｍＬ、８．６６ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（６．５０ｇ、１９．９ｍｍｏｌ）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）（０．２７ｇ、０．３３ｍｍｏｌ）の混合物を溶媒の還流温度で５時間加熱した。反応混合物を冷却し、ブラインと酢酸エチルの混合物でクエンチした。水層を酢酸エチル（４０ｍＬ、次いで２０ｍＬ）で２回抽出した。得られた残留物を、石油エーテル中５％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、固体をジエチルエーテルとペンタンで粉砕した。オフホワイト色固体を集め、乾燥させた（１ｇ）。
1H NMR δ 2.37 (s, 3H), 3.72 (s, 3H), 4.26 (s, 3H).
工程Ｆ：５−クロロ−２，６−ジメチル−４−（２−メチル−７−ベンゾフラニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノンの製造
７−ブロモ−２−メチル−ベンゾフラン（即ち、実施例１、工程Ｂで得られた生成物）（１．０ｇ、４．７３ｍｍｏｌ）の乾燥テトラヒドロフラン溶液に、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中２．５Ｍ、３．３４ｇ、５．６８ｍｍｏｌ）を−７８℃で５分間滴加し、１．５時間撹拌し、続いて−７８℃で５−クロロ−４−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、実施例１、工程Ｅで得られた生成物）を添加し、２．５時間撹拌した。反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液でクエンチし、続いて酢酸エチル（３×１０ｍＬ）、次いでブライン溶液で抽出し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗物質を石油エーテル中２５％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。残留物をジエチルエーテルとペンタンで粉砕し、得られた固体を乾燥させて表題化合物２５０ｍｇを白色固体として得た。Ｍ．Ｐ．１５３〜１５６℃。
７−ブロモ−２−メチル−ベンゾフラン（即ち、実施例１、工程Ｂで得られた生成物）（１．０ｇ、４．７３ｍｍｏｌ）の乾燥テトラヒドロフラン溶液に、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中２．５Ｍ、３．３４ｇ、５．６８ｍｍｏｌ）を−７８℃で５分間滴加し、１．５時間撹拌し、続いて−７８℃で５−クロロ−４−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、実施例１、工程Ｅで得られた生成物）を添加し、２．５時間撹拌した。反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液でクエンチし、続いて酢酸エチル（３×１０ｍＬ）、次いでブライン溶液で抽出し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗物質を石油エーテル中２５％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。残留物をジエチルエーテルとペンタンで粉砕し、得られた固体を乾燥させて表題化合物２５０ｍｇを白色固体として得た。Ｍ．Ｐ．１５３〜１５６℃。
工程Ｇ：５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（２−メチル−７−ベンゾフラニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１２）の製造
５−クロロ−２，６−ジメチル−４−（２−メチル−７−ベンゾフラニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、実施例１、工程Ｆで得られた化合物）（２００ｍｇ、０．６９ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（２ｍＬ）溶液に、水酸化テトラブチルアンモニウム（１ｍＬ）を添加し、得られた混合物を１００℃で５時間撹拌した。反応混合物を水（３ｍＬ）で希釈し、１Ｎ塩酸溶液でｐＨ＝３に酸性化した。水層をジクロロメタン（３×５ｍＬ）で抽出し、ブライン溶液で洗浄し、次いで、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗物質を、石油エーテル中６０％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。得られた残留物をジエチルエーテルで粉砕し、得られた固体をペンタンで洗浄し乾燥させ、オフホワイト色固体（９０ｍｇ）を得た。Ｍ．Ｐ．＝２７２〜２７５℃。
５−クロロ−２，６−ジメチル−４−（２−メチル−７−ベンゾフラニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、実施例１、工程Ｆで得られた化合物）（２００ｍｇ、０．６９ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（２ｍＬ）溶液に、水酸化テトラブチルアンモニウム（１ｍＬ）を添加し、得られた混合物を１００℃で５時間撹拌した。反応混合物を水（３ｍＬ）で希釈し、１Ｎ塩酸溶液でｐＨ＝３に酸性化した。水層をジクロロメタン（３×５ｍＬ）で抽出し、ブライン溶液で洗浄し、次いで、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗物質を、石油エーテル中６０％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。得られた残留物をジエチルエーテルで粉砕し、得られた固体をペンタンで洗浄し乾燥させ、オフホワイト色固体（９０ｍｇ）を得た。Ｍ．Ｐ．＝２７２〜２７５℃。
合成例２
５−（アセチルオキシ）−２，６−ジメチル−４−（２−メチル−７−ベンゾフラニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１３）の製造
工程Ａ：５−（アセチルオキシ）−２，６−ジメチル−４−（２−メチル−７−ベンゾフラニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１３）の製造
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（２−メチル−７−ベンゾフラニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、実施例１、工程Ｇで得られた化合物）（１５０ｍｇ、０．５５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液に、トリエチルアミン（０．２ｍＬ、１．３８ｍｍｏｌ）とアセチルクロリド（０．０４ｍＬ、０．６１ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。得られた混合物を０℃で４時間撹拌した。周囲温度に加温した後、水（５ｍＬ）を添加し、得られた混合物をジクロロメタン（２×５ｍＬ）で抽出し、水、続いて飽和ＮａＨＣＯ３水溶液、ブライン溶液で洗浄し、次いで、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗物質を石油エーテル中２０％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、ジエチルエーテルとペンタンで粉砕し、乾燥させ、淡褐色固体（１００ｍｇ）を得た。Ｍ．Ｐ．＝１４４〜１４７℃。
５−（アセチルオキシ）−２，６−ジメチル−４−（２−メチル−７−ベンゾフラニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１３）の製造
工程Ａ：５−（アセチルオキシ）−２，６−ジメチル−４−（２−メチル−７−ベンゾフラニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物１３）の製造
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（２−メチル−７−ベンゾフラニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、実施例１、工程Ｇで得られた化合物）（１５０ｍｇ、０．５５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液に、トリエチルアミン（０．２ｍＬ、１．３８ｍｍｏｌ）とアセチルクロリド（０．０４ｍＬ、０．６１ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。得られた混合物を０℃で４時間撹拌した。周囲温度に加温した後、水（５ｍＬ）を添加し、得られた混合物をジクロロメタン（２×５ｍＬ）で抽出し、水、続いて飽和ＮａＨＣＯ３水溶液、ブライン溶液で洗浄し、次いで、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗物質を石油エーテル中２０％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、ジエチルエーテルとペンタンで粉砕し、乾燥させ、淡褐色固体（１００ｍｇ）を得た。Ｍ．Ｐ．＝１４４〜１４７℃。
合成例３
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（５−メチルベンゾ［ｂ］チエン−４−イル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物２９）の製造
工程Ａ：６，７−ジヒドロ−５−メチル−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４（５Ｈ）−オンの製造
６，７−ジヒドロ−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４（５Ｈ）−オン（１０ｇ、６５．８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１００ｍＬ）溶液に、リチウムジイソプロピルアミド（７．７４ｇ、７２．６ｍｍｏｌ）を−７８℃で１０分間滴加した。得られた混合物を−７８℃で１時間撹拌し、次いで、ヨードメタン（１１．１３ｇ、７８．９ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を−７８℃で撹拌し、５時間かけて周囲温度に温めた。反応混合物を飽和塩化アンモニウム溶液でクエンチし、酢酸エチル（３×１０ｍＬ）、続いてブライン溶液で抽出し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。主成分を石油エーテル中５％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって単離し、表題化合物を淡黄色液体（３ｇ）として単離した。
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（５−メチルベンゾ［ｂ］チエン−４−イル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物２９）の製造
工程Ａ：６，７−ジヒドロ−５−メチル−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４（５Ｈ）−オンの製造
６，７−ジヒドロ−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４（５Ｈ）−オン（１０ｇ、６５．８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１００ｍＬ）溶液に、リチウムジイソプロピルアミド（７．７４ｇ、７２．６ｍｍｏｌ）を−７８℃で１０分間滴加した。得られた混合物を−７８℃で１時間撹拌し、次いで、ヨードメタン（１１．１３ｇ、７８．９ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を−７８℃で撹拌し、５時間かけて周囲温度に温めた。反応混合物を飽和塩化アンモニウム溶液でクエンチし、酢酸エチル（３×１０ｍＬ）、続いてブライン溶液で抽出し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。主成分を石油エーテル中５％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって単離し、表題化合物を淡黄色液体（３ｇ）として単離した。
工程Ｂ：エチル２−（６，７−ジヒドロ−５−メチルベンゾ［ｂ］チエン−４（５Ｈ−イリデン）アセタート、およびエチル６，７−ジヒドロ−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−アセタートの製造
乾燥エタノール５０ｍＬに、金属ナトリウム（５．３ｇ、２４０．９ｍｍｏｌ）を周囲温度で少しずつ添加し、２時間撹拌した。トリエチルホスホノアセタートを周囲温度で添加し、１０分間撹拌し、続いて６，７−ジヒドロ−５−メチル−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４（５Ｈ）−オン（即ち、実施例３、工程Ａで得られた化合物）を周囲温度で添加し、８０℃で１６時間撹拌した。反応混合物を周囲温度に冷却し、次いで、氷水に注いだ。混合物を酢酸エチル（３×５０ｍＬ）で抽出し、一体化した有機層をブライン溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた残留物を石油エーテル中４％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、表題化合物の混合物を、表題成分の混合物として単離し、濃縮し、淡黄色液体（２ｇ）を得た。表題化合物の混合物は、更なる精製を加えることなく次の工程に進めた。Ｍ．Ｓ．＝２３７（Ｍ＋Ｈ）。
乾燥エタノール５０ｍＬに、金属ナトリウム（５．３ｇ、２４０．９ｍｍｏｌ）を周囲温度で少しずつ添加し、２時間撹拌した。トリエチルホスホノアセタートを周囲温度で添加し、１０分間撹拌し、続いて６，７−ジヒドロ−５−メチル−ベンゾ［ｂ］チオフェン−４（５Ｈ）−オン（即ち、実施例３、工程Ａで得られた化合物）を周囲温度で添加し、８０℃で１６時間撹拌した。反応混合物を周囲温度に冷却し、次いで、氷水に注いだ。混合物を酢酸エチル（３×５０ｍＬ）で抽出し、一体化した有機層をブライン溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた残留物を石油エーテル中４％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、表題化合物の混合物を、表題成分の混合物として単離し、濃縮し、淡黄色液体（２ｇ）を得た。表題化合物の混合物は、更なる精製を加えることなく次の工程に進めた。Ｍ．Ｓ．＝２３７（Ｍ＋Ｈ）。
工程Ｃ：エチル５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−アセタートの製造
エチル２−（６，７−ジヒドロ−５−メチルベンゾ［ｂ］チエン−４（５Ｈ−イリデン）アセタートとエチル６，７−ジヒドロ−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−アセタートの混合物（７ｇ、２９．６６ｍｍｏｌ）（即ち、実施例３、工程Ｂで得られた化合物）のトルエン（１５０ｍＬ）溶液に、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ、１６．８ｇ、７４．１５ｍｍｏｌ）を周囲温度で添加し、得られた混合物を１００℃で２４時間撹拌した。次いで、反応混合物をＣｅｌｉｔｅ（登録商標）ケイ藻土ろ過助剤を通してろ過し、トルエンで洗浄し、ろ液を濃縮した。得られた物質を石油エーテル中８％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、淡黄色液体（２．５ｇ）を単離した。Ｍ．Ｓ．＝２３５（Ｍ＋Ｈ）。
エチル２−（６，７−ジヒドロ−５−メチルベンゾ［ｂ］チエン−４（５Ｈ−イリデン）アセタートとエチル６，７−ジヒドロ−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−アセタートの混合物（７ｇ、２９．６６ｍｍｏｌ）（即ち、実施例３、工程Ｂで得られた化合物）のトルエン（１５０ｍＬ）溶液に、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ、１６．８ｇ、７４．１５ｍｍｏｌ）を周囲温度で添加し、得られた混合物を１００℃で２４時間撹拌した。次いで、反応混合物をＣｅｌｉｔｅ（登録商標）ケイ藻土ろ過助剤を通してろ過し、トルエンで洗浄し、ろ液を濃縮した。得られた物質を石油エーテル中８％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、淡黄色液体（２．５ｇ）を単離した。Ｍ．Ｓ．＝２３５（Ｍ＋Ｈ）。
工程Ｄ：５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−酢酸の製造
エチル５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−アセタート（即ち、実施例３、工程Ｃで得られた化合物）のテトラヒドロフランとＨ２Ｏの混合物（８：２、２５ｍＬ）の溶液に、水酸化リチウム（１ｇ、４２．７ｍｍｏｌ）を添加し、得られた混合物を周囲温度で５時間撹拌した。水（２０ｍＬ）を添加し、得られた混合物を酢酸エチル（２×１０ｍＬ）で抽出した。水層を１Ｎ塩酸水溶液で酸性化しｐＨ＝３に調整した。次いで、水層をジクロロメタン（３×１０ｍＬ）で抽出し、一体化した有機層をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた残留物をジエチルエーテルとペンタンで粉砕し、オフホワイト色の固体（２．１ｇ）を得た。Ｍ．Ｐ．＝１５２〜１５５℃。
エチル５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−アセタート（即ち、実施例３、工程Ｃで得られた化合物）のテトラヒドロフランとＨ２Ｏの混合物（８：２、２５ｍＬ）の溶液に、水酸化リチウム（１ｇ、４２．７ｍｍｏｌ）を添加し、得られた混合物を周囲温度で５時間撹拌した。水（２０ｍＬ）を添加し、得られた混合物を酢酸エチル（２×１０ｍＬ）で抽出した。水層を１Ｎ塩酸水溶液で酸性化しｐＨ＝３に調整した。次いで、水層をジクロロメタン（３×１０ｍＬ）で抽出し、一体化した有機層をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた残留物をジエチルエーテルとペンタンで粉砕し、オフホワイト色の固体（２．１ｇ）を得た。Ｍ．Ｐ．＝１５２〜１５５℃。
工程Ｅ：５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−酢酸１−メチルヒドラジドの製造
５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−酢酸のジクロロメタン溶液（即ち、実施例３、工程Ｄで得られた化合物）（５ｍＬ）に、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ’−エチルカルボジイミドヒドロクロリド（ＥＤＣ、０．５８ｇ、１．１ｍｍｏｌ）とペンタフルオロフェノール（０．４９ｇ、１．１ｍｍｏｌ）を周囲温度で添加し、得られた混合物を３時間撹拌した。別の丸底フラスコで、硫酸メチルヒドラジン（１．０ｇ、３ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解させ、ジ−イソプロピルエチルアミン（０．９３ｇ、３ｍｍｏｌ）を添加し、得られた混合物を周囲温度で１５分間撹拌した。次いで、先に製造した５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−酢酸とＥＤＣの混合物をこの溶液に添加し、得られた混合物を周囲温度で３０分間撹拌した。水（５ｍＬ）を反応混合物に添加し、次いで、ジクロロメタン（３×５ｍＬ）で抽出した。一体化した有機層を水、続いてブライン溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗化合物をジエチルエーテルで粉砕し、表題化合物を得、これをその後の工程で使用した（０．５５ｇ、粗製）。
５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−酢酸のジクロロメタン溶液（即ち、実施例３、工程Ｄで得られた化合物）（５ｍＬ）に、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ’−エチルカルボジイミドヒドロクロリド（ＥＤＣ、０．５８ｇ、１．１ｍｍｏｌ）とペンタフルオロフェノール（０．４９ｇ、１．１ｍｍｏｌ）を周囲温度で添加し、得られた混合物を３時間撹拌した。別の丸底フラスコで、硫酸メチルヒドラジン（１．０ｇ、３ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解させ、ジ−イソプロピルエチルアミン（０．９３ｇ、３ｍｍｏｌ）を添加し、得られた混合物を周囲温度で１５分間撹拌した。次いで、先に製造した５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−酢酸とＥＤＣの混合物をこの溶液に添加し、得られた混合物を周囲温度で３０分間撹拌した。水（５ｍＬ）を反応混合物に添加し、次いで、ジクロロメタン（３×５ｍＬ）で抽出した。一体化した有機層を水、続いてブライン溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗化合物をジエチルエーテルで粉砕し、表題化合物を得、これをその後の工程で使用した（０．５５ｇ、粗製）。
工程Ｆ：５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−酢酸２−（２−エトキシ−１−メチル−２−オキソエチリデン）−１−メチルヒドラジドの製造
上記実施例３、工程Ｅで単離した５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−酢酸１−メチルヒドラジドのエタノール（５ｍＬ）中粗混合物に、ピルビン酸エチル（０．４１ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を周囲温度で添加し、得られた混合物を１６時間撹拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、水（５ｍＬ）を添加した。混合物をジクロロメタン（３×５ｍＬ）で抽出し、一体化した有機層をブライン溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗混合物を、石油エーテル中１５％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、淡褐色固体をジエチルエーテルとペンタンで粉砕した（０．２ｇ）。Ｍ．Ｓ．＝３３３（Ｍ＋Ｈ）。
上記実施例３、工程Ｅで単離した５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−酢酸１−メチルヒドラジドのエタノール（５ｍＬ）中粗混合物に、ピルビン酸エチル（０．４１ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を周囲温度で添加し、得られた混合物を１６時間撹拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、水（５ｍＬ）を添加した。混合物をジクロロメタン（３×５ｍＬ）で抽出し、一体化した有機層をブライン溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗混合物を、石油エーテル中１５％酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、淡褐色固体をジエチルエーテルとペンタンで粉砕した（０．２ｇ）。Ｍ．Ｓ．＝３３３（Ｍ＋Ｈ）。
工程Ｈ：５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（５−メチルベンゾ［ｂ］チエン−４−イル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物２９）の製造
５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−酢酸２−（２−エトキシ−１−メチル−２−オキソエチリデン）−１−メチルヒドラジドのアセトニトリル（２ｍＬ）溶液に、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（０．４５ｇ、５．０ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。得られた混合物を、周囲温度で２日間撹拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、水を添加し、続いて２Ｎ塩酸水溶液を添加してｐＨ＝３に調整した。水層をジクロロメタン（３×５ｍＬ）で抽出し、一体化した有機層をブライン溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗反応混合物を、石油エーテル中５０％酢酸エチルで溶出するシリカゲルクロマトグラフィーによって精製した。固体をジエチルエーテルとペンタンで粉砕し、本発明の化合物であるオフホワイト色固体を得、これを乾燥させた（０．１ｇ）。Ｍ．Ｐ．＝２０４〜２０７℃。
５−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−４−酢酸２−（２−エトキシ−１−メチル−２−オキソエチリデン）−１−メチルヒドラジドのアセトニトリル（２ｍＬ）溶液に、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（０．４５ｇ、５．０ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。得られた混合物を、周囲温度で２日間撹拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、水を添加し、続いて２Ｎ塩酸水溶液を添加してｐＨ＝３に調整した。水層をジクロロメタン（３×５ｍＬ）で抽出し、一体化した有機層をブライン溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。得られた粗反応混合物を、石油エーテル中５０％酢酸エチルで溶出するシリカゲルクロマトグラフィーによって精製した。固体をジエチルエーテルとペンタンで粉砕し、本発明の化合物であるオフホワイト色固体を得、これを乾燥させた（０．１ｇ）。Ｍ．Ｐ．＝２０４〜２０７℃。
合成例４
６−クロロ−５−ヒドロキシ−４−（１−イソキノリニル）−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物６７）の製造
工程Ａ：６−クロロ−５−メトキシ−２−メチル−４−（トリメチルスタンニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノンの製造
６−クロロ−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（Ｕ．Ｓ．２０１３／０３３１３８２に記載されているように製造）（５５０ｍｇ、３．１５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（６ｍＬ）懸濁液に、予冷した（−２０℃）２，２，６，６−ビス（テトラメチルピペリジン）亜鉛、塩化マグネシウム、塩化リチウム複合体（７．０ｍＬ、７．０ｍｍｏｌ、テトラヒドロフラン／トルエン中１．０Ｍ）の溶液を−２０℃で３０秒以内に添加した。得られた反応混合物を−２０℃で４０秒間撹拌し、次いで、塩化トリメチルスズ（テトラヒドロフラン中１．０Ｍ、８．０ｍＬ、８．０ｍｍｏｌ）の溶液を反応混合物に−２０℃で一度に添加した。−２０℃で０．５時間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液でクエンチし、次いで、酢酸エチルで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、無水ＮａＳＯ４で乾燥させ、濃縮し、残留物をカラムクロマトグラフィーによって精製し、表題化合物６００ｍｇを無色油状物として得た。
1H NMR δ 3.84 (s, 3H), 3.70 (s, 3H), 0.41 (s, 9H).
６−クロロ−５−ヒドロキシ−４−（１−イソキノリニル）−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物６７）の製造
工程Ａ：６−クロロ−５−メトキシ−２−メチル−４−（トリメチルスタンニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノンの製造
６−クロロ−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（Ｕ．Ｓ．２０１３／０３３１３８２に記載されているように製造）（５５０ｍｇ、３．１５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（６ｍＬ）懸濁液に、予冷した（−２０℃）２，２，６，６−ビス（テトラメチルピペリジン）亜鉛、塩化マグネシウム、塩化リチウム複合体（７．０ｍＬ、７．０ｍｍｏｌ、テトラヒドロフラン／トルエン中１．０Ｍ）の溶液を−２０℃で３０秒以内に添加した。得られた反応混合物を−２０℃で４０秒間撹拌し、次いで、塩化トリメチルスズ（テトラヒドロフラン中１．０Ｍ、８．０ｍＬ、８．０ｍｍｏｌ）の溶液を反応混合物に−２０℃で一度に添加した。−２０℃で０．５時間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液でクエンチし、次いで、酢酸エチルで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、無水ＮａＳＯ４で乾燥させ、濃縮し、残留物をカラムクロマトグラフィーによって精製し、表題化合物６００ｍｇを無色油状物として得た。
1H NMR δ 3.84 (s, 3H), 3.70 (s, 3H), 0.41 (s, 9H).
工程Ｂ：６−クロロ−４−（１−イソキノリニル）−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンの製造
反応バイアル中の１−ヨードイソキノリン（３１０ｍｇ、１．２２ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（６９ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）およびヨウ化銅（Ｉ）（１１６ｍｇ、０．６１ｍｍｏｌ）の混合物を真空下で排気し、次いで、窒素ガスを再充填した。この手順を３回繰り返した後、混合物を窒素下で６−クロロ−５−メトキシ−２−メチル−４−（トリメチルスタンニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、実施例４、工程Ａからの生成物）（４８５ｍｇ、１．４４ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（３ｍＬ）溶液に添加した。得られた反応混合物を９０℃で４時間撹拌し、次いで、室温に冷却し、Ｃｅｌｉｔｅ（登録商標）ケイ藻土ろ過助剤の短パッドを通してろ過し、ジクロロメタンですすいだ。ろ液を濃縮し、残留物をカラムクロマトグラフィーによって精製し、表題化合物（２００ｍｇ）を黄色半固体として得た。
1H NMR δ 8.61 (d, 1H), 7.88 (d, 1H), 7.76 (d, 1H), 7.73 (d, 1H), 7.70 (ddd, 1H), 7.60 (ddd, 1H), 3.76 (s, 3H), 3.33 (s, 3H).
反応バイアル中の１−ヨードイソキノリン（３１０ｍｇ、１．２２ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（６９ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）およびヨウ化銅（Ｉ）（１１６ｍｇ、０．６１ｍｍｏｌ）の混合物を真空下で排気し、次いで、窒素ガスを再充填した。この手順を３回繰り返した後、混合物を窒素下で６−クロロ−５−メトキシ−２−メチル−４−（トリメチルスタンニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、実施例４、工程Ａからの生成物）（４８５ｍｇ、１．４４ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（３ｍＬ）溶液に添加した。得られた反応混合物を９０℃で４時間撹拌し、次いで、室温に冷却し、Ｃｅｌｉｔｅ（登録商標）ケイ藻土ろ過助剤の短パッドを通してろ過し、ジクロロメタンですすいだ。ろ液を濃縮し、残留物をカラムクロマトグラフィーによって精製し、表題化合物（２００ｍｇ）を黄色半固体として得た。
1H NMR δ 8.61 (d, 1H), 7.88 (d, 1H), 7.76 (d, 1H), 7.73 (d, 1H), 7.70 (ddd, 1H), 7.60 (ddd, 1H), 3.76 (s, 3H), 3.33 (s, 3H).
工程Ｃ：６−クロロ−５−ヒドロキシ−４−（１−イソキノリニル）−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンの製造
６−クロロ−４−（１−イソキノリニル）−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、実施例４、工程Ｂの生成物）（２００ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）のモルホリン（１ｍＬ）中混合物を１００℃で１時間撹拌した。次いで、反応混合物を減圧下で濃縮し、過剰なモルホリンを除去した。残留物に２．０Ｎ塩酸水溶液を添加し、慎重にｐＨを２〜３に調整した。得られた黄色沈殿物をろ過によって集め、水ですすぎ、乾燥させ、表題化合物（１３０ｍｇ）を得た。
1H NMR (dmso d6) δ 9.00 (brs, 1H), 8.51 (d, 1H), 8.29 (d, 1H), 8.25 (d, 1H), 8.17 (d, 1H), 8.10 (ddd, 1H), 7.84 (ddd, 1H), 3.09 (s, 3H).
６−クロロ−４−（１−イソキノリニル）−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、実施例４、工程Ｂの生成物）（２００ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）のモルホリン（１ｍＬ）中混合物を１００℃で１時間撹拌した。次いで、反応混合物を減圧下で濃縮し、過剰なモルホリンを除去した。残留物に２．０Ｎ塩酸水溶液を添加し、慎重にｐＨを２〜３に調整した。得られた黄色沈殿物をろ過によって集め、水ですすぎ、乾燥させ、表題化合物（１３０ｍｇ）を得た。
1H NMR (dmso d6) δ 9.00 (brs, 1H), 8.51 (d, 1H), 8.29 (d, 1H), 8.25 (d, 1H), 8.17 (d, 1H), 8.10 (ddd, 1H), 7.84 (ddd, 1H), 3.09 (s, 3H).
合成例５
４−（４−フルオロ−７−ベンゾフラニル）−５−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物６９）の製造
工程Ａ：５−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンの製造
６−クロロ−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（Ｕ．Ｓ．２０１３／０３３１３８２に記載されているように製造）（３．１８ｇ、１８．２１ｍｍｏｌ）、クロロ（２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル）［２−（２’−アミノ−１，１’−ビフェニル）］パラジウム（ＩＩ）（ＳＰｈｏｓ−Ｐｄ−Ｇ２）（１．３ｇ、１．８２ｍｍｏｌ）、トリメチルボロキシン（１．９ｍＬ、１３．６ｍｍｏｌ）、および炭酸セシウム（８．９ｇ、２７．３ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（５０ｍＬ）中で混ぜ合わせ、窒素雰囲気下８０℃で一晩撹拌した。周囲温度に冷却した後、反応混合物をジクロロメタン（１００ｍＬ）で希釈した。得られたスラリーをＣｅｌｉｔｅ（登録商標）ケイ藻土ろ過助剤のパッドを通してろ過した。ろ液を分液漏斗に移し、飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄した。有機層を分離し、ＭｇＳＯ４上で乾燥させ、シリカゲルに吸収させた。ヘキサン中酢酸エチル勾配２０〜１００％を用いたシリカゲル（４０ｇ）液体クロマトグラフィーによって精製を行った。単離した画分を合わせて濃縮し、表題化合物（２．５２ｇ）を白色固体として得た。
1H NMR δ 6.11 (s, 1H), 3.80 (s, 3H), 3.68 (s, 3H), 2.22 (s, 3H).
４−（４−フルオロ−７−ベンゾフラニル）−５−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物６９）の製造
工程Ａ：５−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンの製造
６−クロロ−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（Ｕ．Ｓ．２０１３／０３３１３８２に記載されているように製造）（３．１８ｇ、１８．２１ｍｍｏｌ）、クロロ（２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル）［２−（２’−アミノ−１，１’−ビフェニル）］パラジウム（ＩＩ）（ＳＰｈｏｓ−Ｐｄ−Ｇ２）（１．３ｇ、１．８２ｍｍｏｌ）、トリメチルボロキシン（１．９ｍＬ、１３．６ｍｍｏｌ）、および炭酸セシウム（８．９ｇ、２７．３ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（５０ｍＬ）中で混ぜ合わせ、窒素雰囲気下８０℃で一晩撹拌した。周囲温度に冷却した後、反応混合物をジクロロメタン（１００ｍＬ）で希釈した。得られたスラリーをＣｅｌｉｔｅ（登録商標）ケイ藻土ろ過助剤のパッドを通してろ過した。ろ液を分液漏斗に移し、飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄した。有機層を分離し、ＭｇＳＯ４上で乾燥させ、シリカゲルに吸収させた。ヘキサン中酢酸エチル勾配２０〜１００％を用いたシリカゲル（４０ｇ）液体クロマトグラフィーによって精製を行った。単離した画分を合わせて濃縮し、表題化合物（２．５２ｇ）を白色固体として得た。
1H NMR δ 6.11 (s, 1H), 3.80 (s, 3H), 3.68 (s, 3H), 2.22 (s, 3H).
工程Ｂ：４−（４−フルオロ−７−ベンゾフラニル）−５−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンの製造
乾燥した２口丸底フラスコにゴムセプタムと二方弁アダプタを取り付け、一方の弁は高真空ラインに繋ぎ、他方は窒素のバルーンに繋いだ。２口丸底フラスコに、５−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（０．７０ｇ、４．５ｍｍｏｌ）、７−ブロモ−４−フルオロ−２，３−ジヒドロベンゾフラン（１．０７ｇ、５．０ｍｍｏｌ）、クロロ（２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル）［２−（２’−アミノ−１，１’−ビフェニル）］パラジウム（ＩＩ）（ＳＰｈｏｓ−Ｐｄ−Ｇ２）（０．１６２ｇ、０．２２５ｍｍｏｌ）、および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（ＳＰｈｏｓ）（０．０９２ｇ、０．２２５ｍｍｏｌ，）を充填した。フラスコを窒素下でシールし、排気し、再度窒素を充填した。これを３回繰り返した。次いで、無水テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）をシリンジに取り、窒素雰囲気下でゴムセプタムを通して反応容器に添加した。次いで、２，２，６，６−ビス（テトラメチルピペリジン）亜鉛、塩化リチウム複合体（テトラヒドロフラン中１７％、７．８ｍＬ、５．４ｍｍｏｌ）を、ゴムセプタムを通してシリンジで反応混合物に添加した。得られた褐色溶液を窒素雰囲気下４７℃で一晩撹拌した。
乾燥した２口丸底フラスコにゴムセプタムと二方弁アダプタを取り付け、一方の弁は高真空ラインに繋ぎ、他方は窒素のバルーンに繋いだ。２口丸底フラスコに、５−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（０．７０ｇ、４．５ｍｍｏｌ）、７−ブロモ−４−フルオロ−２，３−ジヒドロベンゾフラン（１．０７ｇ、５．０ｍｍｏｌ）、クロロ（２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル）［２−（２’−アミノ−１，１’−ビフェニル）］パラジウム（ＩＩ）（ＳＰｈｏｓ−Ｐｄ−Ｇ２）（０．１６２ｇ、０．２２５ｍｍｏｌ）、および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（ＳＰｈｏｓ）（０．０９２ｇ、０．２２５ｍｍｏｌ，）を充填した。フラスコを窒素下でシールし、排気し、再度窒素を充填した。これを３回繰り返した。次いで、無水テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）をシリンジに取り、窒素雰囲気下でゴムセプタムを通して反応容器に添加した。次いで、２，２，６，６−ビス（テトラメチルピペリジン）亜鉛、塩化リチウム複合体（テトラヒドロフラン中１７％、７．８ｍＬ、５．４ｍｍｏｌ）を、ゴムセプタムを通してシリンジで反応混合物に添加した。得られた褐色溶液を窒素雰囲気下４７℃で一晩撹拌した。
室温に冷却した後、反応混合物を塩酸水溶液（１Ｎ、５０ｍＬ）に注ぎ、酢酸エチル（４×３０ｍＬ）中に抽出した。有機抽出物を合わせ、ＭｇＳＯ４上で乾燥させ、シリカゲルに吸収させた。ヘキサン中酢酸エチル勾配０〜１００％を用いたシリカゲル（４０ｇ）液体クロマトグラフィーによって精製を行った。得られた単離画分を合わせ、減圧下で溶媒を除去し、表題化合物（１．１５ｇ）を黄色固体として得た。Ｍ．Ｓ．＝２８９（ＡＰ＋）。
合成例６
４−（４−フルオロ−７−ベンゾフラニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物６８）の製造
工程Ａ：４−（４−フルオロ−７−ベンゾフラニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンの製造
星形撹拌子を備えた１０ｍＬマイクロ波バイアル中の４−（４−フルオロ−７−ベンゾフラニル）−５−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、実施例５、工程Ｂの生成物、１．００ｇ、３．５ｍｍｏｌ）に、モルホリン（３ｍＬ）を添加した。容器をシールし、マイクロ波中、１４０℃で１０分間反応させた。周囲温度に冷却すると、白色固体が形成された。ジオキサン（５ｍＬ）を添加し、次いで、過剰な溶媒を減圧下で除去した。次いで、塩酸水溶液（１Ｎ、１０ｍＬ）を添加し、得られた白色固体を２％ヘキサンを含む水と共にろ過し、フリット上で乾燥させ、表題化合物０．８９ｇを得た。Ｍ．Ｓ．＝２７５（ＡＰ＋）。
４−（４−フルオロ−７−ベンゾフラニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（化合物６８）の製造
工程Ａ：４−（４−フルオロ−７−ベンゾフラニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンの製造
星形撹拌子を備えた１０ｍＬマイクロ波バイアル中の４−（４−フルオロ−７−ベンゾフラニル）−５−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン（即ち、実施例５、工程Ｂの生成物、１．００ｇ、３．５ｍｍｏｌ）に、モルホリン（３ｍＬ）を添加した。容器をシールし、マイクロ波中、１４０℃で１０分間反応させた。周囲温度に冷却すると、白色固体が形成された。ジオキサン（５ｍＬ）を添加し、次いで、過剰な溶媒を減圧下で除去した。次いで、塩酸水溶液（１Ｎ、１０ｍＬ）を添加し、得られた白色固体を２％ヘキサンを含む水と共にろ過し、フリット上で乾燥させ、表題化合物０．８９ｇを得た。Ｍ．Ｓ．＝２７５（ＡＰ＋）。
当技術分野で公知の方法と共に本明細書に記載の手順により、以下の表１〜２７１の化合物を製造することができる。以下の表において、以下の略語が使用されている：ｔは第三級を意味し、ｉはイソを意味し、Ｍｅはメチルを意味し、Ｅｔはエチルを意味し、ｉ−Ｐｒはイソプロピルを意味し、Ｂｕはブチルを意味し、ｃ−Ｐｒはシクロプロピルを意味し、ＯＭｅはメトキシを意味し、ＯＥｔはエトキシを意味し、−ＣＮはシアノを意味する。以下の表に別段の指示がない限り、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０のそれぞれは、ＣＨである。
表２は、表題行（即ち、「Ｒ１は、ＣＨ３であり、Ｒ２は、ＣＨ３であり、Ｇは、Ｈであり、Ａは、以下の通りである。」）が、以下の表２の表題行（即ち、「Ｒ１は、Ｍｅであり、Ｒ２は、Ｍｅであり、Ｇは、Ｃ（Ｏ）Ｍｅである。」）に置き換えられていることを除き、表１と同様に構成されている。従って、表２の最初の項目は、Ｗは、Ｏであり、Ａは、Ａ−１（Ｙ１は、Ｓであり、Ｘ１は、ＣＨであり、Ｘ２は、ＣＨであり、Ｘ３は、ＣＨであり、Ｘ５は、ＣＨであり、Ｘ６は、ＣＨである）であり、Ｒ１は、Ｍｅであり、Ｒ２は、Ｍｅであり、Ｇは、Ｃ（Ｏ）Ｍｅである式１の化合物となる。表３〜２８８も同様に構成されている。
本発明の化合物は一般的に、担体として機能する界面活性剤、固体希釈剤および液体希釈剤からなる群から選択される少なくとも１種の追加の成分と共に、組成物、即ち、製剤中の除草用有効成分として使用される。製剤または組成物の原材料は、有効成分の物理学的性質、施用形態、および土壌のタイプ、水分および温度のような環境要因と調和するように選択される。
有用な製剤は、液体組成物および固体組成物の両方を含む。液体組成物としては、液剤（乳剤を含む）、懸濁液、エマルション（マイクロエマルション、水中油型エマルション、フロアブル製剤および／またはサスポエマルション製剤を含む）などが挙げられ、これらは、場合により、増粘してゲルとすることが可能である。水性液体組成物の一般的なタイプは、液剤、ＳＣ剤、カプセル懸濁液、濃縮エマルション、マイクロエマルション、水中油型エマルション、フロアブル製剤およびサスポエマルション製剤である。非水性液体組成物の一般的なタイプは、乳剤、マイクロ乳剤、分散性濃縮物および油分散液である。
固体組成物の一般的なタイプは、粉剤、粉末、粒剤、ペレット、プリル、パスタイル、錠剤、充填フィルム（種子粉衣を含む）等であり、これらは水分散性（「水和性」）または水溶性とすることができる。フィルム形成溶液または流動性懸濁液から形成されたフィルムおよびコーティングは、種子処理に特に有用である。有効成分は（マイクロ）カプセル化することができ、更に懸濁液または固体製剤に形成することができる：あるいは、有効成分の全製剤をカプセル化（または「オーバーコート」）することができる。カプセル化により、有効成分の放出の制御または遅延が可能である。乳化性粒剤は、乳剤製剤と乾燥粒状製剤の両方の利点を兼ね備える。更なる製剤の中間体として、主として高強度組成物が使用される。
噴霧可能な製剤は、典型的には、噴霧前に適切な媒体で希釈される。このような液体および固体製剤は、通常は水であるが、場合によっては芳香族もしくはパラフィン系炭化水素または植物油のような別の適切な媒体である噴霧媒体で容易に希釈されるよう配合される。噴霧量は、ヘクタール当たり約１〜数千リットルの範囲とすることができるが、より典型的には、ヘクタール当たり約１０〜数百リットルの範囲である。噴霧可能な製剤は、空中もしくは地上での施用による葉の処理のために、または、植物の成長培地への施用のために水または別の適切な媒体と、タンク内で混合することが可能である。液体および乾燥製剤は、点滴かんがいシステムに直接計量投入したり、植え付けの最中に畝間に計量投入したりできる。
製剤は、典型的には、合計で１００重量％となる以下の適切な範囲内で、有効量の有効成分、希釈剤および界面活性剤を含有する。
固体希釈剤には、例えば、ベントナイト、モンモリロナイト、アタパルジャイトおよびカオリンのような粘土、セッコウ、セルロース、二酸化チタン、酸化亜鉛、デンプン、デキストリン、糖類（例えば、ラクトース、スクロース）、シリカ、タルク、マイカ、ケイ藻土、尿素、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウムおよび重炭酸ナトリウム、ならびに硫酸ナトリウムが含まれる。典型的な固体希釈剤は、Ｗａｔｋｉｎｓら、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｉｎｓｅｃｔｉｃｉｄｅ Ｄｕｓｔ Ｄｉｌｕｅｎｔｓ ａｎｄ Ｃａｒｒｉｅｒｓ、第２版、Ｄｏｒｌａｎｄ Ｂｏｏｋｓ、 Ｃａｌｄｗｅｌｌ、Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙに記載されている。
液体希釈剤としては、例えば、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルアルカンアミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、リモネン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−アルキルピロリドン（例えば、Ｎ−メチルピロリジノン）、リン酸アルキル（例えば、リン酸トリエチル）、エチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン、パラフィン（例えば、白色鉱油、直鎖パラフィン、イソパラフィン）、アルキルベンゼン、アルキルナフタレン、グリセリン、三酢酸グリセリン、ソルビトール、芳香族炭化水素、脱芳香族脂肪族化合物、アルキルベンゼン、アルキルナフタレン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、イソホロンおよび４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンのようなケトン、酢酸イソアミル、酢酸ヘキシル、酢酸ヘプチル、酢酸オクチル、酢酸ノニル、酢酸トリデシルおよび酢酸イソボルニルのような酢酸エステル、アルキル化乳酸エステル、二塩基性エステル、アルキルおよびアリール安息香酸エステルおよびγ−ブチロラクトンのような他のエステル、ならびに、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、イソブチルアルコール、ｎ−ヘキサノール、２−エチルヘキサノール、ｎ−オクタノール、デカノール、イソデシルアルコール、イソオクタデカノール、セチルアルコール、ラウリルアルコール、トリデシルアルコール、オレイルアルコール、シクロヘキサノール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジアセトンアルコール、クレゾールおよびベンジルアルコールのような、直鎖、分枝、飽和または不飽和であるアルコールが挙げられる。液体希釈剤としては更に、植物種子油および果実油（例えば、オリーブ油、ヒマシ油、亜麻仁油、ゴマ油、コーン油（トウモロコシ油）、落花生油、ヒマワリ油、グレープシード油、サフラワー油、綿実油、ダイズ油、ナタネ油、ココナツ油およびパーム核油）、動物由来脂肪（例えば、牛脂、豚脂、ラード、タラ肝油、魚油）ならびにそれらの混合物のような飽和および不飽和脂肪酸（典型的にはＣ６〜Ｃ２２）のグリセリンエステルも挙げられる。液体希釈剤としては更に、脂肪酸が植物および動物源からのグリセリンエステルの加水分解によって得られ、蒸留によって精製可能なアルキル化脂肪酸（メチル化、エチル化、ブチル化）が挙げられる。典型的な液体希釈剤は、Ｍａｒｓｄｅｎ、Ｓｏｌｖｅｎｔｓ Ｇｕｉｄｅ、第２版、Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９５０に記載されている。
本発明の固体および液体組成物は多くの場合、１種またはそれ以上の界面活性剤を含む。液体に添加した場合、界面活性剤（「表面活性剤」としても公知である）は一般的に、液体の表面張力を変更し、多くの場合は低下させる。界面活性剤分子中の親水性基および親油性基の性質次第で、界面活性剤は、湿潤剤、分散剤、乳化剤または消泡剤として有用となり得る。
界面活性剤は、非イオン性、アニオン性またはカチオン性に分類することができる。本組成物にとって有用な非イオン性界面活性剤としては、以下が挙げられるが、これに限定されない：天然および合成アルコール（分枝または直鎖であってもよい）系であり、アルコールおよびエチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドまたはそれらの混合物から製造されるアルコールアルコキシラートなどのアルコールアルコキシラート；アミンエトキシラート、アルカノールアミドおよびエトキシル化アルカノールアミド；エトキシル化されたダイズ油、ヒマシ油およびナタネ油のようなアルコキシル化トリグリセリド；オクチルフェノールエトキシラート、ノニルフェノールエトキシラート、ジノニルフェノールエトキシラートおよびドデシルフェノールエトキシラート（フェノールおよびエチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドまたはそれらの混合物から製造される）のようなアルキルフェノールアルコキシラート；エチレンオキシドまたはプロピレンオキシドから製造されるブロックポリマーおよび末端ブロックがプロピレンオキシドから製造される逆ブロックポリマー；エトキシル化脂肪酸；エトキシル化脂肪エステルおよび油；エトキシル化メチルエステル；エトキシル化トリスチリルフェノール（エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドまたはそれらの混合物から製造されるものを含む）；脂肪酸エステル、グリセリンエステル、ラノリン系誘導体、ポリエトキシル化ソルビタン脂肪酸エステル、ポリエトキシル化ソルビトール脂肪酸エステルおよびポリエトキシル化グリセリン脂肪酸エステルのようなポリエトキシラートエステル；ソルビタンエステルなどの他のソルビタン誘導体；ランダムコポリマー、ブロックコポリマー、アルキドペグ（ポリエチレングリコール）樹脂、グラフトまたはコームポリマーおよびスターポリマーなどの高分子界面活性剤；ポリエチレングリコール（ペグ）；ポリエチレングリコール脂肪酸エステル；シリコーン系界面活性剤；ならびにスクロースエステル、アルキルポリグリコシドおよびアルキルポリサッカリドのような糖誘導体。
有用なアニオン性界面活性剤としては、以下が挙げられるが、これに限定されない：アルキルアリールスルホン酸およびそれらの塩；カルボキシル化アルコールまたはアルキルフェノールエトキシラート；ジフェニルスルホナート誘導体；リグニンおよびリグノスルホナートのようなリグニン誘導体；マレイン酸またはコハク酸またはそれらの無水物；オレフィンスルホナート；アルコールアルコキシラートのリン酸エステル、アルキルフェノールアルコキシラートのリン酸エステルおよびスチリルフェノールエトキシラートのリン酸エステルのようなリン酸エステル；タンパク質系界面活性剤；サルコシン誘導体；スチリルフェノールエーテルスルファート；油および脂肪酸のスルファートおよびスルホナート；エトキシル化アルキルフェノールのスルファートおよびスルホナート；アルコールのスルファート；エトキシル化アルコールのスルファート；Ｎ，Ｎ−アルキルタウラートのようなアミンおよびアミドのスルホナート；ベンゼン、クメン、トルエン、キシレン、ならびにドデシルおよびトリデシルベンゼンのスルホナート；縮合ナフタレンのスルホナート；ナフタレンおよびアルキルナフタレンのスルホナート；分留された石油のスルホナート；スルホスクシナート；ならびにジアルキルスルホスクシナート塩のようなスルホスクシナートおよびそれらの誘導体。
有用なカチオン性界面活性剤としては、以下が挙げられるが、これに限定されない：アミドおよびエトキシル化アミド；Ｎ−アルキルプロパンジアミン、トリプロピレントリアミンおよびジプロピレンテトラミン、ならびにエトキシル化アミン、エトキシル化ジアミンおよびプロポキシル化アミン（アミンおよびエチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドまたはそれらの混合物から製造される）のようなアミン；酢酸アミンのようなアミン塩およびジアミン塩；第四級塩、エトキシル化第四級塩およびジ第四級塩のような第四級アンモニウム塩；ならびにアルキルジメチルアミンオキシドおよびビス−（２−ヒドロキシエチル）−アルキルアミンオキシドのようなアミンオキシド。
非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物、または非イオン性界面活性剤とカチオン性界面活性剤との混合物も、本組成物には有用である。非イオン性、アニオン性およびカチオン性界面活性剤ならびにそれらの推奨される使用については、ＭｃＣｕｔｃｈｅｏｎ’ｓ Ｅｍｕｌｓｉｆｉｅｒｓ ａｎｄ Ｄｅｔｅｒｇｅｎｔｓ、ａｎｎｕａｌ Ａｍｅｒｉｃａｎ ａｎｄ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｅｄｉｔｉｏｎｓ、ＭｃＣｕｔｃｈｅｏｎ’ｓ Ｄｉｖｉｓｉｏｎ、Ｔｈｅ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏｎｆｅｃｔｉｏｎｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．刊行；ＳｉｓｅｌｙおよびＷｏｏｄ、Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｓｕｒｆａｃｅ Ａｃｔｉｖｅ Ａｇｅｎｔｓ、Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐｕｂｌ．Ｃｏ．，Ｉｎｃ．、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９６４；ならびに、Ａ．Ｓ．ＤａｖｉｄｓｏｎおよびＢ．Ｍｉｌｗｉｄｓｋｙ、Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｄｅｔｅｒｇｅｎｔｓ、第７版、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９８７を含む様々な公表された文献に開示されている。
本発明の組成物は、配合補助剤として当業者に公知である配合助剤および添加剤を更に含有してもよい（これらの一部は、固体希釈剤、液体希釈剤または界面活性剤としても機能すると考えられる）。このような配合助剤および添加剤は、以下を制御し得る：ｐＨ（緩衝液）、加工中の発泡（ポリオルガノシロキサンのような消泡剤）、有効成分の沈降（懸濁剤）、粘度（チキソトロピー増粘剤）、容器内微生物の成長（抗菌薬）、生成物の凍結（凍結防止剤）、色（染料／顔料分散剤）、洗い流し（フィルム形成剤または粘着剤）、蒸発（蒸発遅延剤）、および他の製剤属性。フィルム形成剤としては、例えば、ポリ酢酸ビニル、ポリ酢酸ビニルコポリマー、ポリビニルピロリドン−酢酸ビニルコポリマー、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコールコポリマーおよびワックスが挙げられる。配合助剤および添加剤の例としては、ＭｃＣｕｔｃｈｅｏｎ’ｓ第２巻：Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ， ａｎｎｕａｌ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ａｎｄ Ｎｏｒｔｈ Ａｍｅｒｉｃａｎ ｅｄｉｔｉｏｎｓ、ＭｃＣｕｔｃｈｅｏｎ’ｓ Ｄｉｖｉｓｉｏｎ、Ｔｈｅ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏｎｆｅｃｔｉｏｎｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．刊行；およびＰＣＴ公開ＷＯ０３／０２４２２２に列挙されるものが挙げられる。
式１の化合物および他のいずれかの有効成分は、典型的には、有効成分を溶媒に溶解させることにより、または、液体または乾燥希釈剤中で磨砕することにより、本組成物に組み込まれる。乳剤を含む液剤は、原材料を単純に混合することにより製造することができる。乳剤としての使用が意図される液体組成物の溶媒が非水混和性である場合、乳化剤が、典型的には水での希釈時に活性含有溶媒を乳化するために添加される。２，０００μｍまでの粒径を有する有効成分スラリーは、媒体ミルを使用して湿式粉砕し、平均径が３μｍ未満の粒子を得ることができる。水性スラリーを最終ＳＣ剤へと加工することができ（例えば、Ｕ．Ｓ．３，０６０，０８４を参照されたい）、または噴霧乾燥によって更に処理して顆粒水和剤を形成することができる。乾燥製剤は、通常、乾式粉砕プロセスを必要とし、それにより２〜１０μｍ範囲の平均粒径がもたらされる。粉剤および粉末は、ブレンドし、通常は磨砕（ハンマーミルまたは流体エネルギーミルなどで）することにより、製造することができる。粒剤およびペレットは、予備形成された顆粒担体上に活性材料を噴霧することにより、または凝集技法によって製造することができる。Ｂｒｏｗｎｉｎｇ、「Ａｇｇｌｏｍｅｒａｔｉｏｎ」、Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ、１９６７年１２月４日、１４７〜４８頁、Ｐｅｒｒｙ’ｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒ’ｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ、第４版、ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９６３、８〜５７頁以降、およびＷＯ９１／１３５４６を参照されたい。ペレットは、Ｕ．Ｓ．４，１７２，７１４に記載されているようにして製造することができる。顆粒水和剤および顆粒水溶剤は、Ｕ．Ｓ．４，１４４，０５０、Ｕ．Ｓ．３，９２０，４４２およびＤＥ３，２４６，４９３に教示されるようにして製造することができる。錠剤は、Ｕ．Ｓ．５，１８０，５８７、Ｕ．Ｓ．５，２３２，７０１およびＵ．Ｓ．５，２０８，０３０に教示されるように製造することができる。フィルムは、ＧＢ２，０９５，５５８およびＵ．Ｓ．３，２９９，５６６に教示されるように製造することができる。
製剤技術に関する更なる情報に関しては、Ｔ．Ｓ．Ｗｏｏｄｓ、「Ｔｈｅ Ｆｏｒｍｕｌａｔｏｒ’ｓ Ｔｏｏｌｂｏｘ−Ｐｒｏｄｕｃｔ Ｆｏｒｍｓ ｆｏｒ Ｍｏｄｅｒｎ Ａｇｒｉｃｕｌｔｕｒｅ」ｉｎ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅ、Ｔｈｅ Ｆｏｏｄ−Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔ Ｃｈａｌｌｅｎｇｅ、Ｔ．ＢｒｏｏｋｓおよびＴ．Ｒ．Ｒｏｂｅｒｔｓ編、Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ ９ｔｈ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｇｒｅｓｓ ｏｎ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、Ｔｈｅ Ｒｏｙａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ、１９９９、１２０〜１３３頁を参照されたい。更に、Ｕ．Ｓ．３，２３５，３６１、６欄１６行〜７欄１９行および実施例１０〜４１；Ｕ．Ｓ．３，３０９，１９２、５欄４３行〜７欄６２行ならびに実施例８、１２、１５、３９、４１、５２、５３、５８、１３２、１３８〜１４０、１６２〜１６４、１６６、１６７および１６９〜１８２；Ｕ．Ｓ．２，８９１，８５５、３欄６６行〜５欄１７行および実施例１〜４；Ｋｌｉｎｇｍａｎ、Ｗｅｅｄ Ｃｏｎｔｒｏｌ ａｓ ａ Ｓｃｉｅｎｃｅ、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９６１、８１〜９６頁；Ｈａｎｃｅら、Ｗｅｅｄ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｈａｎｄｂｏｏｋ、第８版、Ｂｌａｃｋｗｅｌｌ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ、Ｏｘｆｏｒｄ、１９８９；およびＤｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｓ ｉｎ ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、ＰＪＢ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ、Ｒｉｃｈｍｏｎｄ、ＵＫ、２０００を参照されたい。
以下の実施例において、パーセンテージは全て重量基準であり、製剤は全て従来法で製造される。化合物番号は、索引表Ａにおける化合物を指す。更なる詳細がなくても、先行する記載を使用する当業者は、本発明を最大限に利用可能であると考えられる。従って、以下の実施例は、単なる例示に過ぎず、決して本開示を限定するものではないと解釈すべきである。別途記載されていない限り、パーセンテージは重量基準である。
本開示は、「化合物１」を「化合物２」、「化合物３」、「化合物４」、「化合物５」、「化合物６」、「化合物７」、「化合物８」、「化合物９」、「化合物１０」、「化合物１１」、「化合物１２」、「化合物１３」、「化合物１４」、「化合物１５」、「化合物１６」、「化合物１７」、「化合物１８」、「化合物１９」、「化合物２０」、「化合物２１」、「化合物２２」、「化合物２３」、「化合物２４」、「化合物２５」、「化合物２６」、「化合物２７」、「化合物２８」、「化合物２９」、「化合物３０」、「化合物３１」、「化合物３２」、「化合物３３」、「化合物３４」、「化合物３５」、「化合物３６」、「化合物３７」、「化合物３８」、「化合物３９」、「化合物４０」、「化合物４１」、「化合物４２」、「化合物４３」、「化合物４４」、「化合物４５」、「化合物４６」、「化合物４７」、「化合物４８」、「化合物４９」、「化合物５０」、「化合物５１」、「化合物５２」、「化合物５３」、「化合物５４」、「化合物５５」、「化合物５６」、「化合物５７」、「化合物５８」、「化合物５９」、「化合物６０」、「化合物６１」、「化合物６２」、「化合物６３」、「化合物６４」、「化合物６５」、「化合物６６」、「化合物６７」、「化合物６８」、「化合物６９」、「化合物７０」、「化合物７１」または「化合物７２」に置き換えたことを除き、上記例Ａ〜Ｉを更に含む。
試験結果は、本発明の化合物が、活性が高度な発生前処理除草剤および／または発生後処理除草剤および／または植物成長調節剤であることを示している。本発明の化合物は一般的に、発生後雑草防除（即ち、土壌から雑草の実生が出現した後に施用）および発生前雑草防除（即ち、土壌から雑草の実生が出現する前に施用）の場合に最も高い活性を示す。その多くは、燃料保管タンクの周囲、産業用保管領域、駐車場、ドライブインシアター、飛行場、河岸、潅漑用および他の水路、広告板の周囲、ならびに、幹線道路および鉄道構造物のような、全ての植生の完全な防除が望まれる領域における広範囲の発生前および／または発生後雑草防除について実用性を有する。本発明の化合物の多くは、農作物対雑草における選択的な代謝のため、または、農作物および雑草における生理的阻害位置における選択的な活性により、または、農作物と雑草の混合物の環境上または内の選択的な配置により、農作物／雑草混合物中における草および広葉雑草の選択的な防除に有用である。当業者であれば認識することであるが、化合物または化合物群におけるこれらの選択性要因の好適な組合せは、慣例的な生物学的および／または生化学的アッセイを実施することにより容易に判定可能である。本発明の化合物は、アルファルファ、オオムギ、ワタ、コムギ、セイヨウアブラナ、サトウダイコン、コーン（トウモロコシ）、ソルガム、ダイズ、イネ、オートムギ、ピーナッツ、野菜、トマト、ジャガイモ、コーヒー、カカオ、アブラヤシ、ゴム、サトウキビ、柑橘類、ブドウ、果樹、堅果樹、バナナ、プランテーン、パイナップル、ホップ、茶を含む多年生プランテーション農作物、ならびにユーカリおよび針葉樹（例えば、テーダマツ）のような森林、および芝生種（例えば、ケンタッキーブルーグラス、アメリカシバ、ケンタッキーフェスキューおよびギョウギシバ）を含むが、これに限定されない重要な普通農作物に対して耐性を示し得る。本発明の化合物は、遺伝子組換えまたは交配により除草剤に対する耐性が組み込まれ、無脊椎動物有害生物に対して毒性のあるタンパク質（バチルス・チューリンゲンシス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ）毒素など）を発現し、および／または、他の有用な形質を発現する農作物に用いることが可能である。当業者であれば理解することであるが、当業者は、全ての化合物が全ての雑草に対して等しく効果的であるわけではない。代わりに、本化合物は、植物の成長を改変するのに有用である。
本発明の化合物は、発生前処理除草活性および発生後処理除草活性を共に有しているため、植生を死滅させる、または植生に損傷を与える、または、その成長を抑制することにより望ましくない植生を防除するには、化合物を、本発明の化合物または前記化合物と界面活性剤、固体希釈剤もしくは液体希釈剤のうちの少なくとも１種を含む組成物の除草有効量を、望ましくない植生の群葉もしくは他の部分に、または、望ましくない植生が成長している土壌もしくは水、または望ましくない植生の種子もしくは他の珠芽の周囲の土壌もしくは水のような望ましくない植生の環境に接触させることを含む多様な方法により有用に施用することができる。
本発明の化合物の除草有効量は、多数の要因によって判定される。これらの要因としては、選択した製剤、施用方法、存在する植生の量およびタイプ、成長条件等が挙げられる。通例では、本発明の化合物の除草有効量は、約０．００１〜２０ｋｇ／ｈａであり、約０．００４〜１ｋｇ／ｈａが好適な範囲である。当業者は、所望される雑草防除レベルに必要な除草有効量を容易に判定可能である。
一般的な一実施形態において、本発明の化合物は、典型的には組成物に配合され、所望の植生（例えば農作物）および望ましくない植生（即ち雑草）（これらは共に、種子、実生および／またはより成長した植物の場合がある）を含む生息地に対し、成長培地（例えば土壌）に接触させて施用される。この生息地において、本発明の化合物を含む組成物は、特に望ましくない植生の植物もしくはその一部に対し、および／または、植物に接触している成長培地に対し、直接施用することが可能である。
本発明の化合物で処理された生息地における所望の植生の植物の変種および栽培変種は、従来の繁殖および交配方法により、または、遺伝子操作法により得ることが可能である。遺伝子操作された植物（遺伝子組換え植物）は、異種遺伝子（導入遺伝子）が植物のゲノムに安定的に組み込まれたものである。植物ゲノムにおける特定の位置により定義される導入遺伝子は、形質転換または遺伝子組換えイベントと呼ばれる。
本発明に従い処理可能な生息地における遺伝子操作された植物栽培変種は、１つまたはそれ以上の生物ストレス（線虫、昆虫、ダニ、菌類などのような有害生物）もしくは非生物ストレス（渇水、低温、土壌塩分など）に対して耐性があるもの、または他の望ましい特性を含有するものを含む。植物は、遺伝子操作されて、例えば、除草剤耐性、虫害抵抗性、変性油プロファイルまたは渇水耐性といった形質を示すことが可能である。単一の遺伝子形質転換イベントまたは形質転換イベントの組合せを含有する有用な遺伝子操作された植物が提示Ｃに列挙されている。提示Ｃに列挙されている遺伝子組換えについての追加情報は、例えば米国農務省によって管理された公に利用可能なデータベースから入手可能である。
以下の略語Ｔ１〜Ｔ３７が形質に関して提示Ｃにおいて用いられている。ハイフン「−」はその項目が利用不可であることを意味し、「ｔｏｌ．」は「耐性」を意味し、「ｒｅｓ．」は抵抗性を意味する。
最も典型的には、本発明の化合物は望ましくない植生の防除に用いられるが、処理された生息地における所望の植生に本発明の化合物を接触させることで、遺伝子組換えを介して組み込まれた形質を含む、所望の植生における遺伝形質と、超相加的または相乗的な効果がもたらされることがある。例えば、植食性害虫もしくは植物病害に対する抵抗性、生物／非生物ストレスに対する耐性、または、貯蔵安定性が、所望の植生における遺伝形質から予想されるものより大きくなる場合がある。
本発明の化合物は更に、除草剤、除草剤薬害軽減剤、殺真菌剤、殺虫剤、抗線虫剤、殺菌剤、殺ダニ剤、昆虫脱皮阻害剤および発根刺激剤のような成長調節剤、不妊化剤、信号化学物質、忌避剤、誘引剤、フェロモン、摂食刺激物質、植物栄養素、他の生物学的活性化合物、または昆虫病原性バクテリア、ウイルスまたは菌類を含む１種またはそれ以上の他の生物学的活性化合物または活性剤と混合することにより多成分型農薬を形成して、農業的保護範囲を更に拡大させることが可能である。本発明の化合物と他の除草剤との混合物は、追加の雑草種に対する活性範囲を拡大し、任意の抵抗性バイオタイプの増殖を抑制することが可能である。従って、本発明は更に、式１の化合物（除草有効量で）と、少なくとも１種の追加の生物学的活性化合物または活性剤（生物学的に有効な量で）とを含む組成物に関し、界面活性剤、固体希釈剤または液体希釈剤の少なくとも１種を更に含むことが可能である。他の生物学的活性化合物または活性剤を、界面活性剤、固体または液体希釈剤の少なくとも１種を含む組成物に配合することも可能である。本発明の混合物について、１種またはそれ以上の他の生物学的活性化合物もしくは活性剤を式１の化合物と共に配合して予混合物を形成したり、１種またはそれ以上の他の生物学的活性化合物もしくは活性剤を式１の化合物とは別に配合し、製剤を施用前に（例えば、噴霧タンク中で）混ぜ合わせるか、もしくは、交互に連続して施用したりすることが可能である。
以下の除草剤の１種またはそれ以上と本発明の化合物との混合物が、雑草防除に特に有用となり得る：アセトクロール、アシフルオルフェンおよびそのナトリウム塩、アクロニフェン、アクロレイン（２−プロペナール）、アラクロール、アロキシジム、アメトリン、アミカルバゾン、アミドスルフロン、アミノシクロピラクロルおよびそのエステル（例えば、メチル、エチル）および塩（例えば、ナトリウム、カリウム）、アミノピラリド、アミトロール、スルファミン酸アンモニウム、アニロホス、アシュラム、アトラジン、アジムスルフロン、ベフルブタミド、ベナゾリン、ベナゾリン−エチル、ベンカルバゾン、ベンフルラリン、ベンフレセート、ベンスルフロン−メチル、ベンスリド、ベンタゾン、ベンゾビシクロン、ベンゾフェナップ、ビシクロピロン、ビフェノックス、ビラナホス、ビスピリバックおよびそのナトリウム塩、ブロマシル、ブロモブチド、ブロモフェノキシム、ブロモキシニル、オクタン酸ブロモキシニル、ブタクロール、ブタフェナシル、ブタミホス、ブトラリン、ブトロキシジム、ブチレート、カフェンストロール、カルベタミド、カルフェントラゾン−エチル、カテキン、クロメトキシフェン、クロラムベン、クロルブロムロン、クロルフルレノール−メチル、クロリダゾン、クロリムロン−エチル、クロロトルロン、クロルプロファム、クロルスルフロン、クロルタール−ジメチル、クロルチアミド、シニドン−エチル、シンメシリン、シノスルフロン、クラシホス、クレホキシジム、クレトジム、クロジナホップ−プロパルギル、クロマゾン、クロメプロップ、クロピラリド、クロピラリド−オラミン、クロランスラム−メチル、クミルロン、シアナジン、シクロエート、シクロピリモレート、シクロスルファムロン、シクロキシジム、シハロホップ−ブチル、２，４−Ｄおよびそのブトチル、ブチル、イソオクチルおよびイソプロピルエステルおよびそのジメチルアンモニウム、ジオラミンおよびトロラミン塩、ダイムロン、ダラポン、ダラポン−ナトリウム、ダゾメット、２，４−ＤＢおよびそのジメチルアンモニウム、カリウムおよびナトリウム塩、デスメディファム、デスメトリン、ジカンバおよびそのジグリコールアンモニウム、ジメチルアンモニウム、カリウムおよびナトリウム塩、ジクロベニル、ジクロルプロップ、ジクロホップ−メチル、ジクロスラム、メチル硫酸ジフェンゾコート、ジフルフェニカン、ジフルフェンゾピル、ジメフロン、ジメピペレート、ジメタクロール、ジメタメトリン、ジメテナミド、ジメテナミド−Ｐ、ジメチピン、ジメチルアルシン酸およびそのナトリウム塩、ジニトロアミン、ジノテルブ、ジフェナミド、ジクワットジブロミド、ジチオピル、ジウロン、ＤＮＯＣ、エンドタール、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、エタルフルラリン、エタメツルフロン−メチル、エチオジン、エトフメセート、エトキシフェン、エトキシスルフロン、エトベンザニド、フェノキサプロップ−エチル、フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、フェノキサスルホン、フェンキノトリオン、フェントラザミド、フェヌロン、フェヌロン−ＴＣＡ、フラムプロップ−メチル、フラムプロップ−Ｍ−イソプロピル、フラムプロップ−Ｍ−メチル、フラザスルフロン、フロラスラム、フルアジホップ−ブチル、フルアジホップ−Ｐ−ブチル、フルアゾレート、フルカルバゾン、フルセトスルフロン、フルクロラリン、フルフェナセット、フルフェンピル、フルフェンピル−エチル、フルメツラム、フルミクロラック−ペンチル、フルミオキサジン、フルオメツロン、フルオログリコフェン−エチル、フルポキサム、フルピルスルフロン−メチルおよびそのナトリウム塩、フルレノール、フルレノール−ブチル、フルリドン、フルロクロリドン、フルロキシピル、フルルタモン、フルチアセット−メチル、フォメサフェン、ホラムスルフロン、ホサミン−アンモニウム、グルホシネート、グルホシネート−アンモニウム、グルホシネート−Ｐ、アンモニウム、イソプロピルアンモニウム、カリウム、ナトリウム（セスキナトリウムを含む）およびトリメシウム（代替的にスルホサートとも呼ばれる）のような、グリホサートおよびその塩、ハラウキシフェン、ハラウキシフェン−メチル、ハロスルフロン−メチル、ハロキシホップ−エトチル、ハロキシホップ−メチル、ヘキサジノン、ヒダントシジン、イマザメタベンズ−メチル、イマザモックス、イマザピク、イマザピル、イマザキン、イマザキン−アンモニウム、イマゼタピル、イマゼタピル−アンモニウム、イマゾスルフロン、インダノファン、インダジフラム、イオフェンスルフロン、ヨードスルフロン−メチル、アイオキシニル、オクタン酸アイオキシニル、アイオキシニル−ナトリウム、イプフェンカルバゾン、イソプロツロン、イソウロン、イソキサベン、イソキサフルトール、イソキサクロルトール、ラクトフェン、レナシル、リニュロン、マレイン酸ヒドラジド、ＭＣＰＡおよびその塩（例えば、ＭＣＰＡ−ジメチルアンモニウム、ＭＣＰＡ−カリウムおよびＭＣＰＡ−ナトリウム、エステル（例えば、ＭＣＰＡ−２−エチルヘキシル、ＭＣＰＡ−ブトチル）およびチオエステル（例えば、ＭＣＰＡ−チオエチル）、ＭＣＰＢおよびその塩（例えば、ＭＣＰＢ−ナトリウム）およびエステル（例えば、ＭＣＰＢ−エチル）、メコプロップ、メコプロップ−Ｐ、メフェンアセト、メフルイジド、メソスルフロン−メチル、メソトリオン、メタム−ナトリウム、メタミホップ、メタミトロン、メタザクロル、メタゾスルフロン、メタベンズチアズロン、メチルアルソン酸およびそのカルシウム、一アンモニウム、一ナトリウムおよび二ナトリウム塩、メチルジムロン、メトベンズロン、メトブロムロン、メトラクロル、Ｓ−メトラクロル、メトスラム、メトキスロン、メトリブジン、メトスルフロン−メチル、モリネート、モノリヌロン、ナプロアニリド、ナプロップアミド、ナプロップアミド−Ｍ、ナプタラム、ネブロン、ニコスルフロン、ノルフルラゾン、オルベンカルブ、オルトスルファムロン、オリザリン、オキサジアルギル、オキサジアゾン、オキサスルフロン、オキサジクロメホン、オキシフルオルフェン、パラコートジクロリド、ペブレート、ペラルゴン酸、ペンジメタリン、ペノキススラム、ペンタノクロル、ペントキサゾン、ペルフルイドン、ペトキサミド、ペトキシアミド、フェンメジファム、ピクロラム、ピクロラム−カリウム、ピコリナフェン、ピノキサデン、ピペロホース、プレチラクロル、プリミスルフロン−メチル、プロジアミン、プロホキシジム、プロメトン、プロメトリン、プロパクロル、プロパニル、プロパキザホップ、プロパジン、プロファム、プロピソクロル、プロポキシカルバゾン、プロピリスルフロン、プロピズアミド、プロスルホカルブ、プロスルフロン、ピラクロニル、ピラフルフェン−エチル、ピラスルホトール、ピラゾギル、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、ピラゾスルフロン−エチル、ピリベンゾオキシム、ピリブチカルブ、ピリデート、ピリフタリド、ピリミノバク−メチル、ピリミスルファン、ピリチオバク、ピリチオバク−ナトリウム、ピロキサスルホン、ピロキシスラム、キンクロラク、キンメラク、キノクラミン、キザロホップ−エチル、キザロホップ−Ｐ−エチル、キザロホップ−Ｐ−テフリル、リムスルフロン、サフルフェナシル、セトキシジム、シズロン、シマジン、シメトリン、スルコトリオン、スルフェントラゾン、スルホメツロン−メチル、スルホスルフロン、２，３，６−ＴＢＡ、ＴＣＡ、ＴＣＡ−ナトリウム、トブタム、トブチウロン、テフリルトリオン、テンボトリオン、テプラロキシジム、テルバシル、テルブメトン、テルブチルアジン、テルブトリン、テニルクロル、チアゾピル、チエンカルバゾン、チフェンスルフロン−メチル、チオベンカルブ、チアフェナシル、チオカルバジル、トルピラレート、トプラメゾン、トラルコキシジム、トリ−アレート、トリアファモン、トリアスルフロン、トリアジフラム、トリベヌロン−メチル、トリクロピル、トリクロピル−ブトチル、トリクロピル−トリエチルアンモニウム、トリジファン、トリエタジン、トリフロキシスルフロン、トリフルジモキサジン、トリフルラリン、トリフルスルフロン−メチル、トリトスルフロン、ベルノレート、３−（２−クロロ−３，６−ジフルオロフェニル）−４−ヒドロキシ−１−メチル−１，５−ナフチリジン−２（１Ｈ）−オン、５−クロロ−３−［（２−ヒドロキシ−６−オキソ−１−シクロヘキセン−１−イル）カルボニル］−１−（４−メトキシフェニル）−２（１Ｈ）−キノキサリノン、２−クロロ−Ｎ−（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）−６−（トリフルオロメチル）−３−ピリジンカルボキサミド、７−（３，５−ジクロロ−４−ピリジニル）−５−（２，２−ジフルオロエチル）−８−ヒドロキシピリド［２，３−ｂ］ピラジン−６（５Ｈ）−オン）、４−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン）、５−［［（２，６−ジフルオロフェニル）メトキシ］メチル］−４，５−ジヒドロ−５−メチル−３−（３−メチル−２−チエニル）イソオキサゾール（以前はメチオキソリン）、４−（４−フルオロフェニル）−６−［（２−ヒドロキシ−６−オキソ−１−シクロヘキセン−１−イル）カルボニル］−２−メチル−１，２，４−トリアジン−３，５（２Ｈ，４Ｈ）−ジオン、メチル４−アミノ−３−クロロ−６−（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）−５−フルオロ−２−ピリジンカルボキシレート、２−メチル−３−（メチルスルホニル）−Ｎ−（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）−４−（トリフルオロメチル）ベンズアミドおよび２−メチル−Ｎ−（４−メチル−１，２，５−オキサジアゾール−３−イル）−３−（メチルスルフィニル）−４−（トリフルオロメチル）ベンズアミド。その他の除草剤としては、アルテルナリア・デストルエンス・シモンズ（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ｄｅｓｔｒｕｅｎｓ Ｓｉｍｍｏｎｓ）、コレトトリカム・グロエオスポリオドズ（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ ｇｌｏｅｏｓｐｏｒｉｏｄｅｓ）（Ｐｅｎｚ．）Ｐｅｎｚ．＆Ｓａｃｃ．、ドレシュイエラ・モノセラス（Ｄｒｅｃｈｓｉｅｒａ ｍｏｎｏｃｅｒａｓ）（ＭＴＢ−９５１）、ミロテシウム・ベルカリア（Ｍｙｒｏｔｈｅｃｉｕｍ ｖｅｒｒｕｃａｒｉａ）（Ａｌｂｅｒｔｉｎｉ＆Ｓｃｈｗｅｉｎｉｔｚ）Ｄｉｔｍａｒ：Ｆｒｉｅｓ、フィトフトラ・パルミボラ（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ ｐａｌｍｉｖｏｒａ）（Ｂｕｔｌ．）Ｂｕｔｌ．およびプッシニア・テラスペオス（Ｐｕｃｃｉｎｉａ ｔｈｌａｓｐｅｏｓ Ｓｃｈｕｂ）などの生物除草剤も挙げられる。
本発明の化合物は更に、アビグリシン、Ｎ−（フェニルメチル）−１Ｈ−プリン−６−アミン、エポコレオン、ジベレリン酸、ジベレリンＡ４およびＡ７、ハルピンタンパク質、メピコートクロリド、プロヘキサジオンカルシウム、プロヒドロジャスモン、ナトリウムニトロフェノラートおよびトリネキサパック−メチル、ならびに、バチルス・セレウス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｃｅｒｅｕｓ）菌株ＢＰ０１のような植物の成長を改変する生体などの植物成長調節剤と組み合わせて用いることが可能である。
農業用保護剤（即ち、除草剤、除草剤薬害軽減剤、殺虫剤、殺菌剤、殺線虫剤、殺ダニ剤および生物剤）に関する一般的な参考文献としては、Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ、第１３版、Ｃ．Ｄ．Ｓ．Ｔｏｍｌｉｎ編、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ、Ｆａｒｎｈａｍ，Ｓｕｒｒｅｙ、Ｕ．Ｋ．、２００３およびＴｈｅ ＢｉｏＰｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ、第２版、Ｌ．Ｇ．Ｃｏｐｐｉｎｇ編、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ、Ｆａｒｎｈａｍ，Ｓｕｒｒｅｙ、Ｕ．Ｋ．、２００１が挙げられる。
これらの様々な混合パートナーの１種またはそれ以上が用いられる実施形態について、混合パートナーは、典型的には、混合物パートナーが単独で使用される場合に慣例となっている量と同様の量で使用される。より詳細には、混合物において、有効成分は多くの場合、製品のラベルに有効成分を単独で用いる場合に指定されている施用量の半分から全量の施用量で施用される。これらの量は、Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ、および、Ｔｈｅ ＢｉｏＰｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌなどの参考文献に列挙されている。式１の化合物に対するこれらの様々な混合パートナー（合計）の重量比は、典型的には、約１：３０００と約３０００：１の間である。注目すべきは、約１：３００と約３００：１の間の重量比（例えば、約１：３０と約３０：１の間の比）である。当業者は、所望の範囲の生物学的活性に必要な有効成分の生物学的有効量を単純な実験を通して容易に判定することが可能である。これらの追加の成分を包含することで、防除される雑草の範囲を、式１の化合物単独で防除される範囲を超えて拡大し得ることが明らかである。
場合によっては、本発明の化合物と他の生物学的活性（特に除草性）化合物または活性剤（即ち、有効成分）との組合せは、雑草に対して相加的を超える（即ち相乗的）効果をもたらす、および／または、農作物または他の望ましい植物に対して拮抗作用（即ち、毒性緩和）をもたらすことが可能である。効果的な有害生物の防除を確保しつつ、環境中に放出される有効成分の量を低減させることが常に望ましい。より多くの量の有効成分を用いて、過剰な農作物被害を伴うことなくより効果的な雑草防除をもたらす能力も同様に望ましい。雑草に対する除草用有効成分の相乗作用が農学的に十分なレベルの雑草防除をもたらす施用量で生じる場合、このような組合せは、農作物生産コストの削減および環境負荷の低減に有利となり得る。除草用有効成分の毒性緩和が農作物に生じる場合、このような組合せは、雑草との競合を低減させることによる農作物保護の強化に有利となり得る。
注目すべきは、本発明の化合物と少なくとも１種の他の除草用有効成分との組合せである。特に注目すべきは、他の除草用有効成分が本発明の化合物とは異なる作用部位を有するような組合せである。場合によっては、同様の防除範囲を有するが作用部位が異なる少なくとも１種の他の除草用有効成分との組合せが、耐性管理に関して特に有利となる。従って、本発明の組成物は、同様の防除範囲を有するが作用部位が異なる少なくとも１種の追加の除草用有効成分を（除草有効量で）更に含むことが可能である。
本発明の化合物は更に、アリドクロル、ベノキサコル、クロキントセト−メキシル、クミルウロン、シオメトリニル、シプロスルホンアミド、ダイムロン、ジクロルミド、ジシクロノナ、ジエトレート、ジメピペレート、フェンクロラゾール−エチル、フェンクロリム、フルラゾール、フルキソフェニム、フリラゾール、イソキサジフェン−エチル、メフェンピル−ジエチル、メフェネート、メトキシフェノン ナフタル酸無水物（１，８−ナフタル酸無水物）、オキサベトリニル、Ｎ−（アミノカルボニル）−２−メチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（アミノカルボニル）−２−フルオロベンゼンスルホンアミド、１−ブロモ−４−［（クロロメチル）スルホニル］ベンゼン（ＢＣＳ）、４−（ジクロロアセチル）−１−オキサ−４−アゾスピロ［４．５］デカン（ＭＯＮ ４６６０）、２−（ジクロロメチル）−２−メチル−１，３−ジオキソラン（ＭＧ１９１）、エチル１，６−ジヒドロ−１−（２−メトキシフェニル）−６−オキソ−２−フェニル−５−ピリミジンカルボキシレート、２−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボキサミド、および３−オキソ−１−シクロヘキセン−１−イル １−（３，４−ジメチルフェニル）−１，６−ジヒドロ−６−オキソ−２−フェニル−５−ピリミジンカルボキシレート、２，２−ジクロロ−１−（２，２，５−トリメチル−３−オキサゾリジニル）−エタノンおよび２−メトキシ−Ｎ−［［４−［［（メチルアミノ）カルボニル］アミノ］フェニル］スルホニル］−ベンズアミドのような除草剤薬害軽減剤と組み合わせて使用し、特定の農作物の安全性を高めることが可能である。除草剤薬害軽減剤の解毒的に有効な量は、本発明の化合物と同時に、または、種子処理として施用可能である。従って、本発明の態様は、本発明の化合物と、解毒的に有効な量の除草剤薬害軽減剤とを含む除草用混合物に関する。解毒が物理的に農作物植物に限定されるために、種子処理が選択的な雑草防除に特に有用である。従って、本発明の特に有用な実施形態は、農作物の生息地に除草有効量の本発明の化合物を接触させる工程を含む、農作物における望ましくない植生の成長を選択的に防除する方法であり、ここでは、農作物が成長する種子が解毒的に有効な量の薬害軽減剤で処理される。解毒的に有効な量の薬害軽減剤は、単純な実験を通じて当業者により容易に判定可能である。
本発明の化合物は更に、以下と混合することが可能である：（１）除草効果をもたらす遺伝由来の転写産物のダウンレギュレーション、干渉、抑制またはサイレンシングを通じて特定標的の量に影響を与えるＤＮＡ、ＲＮＡ、および／または化学的に修飾されたヌクレオチドを含むがこれに限定されないポリヌクレオチド；または（２）薬害軽減効果をもたらす遺伝由来の転写産物のダウンレギュレーション、干渉、抑制またはサイレンシングを通じて特定標的の量に影響を与えるＤＮＡ、ＲＮＡ、および／または化学的に修飾されたヌクレオチドを含むがこれに限定されないポリヌクレオチド。
注目すべきは、本発明の化合物（除草有効量で）と、他の除草剤および除草剤薬害軽減剤からなる群から選択される少なくとも１種の追加の有効成分（有効量で）と、界面活性剤、固体希釈剤および液体希釈剤からなる群から選択される少なくとも１種の成分とを含む組成物である。
表Ａ１には、本発明の混合物、組成物および方法の例示である、成分（ａ）と、成分（ｂ）の特定の組合せが列挙されている。成分（ａ）欄中の化合物１が索引表Ａにおいて特定されている。表Ａ１の第２の欄には、特定の成分（ｂ）化合物（例えば、第１行に「２，４−Ｄ」）が列挙されている。表Ａ１の第３、第４および第５欄には、圃場で栽培されている農作物に対し、成分（ｂ）に対して成分（ａ）化合物が典型的に施用される割合の重量比（即ち、（ａ）：（ｂ））の範囲が列挙されている。従って、例えば、表Ａ１の第１行には、成分（ａ）（即ち、索引表Ａの化合物１）と２，４−Ｄとの組合せは、典型的には、１：１９２と６：１の間の重量比で施用されることが具体的に開示されている。表Ａ１の残りの行も、同様に解釈すべきである。
表Ａ２は、「成分（ａ）」欄見出しの下の項目が、以下に示すそれぞれの成分（ａ）欄の項目で置き換えられていることを除き、上記表Ａ１と同様に構成されている。成分（ａ）欄の化合物２が、索引表Ａにおいて特定されている。従って、例えば、表Ａ２において、「成分（ａ）」欄見出しの下の項目は全て「化合物２」（即ち、索引表Ａにおいて特定されている化合物２）を列挙し、表Ａ２における欄見出しの下の第１行は、化合物２と２，４−Ｄとの混合物を具体的に開示している。表Ａ３〜Ａ７も同様に構成されている。
望ましくない植生のより良好な防除（例えば相乗作用、防除される雑草の範囲の拡大、または、農作物の安全性の強化などによる使用量の低減）のために、または、抵抗性雑草の発生を防止するために、本発明の化合物と、クロリムロン−エチル、ニコスルフロン、メソトリオン、チフェンスルフロン−メチル、フルピルスルフロン−メチル、トリベヌロン、ピロキサスルホン、ピノキサデン、テンボトリオン、ピロキシスラム、メトラクロールおよびＳ−メトラクロールからなる群から選択される除草剤との混合物が好適である。
以下の試験は、特定の雑草に対する本発明の化合物の防除効能を実証する。しかしながら、これらの化合物によって得られる雑草防除はこれらの種に限定されない。化合物の説明については索引表Ａを参照されたい。以下の索引表において、以下の略語が使用されている：ｃ−Ｐｒはシクロプロピルであり、「Ｃｍｐｄ．Ｎｏ．」は「化合物番号」を表し、「Ｅｘ．」は「実施例」を表し、どの実施例においてその化合物が製造されているかを示す数字が続いている。別段の指示がない限り、以下の索引表において、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０のそれぞれは、ＣＨである。１Ｈ
ＮＭＲスペクトルは、別段の指示がない限り、ＣＤＣｌ３溶液中のテトラメチルシランからの低磁場側のｐｐｍで報告されており；「ｓ」は一重項を意味し、「ｄ」は二重項を意味し、「ｄｄ」は二重項の二重項を意味し、「ｔ」は三重項を意味し、「ｑ」は四重項を意味し、「ｍ」は多重項を意味し、「ｂｒｓ」は広幅一重項を意味する。質量スペクトルは、大気圧化学イオン化（ＡＰ＋）を用いて観察される、Ｈ＋（分子量１）の分子への付加によって形成される同位体存在度が最も高い親イオン（Ｍ＋１）の分子量として、±０．５Ｄａの推定精度で報告される。
ＮＭＲスペクトルは、別段の指示がない限り、ＣＤＣｌ３溶液中のテトラメチルシランからの低磁場側のｐｐｍで報告されており；「ｓ」は一重項を意味し、「ｄ」は二重項を意味し、「ｄｄ」は二重項の二重項を意味し、「ｔ」は三重項を意味し、「ｑ」は四重項を意味し、「ｍ」は多重項を意味し、「ｂｒｓ」は広幅一重項を意味する。質量スペクトルは、大気圧化学イオン化（ＡＰ＋）を用いて観察される、Ｈ＋（分子量１）の分子への付加によって形成される同位体存在度が最も高い親イオン（Ｍ＋１）の分子量として、±０．５Ｄａの推定精度で報告される。
本発明の生物学的実施例
試験Ａ
イヌビエ（エチノクロア・クルス−ガルリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ））、ホウキギ（コチア・スコパリア（Ｋｏｃｈｉａ ｓｃｏｐａｒｉａ））、ブタクサ（ｃｏｍｍｏｎ ｒａｇｗｅｅｄ、アンブロシア・エラチオル（Ａｍｂｒｏｓｉａ ｅｌａｔｉｏｒ））、イタリアンライグラス（Ｉｔａｌｉａｎ ｒｙｅｇｒａｓｓ、ロリウム・ムルティフロルム（Ｌｏｌｉｕｍ ｍｕｌｔｉｆｌｏｒｕｍ））、アキノエノコログサ（ｇｉａｎｔ ｆｏｘｔａｉｌ、セタリア・ファベリイ（Ｓｅｔａｒｉａ ｆａｂｅｒｉｉ））、およびアカザ（アマランサス・レトロフレックサス（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ ｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕｓ））から選択される植物種の種子をローム土壌と砂とのブレンドに蒔き、界面活性剤を含む非植物毒性溶媒混合物に配合した試験化学物質を用いて直接土壌噴霧で発生前処理した。
試験Ａ
イヌビエ（エチノクロア・クルス−ガルリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ））、ホウキギ（コチア・スコパリア（Ｋｏｃｈｉａ ｓｃｏｐａｒｉａ））、ブタクサ（ｃｏｍｍｏｎ ｒａｇｗｅｅｄ、アンブロシア・エラチオル（Ａｍｂｒｏｓｉａ ｅｌａｔｉｏｒ））、イタリアンライグラス（Ｉｔａｌｉａｎ ｒｙｅｇｒａｓｓ、ロリウム・ムルティフロルム（Ｌｏｌｉｕｍ ｍｕｌｔｉｆｌｏｒｕｍ））、アキノエノコログサ（ｇｉａｎｔ ｆｏｘｔａｉｌ、セタリア・ファベリイ（Ｓｅｔａｒｉａ ｆａｂｅｒｉｉ））、およびアカザ（アマランサス・レトロフレックサス（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ ｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕｓ））から選択される植物種の種子をローム土壌と砂とのブレンドに蒔き、界面活性剤を含む非植物毒性溶媒混合物に配合した試験化学物質を用いて直接土壌噴霧で発生前処理した。
同時に、これらの雑草種、ならびに、コムギ（トリチクム・アエスチブム（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ ａｅｓｔｉｖｕｍ））、コーン（ゼア・マイズ（Ｚｅａ ｍａｙｓ））、ブラックグラス（アロペクルス・ミオスロイデス（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ ｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ））およびヤエムグラ（ｃａｔｃｈｗｅｅｄ ｂｅｄｓｔｒａｗ、ガリウム・アパリネ（Ｇａｌｉｕｍ ａｐａｒｉｎｅ））から選択される植物を同一のローム土壌と砂とのブレンドを含有するポットに植え、同様に配合した試験化学物質の発生後適用で処理した。発生後処理に関して、植物は、２〜１０ｃｍの範囲の高さであり、１〜２葉展開期のものであった。処理した植物および未処理の対照を温室中におよそ１０日間維持し、その後、全ての処理した植物を未処理の対照と比較し、被害について視覚的に評価した。表Ａにまとめられている植物の応答評価は０〜１００スケールに基づいており、ここで、０は効果無しであり、１００は完全な防除である。ダッシュ記号（−）による応答は、試験結果が得られなかったことを意味する。
試験Ｂ
イネ（オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ ｓａｔｉｖａ））、タマガヤツリ（ｓｍａｌｌ−ｆｌｏｗｅｒ ｕｍｂｒｅｌｌａ ｓｅｄｇｅ、シペラス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ））、アメリカコナギ（ヘテランテラ・リモサ（Ｈｅｔｅｒａｎｔｈｅｒａ ｌｉｍｏｓａ））、およびイヌビエ（エチノクロア・クルス−ガルリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ））から選択される、冠水させた水田試験における植物種を試験のために２葉展開期まで成長させた。処理時に、試験ポットを土壌表面より３ｃｍ上まで冠水させ、試験化合物を田面水に直接施用することにより処理し、次いで、この水深を試験期間中維持した。処理した植物および対照を温室中に１３〜１５日間維持し、その後、全ての種を対照と比較し、視覚的に評価した。表Ｂにまとめられている植物の応答評価は０〜１００のスケールに基づいており、ここで、０は効果無しであり、１００は完全な防除である。ダッシュ記号（−）による応答は、試験結果が得られなかったことを意味する。
イネ（オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ ｓａｔｉｖａ））、タマガヤツリ（ｓｍａｌｌ−ｆｌｏｗｅｒ ｕｍｂｒｅｌｌａ ｓｅｄｇｅ、シペラス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ））、アメリカコナギ（ヘテランテラ・リモサ（Ｈｅｔｅｒａｎｔｈｅｒａ ｌｉｍｏｓａ））、およびイヌビエ（エチノクロア・クルス−ガルリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ））から選択される、冠水させた水田試験における植物種を試験のために２葉展開期まで成長させた。処理時に、試験ポットを土壌表面より３ｃｍ上まで冠水させ、試験化合物を田面水に直接施用することにより処理し、次いで、この水深を試験期間中維持した。処理した植物および対照を温室中に１３〜１５日間維持し、その後、全ての種を対照と比較し、視覚的に評価した。表Ｂにまとめられている植物の応答評価は０〜１００のスケールに基づいており、ここで、０は効果無しであり、１００は完全な防除である。ダッシュ記号（−）による応答は、試験結果が得られなかったことを意味する。
Claims (12)
- 式１の化合物、その立体異性体、Ｎ−オキシド、および塩
Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルキルカルボニルアルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシ、ベンジルもしくはフェニル；または炭素ならびに１個以下のＯおよび１個以下のＳから選択される環員を含有する５もしくは６員の飽和もしくは部分飽和の複素環式環であり；
Ｗは、ＯまたはＳであり；
Ａは、
Ｇは、Ｇ１またはＷ１Ｇ１であり；
Ｗ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルカンジイルまたはＣ２〜Ｃ４アルケンジイルであり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−Ｃ（＝Ｓ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ８、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ７、−ＣＯＮＲ９Ｒ１０、−Ｓ（Ｏ）２ＮＲ９Ｒ１０もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルキニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル；または５もしくは６員複素環式環であり；
Ｒ２は、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、Ｃ １〜Ｃ ３ アルキル、シクロプロピル、Ｃ１〜Ｃ ２ ハロアルキル、メトキシまたはエトキシであり；
各Ｘ１は、独立してＮまたはＣＲ３であり；
各Ｘ２は、独立してＮまたはＣＲ３であり；
各Ｘ３は、独立してＮまたはＣＲ３であり；
各Ｘ４、Ｘ５およびＸ６は、独立してＮまたはＣＲ４であり；
各Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０は、独立してＮまたはＣＲ５であり；
Ｙ１は、ＯまたはＳであり；
Ｙ２は、ＯまたはＳであり；
Ｙ４は、ＯまたはＳであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、ニトロ、−ＣＮ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５アルキニル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ５シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルキニル、Ｃ２〜Ｃ５アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキルチオまたはＣ２〜Ｃ５アルコキシカルボニルであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、ニトロ、−ＣＮ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５アルキニル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ５シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルキニル、Ｃ２〜Ｃ５アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキルチオまたはＣ２〜Ｃ５アルコキシカルボニルであり；
各Ｒ５は、独立してＨ、ハロゲン、−ＣＮ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、Ｃ２〜Ｃ５アルケニル、Ｃ２〜Ｃ５アルキニル、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ５シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ５ハロアルキニル、Ｃ２〜Ｃ５アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキルチオまたはＣ２〜Ｃ５アルコキシカルボニルであり；
Ｒ ７は、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル；またはフェニル、ベンジルもしくは５〜６員複素環式環であり、各フェニル、ベンジルもしくは複素環式環は、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＣ１〜Ｃ４ハロアルキルによって場合により置換されており；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル；またはフェニル、ベンジルもしくは５〜６員複素環式環であり、各フェニル、ベンジルもしくは複素環式環は、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＣ１〜Ｃ４ハロアルキルによって場合により置換されており；
Ｒ９は、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル；またはフェニル、ベンジルもしくは５〜６員複素環式環であり、各フェニル、ベンジルもしくは複素環式環は、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＣ１〜Ｃ４ハロアルキルによって場合により置換されており；
Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ１〜Ｃ７アルコキシであり；
ただし、
ｉ）ＡがＡ−３であり、Ｘ２がＣＲ３である場合、Ｘ３はＣＲ３以外であり；
ｉｉ）ＡがＡ−３であり、Ｘ３がＣＲ３である場合、Ｘ２はＣＲ３以外であり；
ｉｉｉ）ＡがＡ−４である場合、Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９およびＸ１０のうちの少なくとも１つはＣＲ５以外であり；
ｉｖ）Ｒ１がＣＨ３であり；ＧがＨまたはＣ（＝Ｏ）ＣＨ３であり；Ｒ２がＣｌまたはＢｒである場合；Ａ−３は４−キノリニル（５−Ｃｌ）、５−キノリニル、４−イソキノリニル、５−イソキノリニル、６−イソキノリニルおよび８−イソキノリニル以外である）。 - Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルキルカルボニルアルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルケニル、Ｃ３〜Ｃ７アルキニル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシ、ベンジルまたはフェニルであり；
Ｗは、Ｏであり；
Ａは、Ａ−１、Ａ−２またはＡ−３であり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−Ｃ（＝Ｓ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ８、−ＣＯＮＲ９Ｒ１０もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルキニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキルであり；
Ｗ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルカンジイルまたはＣ２〜Ｃ３アルケンジイルであり；
Ｒ２は、Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、メチルまたはメトキシであり；
各Ｘ１は、独立してＣＲ３であり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシであり；
各Ｒ５は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシであり；
Ｒ ７は、Ｃ １〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ １〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ９は、Ｃ １〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ１〜Ｃ３アルコキシである、
請求項１に記載の化合物。 - Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ４〜Ｃ７アルキルシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ４ニトロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７ハロアルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ７ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ７アルキルチオアルキル、Ｃ１〜Ｃ７アルコキシまたはベンジルであり；
Ａは、Ａ−１またはＡ−２であり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８、−ＣＯＮＲ９Ｒ１０もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４ハロアルケニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルもしくはＣ４〜Ｃ７シクロアルキルアルキルであり；
Ｗ１は、−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｒ２は、Ｈ、Ｃｌ、メチルまたはメトキシであり；
各Ｘ２は、独立してＣＲ３であり；
各Ｘ５は、独立してＣＲ４であり；
Ｙ１は、Ｏであり；
Ｙ２は、Ｏであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、シクロプロピルまたはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、シクロプロピルまたはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルであり；
Ｒ７は、Ｃ １〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ １〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ９は、Ｃ １〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、Ｃ３〜Ｃ７シクロアルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、ＣＨ３またはＯＣＨ３である、
請求項２に記載の化合物。 - Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルであり；
Ａは、
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり；
Ｗ１は、−ＣＨ２−であり；
Ｒ２は、Ｃｌまたはメチルであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３であり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３であり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、ＯＣＨ３である、
請求項３に記載の化合物。 - Ｒ１は、メチル、エチル、ｎ−プロピルまたは２−メトキシエチルであり；
Ａは、Ａ−１−ＡおよびＡ−１−Ｂから選択され；
Ｇは、Ｇ１であり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８；またはＣ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒまたはメチルであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、メチルまたはエチルであり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルである、
請求項４に記載の化合物。 - Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ３〜Ｃ４シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルであり；
Ａは、
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８もしくはＰ（＝Ｏ）Ｒ１１；またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり；
Ｗ１は、−ＣＨ２−であり；
Ｒ２は、Ｃｌまたはメチルであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３であり；
各Ｒ４は、独立してＨ、ハロゲン、メチル、エチルまたはＣＦ３であり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ７アルキルまたはＣ２〜Ｃ７アルコキシアルキルであり；
Ｒ１１は、ＯＣＨ３である、
請求項３に記載の化合物。 - Ｒ１は、メチル、エチル、ｎ−プロピルまたは２−メトキシエチルであり；
Ａは、Ａ−２−Ａであり；
Ｇは、Ｇ１であり；
Ｇ１は、Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７、−ＣＯ２Ｒ８；またはＣ１〜Ｃ４アルコキシアルキルもしくはＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり；
各Ｒ３は、独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒまたはメチルであり；
各Ｒ４は、独立してＨ、メチルまたはエチルであり；
Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルであり；
Ｒ８は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシアルキルである、
請求項６に記載の化合物。 - ４−（２，６−ジメチル−７−ベンゾフラニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン；
５−（アセチルオキシ）−４−（２，６−ジメチル−７−ベンゾフラニル）−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン；
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（３−メチル−１，２−ベンゾイソチアゾール−４−イル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン；
５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（５−メチルベンゾ［ｂ］チエン−４−イル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン；および
１，６−ジヒドロ−１，３−ジメチル−５−（５−メチルベンゾ［ｂ］チエン−４−イル）−６−オキソ−４−ピリダジニルエチルカルボナート
からなる群から選択される、請求項６に記載の化合物。 - 請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物と、界面活性剤、固体希釈剤および液体希釈剤からなる群から選択される少なくとも１種の成分とを含む除草用組成物。
- 請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物と、他の除草剤および除草剤薬害軽減剤からなる群から選択される少なくとも１種の追加の有効成分と、界面活性剤、固体希釈剤および液体希釈剤からなる群から選択される少なくとも１種の成分とを含む除草用組成物。
- （ａ）請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物と、（ｂ）（ｂ１）光化学系ＩＩ阻害剤、（ｂ２）アセトヒドロキシ酸シンターゼ（ＡＨＡＳ）阻害剤、（ｂ３）アセチル−ＣｏＡカルボキシラーゼ（ＡＣＣａｓｅ）阻害剤、（ｂ４）オーキシン模倣体、（ｂ５）５−エノール−ピルビルシキミ酸−３−リン酸（ＥＰＳＰ）シンターゼ阻害剤、（ｂ６）光化学系Ｉ電子ダイバータ、（ｂ７）プロトポルフィリノーゲンオキシダーゼ（ＰＰＯ）阻害剤、（ｂ８）グルタミンシンセターゼ（ＧＳ）阻害剤、（ｂ９）超長鎖脂肪酸（ＶＬＣＦＡ）エロンガーゼ阻害剤、（ｂ１０）オーキシン輸送阻害剤、（ｂ１１）フィトエンデサチュラーゼ（ＰＤＳ）阻害剤、（ｂ１２）４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ（ＨＰＰＤ）阻害剤、（ｂ１３）ホモゲンチジン酸ソラネシルトランスフェラーゼ（ＨＳＴ）阻害剤、（ｂ１４）セルロース生合成阻害剤、（ｂ１５）有糸分裂撹乱物質、有機ヒ素剤、アシュラム、ブロモブチド、シンメシリン、クミルロン、ダゾメット、ジフェンゾコート、ダイムロン、エトベンザニド、フルレノール、ホサミン、ホサミン−アンモニウム、ヒダントシジン、メタム、メチルダイムロン、オレイン酸、オキサジクロメフォン、ペラルゴン酸およびピリブチカルブを含む他の除草剤、および（ｂ１６）除草剤薬害軽減剤；ならびに（ｂ１）〜（ｂ１６）の化合物の塩から選択される少なくとも１種の追加の有効成分とを含む除草用混合物。
- 望ましくない植生の成長を防除する方法であって、植生またはその環境に請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物の除草有効量を接触させることを含む、前記方法。
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