JP6901513B2 - 光変換樹脂組成物および光変換積層基材、これを用いた画像表示装置 - Google Patents

光変換樹脂組成物および光変換積層基材、これを用いた画像表示装置 Download PDF

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Description

本発明は、光変換樹脂組成物および光変換積層基材、これを用いた画像表示装置に関する。
発光素子(Light Emitting Diode、LED)をバックライトユニット(Back Light Unit、BLU)に使用するLCD(Liguid Crystal Diplay)テレビにおいてLED BLUは、光を実際に発する部分であって、LCDテレビにおいて最も重要な部分の一つである。
白色のLED BLUを形成する方法としては、通常、赤色(Red、R)、緑色(Green、G)および青色(Blue、B)LEDチップを組み合わせて白色のLED BLUを形成するか、青色LEDチップと広い半値幅の発光波長を有する黄色(Yellow、Y)蛍光体の組合せを利用して白色を具現している。
しかしながら、赤色、緑色、青色のLEDチップを組み合わせる場合には、LEDチップの個数および複雑な工程によって製造費用が高い問題があり、青色LEDチップに黄色蛍光体を組み合わせる場合には、緑色および赤色の波長が区分されず、色純度が劣り、これに伴う色再現性の低下の問題があり、最近では、特許文献1、特許文献2、特許文献3、および特許文献4のように、青色のLEDチップを使用したバックライトに量子ドットが含まれた光学フィルムを適用して、画像表示装置の色再現性および輝度を向上しようとしている。
しかしながら、コーティング組成物の製造に際して、極性が非常に低い化合物のリガンドを使用してトルエン、ヘキサン、クロロホルムのような溶剤の使用が不可避であり、作業者が人体に有害な溶剤に露出した環境で作業を実施しなければならないという問題がある。
また、前記の光学フィルムの場合、量子ドットが含まれた発光層以外にバリアー層、基材層など構造が複雑になり、これに伴う量子ドットの発光輝度の低下が発生し得、製造工程中に非常に高い温度でフィルムを製作するとき、量子ドットが消光する問題点が発生し得る。
そして、光学フィルム形態で加工するために、低い工程温度で行うことに伴い、長期信頼性に問題があるので、これに対する改善が要求されている。
韓国特許公開第2014−0094806号公報 韓国特許公開第2015−0022516号公報 韓国特許公開第2016−0117063号公報 韓国特許公開第2016−0017921号公報
本発明は、輝度特性および信頼性に優れた光変換樹脂組成物および光変換積層基材、これを用いた画像表示装置を提供しようとする。
本発明は、量子ドット;散乱体;およびカルド系樹脂および3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むエポキシ樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂;を含む光変換樹脂組成物を提供する。
また、本発明は、前述した光変換樹脂組成物の硬化物を含む光変換積層基材を提供する。
また、本発明は、前述した光変換積層基材を含む画像表示装置を提供する。
本発明による光変換樹脂組成物は、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むエポキシ樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂を含むことにより、低温工程で塗膜の硬化度を向上させることができ、低温工程の進行によって量子ドットが消光する現象を抑制して、輝度特性および信頼性に優れているという利点がある。
また、本発明による光変換樹脂組成物で製造された光変換積層基材およびこれを用いた画像表示装置は、輝度および信頼性に優れているという利点がある。
以下、本発明についてより詳細に説明する。
本発明で任意の部材が他の部材「上に」位置しているというとき、これは、任意の部材が他の部材に当接している場合だけでなく、二つの部材の間にさらに他の部材が存在する場合も含む。
本発明で任意の部分が或る構成要素を「含む」というとき、これは、特に反対される記載がない限り、他の構成要素を除くものではなく、他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。
<光変換樹脂組成物>
本発明の一様態は、量子ドット;散乱体;およびカルド系樹脂および3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むエポキシ樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂;を含む光変換樹脂組成物に関する。
量子ドット
本発明による光変換樹脂組成物は、量子ドットを含む。
本発明の光変換樹脂組成物に含まれる量子ドットは、ナノサイズの半導体物質である。原子が分子を成し、分子は、クラスター(cluster)という小さい分子の集合体を構成してナノ粒子を成すが、このようなナノ粒子が特に半導体の特性を帯びているとき、これを量子ドットという。このような量子ドットは、外部からエネルギーを受けて励起状態になると、自体的にエネルギーバンドギャップに該当するエネルギーを放出する特性を有している。要するに、本発明の光変換樹脂組成物は、このような量子ドットを含むことにより、入射した青色光源を通じて緑色光および赤色光への光変換が可能である。
前記量子ドットは、光による刺激で発光できるものであれば、特に限定するものではないが、非カドミウム系であることが好ましく、例えば、II−VI族半導体化合物、III−V族半導体化合物、IV−VI族半導体化合物、およびIV族元素またはこれを含む化合物から選ばれる1種以上を使用することができる。
前記II−VI族半導体化合物は、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる二元素化合物;CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTeおよびこれらの混合物よりなる群から選ばれる三元素化合物;およびCdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる四元素化合物よりなる群から選ばれる1種以上であってもよく、
前記III−V族半導体化合物は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる二元素化合物;GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、GaAlNP、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる三元素化合物;およびGaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる四元素化合物よりなる群から選ばれる1種以上であってもよい。
前記IV−VI族半導体化合物は、SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる二元素化合物;SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる三元素化合物;およびSnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる四元素化合物よりなる群から選ばれる1種以上であってもよい。
前記IV族元素またはこれを含む化合物は、Si、Ge、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる元素化合物;およびSiC、SiGe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる二元素化合物よりなる群から選ばれる1種以上であってもよいが、これらに限定されない。
前記量子ドットは、均質な(homogeneous)単一構造;コア−シェル(core−shell)構造、グラジエント(gradient)構造などのような二重構造;またはこれらの混合構造であってもよい。例えば前記コア−シェルの二重構造において、それぞれのコアとシェルを成す物質は、前記言及された異なる半導体化合物からなることができる。
本発明の一実施形態において、前記コアは、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる二元素化合物;GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、GaAlNP、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる三元素化合物;およびGaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる四元素化合物よりなる群から選ばれる1種以上の物質を含むことができるが、これらに限定されるものではない。前記シェルは、ZnSe、ZnSおよびZnTeから選ばれる1種以上の物質を含むことができるが、これらに限定されるものではない。
本発明の他の実施形態において、前記量子ドットは、InPコアを有する非カドミウム系量子ドットであってもよい。
本発明による量子ドットは、InPコアと異なる構成を有するシェルを含み、前記シェルは、2層以上であってもよいが、これに限定されない。
前記コアは、約2〜10nmサイズの中心体であり、シェルは、コアの表面に形成される。
本発明のさらに他の実施形態において、前記量子ドットは、InP/ZnS、InP/ZnSe、InP/GaP/ZnS、InP/ZnSe/ZnS、InP/ZnSeTe/ZnSおよびInP/MnSe/ZnSよりなる群から選ばれる1種以上を含むことができる。
前記量子ドットは、湿式化学工程(wet chemical process)、有機金属化学蒸着工程(MOCVD、metal organic chemical vapor deposition)または分子線エピタキシ工程(MBE、molecular beam epitaxy)により合成され得るが、これらに限定されるものではない。
本発明のさらに他の実施形態において、前記量子ドットは、2種以上の量子ドットを含むことができる。前記量子ドットが2種以上の量子ドットを含む場合、さらに優れた色再現性を有するディスプレイを提供することができるという利点があるので好ましい。
本発明のさらに他の実施形態において、前記量子ドットは、中心励起波長が互いに50nm以上異なる2種以上の量子ドットであってもよい。
具体的に、前記量子ドットは、入射した青色光源を利用して、緑色光および赤色光への光変換のために中心励起波長が異なる2種またはそれ以上の量子ドットを含むことができる。異なる2種以上の量子ドットの好ましい中心励起波長の差は、30〜100nm、より好ましくは40〜60nmであってもよい。
前記量子ドットは、光変換樹脂組成物のうち固形分の全体100重量部に対して1〜60重量部、好ましくは2〜50重量部、より好ましくは2〜20重量部で含まれ得る。前記量子ドットが前記範囲内で含まれる場合、発光効率に優れ、コーティング層の光維持率のような光特性信頼性に優れているという利点がある。前記量子ドットが前記範囲未満で含まれる場合、緑色光および赤色光の光変換効率が不十分であり、前記範囲を超過する場合、相対的に青色光の放出が低下して、色再現性が劣る問題が発生し得る。
本発明のさらに他の実施形態において、前記量子ドットは、ポリエチレングリコール系リガンドを含むことができる。前記量子ドットが前記ポリエチレングリコール系リガンドを含む場合、量子ドットの分散性および光特性を改善することができるので好ましい。また、トルエン、ヘキサン、クロロホルムのように揮発性が大きい溶剤でなく、カラーフィルターの量産ラインで使用されているプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートのような溶剤を使用しても、量子ドットの分散特性が良好であるという効果がある。
本発明のさらに他の実施形態において、前記ポリエチレングリコール系リガンドは、下記化学式10で表される化合物を含むことができる。
[化学式10]
Figure 0006901513
前記化学式10で、
は、下記化学式10−1で表され、
Figure 0006901513
cは、2〜100の整数である。
[化学式10−1]
Figure 0006901513
前記化学式10−1で、
は、直接連結基または炭素数1〜10のアルキレン基であり、
は、下記化学式10−2で表され、
*は、結合手を意味する。
[化学式10−2]
Figure 0006901513
前記化学式10−2で、
は、酸素原子または硫黄原子であり、
は、直接連結基または炭素数1〜10のアルキレン基であり、
Figure 0006901513
dは、0〜1の整数であり、
eは、0〜10の整数であり、
*は、結合手を意味する。
本発明において、「アルキル」とは、別途の説明がない限り、直鎖または分岐鎖であってもよく、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、sec−ブチル、1−メチル−ブチル、1−エチル−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチル、n−ヘキシル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、4−メチル−2−ペンチル、3,3−ジメチルブチル、2−エチルブチル、n−ヘプチル、1−メチルヘキシル、n−オクチル、tert−オクチル、1−メチルヘプチル、2−エチルヘキシル、2−プロピルペンチル、n−ノニル、2,2−ジメチルヘプチル、1−エチル−プロピル、1,1−ジメチル−プロピル、イソヘキシル、2−メチルペンチル、4−メチルヘキシル、5−メチルヘキシル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明において、「アルキレン基」とは、2価であることを除いて、前述した「アルキル」に関する内容を適用することができる。
本発明のさらに他の実施形態において、前記化学式10で表される化合物は、下記化学式11で表される化合物を含むことができる。
[化学式11]
Figure 0006901513
前記化学式11で、
Figure 0006901513
fは、0〜5の整数であり、gは、0〜1の整数であり、hは、2〜50の整数である。
前記ポリエチレングリコール系リガンドが前記化学式11で表される化合物を含む場合、分散性および光特性の改善がより優れているので好ましい。
前記ポリエチレングリコール系リガンドの具体例としては、2−(2−メトキシエトキシ)酢酸(2−(2−Methoxyethoxy)acetic acid(WAKO社製))、2−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸(2−[2−(2−Methoxyethoxy)ethoxy]acetic acid(WAKO社製))、スクシン酸モノ−[2−(2−メトキシ−エトキシ)−エチル]エステル(Succinic acid mono−[2−(2−methoxy−ethoxy)−ethyl]ester)、マロン酸モノ−[2−(2−メトキシ−エトキシ)−エチル]エステル(Malonic acid mono−[2−(2−methoxy−ethoxy)−ethyl]ester)、ペンタン二酸モノ−{2−[2−(2−エトキシ−エトキシ)−エトキシ]−エチル}エステル(Pentanedioic acid mono−{2−[2−(2−ethoxy−ethoxy)−ethoxy]−ethyl} ester)、{2−[2−(2−エチル−ヘキシルオキシ)−エトキシ]−エトキシ}−酢酸({2−[2−(2−Ethyl−hexyloxy)−ethoxy]−ethoxy}−acetic acid)、スクシン酸モノ−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−エトキシ−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エトキシ)−エチル]エステル(Succinic acid mono−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−ethoxy−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethoxy)−ethyl]ester)、スクシン酸モノ−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−メトキシ−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エトキシ)−エチル]エステル(Succinic acid mono−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−methoxy−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethoxy)−ethyl]ester)、マロン酸モノ−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−イソブトキシ−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エトキシ)−エチル]エステル(Malonic acid mono−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−isobutoxy−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethoxy)−ethyl]ester)、ヘキサン二酸モノ−[2−(2−{2−[2−(2−メトキシ−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エトキシ)−エチル]エステル(Hexanedioic acid mono−[2−(2−{2−[2−(2−methoxy−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethoxy)−ethyl]ester)、2−オキソ−ヘキサン二酸6−(2−{2−[2−(2−エトキシ−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エチル)エステル(2−Oxo−hexanedioic acid 6−(2−{2−[2−(2−ethoxy−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethyl)ester)、スクシン酸モノ−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−メトキシ−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エトキシ)−エトキシ]−エトキシ}−エトキシ)−エチル]エステル(Succinic acid mono−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−{2−[2−(2−methoxy−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethoxy)−ethoxy]−ethoxy}−ethoxy)−ethyl]ester)、O−(スクシニル)−O′−メチルポリエチレングリコール2′000(O−(Succinyl)−O′−methylpolyethylene glycol 2′000,Aldrich社製)、(2−ブトキシ−エトキシ)−酢酸((2−Butoxy−ethoxy)−acetic acid,WAKO社製)、{2−[2−(カルボキシメトキシ)エトキシ]エトキシ}酢酸({2−[2−(carboxymethoxy)ethoxy]ethoxy}acetic acid,WAKO社製)、2−[2−(ベンジルオキシ)エトキシ]酢酸(2−[2−(Benzyloxy)ethoxy]acetic acid)、(2−カルボキシメトキシ−エトキシ)−酢酸((2−Carboxymethoxy−ethoxy)−acetic acid,WAKO社製)、(2−ブトキシ−エトキシ)−酢酸((2−Butoxy−ethoxy)−acetic acid,WAKO社製)等が挙げられるが、これらに限定されない。
前記量子ドットの表面の一部を有機リガンドで置換する方法は、本発明では制限されず、当業界で行われる通常の方法を使用することができる。
前記リガンドは、前記量子ドットの全体100重量部に対して1〜40重量部、好ましくは10〜40重量部、より好ましくは15〜40重量部で含まれ得、この場合、量子ドットの分散特性に優れていながらも、これを利用して製造される膜の硬化特性に優れているので好ましい。
散乱体
本発明による光変換樹脂組成物は、散乱体を含む。
前記散乱体は、通常の無機材料が使用でき、好ましくは、平均粒径が30〜1000nmである金属酸化物を含むことができる。
前記金属酸化物は、Li、Be、B、Na、Mg、Al、Si、K、Ca、Sc、V、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Rb、Sr、Y、Mo、Cs、Ba、La、Hf、W、Tl、Pb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Ti、Sb、Sn、Zr、Nb、Ce、Ta、Inおよびこれらの組合せよりなる群から選ばれた1種の金属を含む酸化物であってもよいが、これらに限定されるものではない。
本発明のさらに他の実施形態において、前記散乱体は、Al、SiO、ZnO、ZrO、BaTiO、TiO、Ta、Ti、ITO、IZO、ATO、ZnO−Al、Nb、SnO、MgOおよびこれらの組合せよりなる群から選ばれる一つ以上を含むことができる。
必要な場合、アクリレートなどの不飽和結合を有する化合物で表面処理された材質も使用可能である。
本発明による光変換樹脂組成物が散乱体を含む場合、前記散乱体を通じて量子ドットで放出された光の経路を増加させて、光変換コーティング層での全体的な光効率を高めることができて好ましい。
前記散乱体は、30〜1000nmの平均粒径を有することができ、好ましくは、100〜500nm範囲のものを使用する。この際、粒子のサイズが非常に小さければ、量子ドットから放出された光の十分な散乱効果を期待することができず、これとは反対に、非常に大きい場合には、組成物内に沈んだり、均一な品質の光変換積層基材の表面が得られないので、前記範囲内で適切に調節して使用する。
前記散乱体は、前記光変換樹脂組成物のうち固形分の全体100重量部に対して0.5〜20重量部、好ましくは0.8〜15重量部、より好ましくは1〜10重量部で使用することができる。前記散乱体が前記範囲内で含まれる場合、発光強さの増加効果が最大化され得るので好ましい。前記散乱体が前記範囲未満で含まれる場合、得ようとする発光強さの確保が多少困難なことがあり、前記範囲を超過する場合、青色照射光の透過度が顕著に低下して、色再現性に問題が発生し得るので、前記範囲内で適切に使用することが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂
本発明による光変換樹脂組成物は、カルド系樹脂および3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むエポキシ樹脂を含む。
本発明のさらに他の実施形態において、前記3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物は、下記化学式1または2で表される。
[化学式1]
Figure 0006901513
[化学式2]
Figure 0006901513
(前記化学式1および2で、
は、それぞれ、水素原子またはヒドロキシ基で置換され得るC1〜C7のアルキル基であり、
Aは、それぞれ、単一結合またはヘテロ原子を含むことができる2価の炭化水素基である。)
においてヒドロキシル基で置換され得る炭素数1〜7のアルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル基などのアルキル基;ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル基、2−ヒドロキシ−1−メチルエチル基、1−ヒドロキシブチル基、2−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル基、4−ヒドロキシブチル基などのヒドロキシアルキル基が挙げられる。Rとしては、水素原子またはヒドロキシル基で置換され得る炭素数1〜2のアルキル基が好ましく、その中でも特に水素原子またはメチル基が好ましい。
Aにおいてヘテロ原子を含むことができる2価の炭化水素基において、ヘテロ原子は、炭化水素基の末端に結合されることもでき、炭化水素基を構成する炭素原子の間に介在することもできる。ヘテロ原子として、窒素、酸素、硫黄原子などが挙げられる。
Aの他の代表的な例として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基などのアルキレン基(例えば、炭素数1〜12のアルキレン基、特に炭素数1〜6のアルキレン基);チオメチレン基、チオエチレン基、チオプロピレン基などのチオアルキレン基(例えば、炭素数1〜12のチオアルキレン基、特に炭素数1〜6のチオアルキレン基);アミノメチレン基、アミノエチレン基、アミノプロピレン基などのアミノアルキレン基(例えば、炭素数1〜12のアミノアルキレン基、特に炭素数1〜6のアミノアルキレン基)等が挙げられる。
本発明において、「アルキレン基」は、2価であることを除いては、アルキル基と同じ内容を適用することができる。
化学式1、2で表される3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物の代表的な例として、エポキシ化ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート[3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−9−イル(メタ)アクリレート;3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル(メタ)アクリレート]、エポキシ化ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート[2−(3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−9−イルオキシ)エチル(メタ)アクリレート;2−(3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルオキシ)エチル(メタ)アクリレート]、エポキシ化ジシクロペンテニルオキシブチル(メタ)アクリレート、エポキシ化ジシクロペンテニルオキシヘキシル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。その中でも、エポキシ化ジシクロペンテニル(メタ)アクリレートおよびエポキシ化ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレートが特に好ましい。
化学式1で表される化合物と化学式2で表される化合物は、それぞれ単独で使用することができる。また、これらは、任意の比率で混合して使用することができる。両者を混合して使用する場合、その比率は、好ましくは、化学式1:化学式2=5:95〜95:5、さらに好ましくは、10:90〜90:10、より好ましくは20:80〜80:20である。
本発明のさらに他の実施形態において、前記3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むエポキシ樹脂は、下記化学式3で表される単量体由来の反復単位をさらに含むことができる。
[化学式3]
Figure 0006901513
R15は、水素原子または炭素数1〜7のアルキル基であり、
R16は、炭素数1〜12の1級または2級アルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基または−(R17−O)−R18基であり、
この際、R17は、炭素数1〜12の2価の炭化水素基であり、
R18は、水素原子または炭素数1〜12の炭化水素基であり、
rは、1以上の整数である。
前記1級または2級アルキル基は、1級または2級であることを除いては、前述したアルキル基に対する内容を適用することができる。
前記炭素数2〜12のアルケニル基は、ビニル、1−プロフェニル、イソプロフェニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、3−ペンテニル、3−メチル−1−ブテニル、1,3−ブタジエニル、アリル、1−フェニルビニル−1−イル、2−フェニルビニル−1−イル、2,2−ジフェニルビニル−1−イル、2−フェニル−2−(ナフチル−1−イル)ビニル−1−イル、2,2−ビス(ジフェニル−1−イル)ビニル−1−イル、スチルベニル基、スチレニルであり得るが、やはりこれらに限定されない。
前記アリール基は、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などであってもよいが、これらに限定されない。
前記アラルキル基のアリール部分は、前述したアリール基に関する内容を適用することができる。
前記rは、具体的に1〜20の整数であってもよいが、これに限定されない。
前記エポキシ樹脂が前記化学式3で表される単量体由来の反復単位をさらに含む場合、低温工程でも塗膜内高い硬化密度が形成される利点があるので好ましい。
本発明のさらに他の実施形態において、カルド系樹脂は、下記化学式4〜9で表される。
[化学式4]
Figure 0006901513
[化学式5]
Figure 0006901513
[化学式6]
Figure 0006901513
[化学式7]
Figure 0006901513
Figure 0006901513
Yは、酸無水物残基であり、
Zは、酸二無水物残基であり、
R’は、水素原子、エチル基、フェニル基、−CCl、−COHまたは−CHCH=CHであり、
R1、R1’、R2、R2’、R3、R3’、R4、R4’、R5、R5’、R6およびR6’は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基であり、
R7、R7’、R8およびR8’は、それぞれ独立して、炭素数1〜6の直鎖のアルキレン基または炭素数3〜6の分岐鎖のアルキレン基であり、前記アルキレン基は、エステル結合、炭素数6〜14のシクロアルキレン基および炭素数6〜14のアリーレン基のうち少なくとも一つで中断され得、
R9、R9’、R10、R10’、R11、R11’、R12およびR12’は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜6の直鎖のアルキル基または炭素数3〜6の分岐鎖のアルキル基であり、
mおよびnは、それぞれ、0≦m≦30、0≦n≦30を満たす整数であり、
ただし、mおよびnは、同時に0ではない)
[化学式8]
Figure 0006901513
[化学式9]
Figure 0006901513
(前記化学式8および9で、
Pは、それぞれ独立して、
Figure 0006901513
R13およびR14は、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、ニトロ基またはハロゲン原子であり、
Ar1は、それぞれ独立して、C6〜C15アリール基であり、
Y’は、酸無水物残基であり、
Z’は、酸二無水物残基であり、
A’は、O、S、N、SiまたはSeであり、
aおよびbは、それぞれ独立して、1〜6の整数であり、
pおよびqは、それぞれ独立して、0〜30の整数であり、
ただし、pおよびqは、同時に0でない)。
本発明による光変換樹脂組成物が前記化学式4〜化学式9の反復単位のうち少なくとも一つの反復単位を含むカルド系バインダー樹脂を含む場合、工程間信頼性が優秀になる利点がある。また、アウトガスの発生を最小化して、蒸着工程時にシワまたはクラックが発生せず、優れた輝度向上効果により高品質の画質、優れた耐熱性、耐化学性、耐久性および信頼性の付与が可能であるという利点がある。
前記化学式4および6のYは、酸無水物の残基であって、本発明のカルド系バインダー樹脂の合成中間体であるビスフェノールエポキシアクリレート化合物を酸無水物化合物と反応させて得られる。残基Yを導入できる酸無水物化合物は、特に限定されず、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸などが挙げられる。
前記化学式5および7のZは、酸二無水物の残基であって、本発明のカルド系バインダー樹脂の合成中間体であるビスフェノールエポキシアクリレート化合物を酸二無水物化合物と反応させて得られる。残基Zを導入できる酸二無水物化合物は、特に限定されず、例えば、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物などの芳香族多価カルボン酸無水物が挙げられる。
前記「酸二無水物」は、分子内に酸無水物基を2個含む化合物を意味する。
本発明では、前記カルド系バインダー樹脂の製造方法を特に限定しない。例えば、ビスフェノール化合物とエポキシ化合物を反応させてビスフェノールエポキシ化合物を合成した後、合成されたビスフェノールエポキシ化合物をアクリレート化合物と反応させてビスフェノールエポキシアクリレート化合物を合成した後、ビスフェノールエポキシアクリレート化合物を酸無水物、酸二無水物またはこれらの混合物と反応させて製造することができるが、これらに限定されない。
前記カルド系バインダー樹脂は、前記光変換樹脂組成物の固形分の全体100重量部に対して1〜50重量部、好ましくは5〜40重量部、より好ましくは10〜30重量部で含まれ得る。前記カルド系バインダー樹脂が前記範囲内で含まれる場合、光変換特性とコーティング時の塗膜平滑性に優れていて、工程性が優秀になり得るので好ましい。
本発明のさらに他の実施形態において、前記カルド系樹脂と前記3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むエポキシ樹脂の比率において、前記カルド系樹脂対前記エポキシ樹脂の重量比は、5:95〜95:5であってもよい。さらに好ましくは20:80〜80:20であってもよい。より好ましくは60:40〜40:60であってもよい。
前記カルド系樹脂と前記3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むエポキシ樹脂の比率が前記範囲を満たす場合、組成物内量子ドットの分散が円滑になされて、塗膜形成後に光変換効率が向上する長所と、低温でも高い硬化度を示して高い硬度を示す利点があるので好ましい。
前記アルカリ可溶性樹脂の酸価は、20〜200mgKOH/gであってもよく、好ましくは30〜150mgKOH/gであることが良い。前記範囲内の酸価を有する場合、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むエポキシ樹脂と低温工程で優れた架橋反応を通じて高い硬化度を示して、塗膜の残膜率が優秀になるので好ましい。
本発明で「酸価」とは、アクリル系重合体1gを中和するのに必要な水酸化カリウムの量(mg)として測定される値であり、通常、水酸化カリウム水溶液を使用して滴定することにより求めることができる。
また、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC;テトラヒドロフランを溶出溶剤とする)で測定したポリスチレン換算重量平均分子量(以下、簡単に「重量平均分子量」という)の2,000〜200,000、好ましくは3,000〜100,000のアルカリ可溶性樹脂が好ましい。分子量が前記範囲にあれば、コーティングフィルムの硬度が向上して、残膜率が高くなる傾向にあるので好ましい。
前記アルカリ可溶性樹脂の分子量分布[重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn]は、1.0〜6.0であることが好ましく、1.5〜6.0であることがより好ましい。前記分子量分布[重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn]が前記範囲を満たす場合、現像性に優れているので好ましい。
前記アルカリ可溶性樹脂は、前記光変換組成物の固形分の全体100重量部に対して10〜80重量部、好ましくは20〜75重量部、より好ましくは20〜80重量部で含まれ得る。前記アルカリ可溶性樹脂が前記範囲内で含まれる場合、アルカリ可溶性樹脂が含むカルボキシル基と3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むエポキシ樹脂が量子ドットの光変換効率を阻害しない利点があり、低温工程での熱重合が円滑に行われて、塗膜の硬度を向上させる効果がある。
本発明のさらに他の実施形態において、前記光変換樹脂組成物は、熱硬化性化合物、硬化促進剤、溶剤および添加剤よりなる群から選ばれる1以上をさらに含むことができる。
熱硬化性化合物
本発明による光変換樹脂組成物は、熱硬化性化合物を含むことができる。
前記熱硬化性化合物の平均分子量は、20,000以下であることが好ましく、特に1,000〜20,000であることがより好ましい。前記熱硬化性化合物の平均分子量が上記した条件を満たす場合には、残膜率および耐熱性が優秀になり得る。
前記熱硬化性化合物は、光変換樹脂組成物全体100重量部に対して10〜80重量部のエポキシ化合物で構成されることが好ましい。前記熱硬化性化合物の含量が前記範囲未満の場合には、塗膜強度の不足による信頼性が低下し得る。
上記した条件を満たす熱硬化性化合物の具体的な例としては、2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−2−[4−[1,1−ビス[4−([2,3−エポキシプロポキシ]フェニル)]エチル]フェニル]プロパンと1,3−ビス[4−[1−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−1−[4−[1−[4−(2,3−エポキシプロポキシフェニル)−1−メチルエチル]フェニル]エチル]フェノキシ]−2−プロパノールとの混合物、2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−2−[4−[1,1−ビス[4−([2,3−エポキシプロポキシ]フェニル)]エチル]フェニル]プロパンなどが挙げられる。市販される商品としては、JER 157S65、157S70(商品名;JER社製品)等が挙げられる。これらは、それぞれ、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明による熱硬化性化合物は、前記ビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物以外のエポキシ樹脂をさらに含むことができる。前記ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂とさらに含んで共に使用できるエポキシ樹脂の好ましい例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ヒドロキノン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フルオレンエポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、三官能型エポキシ樹脂、テトラフェノールエタン型エポキシ樹脂、ジシクロメタジエンフェノール型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールA含核ポリオール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリオキサール型エポキシ樹脂、脂環式多官能エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂などを使用することができる。これらのエポキシ樹脂は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて前記ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂にさらに含まれて使用することができる。
上記したエポキシ樹脂としては、下記のような市販品を利用することができる。より具体的には、ビスフェノールF型エポキシ樹脂としてYDF−175S(東都化成社製品)等、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としてYDB−715(東都化成社製品)等、ビスフェノールS型エポキシ樹脂としてEPICLON EXA1514(大日本インキ化学工業社製品)等、ヒドロキノン型エポキシ樹脂としてYDC−1312(東都化成社製品)等、ナフタレン型エポキシ樹脂としてEPICLON EXA4032(大日本インキ化学工業社製品)等、ビフェニル型エポキシ樹脂としてエピコートYX4000H(JER社製品)等、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂としてJER 157S65または157S70(JER社製品)等、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としてEPPN−201(日本化薬社製品)、JER152 154(JER社製品)等、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としてEOCN−102S、103S、104Sまたは1020(日本化薬社製品)、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂としてエピコート1032H60(JER社製品)等、三官能型エポキシ樹脂としてVG3101M80(三井化学社製品)等、テトラフェノールエタン型エポキシ樹脂としてエピコート10315(JER社製品)等、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂としてST−3000(東都化成社製品)等、グリシジルエステル型エポキシ樹脂としてエピコート190P(JER社製品)等、グリシジルアミン型エポキシ樹脂としてYH−434(東都化成社製品)等、グリオキサール型エポキシ樹脂としてYDG−414(東都化成社製品)等、脂環式多官能エポキシ樹脂としてエポリードGT−401(ダイセル化学社製品)等が挙げられる。前記エポキシ樹脂は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
前記熱硬化性化合物は、光変換樹脂組成物のうち固形分の全体100重量部に対して10〜80重量部であることが好ましく、さらに好ましくは15〜70重量部で含まれ得る。前記熱硬化性化合物が前記範囲以内で含まれる場合には、残膜率および平坦性が良好であり得る。
硬化促進剤
本発明による光変換樹脂組成物は、硬化促進剤を含むことができる。
前記硬化促進剤は、例えばカルボン酸化合物、チオール基を有する有機硫黄化合物、酸発生剤よりなる群から選ばれる1種以上の化合物が好ましく使用できるが、これらに限定されるものではない。
前記カルボン酸化合物は、芳香族ヘテロ酢酸類であることが好ましく、具体的にフェニルチオ酢酸、メチルフェニルチオ酢酸、エチルフェニルチオ酢酸、メチルエチルフェニルチオ酢酸、ジメチルフェニルチオ酢酸、メトキシフェニルチオ酢酸、ジメトキシフェニルチオ酢酸、クロロフェニルチオ酢酸、ジクロロフェニルチオ酢酸、N−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、N−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸、1、2、4−ベンゼントリカルボン酸無水物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
前記チオール基を有する有機硫黄化合物の具体的な例としては、2−メルカプトベンゾチアゾール、1,4−ビス(3−メルカプトブチリルオキシ)ブタン、1,3,5−トリス(3−メルカプトブチルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H、3H、5H)−トリオン、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)、テトラエチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
前記酸発生剤の具体的な例としては、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムp−トルエンスルホネート、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムp−トルエンスルホネート、4−アセトキシフェニルメチルベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムp−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルョードニウムp−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのオニウム塩類やニトロベンジルトシラート類、ベンゾイントシラート類などが挙げられる。
前記硬化促進剤の市販品としては、リカシッドHH(新日本理化社製造)、商品名(アデカハードナーEH−700)(アデカ工業社製造)、商品名(MH−700)(新日本理化社製造)等が挙げられるが、これらに限定されない。
前記硬化促進剤は、前記光変換樹脂組成物のうち固形分の全体100重量部を基準として前記アルカリ可溶性樹脂と前記熱硬化性化合物100重量部に対してて0.1〜40重量部、好ましくは1〜30重量部で含まれ得る。
前記硬化促進剤の含量が前記範囲を満たす場合、これを含む光変換樹脂組成物が高感度化されて、塗膜の硬化時間が短縮されるので、生産性が向上し、高い信頼性を具現することができる利点があり、これを利用して形成された塗膜の強度と前記塗膜部の表面平滑性が良好になり得るという利点がある。
前記硬化促進剤の含量が前記範囲未満で含まれる場合、硬化度の低下が克服されないので、後工程中にシワが発生し得る。
溶剤
本発明による光変換樹脂組成物は、溶剤を含むことができる。
本発明のさらに他の実施形態において、前記溶剤は、前記光変換樹脂組成物全体100重量部に対して30〜90重量部、好ましくは40〜80重量部、より好ましくは50〜75重量部で含まれ得る。
本発明の光変換樹脂組成物に含まれる溶剤は、少なくとも1種以上を含むことができ、特に沸点が100〜240℃である溶剤が全体溶剤対比50%以上含まれる場合、流れ特性が優秀になって、コーティングむらおよび乾燥異物が発生しないので、コーティング異物がない良好な光変換ガラス基材を提供することができる。
前記沸点が100℃未満である溶剤が、全体溶剤の50%以上である場合、乾燥速度が速くて、真空乾燥(Vacuum Dry)工程時に塗膜の表面にむらが発生して、不良を引き起こすことができるが、沸点が240℃を超過する溶剤が、全体溶剤の50%以上である場合、 真空乾燥(Vacuum Dry)工程時に所要時間(Tact−time)が長くなる問題を引き起こすことができる。したがって、全体溶剤の50%以上の溶剤は、沸点が100〜240℃である溶剤を使用することが適切である。
前記溶剤の具体的な例としては、エーテル類、芳香族炭化水素類、ケトン類、アルコール類、エステル類およびアミド類などよりなる群から選ばれる1種以上を含むことができ、具体的に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、メシチレン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトンおよび3−エトキシプロピオン酸エチル、1,3−ブチレングリコールジアセテート、エチル−3−エトキシプロピオネート、プロピレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、メトキシブチルアセテート、エチレングリコールおよびγ−ブチロラクトンなどよりなる群から選ばれた1種〜2種以上であってもよい。
添加剤
前記添加剤は、必要に応じて選択的に添加され得るものであって、例えば他の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤および凝集防止剤よりなる群から選ばれる1種以上を含むことができる。
また、前記添加剤のうちでも界面活性剤を含むことが最も好ましい。
前記他の高分子化合物の具体的な例としては、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂などの硬化性樹脂、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフルオロアルキルアクリレート、ポリエステルおよびポリウレタンなどの熱可塑性樹脂などが挙げられる。
前記界面活性剤は、光変換樹脂組成物の被膜形成をより向上させるために使用でき、シリコーン系、フッ素系、エステル系、カチオン系、アニオン系、非イオン系、両性界面活性剤などが好ましく使用できる。
前記シリコーン系界面活性剤は、例えば、市販品として東レ・ダウコーニングシリコーン社製のDC3PA、DC7PA、SH11PA、SH21PAおよびSH8400等があり、GE東芝シリコーン社製のTSF−4440、TSF−4300、TSF−4445、TSF−4446、TSF−4460およびTSF−4452等がある。
前記フッ素系界面活性剤は、例えば、市販品として大日本インキ化学工業社製のメガフェイスF−470、F−471、F−475、F−482およびF−489等がある。
また、その他に使用可能な市販品としては、KP(信越化学工業社製)、ポリフロー(POLYFLOW)(共栄社化学社製)、エフトップ(EFTOP)(トーケムプロダクツ社製)、メガファック(MEGAFAC)(大日本インキ化学工業社製)、フロラッド(Flourad)(住友スリーエム社製)、アサヒガード(Asahi guard)、サーフロン(Surflon)(以上、旭硝子社製)、ソルスパース(SOLSPERSE)(Lubrisol)、EFKA(EFKAケミカルス社製)、PB 821(味の素社製)およびDisperbyk−series(BYK−chemi社製)等が挙げられる。
前記カチオン系界面活性剤は、例えば、ステアリルアミン塩酸塩およびラウリルトリメチルアンモニウムクロリドなどのアミン塩または4級アンモニウム塩などがある。
前記アニオン系界面活性剤は、例えば、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムおよびオレイルアルコール硫酸エステルナトリウムなどの高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル硫酸ナトリウムおよびラウリル硫酸アンモニウムなどのアルキル硫酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムおよびドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムなどのアルキルアリールスルホン酸塩類などがある。
前記非イオン系界面活性剤は、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、その他のポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン/オキシプロピレンブロック共重合体、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルおよびポリオキシエチレンアルキルアミンなどがある。
前記例示された界面活性剤は、それぞれ単独または2種以上を組み合わせて使用することができる。
前記密着促進剤の種類は、特に限定されず、使用可能な密着促進剤の具体的な例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ピニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシランおよび3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。
前記で例示した密着促進剤は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。前記密着促進剤は、光変換樹脂組成物のうち固形分の総重量に対して通常0.01〜10重量%、好ましくは0.05〜2重量%含まれ得る。
前記酸化防止剤の種類は、特に限定しないが、2,2’−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノールなどが挙げられる。
前記紫外線吸収剤の種類は、特に限定しないが、使用可能な具体的な例としては、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾチリアゾール、アルコキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
前記凝集防止剤の種類は、特に限定しないが、使用可能な具体的な例としては、ポリアクリル酸ナトリウムなどが挙げられる。
前記添加剤は、本願発明の目的を阻害しない範囲で適切な含量で追加して使用が可能である。例えば、前記添加剤は、前記光変換樹脂組成物のうち固形分の全体100重量部に対して0.01〜10重量部、好ましくは0.1〜5重量部、より好ましくは0.1〜3重量部で含まれ得るが、これらに限定されるものではない。
<光変換積層基材>
本発明による光変換積層基材は、光変換樹脂組成物の硬化物を含む。前記光変換積層基材は、ガラス、シリコン(Si)、シリコン酸化物(SiOx)または高分子基板であってもよく、前記高分子基板は、ポリエーテルスルホン(polyethersulfone,PES)またはポリカーボネート(polycarbonate、PC)等であってもよく、本発明の一実施形態によれば、ガラス基材であってもよい。
前記光変換積層基材は、ガラス基材にコートすることができる光変換樹脂組成物を含むことにより、人体有害物質に該当しない溶剤を使用することができるので、作業者の安全と製品生産性を向上させることができる。
前記光変換積層基材は、前記光変換樹脂組成物を熱硬化して形成され得る。
<画像表示装置>
本発明による画像表示装置は、前述した光変換積層基材を含む。前記画像表示装置は、具体的に、液晶ディスプレイ(液晶表示装置;LCD)、有機ELディスプレイ(有機EL表示装置)、液晶プロジェクター、ゲーム機用表示装置、携帯電話などの携帯端末用表示装置、デジタルカメラ用表示装置、カー・ナビゲーション用表示装置などの表示装置などが挙げられ、特にカラー表示装置が適している。
前記画像表示装置は、前記光変換積層基材を具備したことを除いては、本発明の技術分野において当業者に知られた構成をさらに含むことができ、すなわち、本発明は、本発明の光変換積層基材を適用できる画像表示装置を含む。
以下、本明細書を具体的に説明するために実施例を取って詳細に説明する。しかしながら、本明細書による実施例は、様々な他の形態に変形され得、本明細書の範囲が以下で詳述する実施例に限定されると解釈されない。本明細書の実施例は、当業界において平均的な知識を有する者に本明細書をより完全に説明するために提供されるものである。また、以下で含有量を示す「%」および「部」は、特に言及しない限り、重量基準である。
散乱粒子分散液の製造
製造例1:散乱粒子分散液S1の製造
散乱粒子として粒径220nmのTiO(ハンツマン社製、TR88)70.0重量部、分散剤としてDISPERBYK−2001(BYK社製造)4.0重量部、溶媒としてプロピレングリコールメチルエーテルアセテート26重量部をビーズミルにより12時間の間混合/分散して、散乱粒子分散液S1を製造した。
合成例1:Green量子ドットの合成(Q−1)
インジウムアセテート0.4mmol(0.058g)、パルミチン酸0.6mmol(0.15g)および1−オクタデセン20mLを反応器に入れ、真空下に120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に転換した。280℃に加熱した後、トリス(トリメチルシリル)ホスフィン(TMSP)0.2mmol(58μl)およびトリオクチルホスフィン1.0mLの混合溶液を迅速に注入し、0.5分間反応させた。
次に、亜鉛アセテート2.4mmol(0.448g)、オレイン酸4.8mmolおよびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れ、真空下に120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に転換し、反応器を280℃に昇温させた。先立って合成したInPコア溶液2mLを入れ、次に、トリオクチルホスフィン中のセレニウム(Se/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間の間反応させた。常温に迅速に冷ました反応溶液にエタノールを入れ、遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、InP/ZnSeコア−シェルを形成した。
次に、亜鉛アセテート2.4mmol(0.448g)、オレイン酸4.8mmolおよびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れ、真空下に120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に転換し、反応器を280℃に昇温させた。先立って合成したInPコア溶液2mLを入れ、次に、トリオクチルホスフィン中の硫黄(S/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間の間反応させた。常温に速かに冷ました反応溶液にエタノールを入れ、遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、InP/ZnSe/ZnSコア−シェル構造の量子ドットを収得した後、クロロホルムに分散させた。
得られたナノ量子ドットの光発光スペクトルの最大発光ピークは、515nmであり、量子ドット溶液5mLを遠心分離チューブに入れ、エタノール20mLを入れて沈殿させた。遠心分離を通じて上澄み液を捨て、沈殿物に2mLのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、0.50gの(2−ブトキシ−エトキシ)−酢酸を入れ、窒素の雰囲気下、60℃で加熱しつつ、1時間反応させた。
次に、反応物に25mLのn−ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を実施して、沈殿物を分離した後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4mLを投入して、80℃に加熱しつつ、分散させた。PGMEAで固形分は、25%に調整した。最大発光波長は、516nmであった。
合成例2:Green量子ドットの合成(Q−2)
合成例1で合成された量子ドットクロロホルム溶液5mLを遠心分離チューブに入れ、エタノール20mLを入れて沈殿させた。遠心分離を通じて上澄み液を捨て、沈殿物に2mLのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、0.5gのO−(スクシニル)−O′−メチルポリエチレングリコール2′000(Aldrich社製)を入れ、窒素雰囲気下で60℃に加熱しつつ、1時間反応させた。
次に、反応物に25mLのn−ヘキサンを入れて、量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を実施して、沈殿物を分離した後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4mLを投入して、80℃に加熱しつつ、分散させた。PGMEAで固形分は、25%に調整した。最大発光波長は、515nmであった。
合成例3:Red量子ドットの合成(Q−3)
インジウムアセテート0.4mmol(0.058g)、パルミチン酸0.6mmol(0.15g)および1−オクタデセン20mLを反応器に入れ、真空下に120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に転換した。280℃に加熱した後、トリス(トリメチルシリル)ホスフィン(TMSP)0.2mmol(58μL)およびトリオクチルホスフィン1.0mLの混合溶液を迅速に注入し、5分間反応後、反応溶液を常温に迅速に冷却した。吸収最大波長560〜590nmを示した。
亜鉛アセテート2.4mmol(0.448g)、オレイン酸4.8mmolおよびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れ、真空下に120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に転換し、反応器を280℃に昇温させた。先立って合成したInPコア溶液2mLを入れ、次に、トリオクチルホスフィン中のセレニウム(Se/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応させた後、常温に下げて、InP/ZnSeコア−シェルを形成させた。
次に、亜鉛アセテート2.4mmol(0.448g)、オレイン酸4.8mmolおよびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れ、真空下に120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に転換し、反応器を280℃に昇温させた。先立って合成したInPコア溶液2mLを入れ、次に、トリオクチルホスフィン中の硫黄(S/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応させた。常温に迅速に冷却させた反応溶液にエタノールを入れ、遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、InP/ZnSe/ZnSコア−シェル構造の量子ドットを収得した後、クロロホルムに分散させた。
得られたナノ量子ドットの発光スペクトルの最大発光ピークは、628nmであり、合成された量子ドット溶液5mLを遠心分離チューブに入れ、エタノール20mLを入れて沈殿させた。遠心分離を通じて上澄み液を捨て、沈殿物に2mLのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、0.65gの2−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸(WAKO社製)を入れ、窒素雰囲気下で60℃に加熱しつつ、1時間反応させた。
次に、反応物に25mLのn−ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を実施して、上澄み液を捨て、沈殿物を分離した後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4mLを投入して、80℃に加熱しつつ、分散させた。PGMEAで固形分を25%に調整した。最大発光波長は、628nmであった。
合成例4:Red量子ドットの合成(Q−4)
インジウムアセテート0.4mmol(0.058g)、パルミチン酸0.6mmol(0.15g)および1−オクタデセン20mLを反応器に入れ、真空下に120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に転換した。280℃に加熱した後、トリス(トリメチルシリル)ホスフィン(TMSP)0.2mmol(58μL)およびトリオクチルホスフィン1.0mLの混合溶液を迅速に注入し、4.5分間反応後、反応溶液を常温に迅速に冷却した。吸収最大波長550〜585nmを示した。
亜鉛アセテート2.4mmol(0.448g)、オレイン酸4.8mmolおよびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れ、真空下に120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に転換し、反応器を280℃に昇温させた。先立って合成したInPコア溶液2mLを入れ、次に、トリオクチルホスフィン中のセレニウム(Se/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応後、常温に下げて、InP/ZnSeコア−シェルを形成させた。
次に、亜鉛アセテート2.4mmol(0.448g)、オレイン酸4.8mmolおよびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れ、真空下に120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に転換し、反応器を280℃に昇温させた。先立って合成したInPコア溶液2mLを入れ、次に、トリオクチルホスフィン中の硫黄(S/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応させた。常温に迅速に冷却させた反応溶液にエタノールを入れ、遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、InP/ZnSe/ZnSコア−シェル構造の量子ドットを収得した後、クロロホルムに分散させた。
得られたナノ量子ドットの発光スペクトルの最大発光ピークは、616nmであり、合成された量子ドット溶液5mLを遠心分離チューブに入れ、エタノール20mLを入れて沈殿させた。遠心分離を通じて上澄み液を捨て、沈殿物に2mLのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、0.65gの2−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸(WAKO社)を入れ、窒素雰囲気下で60℃に加熱しつつ、1時間反応させた。
次に、反応物に25mLのn−ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を実施して、上澄み液を捨て、沈殿物を分離した後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4mLを投入して、80℃に加熱しつつ、分散させた。PGMEAで固形分を25%に調整した。最大発光波長は、616nmであった。
合成例5:カルド系バインダー樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂(E−1)
(1)反応器にビスフェノールエポキシ化合物である9、9’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン(Hear chem社製)138g、2−カルボキシエチルアクリレート54g、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド(大井化金社製)1.4g、トリフェニルホスフィン(Aldrich社製)1g、プロピレングリコールメチルエチルアセテート(Daicel Chemical社製)128g、およびヒドロキノン0.5gを入れ、120℃に昇温後、12時間維持して、下記化学式12で表される化合物を合成した。
(2)反応器に下記化学式12で表される化合物60g、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(Mitsubishi Gas社製)11g、テトラヒドロフタル無水物(Aldrich社製)3g、プロピレングリコールメチルエチルアセテート(Daicel Chemical社製)20g、およびN、N’−テトラメチルアンモニウムクロリド0.1gを入れ、120℃に昇温後、2時間維持して、下記化学式13で表される化合物を合成した。得られた下記化学式13で表される樹脂の重量平均分子量は、5,400g/molであった。
[化学式12]
Figure 0006901513
[化学式13]
Figure 0006901513
合成例6:カルド系バインダー樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂(E−2)
(1)三口フラスコに還流冷却器と温度計を設置した後、9,9−ビスフェノールフルオレン42.5gを入れ、2−(クロロメチル)オキシラン220mLを定量した後、注入した。テトラブチルアンモニウムブロミド100mgを入れた後、撹拌を開始しつつ温度を90℃に昇温した。未反応物の含量が0.3%未満であることを確認した後、減圧蒸留した。
温度を30℃に下げた後、ジクロロメタンを注入し、NaOHを徐々に投入した。生成物が96%以上であることを高性能液体クロマトグラフィー(HPLC)方法で確認した後、5%HClを滴下して、反応を終結した。反応物は、抽出して層分離した後、有機層を水洗し、中性になるように洗浄した。有機層は、MgSOで乾燥した後、回転蒸発器にて減圧蒸留して濃縮した。濃縮された生成物にジクロロメタンを入れ、40℃まで温度を上げながら撹拌しつつ、メタノールを投入した後、溶液温度を低減し、撹拌した。生成された固体を濾過した後、常温で真空乾燥して、白色の固体粉末52.7g(収率94%)を得た。これに対する構造は、H NMRで確認した。
[反応式1]
Figure 0006901513
H NMR in CDCl3:7.75(2H),7.35−7.254(6H),7.08(4H),6.74(4H),4.13(2H),3.89(2H),3.30(2H),2.87(2H),2.71(2H)
(2)3,3’−(((9H−フルオレン−9,9−ジイル)ビス(4,1−フェニレン))ビス(オキシ))ビス(1−フェニルチオ)プロパン−2−オール)の合成
三口フラスコに還流冷却器と温度計を設置した後、1段階の反応物(1000g)、チオフェノール524g、エタノール617gを入れて撹拌した。反応溶液にトリエチルアミン328gをゆっくり滴加した。高性能液体クロマトグラフィー(HPLC)方法で出発物質が消失したことを確認した後、反応を終了した。反応完了後、エタノールを減圧蒸留して除去した。有機物をジクロロメタンに溶かした後、水洗した後、ジクロロメタンを減圧蒸留を用いて除去した。濃縮された有機物は、エチルアセテートに溶かした後、エーテル溶媒を滴加し、30分間撹拌した。化合物を減圧蒸留して淡黄色油945g(収率64%)を得、その構造は、H NMRで確認した。
[反応式2]
Figure 0006901513
H NMR in CDCl3:7.82(2H),7.38−6.72(20H),6.51(4H),4.00(2H),3.97(2H),3.89(2H),3.20(2H),3.01(2H),2.64(2H)
(3)カルド系バインダー樹脂の合成
三口フラスコに還流冷却器と温度計を設置した後、50%PGMEA溶媒に溶けている2段階で合成した3,3’−(((9H−フルオレン−9,9−ジイル)ビス(4,1−フェニレン))ビス(オキシ))ビス(1−フェニルチオ)プロパン−2−オール)モノマー200gを入れ、115℃まで昇温させた。115℃で3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物31.1gを滴下した後、6時間の間115℃を維持しながら撹拌させた。無水フタル酸7.35gを入れ、2時間さらに撹拌した後、反応を終了した。冷却後、重量平均分子量が3,500g/molであるバインダー樹脂を得た。酸価は、150mgKOH/gであった。
合成例7:3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.0 2,6 ]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むアルカリ可溶性樹脂(E−3)
撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備した内容積0.5リットルの分離型フラスコにメトキシブチルアセテート79gを投入し、80℃に昇温後、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−9−イルアクリレートと3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルアクリレートの混合物[50:50(モル比)](E−DCPA)86g、メタクリル酸14g、およびアゾビスジメチルバレロニトリル6.5gをメトキシブチルアセテート100gに溶解させた混合溶液を5時間にわたって滴下し、さらに、3時間熟成することにより、共重合体溶液[固形分(NV)35.0重量%]を得た。得られた共重合体の酸価(dry)は、89.8mgKOH/g、重量平均分子量Mwは、11,300、分散度Mw/Mnは、2.1であった。
合成例8:3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.0 2,6 ]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むアルカリ可溶性樹脂(E−4)
撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備した内容積0.5リットルの分離型フラスコにメトキシブチルアセテート79gを投入し、80℃に昇温後、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−9−イルメタクリレートと3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルメタクリレートの混合物[50:50(モル比)](E−DCPMA)86g、メタクリル酸14g、およびアゾビスジメチルバレロニトリル6.5gをメトキシブチルアセテート100gに溶解させた混合溶液を5時間にわたって滴下し、さらに、3時間熟成することにより、共重合体溶液[固形分(NV)35.0重量%]を得た。得られた共重合体の酸価(dry)は、105.8mgKOH/g、重量平均分子量Mwは、12,500、分散度Mw/Mnは、2.01であった。
合成例9:3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.0 2,6 ]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むアルカリ可溶性樹脂(E−5)
撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備した内容積0.5リットルの分離型フラスコにメトキシブチルアセテート79gを投入し、80℃に昇温後、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−9−イルアクリレートと3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルアクリレートの混合物[50:50(モル比)](E−DCPA)60g、メタクリル酸20g、ヒドロキシエチルメタアクリレート20g、およびアゾビスジメチルバレロニトリル6.5gをメトキシブチルアセテート100gに溶解させた混合溶液を5時間にわたって滴下し、さらに、3時間熟成することにより、共重合体溶液[固形分(NV)35.0重量%]を得た。得られた共重合体の酸価(dry)は、135.8mgKOH/g、重量平均分子量Mwは、13,500、分散度Mw/Mnは、2.11であった。
合成例10:3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.0 2,6 ]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むアルカリ可溶性樹脂(E−6)
撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備した内容積0.5リットルの分離型フラスコにメトキシブチルアセテート79gを投入し、80℃に昇温後、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−9−イルメタクリレートと3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルメタクリレートの混合物[50:50(モル比)](E−DCPMA)65g、メタクリル酸15g、ヒドロキシエチルメタアクリレート20g、およびアゾビスジメチルバレロニトリル6.5gをメトキシブチルアセテート100gに溶解させた混合溶液を5時間にわたって滴下し、さらに、3時間熟成することにより、共重合体溶液[固形分(NV)35.0重量%]を得た。得られた共重合体の酸価(dry)は、98.1mgKOH/g、重量平均分子量Mwは、10,500、分散度Mw/Mnは、2.61であった。
合成例11:3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.0 2,6 ]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むアルカリ可溶性樹脂(E−7)
撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備した内容積0.5リットルの分離型フラスコにメトキシブチルアセテート79gを投入、80℃に昇温後、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−9−イルアクリレートと3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルアクリレートの混合物[50:50(モル比)](E−DCPA)30g、メタクリル酸18g、ヒドロキシエチルメタアクリレート52g、およびアゾビスジメチルバレロニトリル6.5gをメトキシブチルアセテート100gに溶解させた混合溶液を5時間にわたって滴下し、さらに、3時間熟成することにより、共重合体溶液[固形分(NV)35.0重量%]を得た。得られた共重合体の酸価(dry)は、115.1mgKOH/g、重量平均分子量Mwは、15,500、分散度Mw/Mnは、2.81であった。
合成例12:アクリル系樹脂を含むアルカリ可溶性バインダー樹脂(E−8)
撹拌機、温度計還流冷却管、滴下ロートおよび窒素導入管を具備したフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート120g、プロピレングリコールモノメチルエーテル80g、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル2g、アクリル酸20g、ベンジルアクリレート30.0g、メチルメタアクリレート50g、n−ドデシルメルカプタン3gを投入し、窒素置換した。
その後、撹拌しつつ、反応液の温度を80℃に上昇させ、8時間反応した。このように合成されたアルカリ可溶性樹脂の固形分の酸価は、158mgKOH/gであり、GPCで測定した重量平均分子量Mwは、約12,874、分散度Mw/Mnは、2.81であった。
実施例1〜27および比較例1〜4:光変換樹脂組成物の製造
下記表1の成分および含量(重量%)を使用して実施例および比較例による光変換樹脂組成物を製造した。
Figure 0006901513
実験例
前記実施例および比較例で製造された光変換樹脂組成物を利用して下記のように光変換コーティング層を製造し、この際の輝度、光維持率、耐熱性および塗膜硬度を下記のような方法で測定し、その評価結果は、下記表2に記載した。
(1)光変換コーティング層の製造
実施例および比較例で製造された光変換樹脂組成物を利用してコーティング膜を製造した。すなわち、前記それぞれの光変換樹脂組成物をスピンコーティング法で5cm×5cmのガラス基板の上に塗布した後、加熱板の上に載置し、100℃の温度で10分間維持して薄膜を形成させた後、180℃の加熱オーブンで30分間加熱して、光変換コーティング層を製造した。前記で製造された光変換樹脂膜の厚さは、量子ドットの含量によって厚さ15μmに製作した。
(2)輝度の評価
前記(1)で製造されたコーティング膜をBlue光源(XLamp XR−E LED、Royal blue 450、Cree社製)の上部に位置させた後、輝度測定機(CAS140CT Spectrometer、Instrument systems社製)を利用して、輝度を測定し、その評価結果を下記表2に記載した。
(3)光維持率
前記光変換コーティング層の製造方法で製作されたコーティング基板を、ハードベーク(Hard bake)を230℃で60分間進めて、ハードベーク前の発光効率とハードベーク後の発光効率を測定して、発光効率が維持される水準を確認し、その評価結果を下記表2に記載した。
(4)耐熱性の評価
前記(1)でコーティング膜を形成した後、熱的衝撃による厚さの変化を下記数式1で確認した。具体的に、最終完成されたコーティング膜に1時間の間230℃の熱を加えたとき、熱を加える前/後の厚さを測定して、下記数式1で変化率(耐熱性残膜率)を計算した。この際、厚さの変化率(収縮率)が90%以上であれば、良好(○)、90%未満である場合、不良(×)であり、その評価結果は、下記表2に記載した。
[数式1]
塗膜収縮率={(熱処理後の膜厚さ)/(熱処理前の膜厚さ)}×100(%)
(5)塗膜硬度
前記(1)で製造されたコーティング膜の硬化度を、硬度計(HM500;Fischer社製品)を使用して150℃の高温で測定し、表面硬度(塗膜硬度)は、下記基準によって評価した。その結果は、下記表2に示した。
<評価基準>
○:表面硬度20以上
△:表面硬度10以上20未満
×:表面硬度10未満
Figure 0006901513
前記表2を参照すると、本発明による2種以上の量子ドット、散乱体、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むエポキシ樹脂とカルド系樹脂を適用した実施例の場合、非常に優れた塗膜硬度が観察され、また、熱による残膜率に優れた性能を示して、比較例に比べて耐熱性に非常に優れていることを確認することができた。
このような結果より、ディスプレイ生産工程間に適用される熱処理時に塗膜の物理的強度の低下により生じ得る膜の破れのような不良を低減して、生産収率の向上に寄与できることを確認することができた。
また、本発明による実施例は、塗膜の強度が強化するに伴い、輝度と光維持率が比較例に比べて格別に優れていることを確認することができ、したがって、優れた画質と優れた品質を有するディスプレイを製作することができる。

Claims (16)

  1. 量子ドットと;
    散乱体と;
    カルド系樹脂および3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むエポキシ樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂と;
    を含む光変換樹脂組成物であって、
    前記量子ドットは、ポリエチレングリコール系リガンドを含み、
    前記ポリエチレングリコール系リガンドは、下記化学式11で表される化合物を含み、
    前記カルド系樹脂は、下記化学式4、5、8及び9のいずれか1つで表される、光変換樹脂組成物。
    [化学式4]
    Figure 0006901513
    [化学式5]
    Figure 0006901513
    (前記化学式4および5で、
    XおよびX’は、それぞれ独立して、
    Figure 0006901513
    Yは、酸無水物残基であり、
    Zは、酸二無水物残基であり、
    R1、R1’、R2、R2’、R3、R3’、R4、R4’、R5、R5’、R6およびR6’は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基であり、
    R7、R7’、R8およびR8’は、それぞれ独立して、炭素数1〜6の直鎖のアルキレン基または炭素数3〜6の分岐鎖のアルキレン基であり、前記アルキレン基は、エステル結合、炭素数6〜14のシクロアルキレン基および炭素数6〜14のアリーレン基のうち少なくとも一つで中断され得、
    R9、R9’、R10、R10’、R11、R11’、R12およびR12’は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜6の直鎖のアルキル基または炭素数3〜6の分岐鎖のアルキル基であり、
    mおよびnは、それぞれ0≦m≦30、0≦n≦30を満たす整数であり、
    ただし、mおよびnは、同時に0ではない)
    [化学式8]
    Figure 0006901513
    [化学式9]
    Figure 0006901513
    (前記化学式8および9で、
    Figure 0006901513
    R13およびR14は、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、ニトロ基またはハロゲン原子であり、
    Ar1は、それぞれ独立して、C6〜C15アリール基であり、
    Y’は、酸無水物残基であり、
    Z’は、酸二無水物残基で、
    A’は、O、S、N、SiまたはSeであり、
    aおよびbは、それぞれ独立して、1〜6の整数であり、
    pおよびqは、それぞれ独立して、0〜30の整数であり、
    ただし、pおよびqは、同時に0でない)。
    [化学式11]
    Figure 0006901513
    (前記化学式11で、
    Figure 0006901513
    fは、0〜5の整数であり、gは、0〜1の整数であり、hは、2〜50の整数である)。
  2. 前記量子ドットは、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる二元素化合物;GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、GaAlNP、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる三元素化合物;およびGaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる四元素化合物よりなる群から選ばれる1種以上の物質を含むコアと;
    ZnSe、ZnSおよびZnTeから選ばれる1種以上の物質を含むシェルと;を含む、請求項1に記載の光変換樹脂組成物。
  3. 前記量子ドットは、InPコアを有する非カドミウム系量子ドットである、請求項2に記載の光変換樹脂組成物。
  4. 前記量子ドットは、InP/ZnS、InP/ZnSe、InP/GaP/ZnS、InP/ZnSe/ZnS、InP/ZnSeTe/ZnSおよびInP/MnSe/ZnSよりなる群から選ばれる1種以上を含む、請求項3に記載の光変換樹脂組成物。
  5. 前記量子ドットは、2種以上の量子ドットを含むことを特徴とする請求項1に記載の光変換樹脂組成物。
  6. 前記量子ドットは、中心励起波長が互いに50nm以上異なる2種以上の量子ドットである、請求項5に記載の光変換樹脂組成物。
  7. 前記3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物は、下記化学式1または2で表される、請求項1に記載の光変換樹脂組成物:
    [化学式1]
    Figure 0006901513
    [化学式2]
    Figure 0006901513
    (前記化学式1および2で、
    は、それぞれ、水素原子またはヒドロキシ基で置換され得るC1〜C7のアルキル基であり、
    Aは、それぞれ単一結合またはヘテロ原子を含むことができる2価の炭化水素基である)。
  8. 前記3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むエポキシ樹脂は、下記化学式3で表される単量体由来の反復単位をさらに含む、請求項1に記載の光変換樹脂組成物:
    [化学式3]
    Figure 0006901513
    (前記化学式3で、
    R15は、水素原子または炭素数1〜7のアルキル基であり、
    R16は、炭素数1〜12の1級または2級アルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、または−(R17−O)−R18基であり、
    この際、R17は、炭素数1〜12の2価の炭化水素基であり、
    R18は、水素原子または炭素数1〜12の炭化水素基であり、
    rは、1以上の整数である)。
  9. 前記カルド系樹脂と前記3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環含有重合性不飽和化合物由来の反復単位を含むエポキシ樹脂の比率において、カルド系樹脂対エポキシ樹脂の重量比は、5:95〜95:5である、請求項1に記載の光変換樹脂組成物。
  10. 前記散乱体は、Al、SiO、ZnO、ZrO、BaTiO、TiO、Ta、Ti、ITO、IZO、ATO、ZnO−Al、Nb、SnO、MgOおよびこれらの組合せよりなる群から選ばれる一つ以上を含む、請求項1に記載の光変換樹脂組成物。
  11. 熱硬化性化合物、硬化促進剤、溶剤および添加剤よりなる群から選ばれる1以上をさらに含む、請求項1に記載の光変換樹脂組成物。
  12. 前記溶剤は、前記光変換樹脂組成物の全体100重量部に対して30〜90重量部で含まれる、請求項11に記載の光変換樹脂組成物。
  13. 前記溶剤は、沸点が100度以上240度以下である、請求項11に記載の光変換樹脂組成物。
  14. 請求項1〜13のいずれかに記載の光変換樹脂組成物の硬化物を含む光変換積層基材。
  15. 前記光変換積層基材の素材がガラスである、請求項14に記載の光変換積層基材。
  16. 請求項14に記載の光変換積層基材を含む画像表示装置。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20210149968A (ko) * 2020-06-02 2021-12-10 삼성디스플레이 주식회사 양자점 조성물, 발광 소자 및 이의 제조방법

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0820101D0 (en) * 2008-11-04 2008-12-10 Nanoco Technologies Ltd Surface functionalised nanoparticles
KR102062687B1 (ko) 2013-01-23 2020-01-06 엘지전자 주식회사 양자점 복합 필름 및 이를 이용한 백라이트 유닛
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KR102271784B1 (ko) * 2014-03-26 2021-06-30 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 액정 표시 장치
CN105319846A (zh) * 2014-06-05 2016-02-10 东友精细化工有限公司 着色固化性树脂组合物
KR101628065B1 (ko) 2014-08-07 2016-06-08 주식회사 엘엠에스 발광 복합체, 이를 포함하는 조성물, 이의 경화물, 광학 시트, 백라이트 유닛 및 디스플레이 장치
KR101879016B1 (ko) * 2014-11-21 2018-07-16 동우 화인켐 주식회사 자발광 감광성 수지 조성물, 이로부터 제조된 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 화상표시장치
JP2016194552A (ja) * 2015-03-31 2016-11-17 大日本印刷株式会社 量子ドットシート、バックライト装置、表示装置および量子ドットシートの製造方法
KR101690624B1 (ko) 2015-03-31 2016-12-28 코오롱인더스트리 주식회사 비카드뮴계 양자점을 포함하는 광학 시트
JP6653622B2 (ja) * 2015-06-10 2020-02-26 富士フイルム株式会社 波長変換部材、バックライトユニット、液晶表示装置、および量子ドット含有重合性組成物
KR101999979B1 (ko) * 2015-09-23 2019-07-15 주식회사 엘지화학 파장 변환 입자 복합체 및 이를 포함하는 광학 필름
KR102413603B1 (ko) * 2015-10-05 2022-06-27 동우 화인켐 주식회사 다이크로익 미러를 포함하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 구비한 화상표시장치
CN105446003B (zh) * 2015-12-01 2017-06-09 苏州星烁纳米科技有限公司 一种量子点分散体、背光模组和显示装置
KR20170065111A (ko) * 2015-12-03 2017-06-13 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치
KR102601102B1 (ko) * 2016-08-09 2023-11-10 삼성전자주식회사 조성물, 이로부터 제조된 양자점-폴리머 복합체 및 이를 포함하는 소자
EP3321340B1 (en) * 2016-08-11 2021-05-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Quantum dot aggregate particles, production methods thereof, and compositions and electronic devices including the same
KR102418601B1 (ko) * 2016-08-30 2022-07-08 동우 화인켐 주식회사 자발광 감광성 수지 조성물, 이로부터 제조된 컬러필터 및 상기 컬러필터를 구비한 화상표시장치
KR101840347B1 (ko) * 2016-10-26 2018-03-20 동우 화인켐 주식회사 자발광 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치
JP6695369B2 (ja) * 2017-02-16 2020-05-20 住友化学株式会社 硬化性樹脂組成物、硬化膜及び表示装置
KR101840348B1 (ko) * 2017-03-30 2018-03-20 동우 화인켐 주식회사 청색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치

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