JP6901265B2 - 導電性酸化物焼結体及びセラミック素子 - Google Patents

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Description

本開示は導電性酸化物焼結体及びセラミック素子に関する。
従来、電極を備えるセラミック素子が知られている。電極を備えるセラミック素子として、例えば、ガスセンサ、SOFC(固体酸化物型燃料電池)、電気化学セル等が挙げられる。特許文献1には、セラミック素子が備える電極を導電性酸化物焼結体により構成することが開示されている。
WO2016/181598 A1
セラミック素子は高温下で使用されることがある。この場合、導電性酸化物焼結体から成る電極の導電性が低下するおそれがある。
本開示の一局面は、高温下においても導電性が低下しにくい導電性酸化物焼結体及びセラミック素子を提供することを目的とする。
本開示の一態様は、組成式:LaZrCeGdで表される成分を含み、前記a、b、c、d、e、xが、a+b+c+d+e=1、1.5≦x≦2.0、0.200≦a≦0.600、0.200≦b≦0.600、及び、0<c+d+e≦0.400、を満たす導電性酸化物焼結体である。
本開示の一態様の導電性酸化物焼結体は、高温下においても導電性が低下しにくい。
本開示の別の態様は、電極又は配線を備えるセラミック素子であって、前記電極又は配線の少なくとも一部は、前記一態様の導電性酸化物焼結体から成るセラミック素子である。
本開示の別の態様のセラミック素子において、前記一態様の導電性酸化物焼結体から成る電極又は配線は、高温下においても導電性が低下しにくい。
本開示の実施形態を説明する。
1.導電性酸化物焼結体
本開示の導電性酸化物焼結体は、組成式:LaZrCeGdで表される成分を含む。本開示の導電性酸化物焼結体は、例えば、前記組成式で表される成分を主成分とすることが好ましい。本開示の導電性酸化物焼結体は、例えば、前記組成式で表される成分のみから構成されていてもよいし、他の成分をさらに含んでいてもよい。
前記a、b、c、d、e、xは、以下の数式(1)〜(5)を満たす。
数式(1):a+b+c+d+e=1
数式(2):1.5≦x≦2.0
数式(3):0.200≦a≦0.600
数式(4):0.200≦b≦0.600
数式(5):0<c+d+e≦0.400
本開示の導電性酸化物焼結体は、数式(1)〜(5)を満たすことにより、高温下でも導電性が高い。本開示の導電性酸化物焼結体は、数式(1)〜(5)を満たすならば、cが0であっても、高温下での導電性が高い。なお、数式(5)が満たされるため、cが0の場合、d及びeのうち少なくとも一方は0より大きい。また、本開示の導電性酸化物焼結体は、高温下でも耐久性が高く、クラック等が生じにくい。
d、eは、以下の数式(6)及び(7)を満たすことが好ましい。
数式(6):d>0
数式(7):e>0
d、eが数式(6)及び(7)を満たす場合、本開示の導電性酸化物焼結体の高温下における導電性が一層高い。
本開示の導電性酸化物焼結体は、例えば、以下の方法で製造することができる。まず、原料粉末を秤量した後、湿式混合して乾燥することにより、原料粉末混合物を調製する。原料粉末として、例えば、La、Zr、Ce、Gd、Yの酸化物又は水酸化物等が挙げられる。具体的には、La(OH)、La、ZrO、CeO、Gd、Y等が挙げられる。原料粉末の混合比は、前記a、b、c、d、e、xが数式(1)〜(5)を満たすように調整することができる。
次に、大気雰囲気下、700〜1300℃で、原料粉末混合物を1〜5時間仮焼して仮焼粉末を作製する。次に、仮焼粉末を、湿式ボールミル等の方法で粉砕し、所定の粒度に調整する。次に、仮焼粉末と、エチルセルロース等のバインダとを、ターピネオールやブチルカルビトール等の溶媒に溶解して、スラリーを得る。そして、得られたスラリーを80℃で2時間乾燥し、さらに、250μmメッシュの篩を通して造粒し、造粒粉末を得る。次に、造粒粉末をプレス機によって成形し、大気雰囲気下、1300〜1700℃で1〜5時間焼成することによって導電性酸化物焼結体を得る。焼成の後には、必要に応じて導電性酸化物焼結体の平面を研磨してもよい。
2.セラミック素子
セラミック素子は、電極又は配線を備え、その電極又は配線の少なくとも一部は、前記の導電性酸化物焼結体から成る。セラミック素子として、例えば、ガスセンサ、SOFC、電気化学セル等が挙げられる。セラミック素子の電極又は配線のうち、全てが本開示の導電性酸化物焼結体から成っていてもよいし、一部は他の材料(例えば金属等)から成っていてもよい。電極又は配線を構成する導電性酸化物焼結体は、上述した方法で製造することができる。
また、導電性酸化物焼結体から成る電極又は配線を備えるセラミック素子は、例えば、以下の方法で作製することができる。上述した仮焼粉末と、エチルセルロース等のバインダとを、ターピネオールやブチルカルビトール等の溶媒に溶解して、スラリーを得る。次に、得られたスラリーを基材(例えば、セラミックからなる基材)に塗布し、乾燥処理を施した後、1300〜1700℃で1〜5時間かけて焼成する。以上の工程により、電性酸化物焼結体から成る電極又は配線を備えるセラミック素子を製造することができる。
<実施例>
(1)導電性酸化物焼結体の製造
a、b、c、d、eが表1に示す値となるように、S1〜S16の導電性酸化物焼結体を製造した。製造方法は上述したとおりである。
Figure 0006901265
S1〜S12では、a、b、c、d、e、xが、数式(1)〜(5)の全てを満たす。S13、S16では、数式(5)を満たさない。S14、S15では、数式(3)、(4)を満たさない。
(2)導電率の測定
S1〜S16のそれぞれについて、直流4端子法により導電率を測定した。その具体的な測定条件は以下のとおりである。まず、3.0mm×3.0mm×15mmの大きさのサンプルを用意した。次に、サンプルの2箇所に白金線を巻きつけた。その2箇所は、サンプルの長手方向両端よりもやや中央寄りの2箇所であって、所定距離だけ離れた2箇所である。その2箇所に巻きつけた白金線を、導電率の電位差測定用電極とした。
また、サンプルの両端にスパッタでAuを蒸着してから、サンプルの両端に、Pt板またはPt網で形成された一対の外側白金電極を取り付けた。さらに、サンプルの両端を石英管で挟み込んでサンプルを固定した。
この状態において、一対の外側白金電極の間に定電流を印加するとともに、2箇所の白金線で電位差を読み取った。そして、電位差−印加電流の相関関係を求め、最小二乗法により導電率を算出した。なお、測定にはオザワ科学社製RZ2001iを用いた。また、測定は、780℃、大気雰囲気下で行った。
導電率の測定結果を上記表1に示す。S1〜S12の導電率は高かった。それに比べて、S13、S15、S16の導電率は低かった。S14においては、製造時にクラックが生じており、導電率を測定できなかった。
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は上述の実施形態に限定されることなく、種々変形して実施することができる。
(1)上記各実施形態における1つの構成要素が有する機能を複数の構成要素に分担させたり、複数の構成要素が有する機能を1つの構成要素に発揮させたりしてもよい。また、上記各実施形態の構成の一部を省略してもよい。また、上記各実施形態の構成の少なくとも一部を、他の上記実施形態の構成に対して付加、置換等してもよい。なお、特許請求の範囲に記載の文言から特定される技術思想に含まれるあらゆる態様が本開示の実施形態である。
(2)上述した導電性酸化物焼結体及びセラミック素子の他、電極、電極の製造方法、配線、配線の製造方法、導電性酸化物焼結体の製造方法、セラミック素子の製造方法等、種々の形態で本開示を実現することもできる。

Claims (3)

  1. 組成式:LaZrCeGdで表される成分のみから構成され、
    前記a、b、c、d、e、xが、
    a+b+c+d+e=1、
    1.5≦x≦2.0、
    0.200≦a≦0.600、
    0.200≦b≦0.600、
    及び、0<c+d+e≦0.400、
    を満たす導電性酸化物焼結体。
  2. 請求項1に記載の導電性酸化物焼結体であって、
    前記d、eが、
    d>0、及び、e>0
    をさらに満たす導電性酸化物焼結体。
  3. 電極又は配線を備えるセラミック素子であって、
    前記電極又は配線の少なくとも一部は、請求項1又は2に記載の導電性酸化物焼結体から成るセラミック素子。
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