JP6890032B2 - 載置テーブル及び載置方法 - Google Patents

載置テーブル及び載置方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6890032B2
JP6890032B2 JP2017076451A JP2017076451A JP6890032B2 JP 6890032 B2 JP6890032 B2 JP 6890032B2 JP 2017076451 A JP2017076451 A JP 2017076451A JP 2017076451 A JP2017076451 A JP 2017076451A JP 6890032 B2 JP6890032 B2 JP 6890032B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
mounting
adjusting
flatness
metal mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017076451A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018179627A (ja
Inventor
伸樹 井出
伸樹 井出
Original Assignee
新東エスプレシジョン株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 新東エスプレシジョン株式会社 filed Critical 新東エスプレシジョン株式会社
Priority to JP2017076451A priority Critical patent/JP6890032B2/ja
Priority to TW107110180A priority patent/TWI667182B/zh
Priority to KR1020180035394A priority patent/KR102073473B1/ko
Priority to CN201810258928.8A priority patent/CN108687722B/zh
Publication of JP2018179627A publication Critical patent/JP2018179627A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6890032B2 publication Critical patent/JP6890032B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B5/00Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques
    • G01B5/0002Arrangements for supporting, fixing or guiding the measuring instrument or the object to be measured
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25HWORKSHOP EQUIPMENT, e.g. FOR MARKING-OUT WORK; STORAGE MEANS FOR WORKSHOPS
    • B25H1/00Work benches; Portable stands or supports for positioning portable tools or work to be operated on thereby
    • B25H1/02Work benches; Portable stands or supports for positioning portable tools or work to be operated on thereby of table type
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47BTABLES; DESKS; OFFICE FURNITURE; CABINETS; DRAWERS; GENERAL DETAILS OF FURNITURE
    • A47B37/00Tables adapted for other particular purposes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25HWORKSHOP EQUIPMENT, e.g. FOR MARKING-OUT WORK; STORAGE MEANS FOR WORKSHOPS
    • B25H1/00Work benches; Portable stands or supports for positioning portable tools or work to be operated on thereby
    • B25H1/08Work benches; Portable stands or supports for positioning portable tools or work to be operated on thereby with provision for attachment of work holders
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25HWORKSHOP EQUIPMENT, e.g. FOR MARKING-OUT WORK; STORAGE MEANS FOR WORKSHOPS
    • B25H1/00Work benches; Portable stands or supports for positioning portable tools or work to be operated on thereby
    • B25H1/14Work benches; Portable stands or supports for positioning portable tools or work to be operated on thereby with provision for adjusting the bench top
    • B25H1/18Work benches; Portable stands or supports for positioning portable tools or work to be operated on thereby with provision for adjusting the bench top in inclination
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B5/00Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques
    • G01B5/28Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

本発明は、メタルマスク等のワークを載置するための載置テーブル及び該載置テーブルにワークを載置する載置方法に関するものである。
従来、メタルマスク等のワークを載置するガラス板の平面度を調整する平面度調整機構を備えたガラス製測定テーブルが知られている(例えば、特許文献1参照)。このガラス製測定テーブルによれば、ガラス板に撓みがない状態でワークをガラス板上に載置して検査することができる。
特開平9−033207号公報
ところで、特許文献1等に記載のガラス製測定テーブル(載置テーブル)においては、検査の際にワークを直接ガラス板に載置するため、ガラス板が傷付き易いという問題があった。そこで、ガラス板の周囲にセラミック等から成る枠状の載置テーブルを備え、該載置テーブルに矩形状のワークを載置し、検査する検査装置が使用されている。
しかしながら、上述の検査装置を用いてメタルマスク等の矩形状のワークを精度よく検査するためには、ワークを変形させることなく載置テーブルに載置する必要がある。また、ワークの載置テーブルに対する位置ずれ及び姿勢ずれが生じないようにワークを載置テーブルに載置する必要がある。
本発明の目的は、ワークを精度よく所望の位置に載置することができる載置テーブル及び該載置テーブルにワークを載置する載置方法を提供することである。
本発明の載置テーブルは、矩形状のワークを載置する載置テーブルであって、前記ワークを載置する前記載置テーブルの表面の平面度を調整する平面度調整部を備え、前記平面度調整部は、前記載置テーブルを貫通する貫通孔に配置されるボルトと、前記ボルトに挿通され、前記載置テーブルの表面側であって前記貫通孔の入口に配置される第1球面座金と、前記ボルトに挿通され、前記載置テーブルの裏面側であって前記貫通孔の出口に配置される第2球面座金と、前記載置テーブルの裏面側に配置され、前記ボルトのねじ部を受け容れる調整ねじと、前記調整ねじを固定する固定ナットとを備える。
また、本発明の載置テーブルは、矩形状のワークを載置する載置テーブルであって、前記ワークを載置する前記載置テーブルの表面内における前記ワークの位置及び姿勢を調整する位置姿勢調整部を備え、前記位置姿勢調整部は、外部から搬送される前記ワークを受取り載置する載置面を有し、前記載置面を前記載置テーブルの表面に対して交差する方向に昇降するリフトピンと、前記載置面に載置された前記ワークの前記載置面内における移動を制御する制御部と、前記ワークを前記載置面内において移動させ、前記ワークの位置及び姿勢が調整された状態で前記ワークの隅を支持するクランプ部と、を備え、前記制御部は、前記リフトピンが昇降している間、前記ワークの移動を禁止し、前記クランプ部が前記ワークを支持している間、前記ワークの移動を許可することを特徴とする。
また、本発明の載置テーブルは、矩形状のワークを載置する載置テーブルであって、前記ワークを載置する前記載置テーブルの表面の平面度を調整する平面度調整部と、前記ワークを載置する前記載置テーブルの表面内における前記ワークの位置及び姿勢を調整する位置姿勢調整部と、を備え、前記平面度調整部は、前記載置テーブルを貫通する貫通孔に配置されるボルトと、前記ボルトに挿通され、前記載置テーブルの表面側であって前記貫通孔の入口に配置される第1球面座金と、前記ボルトに挿通され、前記載置テーブルの裏面側であって前記貫通孔の出口に配置される第2球面座金と、前記載置テーブルの裏面側に配置され、前記ボルトのねじ部を受け容れる調整ねじと、前記調整ねじを固定する固定ナットと、を備え、前記位置姿勢調整部は、外部から搬送される前記ワークを受取り載置する載置面を有し、前記載置面を前記載置テーブルの表面に対して交差する方向に昇降するリフトピンと、前記載置面に載置された前記ワークの前記載置面内における移動を制御する制御部と、前記ワークを前記載置面内において移動させ、前記ワークの位置及び姿勢が調整された状態で前記ワークの隅を支持するクランプ部と、を備え、前記制御部は、少なくとも前記リフトピンが昇降している間、前記ワークの移動を禁止し、前記位置姿勢調整部において前記ワークの位置及び姿勢を調整している間、前記ワークの移動を許可することを特徴とする。
また、本発明の載置テーブルは、前記載置テーブルを支持する複数の脚部を備え、前記平面度調整部は、前記脚部の近傍に配置されることを特徴とする。
また、本発明の載置テーブルは、前記クランプ部が前記ワークの四隅を支持することを特徴とする。
また、本発明の載置テーブルは、前記ワークがメタルマスクフレームにメタルマスクシートを取り付けたメタルマスクまたは前記メタルマスクフレームであることを特徴とする。
また、本発明の載置方法は、矩形状のワークを載置テーブルに載置する載置方法であって、前記載置テーブルの表面より上方まで上昇させたリフトピン上部に配置された載置面に前記ワークを載置する第1載置工程と、前記第1載置工程において前記載置面に載置された前記ワークの前記載置面内における移動を禁止する第1禁止工程と、前記リフトピンを前記載置テーブルの表面近傍であって前記載置テーブルの表面より上方まで下降させ、前記ワークの前記載置面内における移動を許可する許可工程と、前記載置テーブルの表面内における前記ワークの位置及び姿勢を調整する位置姿勢調整工程と、前記位置姿勢調整工程の後、前記ワークの前記載置面内における移動を禁止する第2禁止工程と、前記リフトピンを前記載置テーブルの表面より下方に下降させ、前記載置テーブルの表面に前記ワークを載置する第2載置工程と、を含み、前記位置姿勢調整工程は、前記ワークの隅に配置されたクランプ部において、前記ワークを前記載置面内において移動させ、前記ワークの位置及び姿勢が調整された状態で前記ワークの隅を支持することを特徴とする。
また、本発明の載置方法は、前記第1載置工程の前に、前記載置テーブルの表面の平面度を調整する平面度調整工程を更に含み、前記平面度調整工程は、前記載置テーブルを貫通する貫通孔に配置されるボルトと、前記ボルトに挿通され、前記載置テーブルの表面側であって前記貫通孔の入口に配置される第1球面座金と、前記ボルトに挿通され、前記載置テーブルの裏面側であって前記貫通孔の出口に配置される第2球面座金と、前記載置テーブルの裏面側に配置され、前記ボルトのねじ部を受け容れる調整ねじと、前記調整ねじを固定する固定ナットとにより構成される平面度調整部により前記平面度を調整することを特徴とする。
また、本発明の載置方法は、前記ワークがメタルマスクフレームにメタルマスクシートを取り付けたメタルマスクまたは前記メタルマスクフレームであることを特徴とする。
本発明によれば、ワークを精度よく所望の位置に載置することができる載置テーブル及び該載置テーブルにワークを載置する載置方法を提供することができる。
実施の形態に係る検査テーブルの概略構成を示す斜視図である。 実施の形態に係る検査テーブルの概略構成を示す平面図である。 実施の形態に係る検査テーブルの概略構成を示す正面図である。 実施の形態に係る検査テーブルの概略構成を示す右側面図である。 実施の形態に係る平面度調整機構の構成を示す中央縦断面図である。 実施の形態に係るリフトピンが上昇している状態を示す図である。 実施の形態に係るクランプの構成について説明するための拡大図である。 実施の形態に係る検査テーブルのシステム構成を示すブロック図である。 実施の形態に係る検査テーブルを用いたメタルマスク載置方法について説明するためのフローチャートである。
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態に係る載置テーブルについて説明する。載置テーブルは矩形状のワークを載置するものであって、この実施の形態においては、矩形状のワークとしてメタルマスクを、載置テーブルとして該メタルマスクを載置して検査する検査テーブルを例に挙げて説明する。メタルマスクは、メタルマスク製造装置により枠状のメタルマスクフレームを構成する対向する二辺に、複数の帯状のメタルマスクシートの両端部を順次貼り付けることにより製造され、有機EL素子の製造工程において有機発光層を真空蒸着する際に使用される。
図1は実施の形態に係る検査テーブルの概略構成を示す斜視図、図2は実施の形態に係る検査テーブルの概略構成を示す平面図、図3は実施の形態に係る検査テーブルの概略構成を示す正面図、図4は実施の形態に係る検査テーブルの概略構成を示す右側面図である。なお、以下の説明においては、図1に示すXYZ直交座標系を設定し、この直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係等について説明する。XY平面は、検査テーブルを載置する水平面に平行な面に設定されており、Z軸は、鉛直方向に設定されている。
検査テーブル2は、図1〜図4に示すように、ガラス板8、テーブル部10、複数(この実施の形態では24個)の脚部12a〜12w及び図示しない脚部、基台14、複数(この実施の形態では24個)の平面度調整機構4a〜4x、複数(この実施の形態では10個)のリフトピン5a〜5j、並びに複数(この実施の形態では4個)のクランプ6a〜6dを備えている。ガラス板8は中央部に配置されており、枠状のテーブル部10はガラス板8の周囲に配置されている。テーブル部10は、セラミック等から成り、検査対象物であるメタルマスクを載置する。脚部12a〜12w及び図示しない脚部はテーブル部10を支持しており、脚部12a〜12cはテーブル部10の+Y方向側に、脚部12d〜12hはテーブル部10の−Y方向側に、脚部12i〜12pはテーブル部10の+X方向側に、脚部12q〜12w及び図示しない脚部はテーブル部10の−X方向側に設けられている。
平面度調整機構4a〜4cそれぞれは、テーブル部10の+Y方向側であって、脚部12a〜12cそれぞれの近傍に配置されている。同様に、平面度調整機構4d〜4hそれぞれはテーブル部10の−Y方向側であって脚部12d〜12hそれぞれの近傍に、平面度調整機構4i〜4pそれぞれはテーブル部10の+X方向側であって脚部12i〜12pそれぞれの近傍に、平面度調整機構4q〜4xそれぞれはテーブル部10の−X方向側であって脚部12q〜12w及び図示しない脚部それぞれの近傍に配置されている。平面度調整機構4a〜4xは、テーブル部10の表面、即ちテーブル部10の載置面10aの平面度を調整する。
図5は、平面度調整機構4hの構成を示す中央縦断面図である。平面度調整機構4hは、図5に示すように、ボルト16、第1球面座金18、第2球面座金20、調整ねじ22及び固定ナット24を備えている。ボルト16は、テーブル部10の載置面10aに設けられている凹部26、及び凹部26からテーブル部10をZ方向に貫通する貫通孔28に配置されている。第1球面座金18は、ボルト16に挿通され、テーブル部10の載置面10a側(+Z方向側)であって貫通孔28の入口に配置されている。即ち、第1球面座金18は、ボルト16の頭部と凹部26の底部との間に配置されている。第2球面座金20は、ボルト16に挿通され、テーブル部10の裏面側(−Z方向側)であって貫通孔28の出口に配置されている。脚部12hがテーブル部10を支持する支持部には、Z方向に貫通する貫通孔が設けられており、第2球面座金20は、テーブル部10の裏面と脚部12hに設けられている貫通孔の入口(+Z方向側)との間に配置されている。
調整ねじ22は、テーブル部10の裏面側であって、脚部12hに設けられている貫通孔に配置されている。調整ねじ22の+Z方向側の端部には、ボルト16の−Z方向側のねじ部を受け容れる受容部22aが形成されている。調整ねじ22を一方に回転させることによりボルト16は締められ、テーブル部10の載置面10aの平面度が変化する。また、調整ねじ22を他方に回転させることによりボルト16は緩められ、テーブル部10の載置面10aの平面度が変化する。固定ナット24は、調整ねじ22を固定する。なお、第1球面座金18及び第2球面座金20は、XY平面におけるテーブル部10の平面度調整機構4h周りの傾きを吸収する。また、平面度調整機構4a〜4g及び4i〜4xの構成は、平面度調整機構4hの構成と同一のため、説明を省略する。
リフトピン5aはテーブル部10の+X方向側であって平面度調整機構4iと4jとの間に、リフトピン5bはテーブル部10の+X方向側であって平面度調整機構4jと4kとの間に、リフトピン5cはテーブル部10の+X方向側であって平面度調整機構4lと4mとの間に、リフトピン5dはテーブル部10の+X方向側であって平面度調整機構4nと4oとの間に、リフトピン5eはテーブル部10の+X方向側であって平面度調整機構4と4との間に設けられている。また、リフトピン5fはテーブル部10の−X方向側であって平面度調整機構4qと4rとの間に、リフトピン5gはテーブル部10の−X方向側であって平面度調整機構4と4との間に、リフトピン5hはテーブル部10の−X方向側であって平面度調整機構4と4との間に、リフトピン5iはテーブル部10の−X方向側であって平面度調整機構4と4との間に、リフトピン5jはテーブル部10の−X方向側であって平面度調整機構4と4との間に設けられている。
リフトピン5a〜5jは、テーブル部10の下方(−Z方向)であって基台14の上側(+Z方向側)近傍である待機位置(図1〜図4参照)から、リフトピン5a〜5jそれぞれに対して設けられているテーブル部10の切欠き部を介して、テーブル部10の上方(+Z方向)のワーク受取り位置(図6参照)までの間を移動可能に構成されている。即ち、リフトピン5a〜5jは、Z方向に昇降する。また、リフトピン5a〜5jは、ワーク受取り位置において、外部から検査テーブル2へと搬送されてきたメタルマスクを受取り載置する載置面を有している。リフトピン5a〜5jは、ワーク受取り位置において外部からテーブル部10に搬送されるメタルマスクを受取り、−Z方向に移動してメタルマスクをテーブル部10の載置面10a上に載置する。また、リフトピン5aは、載置されたメタルマスクの載置面(XY平面)内における移動を制御するセンタリングユニット(図示せず)を備えている。同様に、リフトピン5b〜5jそれぞれは、載置されたメタルマスクの載置面(XY平面)内における移動を制御するセンタリングユニット(図示せず)を備えている。
クランプ6a〜6dは、テーブル部10の四隅にそれぞれ配置されており、リフトピン5a〜5jの載置面に載置されているメタルマスクを載置面内において移動させる。図7は、図2に示す円Aで囲んだ部材の拡大図である。図7に示すように、クランプ6aは、テーブル部10に固定されているL字型の固定部材30、固定部材30に対して±X方向に移動可能なX方向可動部材32、固定部材に対して±Y方向に移動可能なY方向可動部材34を備えている。X方向可動部材32の先端部32a及びY方向可動部材34の先端部34aは回転可能なボールからなり、X方向可動部材32が−X方向へ、Y方向可動部材34が−Y方向へ移動することにより先端部32a及び34aがメタルマスクの角に触れる。先端部32a及び34aがメタルマスクの角に触れることにより、メタルマスクはリフトピン5a〜5jの載置面(XY平面)内において移動し、メタルマスクの位置及び姿勢が調整される。また、クランプ6aのX方向可動部材32及びY方向可動部材34は、メタルマスクの位置及び姿勢が調整された状態でメタルマスクの隅を支持する。
なお、クランプ6bの構成は、テーブル部10の短手方向(X方向)の中心線を線対称として、図7に示すクランプ6aの構成と同一である。また、クランプ6cの構成は、テーブル部10の長手方向(Y方向)の中心線を線対称として、図7に示すクランプ6aの構成と同一である。また、クランプ6dの構成は、テーブル部10の中心を点対称として、図7に示すクランプ6aの構成と同一である。クランプ6a〜6dそれぞれがメタルマスクの隅を支持することによりメタルマスクの四隅が支持される。なお、リフトピン5a〜5j及びクランプ6a〜6dは、テーブル部10の載置面10a内におけるメタルマスクの位置及び姿勢を調整する位置姿勢調整装置を構成する。
図8は、検査テーブル2のシステム構成を示すブロック図である。検査テーブル2は、図8に示すように、検査テーブル2の各部、特にリフトピン5a〜5j及びクランプ6a〜6dの各部を統括的に制御する制御部36を備えている。制御部36には、リフトピン5aのリフトピン駆動部38が接続されている。制御部36はリフトピン駆動部38の駆動を制御し、リフトピン駆動部38はリフトピン5aを駆動する。即ち、制御部36は、リフトピン駆動部38を介して、リフトピン5aを±Z方向に移動させる。
また、制御部36には、リフトピン5aのロック部40が接続されている。ロック部40は、制御部36による制御に従い、リフトピン5aのセンタリングユニットのロック及びロック解除を制御する。即ち、制御部36は、少なくともリフトピン5a〜5jが昇降している間、ロック部40を介して、リフトピン5aのセンタリングユニットをロックすることにより、リフトピン5aの載置面内におけるメタルマスクの移動を禁止する。また、制御部36は、上述した位置姿勢調整装置においてメタルマスクの位置及び姿勢を調整している間、ロック部40を介して、リフトピン5aのセンタリングユニットのロックを解除することにより、リフトピン5aの載置面内におけるメタルマスクの移動を許可する。
なお、リフトピン5b〜5jもリフトピン駆動部(図示せず)及びロック部(図示せず)をそれぞれ備えており、リフトピン5b〜5jのリフトピン駆動部及びロック部は、制御部36にそれぞれ接続されている。また、リフトピン5b〜5jのリフトピン駆動部及びロック部の構成は、リフトピン駆動部38及びロック部40の構成と同一である。
また、制御部36には、クランプ6aのX側クランプ駆動部42及びY側クランプ駆動部44が接続されている。制御部36はX側クランプ駆動部42の駆動を制御し、X側クランプ駆動部42はX方向可動部材32の駆動を制御する。即ち、制御部36は、X側クランプ駆動部42を介して、X方向可動部材32を±X方向に移動させる。また、制御部はY側クランプ駆動部44の駆動を制御し、Y側クランプ駆動部44はY方向可動部材34の駆動を制御する。即ち、制御部36は、Y側クランプ駆動部44を介して、Y方向可動部材34を±Y方向に移動させる。
なお、クランプ6b〜6dもX側クランプ駆動部(図示せず)及びY側クランプ駆動部(図示せず)をそれぞれ備えており、クランプ6b〜6dのX側クランプ駆動部及びY側クランプ駆動部は、制御部36にそれぞれ接続されている。また、クランプ6b〜6dのX側クランプ駆動部及びY側クランプ駆動部の構成は、X側クランプ駆動部42及びY側クランプ駆動部44の構成と同一である。
また、制御部36には、記憶部46及び入力部48が接続されている。記憶部46には種々のメタルマスクの大きさに関する情報が記憶されており、制御部36は、入力部48を介して入力された検査対象であるメタルマスクに関する情報を取得し、取得した情報に基づいて記憶部46に記憶されている検査対象であるメタルマスクの大きさに関する情報を読み込む。制御部36は、読み込んだ情報に基づいて、クランプ6aのX側クランプ駆動部42及びY側クランプ駆動部44、並びにクランプ6b〜6dのX側クランプ駆動部及びY側クランプ駆動部の駆動を制御する。
次に、図面を参照して、この実施の形態に係る検査テーブル2において、メタルマスクを検査テーブル2(テーブル部10)に載置するメタルマスク載置方法について説明する。図9は、検査テーブル2においてメタルマスクをテーブル部10に載置する際の処理について説明するためのフローチャートである。
まず、制御部36は、テーブル部10の載置面10aの平面度を調整する(ステップS1)。具体的には、制御部36は、図示しない平面度計測装置により計測された載置面10aの平面度計測結果を取得し、取得結果を図示しない出力部に対して出力するよう指示する。ユーザは、出力部に出力された平面度計測結果を参照し、平面度調整機構4a〜4xを用いて平面度を調整する。具体的には、調整ねじ22または他の調整ねじを時計回りまたは反時計回りに回転させることによりボルト16を諦緩させ、テーブル部10の平面度を調整する。テーブル部10の平面度の計測及び調整を繰り返すことにより、テーブル部10の平面度をあげていく。
次に、制御部36は、ステップS1においてテーブル部10の平面度が調整された後、リフトピン5a〜5jを待機位置(図1参照)から図6に示す位置、即ちテーブル部10の載置面10aよりも上方まで上昇させる(ステップS2)。具体的には、制御部36は、リフトピン駆動部38及びその他のリフトピン駆動部の駆動を制御することにより、リフトピン5a〜5jを+Z方向に所定距離上昇させる。
次に、制御部36は、外部から検査テーブル2に搬送されてきたメタルマスクがリフトピン5a〜5j上部に配置された載置面に載置されたことを確認すると(ステップS3)、リフトピン5a〜5jのセンタリングユニットをロックし、リフトピン5a〜5jの載置面内におけるメタルマスクの移動を禁止する(ステップS4)。具体的には、制御部36は、検査対象であるメタルマスクがリフトピン5a〜5jの載置面に載置されたことを、例えば入力部を介して入力された確認信号または図示しない検知センサ等から送信される確認信号を受信することにより確認する。そして、制御部36は、ロック部40及びその他のロック部に対してリフトピン5a〜5jのセンタリングユニットをロックするよう指示し、ロック部40及びその他のロック部のそれぞれは、リフトピン5a〜5jそれぞれのセンタリングユニットをロックする。リフトピン5a〜5jのセンタリングユニットがロックされることにより、メタルマスクは、リフトピン5a〜5jの載置面内において固定される。
次に、制御部36は、リフトピン5a〜5jを図6に示す位置からテーブル部10の載置面10a近傍であって載置面10aより上方、即ち載置面10aより微小量上方まで下降させる(ステップS5)。具体的には、制御部36は、リフトピン駆動部38及びその他のリフトピン駆動部の駆動を制御することにより、リフトピン5a〜5jを−Z方向に所定距離下降させる。
次に、制御部36は、リフトピン5a〜5jのセンタリングユニットのロックを解除し、リフトピン5a〜5jの載置面内におけるメタルマスクの移動を許可する(ステップS6)。具体的には、制御部36は、ロック部40及びその他のロック部に対してリフトピン5a〜5jのセンタリングユニットのロックを解除するよう指示し、ロック部40及びその他のロック部のそれぞれは、リフトピン5a〜5jそれぞれのセンタリングユニットのロックを解除する。リフトピン5a〜5jのセンタリングユニットのロックが解除されることにより、メタルマスクは、リフトピン5a〜5jの載置面内において移動可能となる。
次に、制御部36は、テーブル部10の載置面10aにおけるメタルマスクの位置及び姿勢を調整する(ステップS7)。具体的には、制御部36は、入力部48を介して入力されたメタルマスクに関する情報を取得し、取得した情報に基づいて記憶部46に記憶されているメタルマスクの大きさに関する情報を読み込む。そして、制御部36は、読み込んだ情報に基づいて、クランプ6aのX側クランプ駆動部42及びY側クランプ駆動部44、並びにクランプ6b〜6dのX側クランプ駆動部及びY側クランプ駆動部の駆動を制御する。X側クランプ駆動部42及びその他のX側クランプ駆動部のそれぞれは、クランプ6aのX方向可動部材32及びクランプ6b〜6dのX方向可動部材それぞれをX方向に所定距離移動させる。同様に、Y側クランプ駆動部44及びその他のY側クランプ駆動部のそれぞれは、クランプ6aのY方向可動部材34及びクランプ6b〜6dのY方向可動部材それぞれをY方向に所定距離移動させる。X方向可動部材32、その他のX方向可動部材、Y方向可動部材34及びその他のY方向可動部材が移動することにより、メタルマスクはXY平面内において移動する。そして、載置面10aに対するメタルマスクの位置及び姿勢が調整された状態で、メタルマスクの四隅はクランプ6a〜6dにより支持される。
次に、制御部36は、ステップS7においてメタルマスクの位置及び姿勢の調整を終えた後、リフトピン5a〜5jのセンタリングユニットをロックし、リフトピン5a〜5jの載置面内におけるメタルマスクの移動を禁止する(ステップS8)。即ち、制御部36は、ロック部40及びその他のロック部に対してリフトピン5a〜5jのセンタリングユニットをロックするよう指示し、ロック部40及びその他のロック部のそれぞれは、リフトピン5a〜5jそれぞれのセンタリングユニットをロックする。そして、制御部36は、リフトピン駆動部38及びその他のリフトピン駆動部の駆動を制御することによりリフトピン5a〜5jをテーブル部10の載置面10aより下方に下降させ(ステップS9)、メタルマスクをテーブル部10の載置面10aに載置する。メタルマスクがテーブル部10の載置面10aに載置された後、リフトピン5a〜5jは、待機位置まで下降する。
この実施の形態に係る検査テーブル2によれば、平面度調整機構4a〜4xを備えているため、テーブル部10の載置面10aの平面度を高精度に維持することができ、メタルマスクを変形させることなくテーブル部10の載置面10aに載置することができる。また、リフトピン5a〜5j及びクランプ6a〜6dにより構成される位置姿勢調整装置を備えているため、テーブル部10に対するメタルマスクの位置及び姿勢を調整することができ、メタルマスクをテーブル10の載置面10aの所望の位置に載置することができる。
また、この実施の形態に係るメタルマスクの載置方法によれば、平面度調整機構4a〜4xを用いてテーブル部10の載置面10aの平面度を調整するため、載置面10aの平面度を高精度に維持することができ、メタルマスクを変形させることなくテーブル部10の載置面10aに載置することができる。また、リフトピン5a〜5j及びクランプ6a〜6dにより構成される位置姿勢調整装置を用いてテーブル部10に対するメタルマスクの位置及び姿勢を調整するため、メタルマスクをテーブル10の載置面10aの所望の位置に載置することができる。
また、上述の実施の形態においては、平面度調整装置及び位置姿勢調整装置の両方を備えているが、平面度調整装置のみまたは位置姿勢調整装置のみを備える構成であってもよい。
また、上述の実施の形態においては、メタルマスクを載置する場合を例に挙げて説明したが、メタルマスク以外の矩形状のワーク(例えばメタルマスクフレーム等)を載置する場合にも本発明を適用することができる。また、上述の実施の形態においては、検査装置に設けられている検査テーブルを例に挙げて説明したが、検査装置以外の装置(例えばメタルマスク製造装置等)に設けられている載置テーブルにも本発明を適用することができる。
また、上述の実施の形態においては、24個の平面度調整機構を備えているが、検査テーブル(載置テーブル)の平面度を良好に調整可能であればよく、平面度調整機構の数は限定されない。また、平面度調整機構は図1〜図4に示す位置に配置されているが、検査テーブル(載置テーブル)の平面度を良好に調整可能であれば他の位置に配置されてもよい。また、上述の実施の形態においては、10個のリフトピンを備えているが、メタルマスク(ワーク)を良好に支持可能であればよく、リフトピンの数は限定されない。また、上述の実施の形態においては、メタルマスクの四隅それぞれを支持する4つのクランプを備えているが、メタルマスクの隅を良好に支持可能であればよく、クランプの数は限定されない。
2…検査テーブル、4a〜4x…平面度調整機構、6a〜6d…クランプ、8…ガラス板、10…テーブル部、12a〜12w…脚部、14…基台、16…ボルト、18…第1球面座金、20…第2球面座金、22…調整ねじ、24…固定ナット、26…凹部、28…貫通孔、30…固定部材、32…X方向可動部材、34…Y方向可動部材、36…制御部、38…リフトピン駆動部、40…ロック部、42…X側クランプ駆動部、44…Y側クランプ駆動部、46…記憶部、48…入力部。

Claims (7)

  1. 矩形状のワークを載置する載置テーブルであって、
    前記ワークを載置する前記載置テーブルの表面の平面度を調整する平面度調整部を備え、
    前記平面度調整部は、
    前記載置テーブルを貫通する貫通孔に配置されるボルトと、
    前記ボルトに挿通され、前記載置テーブルの表面側であって前記貫通孔の入口に配置される第1球面座金と、
    前記ボルトに挿通され、前記載置テーブルの裏面側であって前記貫通孔の出口に配置される第2球面座金と、
    前記載置テーブルの裏面側に配置され、前記ボルトのねじ部を受け容れる調整ねじと、
    前記調整ねじを固定する固定ナットと、
    を備えることを特徴とする載置テーブル。
  2. 矩形状のワークを載置する載置テーブルであって、
    前記ワークを載置する前記載置テーブルの表面の平面度を調整する平面度調整部と、
    前記ワークを載置する前記載置テーブルの表面内における前記ワークの位置及び姿勢を調整する位置姿勢調整部と、を備え、
    前記平面度調整部は、
    前記載置テーブルを貫通する貫通孔に配置されるボルトと、
    前記ボルトに挿通され、前記載置テーブルの表面側であって前記貫通孔の入口に配置される第1球面座金と、
    前記ボルトに挿通され、前記載置テーブルの裏面側であって前記貫通孔の出口に配置される第2球面座金と、
    前記載置テーブルの裏面側に配置され、前記ボルトのねじ部を受け容れる調整ねじと、
    前記調整ねじを固定する固定ナットと、を備え、
    前記位置姿勢調整部は、
    外部から搬送される前記ワークを受取り載置する載置面を有し、前記載置面を前記載置テーブルの表面に対して交差する方向に昇降するリフトピンと、
    前記載置面に載置された前記ワークの前記載置面内における移動を制御する制御部と、
    前記ワークを前記載置面内において移動させ、前記ワークの位置及び姿勢が調整された状態で前記ワークの隅を支持するクランプ部と、を備え、
    前記制御部は、前記リフトピンが昇降している間、前記ワークの移動を禁止し、前記クランプ部が前記ワークを支持している間、前記ワークの移動を許可することを特徴とする載置テーブル。
  3. 前記載置テーブルを支持する複数の脚部を備え、
    前記平面度調整部は、前記脚部の近傍に配置されることを特徴とする請求項1または請求項2記載の載置テーブル。
  4. 前記クランプ部は、前記ワークの四隅を支持することを特徴とする請求項2記載の載置テーブル。
  5. 前記ワークは、メタルマスクフレームにメタルマスクシートを取り付けたメタルマスクまたは前記メタルマスクフレームであることを特徴とする請求項1〜請求項4の何れか一項に記載の載置テーブル。
  6. 矩形状のワークを載置テーブルに載置する載置方法であって、
    前記載置テーブルを貫通する貫通孔に配置されるボルトと、前記ボルトに挿通され、前記載置テーブルの表面側であって前記貫通孔の入口に配置される第1球面座金と、前記ボルトに挿通され、前記載置テーブルの裏面側であって前記貫通孔の出口に配置される第2球面座金と、前記載置テーブルの裏面側に配置され、前記ボルトのねじ部を受け容れる調整ねじと、前記調整ねじを固定する固定ナットとにより構成される平面度調整部を用いて、前記載置テーブルの表面の平面度を調整する平面度調整工程と、
    前記載置テーブルの表面より上方まで上昇させたリフトピン上部に配置された載置面に前記ワークを載置する第1載置工程と、
    前記第1載置工程において前記載置面に載置された前記ワークの前記載置面内における移動を禁止する第1禁止工程と、
    前記リフトピンを前記載置テーブルの表面近傍であって前記載置テーブルの表面より上方まで下降させ、前記ワークの前記載置面内における移動を許可する許可工程と、
    前記載置テーブルの表面内における前記ワークの位置及び姿勢を調整する位置姿勢調整工程と、
    前記位置姿勢調整工程の後、前記ワークの前記載置面内における移動を禁止する第2禁止工程と、
    前記リフトピンを前記載置テーブルの表面より下方に下降させ、前記載置テーブルの表面に前記ワークを載置する第2載置工程と、を含み、
    前記位置姿勢調整工程は、前記ワークの隅に配置されたクランプ部において、前記ワークを前記載置面内において移動させ、前記ワークの位置及び姿勢が調整された状態で前記ワークの隅を支持することを特徴とする載置方法
  7. 前記ワークは、メタルマスクフレームにメタルマスクシートを取り付けたメタルマスクまたは前記メタルマスクフレームであることを特徴とする請求項6記載の載置方法。
JP2017076451A 2017-04-07 2017-04-07 載置テーブル及び載置方法 Active JP6890032B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017076451A JP6890032B2 (ja) 2017-04-07 2017-04-07 載置テーブル及び載置方法
TW107110180A TWI667182B (zh) 2017-04-07 2018-03-26 Mounting table and mounting method
KR1020180035394A KR102073473B1 (ko) 2017-04-07 2018-03-27 탑재 테이블 및 탑재 방법
CN201810258928.8A CN108687722B (zh) 2017-04-07 2018-03-27 载置台及载置方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017076451A JP6890032B2 (ja) 2017-04-07 2017-04-07 載置テーブル及び載置方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018179627A JP2018179627A (ja) 2018-11-15
JP6890032B2 true JP6890032B2 (ja) 2021-06-18

Family

ID=63844611

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017076451A Active JP6890032B2 (ja) 2017-04-07 2017-04-07 載置テーブル及び載置方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6890032B2 (ja)
KR (1) KR102073473B1 (ja)
CN (1) CN108687722B (ja)
TW (1) TWI667182B (ja)

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2967585A (en) * 1957-12-06 1961-01-10 Charles L Bybee Adjustable scaffold support
US4565263A (en) * 1985-06-10 1986-01-21 Southworth Ted J Sawhorse with extendible and contractible leg assemblies
JPS62242812A (ja) * 1986-04-15 1987-10-23 Daihatsu Motor Co Ltd 自動計測装置
TW276293B (en) * 1994-05-04 1996-05-21 Jochen Corts Bearing support especially for the application in the ship body
JP3278551B2 (ja) 1995-07-20 2002-04-30 株式会社ソキア ガラス製測定テーブル
JPH09186225A (ja) * 1995-12-29 1997-07-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板保持装置
US5822877A (en) * 1996-06-20 1998-10-20 Brown & Sharpe Manufacturing Company Multi-probe system for dimensional metrology
US5865269A (en) * 1996-08-20 1999-02-02 Joe D. Hill Adjustable height and levelable work support
JPH10141350A (ja) * 1996-11-14 1998-05-26 Kokusai Electric Co Ltd 水平面度調整機構
JP2000114149A (ja) * 1998-10-07 2000-04-21 Hitachi Ltd ガラス基板保持装置
JP2002273631A (ja) * 2001-03-15 2002-09-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd ワーク保持・位置決め方法及び装置
TW476358U (en) * 2001-07-06 2002-02-11 Nan Yih Tien Ind Co Ltd Level adjusting structure for floor supporting frame
KR100722163B1 (ko) * 2005-04-01 2007-05-28 주식회사 에이디피엔지니어링 기판 검사 장치
CN100517631C (zh) * 2006-09-22 2009-07-22 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 举升装置及调整举升装置平面度的方法
JP5019602B2 (ja) 2007-08-31 2012-09-05 新東エスプレシジョン株式会社 二次元座標測定機の測定テーブル
KR100969539B1 (ko) * 2008-04-10 2010-07-12 가부시키가이샤 니혼 마이크로닉스 점등 검사장치
JP2009251529A (ja) * 2008-04-10 2009-10-29 Micronics Japan Co Ltd 点灯検査装置
JP4953213B2 (ja) * 2008-08-26 2012-06-13 株式会社日本マイクロニクス テーブル高さ調整機構及びこれを用いた高さ調整テーブル
JP2016137534A (ja) * 2015-01-27 2016-08-04 セイコーエプソン株式会社 治具の姿勢調整方法、治具及び治具の姿勢調整用補助具
CN104880318A (zh) * 2015-05-25 2015-09-02 南车戚墅堰机车有限公司 柴油机可移动支承调节装置
JP6563758B2 (ja) * 2015-09-25 2019-08-21 新東エスプレシジョン株式会社 メタルマスク製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018179627A (ja) 2018-11-15
KR102073473B1 (ko) 2020-03-02
TWI667182B (zh) 2019-08-01
CN108687722B (zh) 2021-09-10
CN108687722A (zh) 2018-10-23
KR20180113918A (ko) 2018-10-17
TW201836958A (zh) 2018-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4128156B2 (ja) 部品実装方法及び装置
TWI692059B (zh) 晶圓檢測機
KR102549429B1 (ko) 디지털 리소그래피 시스템들 상에서의 다중-기판 프로세싱
JP6156869B2 (ja) 位置検出装置、基板製造装置、位置検出方法、及び基板の製造方法
US20220082365A1 (en) Modular gage system
JP6890032B2 (ja) 載置テーブル及び載置方法
US20040253380A1 (en) Substrate processing system, coating apparatus, and coating method
CN104956786A (zh) 作业机及位置偏差数据取得方法
DE19948797C2 (de) Substrathalter und Verwendung des Substrathalters in einem hochgenauen Messgerät
JP4468159B2 (ja) 基板処理装置及びその搬送位置合わせ方法
KR20200032260A (ko) 노광 시스템 정렬 및 교정 방법
JP2005159110A (ja) 部品実装方法及び装置
US20130044938A1 (en) Measurement system using alignment system and position measurement method
JP2012023104A (ja) 基板載置装置
US10446434B2 (en) Chuck for supporting a wafer
CN102679890A (zh) 晶柱检测装置
KR102294504B1 (ko) 기판 이송 위치 측정용 테스트 더미
JP2020189390A (ja) 産業用ロボットの調整方法および測定用器具
JP4431479B2 (ja) 2次元座標測定機
KR102258116B1 (ko) 패널검사장치
JP2008177206A (ja) 基板保持装置、表面形状測定装置および応力測定装置
KR102115179B1 (ko) 프로브장치 및 프로브 자세 보정 방법
JP3849016B2 (ja) ガラス製平面調整テーブル
EP1092945A2 (de) Messgerät und Verfahren zum Vermessen von Strukturen auf Substraten verschiedener Dicke
JP3090931U (ja) ガラス製平面調整テーブル

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200303

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20201216

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210105

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210215

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210518

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210524

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6890032

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250