JP6861020B2 - 加熱調理装置 - Google Patents
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Description
2 被加熱容器である羽釜
11 加熱室
12 加熱室体
13 加熱手段
21 周壁
23 上板
24 周壁部
25 熱移動抑制部である突出部
26 突出壁部
31 平板部
32 支持突部
33 位置決め突部
41 環状加熱部であるガスバーナ
47 底壁
48 第1隙間
49 第2隙間
50 二次空気調整板である支持板
Claims (5)
- 被加熱容器が収納される加熱室を有する加熱室体と、
前記加熱室に収納された被加熱容器を加熱する加熱手段とを備え、
前記加熱室体は、前記加熱室の周囲に位置する周壁を有し、
前記周壁は、
筒状の周壁部と、
前記周壁部の内周面に突設され、前記加熱手段側からの熱が上方へ移動するのを抑制する熱移動抑制部である突出部と、
前記周壁部の内周面のうち前記突出部よりも下方に位置する部分に突設され、前記加熱手段側からの熱の流れを遮らない形状に形成された突出壁部とを有し、
前記加熱手段は、環状加熱部を有し、
前記環状加熱部の内周側には、蓄熱性を有する断熱材からなる底壁が位置している
ことを特徴とする加熱調理装置。 - 加熱室体の周壁の突出壁部は、周壁部の厚さよりも厚く形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の加熱調理装置。 - 加熱室体の周壁は、蓄熱性を有する断熱材によって構成されている
ことを特徴とする請求項1または2記載の加熱調理装置。 - 底壁と環状加熱部との間には環状の第1隙間が存在し、かつ、前記環状加熱部と二次空気調整板との間には環状の第2隙間が存在しており、
前記第1隙間および前記第2隙間は、前記環状加熱部での燃焼に必要な二次空気である外気を加熱室に供給するための必要最低限の大きさである
ことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一記載の加熱調理装置。 - 加熱室体は、周壁の上面を覆う上板を有し、
前記上板は、
環状の平板部と、
前記平板部の上面に突設され、被加熱容器を支持する支持突部と、
前記平板部の内周端に突設され、被加熱容器を位置決めする位置決め突部とを有する
ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一記載の加熱調理装置。
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