JP6857711B1 - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
Description
即ち、洗浄空間を画成している槽壁から構成されている洗浄槽と、
基板を前記洗浄空間内において略鉛直方向に沿って直立するように保持する保持機構と、
前記洗浄空間内において前記保持機構を駆動して回転するように前記保持機構と連結していて、該回転駆動により前記保持機構に保持されている前記基板を共に、所定の角度まで回転して当該角度で固定する回転機構と、
前記洗浄空間内において洗浄液を噴出して角度が固定された前記基板の表面および裏面に対して洗浄を実行する複数のノズルを有しているスプレー機構と、を備えている基板洗浄装置を提供する。
以下、本発明に係る基板洗浄装置100について図面を参照して説明する。
図1〜図4を参照して本発明に係る基板洗浄装置100の第1の実施形態を説明する。ここで、図1は本発明に係る第1の実施形態の基板洗浄装置100の構成が示される斜視図であり、図2は該第1の実施形態におけるスプレー機構4の第1のノズルユニット41が他の位置にある状態を説明する斜視図である。
グリッパー部223bは、上述の枢動により、図3及び図4に示されるように、当接部223aと共に基板5を挟持する挟持位置(図3参照)と、当接部223aから離れて基板5の環状盤211に対する取り外しおよび取り付けが可能となる分離位置(図4参照)と、の間に切り替えることができる。
ここで、スプレー機構4の作動時には、基板5が回転されずに所定の角度で固定されているので、第1のノズルユニット41にあるノズル43が一定の角度で略鉛直方向に沿って基板5の表面に対して洗浄を実行することができる。
図5及び図6を参照して本発明に係る基板洗浄装置100の第2の実施形態を説明する。ここで、図5は本発明に係る第2の実施形態の基板洗浄装置100の構成が示される側面図であり、図6は該第2の実施形態における挟持ユニット223のグリッパー部223bが分離位置にある状態を説明する側面図である。
図7及び図8を参照して本発明に係る基板洗浄装置100の第3の実施形態を説明する。ここで、図7は本発明に係る第3の実施形態の基板洗浄装置100の構成が示される斜視図であり、図8は該第3の実施形態の基板洗浄装置100の構成が示される正面図である。
本実施形態の基板洗浄装置100おいて、保持機構2は、図7及び図8に示されるように、洗浄槽1の外部に配置されている昇降ユニット(図示せず)と、略鉛直方向に沿って移動することができるように、昇降ユニットと連結している支持フレーム23と、支持フレーム23に回転可能に設けられている上、基板5を保持することができると共に、外周縁に歯部241が形成されている環状フレーム24と、を備えている。
1 洗浄槽
11 槽壁
12 洗浄空間
2 保持機構
21 ベース
211 環状盤
212 回転軸
213 連接部
214 保持面
215 連結面
22 位置決め手段
221 支持ユニット
222 支持部
222a 位置決め溝
223 挟持ユニット
223a 当接部
223b グリッパー部
223c 第1のセクション
223d 第2のセクション
223e 第3のセクション
223f 第4のセクション
223g 枢接部
224 弾性部
225 枢接ブロック
226 作動ユニット
227 支持軸部
228 押し当て部
23 支持フレーム
24 環状フレーム
241 歯部
3 回転機構
31 ベルトプーリ
32 歯車
4 スプレー機構
41 第1のノズルユニット
42 第2のノズルユニット
43 ノズル
5 基板
9 従来の基板洗浄装置
90 基板
91 洗浄槽
911 槽壁
912 洗浄空間
92 保持機構
93 回転機構
94 ノズル
Claims (8)
- 洗浄空間を画成している槽壁から構成されている洗浄槽と、
基板を前記洗浄空間内において略鉛直方向に沿って直立するように保持する保持機構と、
前記洗浄空間内において前記保持機構を駆動して回転するように前記保持機構と連結していて、該回転駆動により前記保持機構に保持されている前記基板を共に、所定の角度まで回転して当該角度で固定する回転機構と、
前記洗浄空間内において洗浄液を噴出して角度が固定された前記基板の表面および裏面に対して洗浄を実行する複数のノズルを有しているスプレー機構と、を備えている、
ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記保持機構は、前記洗浄空間内において前記洗浄槽の前記槽壁に回転可能に設けられている上、前記回転機構と連結していて前記回転機構の前記回転駆動により回転させられるベースと、前記ベースに設けられていて前記基板を位置決めする位置決め手段と、を備えている、
ことを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。 - 前記ベースは、両面が保持面及び連結面となっている環状盤と、一端が前記回転機構と連結している回転軸と、両端が前記環状盤の前記連結面及び前記回転軸の他端と連接している連接部と、を備えている、
ことを特徴とする請求項2に記載の基板洗浄装置。 - 前記位置決め手段は、前記環状盤における異なる2箇所に設けられている2つの支持ユニットと、それぞれ前記環状盤に各前記支持ユニットと間隔を空けて操作可能に設けられている2つの挟持ユニットと、作動ユニットと、を備えており、
各前記支持ユニットは、前記環状盤の前記保持面から突出していると共に、周縁に幅が前記基板の厚さに対応して前記基板の縁側と係合して前記基板を位置決めする位置決め溝が凹設されている支持部を有しており、
各前記挟持ユニットは、前記保持面に設けられている当接部と、前記当接部と共に前記基板を挟持する挟持位置と、前記当接部から離れて前記基板の前記環状盤に対する取り外しおよび取り付けが可能となる分離位置と、の間に切り替えられるグリッパー部と、前記グリッパー部に対して前記グリッパー部を前記挟持位置に移動させる付勢力を与え続けるように配置されている弾性部と、を有しており、
また、前記作動ユニットは、前記グリッパー部の前記挟持位置と前記分離位置との切り替えを制御するように構成されている、
ことを特徴とする請求項3に記載の基板洗浄装置。 - 前記グリッパー部は、前記基板に当接する第1のセクションと、前記ベースの前記連結面と同じ側にある第2のセクションと、に区分されており、
前記作動ユニットは、中心軸が前記回転軸と同軸となるように前記回転軸を挿通している支持軸部と、前記支持軸部の前記環状盤に近い一端に連結していると共に、各前記挟持ユニットの前記グリッパー部の前記第2のセクションに前記環状盤の向かう方向に向かうよう押し当たって前記グリッパー部を前記挟持位置から前記分離位置に移動させる押し当て部と、前記支持軸部と連結していて前記支持軸部に対して前記押し当て部を前記第2のセクションに押し当てる動力を提供する動力源と、を備えている、
ことを特徴とする請求項4に記載の基板洗浄装置。 - 前記スプレー機構は、前記洗浄空間内において略鉛直方向に沿って移動して、前記基板の表面に対して洗浄を実行する第1のノズルユニットと、前記洗浄空間内において位置決めされていると共に、前記基板の裏面に対して洗浄を実行する第2のノズルユニットと、から構成されており、
また、前記複数のノズルは、一部が前記第1のノズルユニットにある一方、他の一部が前記第2のノズルユニットにある、
ことを特徴とする請求項2に記載の基板洗浄装置。 - 前記保持機構は、略鉛直方向に沿って移動する支持フレームと、前記支持フレームに回転可能に設けられている環状フレームと、を備えており、
前記環状フレームは、前記基板を保持すると共に、外周縁に歯部が形成されており、
前記回転機構は、前記洗浄空間内に配置されていると共に、前記環状フレームに形成されている前記歯部と噛み合って前記環状フレームの回転を駆動する歯車を備えている、
ことを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。 - 前記スプレー機構は、前記洗浄空間内において位置決めされていると共に、前記基板の表面に対して洗浄を実行する第1のノズルユニットと、前記洗浄空間内において前記第1のノズルユニットと間隔をあけるように位置決めされていると共に、前記基板の裏面に対して洗浄を実行する第2のノズルユニットと、から構成されており、
また、前記複数のノズルは、一部が前記第1のノズルユニットにある一方、他の一部が前記第2のノズルユニットにある、
ことを特徴とする請求項7に記載の基板洗浄装置。
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