JP6843067B2 - 不飽和モノマー類の重合を阻害する方法 - Google Patents

不飽和モノマー類の重合を阻害する方法 Download PDF

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Description

(関連出願の相互参照)
本出願は、2015年4月20日に出願された米国特許出願第62/150,022号に対する優先権を主張するものであって、その開示内容は、全体が参照により本明細書に援用される。
本発明は、一般的には、不飽和化合物、特に、ビニルモノマー類のフリーラジカル重合を阻害するための化合物及び方法に関する。より具体的には、本発明は、炭化水素流を構成する成分であるビニルモノマー類などの不飽和化合物の重合を阻害するための立体障害ヒドロキノン化合物の使用に関する。
不飽和化合物、特に、ビニルモノマー類は、それらの製造、処理、取扱い、貯蔵、及び使用などの様々な段階で望ましくない重合を起こし得る。ビニルモノマー類は、重合促進剤の不存在下であっても、高温で自己開始重合が起き得る。したがって、望ましくない熱重合が、ビニル系モノマー類の精製時、及びプロセスの緊急運転停止時に問題になり得る。望ましくない重合は、貴重なモノマー最終生成物が、望ましくない副反応で消費されるため、生成物の損失をもたらす。さらに、望ましくない重合は、プロセス装置上へのポリマー汚染物質の析出及び堆積をもたらし、それによって、生成効率が低下する。望ましくない重合を効果的に制御しなければ、プロセス装置のこのファウリングは、物理的方法によって望ましくないポリマーを除去するために、プロセスの停止を必要とし得る。この問題は、ビニル芳香族モノマー類の製造及び精製において特に深刻である。
望ましくないポリマーの形成を防止し、かつプロセス装置を保護するための現在使用されている主な生成物は、有効かつ低コストのジニトロフェノール(DNP)である。市場におけるDNP抗重合剤のプロトタイプは、2,4−ジニトロ−sec−ブチルフェノール(DNBP)である。これは、非常に効果的な抗重合剤である。しかしながら、DNBPは毒性が非常に強く、かつ、既知の環境危険因子でもあり、その規制は極めて強くなっており、当該抗重合剤の使用を完全に排除することが究極の目的となっている。その典型例が、欧州のREACH法である。別の同等に重大な欠点は、DNP化合物が、焼却中にNOxを放出することにある。
これらの課題に鑑みて、還元重合時のDNBPと同様に効果的であり、かつ、安全で環境にも優しい、抗重合性化合物が待望されている。
本発明は、不飽和炭化水素を含有する炭化水素流を処理、輸送、または、貯蔵する間における装置での望ましくない重合及びその後のファウリングを軽減する方法を明らかにするものであって、本発明によって、当該流れが、有効量の式1のヒドロキノン化合物と接触され、

(1)
式中、R、R、及びRは独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロシクロであるか、または、R及びRは、それらが結合する炭素と共に互いに結合して、5員または6員の縮合したシクロ、アリール、ヘテロシクロ、または、ヘテロアリール環を形成し、式中、R、R、及びRのうちの少なくとも2つは、水素以外である。
他の目的及び特徴は、その一部は自明であり、また、その一部について、以下に説明する。
2,3,5−トリメチルヒドロキノン(TMHQ)、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ(HTEMPO)、及び、TMHQとHTEMPOとの組合せを含む、様々な重合阻害剤について経時的に形成されたパーセントポリマーのグラフである。
対応する参照符号は、図面全体を通して、対応する部分を示している。
本発明は、不飽和炭素−炭素結合の早期重合を起こしやすいスチレン、アクリル酸及びそのエステル、メタクリル酸及びそのエステル類、及び、アクリルアミド類のような不飽和化合物の重合を阻害するための立体障害ヒドロキノン化合物の使用の方法に関する。当該不飽和化合物は、有効量の式1のヒドロキノン化合物と接触している。当該不飽和化合物は、典型的な処理条件下で、容易に重合するような高い重合反応速度を有する。当該不飽和化合物の望ましくない重合は、生成される所望のモノマーの減少を招くので、経費が高騰する。さらに、得られたポリマーは沈殿してしまい、汚染物質としてプロセス装置上に堆積する。堆積された汚染物質は、汚染された設備を物理的に洗浄するためにプロセスの停止が必要となるので、プロセスの効率を低下させる。物理的に洗浄する装置は、非常に高価である。つまり、この望ましくない重合に起因するファウリングを防止する方法は、ビニル種が関係する多くの炭化水素プロセスにとって有用である。
本発明の1つの態様は、反応性不飽和炭素−炭素結合を有する種を含有する炭化水素流を精製、輸送、または、貯蔵する間にファウリングを防止する方法であって、本発明によって、当該種が、有効量の式1のヒドロキノン化合物と接触され、

(1)
式中、R、R、及びRは独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロシクロであるか、または、R及びRは、それらが結合する炭素と共に互いに結合して、5員または6員の縮合したシクロ、アリール、ヘテロシクロ、または、ヘテロアリール環を形成し、式中、R、R、及びRのうちの少なくとも2つは、水素以外である。
式1のヒドロキノン化合物について、R及びRが、それらが結合する炭素と共に互いに結合して、5員または6員の縮合した環を形成するとき、当該化合物は、式2または式3の構造を有し、

(2)

(3)
式中、X、X、及びXは独立して、−O−、−S−、−N(R)−、または、−C(H)(R)−であり、Z、Z、Z、及びZは独立して、−O−、−S−、−N(R)−、または、−C(H)(R)−であり、Rは、水素、アルキル、アリール、または、ヘテロシクロであり、及び、Rは独立して、水素、アルキル、アリール、または、ヘテロシクロである。
式2の化合物について、X、X、及びXを、独立して、−O−、または、−C(H)(R)−とすることができ、かつ、X、X、及びXのうちの少なくとも1つは、−C(H)(R)−である。さらに、式3の化合物について、Z、Z、Z、及びZは独立して、−O−、または、−C(H)(R)−とすることができ、かつ、Z、Z、Z、及びZのうちの少なくとも2つは、−C(H)(R)−である。
式2の化合物について、好ましくは、X、X、及びXを、独立して、−C(H)(R)−とすることができ、式中、Rは、水素である。式3の化合物について、Z、Z、Z、及びZを、独立して、−C(H)(R)−とすることができ、式中、Rは、水素である。
式1の化合物を使用する方法について、R、R、及びRを、独立して、アルキルとすることができる。好ましくは、式1の化合物について、R、R、及びRを、独立して、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、または、オクチルとすることができる。さらに好ましくは、式1の化合物について、R、R、及びRを、独立して、メチル、エチル、プロピル、または、ブチルとすることができる。最も好ましくは、R、R、及びRを、メチルとすることができる。
本明細書に記載の方法は、エチレン、プロピレン、アセチレン、スチレン、ブタジエン、またはそれらの組合せを含有する炭化水素流に対して使用することができる。
さらに、当該方法は、炭化水素流を、式1のヒドロキノン化合物と一緒に、ニトロキシド化合物と接触させる、ことを含むことができる。
式1のヒドロキノン化合物と一緒に用いられる当該ニトロキシド化合物を、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−エトキシ−2、2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−プロポキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−ブトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、またはそれらの組合せとすることができる。好ましくは、当該ニトロキシド化合物を、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−ブトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、またはそれらの組合せとすることができる。さらに好ましくは、当該ニトロキシド化合物を、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシドとすることができる。
また、重合阻害方法は、一次分画プロセス、軽留分分画、非芳香族ハロゲン化ビニル分画、プロセスガス圧縮、希釈蒸気システム、アルカリ塔、クエンチ水塔、ブタジエン抽出、プロパン脱水素化、ディーゼル及び石油燃料安定化、オレフィンメタセシス、スチレン精製、ヒドロキシ炭化水素精製において、望ましくない重合、及び、プロセス装置のファウリングを防止することができ、あるいは、エチレン性不飽和種を含む樹脂及び組成物の重合を遅延させることもできる。好ましくは、当該重合阻害方法は、当該ブタジエン抽出またはスチレン精製プロセスにおける不飽和及び反応性化合物の重合に起因するファウリングを防止することができる。
本発明の別の態様は、式1の化合物と溶媒とを含む組成物である。適切な有機溶媒として、ペンタン、ヘプタン、ヘキサン、ベンゼン、エチルベンゼン、トルエン、または、これらの組合せなどがあるが、これらに限定されない。
当該組成物は、1つ以上の付加的重合阻害剤を含むことができる。本発明の組成物における付加的重合阻害剤として好適な化合物として、フェノール類、アルキル化フェノール類、ニトロフェノール類、ニトロソフェノール類、キノン類、ヒドロキノン類、キノンエーテル類、キノンメチド類、アミン類、ヒドロキシルアミン類、及び、フェノチアジン類などがある。
さらに、式1の化合物と溶媒とを含む組成物は、ニトロキシド化合物をさらに含むことができる。このニトロキシド化合物を、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−メトキシ−2、2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−エトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−プロポキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−ブトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、またはそれらの組合せとすることができる。好ましくは、当該ニトロキシド化合物を、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−ブトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、またはそれらの組合せとすることができる。さらに好ましくは、当該ニトロキシド化合物は、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシドを含む。
本明細書に記載の重合阻害組成物は、あらゆる従来の方法によって、保護されるモノマーへ導入することができる。このものは、適切な溶媒での濃縮溶液として、適切な手段によって、所望の適用箇所の上流側近傍に加えることができる。加えて、これらの化合物は、供給装置を用いて、あるいは、当該阻害組成物の効率的な分布をもたらす別個の導入点を介して、蒸留系列へと別々に注入することもできる。阻害剤は運転中に徐々に枯渇するので、一般的には、蒸留プロセスの間に阻害剤を添加することによって、蒸留装置内に適切な量の阻害剤を維持することが必要である。この添加は、一般的には、連続的に行うか、あるいは、阻害剤の濃度を必要最小限以上に維持する必要があるときは、阻害剤を間欠的に蒸留システムに投入することによって行うことができる。
式1、2、及び3の化合物の有効量は、約0.1ミリモル〜5ミリモル、約0.1ミリモル〜4ミリモル、約0.1ミリモル〜3ミリモル、約0.1ミリモル〜2ミリモル、約0.2ミリモル〜5ミリモル、約0.2ミリモル〜4ミリモル、約0.2ミリモル〜3ミリモル、好ましくは、約0.2ミリモル〜約2ミリモルである。
特に断りのない限り、本明細書に記載のアルキル基は、単独でまたは別の基の一部として、主鎖中に1〜60個の炭素原子、及び、好ましくは、1〜30個の炭素原子、または、主鎖中に8〜30個の炭素原子を含有する任意に置換された線状飽和一価炭化水素置換基、または、主鎖中に3〜60個の炭素原子、及び、好ましくは、8〜30個の炭素原子を含有する任意に置換された分枝飽和一価炭化水素置換基である。非置換アルキル基の例として、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、i−ペンチル、s−ペンチル、t−ペンチルなどがある。
「シクロアルキル」とは、縮合、架橋、及び、スピロ環系を含む、単環式または多環式環を有する3〜10個の炭素原子の環状アルキル基のことを指す。適切なシクロアルキル基の例として、例えば、アダマンチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロオクチル、ビシクロ[2.2.2]オクタニルなどがある。代表的なシクロアルキル基として、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル、ビシクロ[2.2.2]オクタニルなどがある。
本明細書で使用する用語「ヘテロアリール」とは、環内にO、S、及びNから選択される1つ以上のヘテロ原子(例えば、1〜3個のヘテロ原子)を含有する単環式、二環式、または、三環式芳香族複素環式基のことを指す。ヘテロアリール基として、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、チエニル、フリル、イミダゾリル、ピロリル、オキサゾリル(例えば、1,3−オキサゾリル、1,2−オキサゾリル)、チアゾリル(例えば、1,2−チアゾリル、1,3−チアゾリル)、ピラゾリル、テトラゾリル、トリアゾリル(例えば、1,2,3−トリアゾリル、1,2,4−トリアゾリル)、オキサジアゾリル(例えば、1,2,3−オキサジアゾリル)、チアジアゾリル(例えば、1,3,4−チアジアゾリル)、キノリル、イソキノリル、ベンゾチエニル、ベンゾフリル、及び、インドリルなどがあるが、これらに限定されない。ヘテロアリール基は、置換されていなくてもよく、または、1つ以上の適切な置換基、好ましくは、上に定義された1〜5個の適切な置換基で置換することができる。
本明細書で使用される用語「ヘテロシクロ」、「複素環」、または、「ヘテロシクリル」とは、N、O、S(O)、P(O)、PR、NH、または、NRから選択される1〜4個のヘテロ原子を含有し、式中、Rが適切な置換基である単環式、二環式、または、三環式基のことを指す。複素環式基は、任意に、1個または2個の二重結合を含有する。複素環式基として、アゼチジニル、テトラヒドロフラニル、イミダゾリジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、オキサゾリジニル、チアゾリジニル、ピラゾリジニル、チオモルホリニル、テトラヒドロチアジニル、テトラヒドロ−チアジアジニル、モルホリニル、オキセタニル、テトラヒドロジアジニル、オキサジニル、オキサチアジニル、インドリニル、イソインドリニル、キヌクリジニル、クロマニル、イソクロマニル、及び、ベンゾオキサジニルなどがあるが、これらに限定されない。単環式飽和または部分飽和環系の例として、テトラヒドロフラン−2−イル、テトラヒドロフラン−3−イル、イミダゾリジン−1−イル、イミダゾリジン−2−イル、イミダゾリジン−4−イル、ピロリジン−1−イル、ピロリジン−2−イル、ピロリジン−3−イル、ピペリジン−1−イル、ピペリジン−2−イル、ピペリジン−3−イル、ピペラジン−1−イル、ピペラジン−2−イル、ピペラジン−3−イル、1,3−オキサゾリジン−3−イル、イソチアゾリジン、1,3−チアゾリジン−3−イル、1,2−ピラゾリジン−2−イル、1,3−ピラゾリジン−1−イル、チオモルホリン−イル、1,2−テトラヒドロチアジン−2−イル、1,3−テトラヒドロチアジン−3−イル、テトラヒドロチアジアジン−イル、モルホリン−イル、1,2−テトラヒドロジアジン−2−イル、1,3−テトラヒドロジアジン−1−イル、1,4−オキサジン−2−イル、及び、1,2,5−オキサチアジン−4−イルがある。複素環式基は、置換されていなくてもよく、または、1つ以上の適切な置換基、好ましくは、上に定義された1〜3個の適切な置換基で置換することができる。
本明細書において、単独で、または、別の基(例えば、アラルキルまたはアルカリール)の一部として使用される用語「アリール」または「アル」とは、任意に置換された同素環式芳香族基、好ましくは、フェニル、ビフェニル、ナフチル、置換フェニル、置換ビフェニル、または、置換ナフチルなどの環部分に6〜12個の炭素を含有する単環式または二環式基のことを指す。フェニル及び置換フェニルが、さらに好ましいアリールである。用語「アリール」は、ヘテロアリールも含む。
「置換アリール」、「置換アルキル」などでの用語「置換された」とは、問題の基(すなわち、当該用語に続くアルキル、アリール、または、他の基)において、炭素原子に結合した少なくとも1つの水素原子が、ヒドロキシ(−OH)、アルキルチオ、ホスフィノ、アミド(−CON(R)(R)、式中、R及びRは独立して、水素、アルキル、または、アリールである)、アミノ(−N(R)(R)、式中、R及びRは独立して、水素、アルキル、または、アリールである)、ハロ(フルオロ、クロロ、ブロモ、または、ヨード)、シリル、ニトロ(−NO)、エーテル(−OR、式中、Rは、アルキル、または、アリールである)、エステル(−OC(O)R、式中、Rは、アルキル、または、アリールである)、ケト(−C(O)R、式中、Rは、アルキル、または、アリールである)、ヘテロシクロなどの1つ以上の置換基で置き換えられる、ことを意味する。用語「置換された」について、可能性のある置換基のリストを取り入れる場合、当該用語は、各々の基について適用されることが意図されている。すなわち、「任意に置換されたアルキルまたはアリール」という語句は、「任意に置換されたアルキルまたは任意に置換されたアリール」と解釈されることとなる。
「アルカリール(alkaryl)」とは、アルキレン基を介して親分子に結合したアリール基のことを意味する。アリール基及びアルキレン基での炭素原子の数は、アルカリール基に合計で約6〜約18個の炭素原子が存在するように選択される。好ましいアルカリール基は、ベンジルである。
「ビニルモノマー」とは、少なくとも1つの炭素−炭素二重結合を含むモノマーのことを指す。当該モノマーは、酸(例えば、アクリル酸)、エステル(例えば、アクリル酸エステル)、ハロゲン(例えば、塩化ビニル)、アリール(例えば、スチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン)、シアノ(例えば、アクリロニトリル)、及び、アセトキシ(例えば、酢酸ビニル)などの様々な基で置換をすることができる。当該モノマーは、共役することができる(例えば、ブタジエン、シクロペンタジエン、ビニルアセチレン、インデンなど)。
重合「阻害剤」とは、ラジカル重合プロセスにおいて、ラジカルを捕捉することができる物質の組成物のことを指す。阻害剤は、所望の転化が達成されたときに、モノマーを安定化させ、かつ、重合を防止し、または、重合を停止させるために使用することができる。これらは、重合プロセスの動力学を調節または制御するために使用することもできる。
炭化水素流の「精製」とは、構成成分を、分離、及び/または、精製することを意味する。
本発明を詳細に説明してきたが、添付の特許請求の範囲に記載の本発明の範囲から逸脱することなく、修正及び変更が可能であることは明らかであろう。
上記した説明は、以下の実施例を参照することによって、さらに理解が深まるものと思われるが、それら実施例は、例示目的で提示されたものであり、かつ、本発明の範囲を限縮する意図を示すものでもない。
<実施例1:TMHQのパフォーマンス>
阻害剤を含まないスチレンに0.31mMの抗重合剤溶液を調製して、静的方法を用いてTMHQの抗重合性能を測定した。市販のスチレンに含まれる安定剤、4−tert−ブチルカテコール(TBC)を、アルミナカラムを用いて除去した。0.31mMのTMHQを含む溶液を、新たに脱阻害されたスチレン350gの溶液に、0.0179gを溶解することによって調製した。PTFEスクリューキャップとフルオロエラストマー(FETFE)O−リングとを備えた24個のエースガラス#15ねじ式圧力チューブの各々に、9mlの溶液を充填した。窒素を2分間拡散することによって、溶解した酸素を、溶液から除去した。一旦拡散をしたら、各チューブを直ちに密閉し、そして、当該溶液を窒素ヘッドスペース下に保った。これらの試験管を、120℃に予熱されていた加熱ブロックに入れた。30分後、及び、その後15分毎に、当該ブロックから4本の管を回収し、氷浴内で冷却することによって、重合反応を停止させた。当該冷却したポリマー溶液を、直ちに、トルエンで希釈した。
形成されたポリマーの量を測定するために、メタノールを使用して、ASTM D2121法に従って、当該ポリマーを沈殿させた。ポリマー−メタノール溶液の吸光度を、420nmで測定した。較正曲線を用いて、各管でのポリマー濃度を測定し、及び、各時間での4つのデータ点を平均した。
希釈した分析物溶液でのポリマーについて測定をするために、独自の方法も使用した。
<実施例2:TMHQ+4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラ−メチルピペリジンオキシ(HTEMPO)>
TMHQ(0.0090g)及びHTEMPO(0.0100g)を脱阻害スチレンに溶解して、0.16mMのTMHQ及び0.16mMのHTEMPO溶液を得た。実施例1の手順を用いて、TMHQとHTEMPOとの組合せでの抗重合活性を測定した。
<実施例3:4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラ−メチルピペリジンオキシ(HTEMPO)>
HTEMPO(0.0199g)を脱阻害スチレンに溶解して、0.33mMの溶液を得た。実施例1の手順を用いて、HTEMPOの抗重合活性を測定した。
<実施例4:未処理スチレン>
スチレンからTBCを除去した直後に、スチレンの9gのアリコートを、上記した圧力チューブの各々に充填した。溶存酸素を除去した後に、実施例1の手順に従って、重合反応及び、ポリマー分析を行った。
本発明またはその好適な実施形態の要素を導入するとき、冠詞「a」、「an」、「the」、及び、「said」は、1つ以上の要素が存在することを意味する、ことを意図している。用語「comprising」、「including」、及び、「having」は、包括的な意図を趣旨としており、かつ、そこに示された要素以外の追加の要素が存在し得ることを意味している。
上記した事項に鑑みれば、本発明の幾つかの目的が達成され、かつ、他の有利な結果を伴うことも明らかになるであろう。
本発明の範囲から逸脱することなく、上記した化合物及び方法において様々な変更を行うことができるので、上記した説明に含まれる全ての事項は、例示的なものであって、限定的な意味で解釈すべきでない、ことが意図されている。

Claims (12)

  1. 不飽和炭素−炭素結合を有する炭化水素を含有する炭化水素生成物の精製、輸送、または、貯蔵の間の重合を阻害する方法であって、前記炭化水素生成物を、有効量の式2または3のヒドロキノン化合物と接触させることを含み、
    式中、
    、X、及びXは独立して、−O−、−S−、−N(R)−、または−C(H)(R)−であり、X、X、及びXの少なくとも1つは−C(H)(R)−であり、
    、Z、Z、及びZは独立して、−O−、−S−、−N(R)−、または−C(H)(R)−であり、Z、Z、Z、及びZの少なくとも2つは−C(H)(R)−であり、
    は、水素、アルキル、アリール、またはヘテロシクロであり、
    は独立して、水素、アルキル、アリール、または、ヘテロシクロであり、
    前記ヒドロキノン化合物は、不飽和炭素−炭素結合を有する炭化水素の重合を阻害し、前記不飽和炭素−炭素結合を有する炭化水素は、エチレン、プロピレン、アセチレン、スチレン、ブタジエン、またはこれらの組み合わせを含む、方法。
  2. 前記ヒドロキノン化合物は、前記式(2)の構造を有する、請求項1に記載の方法。
  3. 前記ヒドロキノン化合物は、前記式(3)の構造を有する、請求項1に記載の方法。
  4. が、アルキルである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
  5. 前記不飽和炭素−炭素結合を有する炭化水素が、エチレン、プロピレン、アセチレン、ブタジエン、またはそれらの組合せを含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
  6. 精製、もしくは貯蔵プロセスの間の前記不飽和炭素−炭素結合を有する炭化水素の重合を阻害する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
  7. 一次分画プロセス、プロセスガス圧縮、ブタジエン抽出、プロパン脱水素、ディーゼル及び石油燃料安定化、オレフィンメタセシス、スチレン精製、ヒドロキシ炭化水素精製において、前記不飽和炭素−炭素二重結合を有する炭化水素の重合を阻害するか、もしくは、エチレン性不飽和種を含む樹脂及び組成物の重合を遅延させる、請求項6に記載の方法。
  8. 前記プロセスが、ブタジエン抽出、または、スチレン精製である、請求項7に記載の方法。
  9. 前記炭化水素生成物を、式2または3のヒドロキノン化合物と組合せたニトロキシド化合物と接触させることをさらに含む、請求項8に記載の方法。
  10. 前記ニトロキシド化合物が、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−エトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−プロポキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−ブトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、もしくはそれらの組合せである、請求項9に記載の方法。
  11. 前記ニトロキシド化合物が、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、4−ブトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシド、もしくはそれらの組合せである、請求項9に記載の方法。
  12. 前記ニトロキシド化合物が、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシドを含む、請求項9に記載の方法。
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