JP6799008B2 - ゲージ率の高い歪みゲージ - Google Patents

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関連出願
本出願は、2015年5月14日に出願された米国非仮特許出願第14/712,602号の優先権を主張する出願であり、本非仮特許出願の内容についてはここに援用するものとする。
本発明は全体としては歪みゲージに関し、具体的には抵抗−歪み感度(resistance−strain sensitivity)と呼ばれることもあるゲージ率の高い金属抵抗歪みゲージに関する。
金属歪みゲージは、この歪みゲージを取り付けた表面の歪みを検出するために使用するものである。歪み量については、歪みゲージ内の電気回路の電気抵抗の変化に基づいて求める。一般的には、蛇行パターン(serpentine pattern)を取る金属の薄い箔や金属の薄い導体によって回路を構成する。測定対象の表面が歪むと、歪みゲージが変形し、回路の電気抵抗に変化が生じる。歪みゲージの場合、歪率、抵抗−歪み感度あるいはゲージ率(GF)をもつといわれている。
このGFは、機械的歪みに対する電気抵抗の分数変化率である。このGFは以下のように記述できる。
GF=(ΔR/R)/ε
式中、ΔRは歪みゲージによって検出された歪みによって生じる抵抗変化であり、Rは歪みのない歪みゲージの抵抗であり、そしてεは歪みである。GFに関する詳細については、ASTM E251に記載がある。
多くの金属抵抗歪みゲージの場合、GFは4を超えることがなく、多くの場合3以下である。用途にもよるが、GFが5以上の金属抵抗歪みゲージが望ましい。GFが高い歪みゲージの作用効果の一部を挙げると、高いSN比および低レベルの歪みを測定できる能力である。
公知の金属抵抗歪みゲージとしては、銅/ニッケル/マンガン(Cu−44Ni−2Mn)構成のゲージがあり、GFはおよそ2である。また、鉄/ニッケル/クロム(Fe−36Ni−7Cr)構成のゲージがあり、GFはおよそ3であり、また白金/タングステン(Pt−8W)構成のゲージがあり、GFはおよそ4である。GFが約4以上の金属抵抗歪みゲージはまだ利用できていないが、GFが4以上の非金属抵抗歪みゲージについては利用可能である。しかし、これらの歪みゲージには、高い抵抗−温度感度(熱出力)やゲージ毎に代わる非均質的な特性などの欠陥がある。さらに、これら非金属抵抗歪みゲージは脆く、棄損をさけるために注意深く扱う必要がある。
このように、GFが5以上の金属抵抗歪みゲージの需要は高い。
本発明は、GFが少なくとも5以上のゲージ率が高い歪みゲージを提供するものである。このゲージの歪みを感受する金属要素の組成は、重量基準で、およそ63%〜84%のNiおよびおよそ16%〜37%のFeを有する。好ましい組成は75%のNiおよび25%のFe(化学量論的組成)であり、Ni−Fe合金のより好ましい組成は、図2に示すNiFe相状態図のL1領域に存在する二元NiFe組成に対応する。
一部の実施態様の場合、合金化成分は、重量基準で、歪みに感度を示す金属要素の化学組成の約10%未満の量で存在する。合金化成分については、マンガン、タングステン、モリブデン、クロムおよびこれらの組み合わせからなる群から選択するのが好ましい。
添付図面に本発明の実施態様を示す。
本発明に使用するのが好ましい構成の金属抵抗歪みゲージを示す図である。 本発明に使用するのが好ましいニッケル/鉄合金を示す状態図である。 本発明に使用するのが好ましい面心立方格子構造を示す図である。
図1は、本発明に使用するのが好ましい構成の歪みゲージ100を示す図である。この歪みゲージ100は、適宜使用する支持材104に蛇行形成した歪みに感度を示す金属要素102を有し、そして歪みゲージ100を電気リード線108a、108bの第1端部に電気的に接続する接続パッド106a、106bを有する。電気リード線110a、110bの第2端部は公知の測定計器に接続する。なお、この測定計器は入力信号を歪みゲージに印加し、歪みゲージ100に誘導された歪みに対応する歪みゲージからの出力信号を受信する。
ゲージ100の金属要素102はワイヤとして、あるいは箔として構成することができ、所望形状にエッチングするか切断してもよく、あるいは金属を例えば薄膜成膜などによって支持材に成膜してもよい。いずれの場合も、金属要素102は、化学組成が重量基準でおよそ63%〜84%のNiおよびおよそ16%〜37%のFeを有する金属である。基準化学組成は重量基準で75%のNiおよび25%のFeである(化学量論的組成)。
好適な実施態様の場合、Ni−Fe合金は、図2に示すNiFe状態図200のL1領域に存在する二元NiFe組成に対応する。図2および図3を参照して説明すると、図2のL1領域204は、図3に示すように、ニッケル原子302が面位置を占め、そして鉄原子304が隅位置を占める面心立方結晶格子300を構成するNi−Fe合金である。この合金の強度、磁性、耐腐食性や電気抵抗などの一部の特性については、よく知られている。およそ70%のNiおよび30%のFeを有する市販の合金は、その電気抵抗変化が温度の関数として予測可能であるため、抵抗温度検出器(RTD)に利用されているが、これら合金の場合、電気抵抗歪みゲージの歪みに感度を示す要素として使用することは考慮の対象になっていなかった。
本発明者の研究および実験の結果として、Ni−Fe合金が、歪みゲージに使用するのに好ましく、また本発明者以外には知られていなかった、例えば抵抗−歪み感度(即ちGF)などの特性をもつことが見いだされた。また、本発明者は重量基準で75%のNiおよび25%のFeを有する基準組成物が、GFが公知の金属抵抗歪みゲージよりも高い歪みゲージを構成できることも見出した。さらに、本発明者は、図2に示すL1領域204内で二元Ni−Fe合金が、ゲージ率がより高い(即ちGFが5以上)抵抗歪みゲージを構成できることも見出した。
一例として、合金の例えば圧延などの冷間処理を行ってから、アニーリングを行うと、合金のGFが5以上になることを見出した。およそ63%〜84%のNiおよびおよそ16%〜37%のFeを含有する合金を箔ゲージ構成用として公知な方法を使用して圧延し、箔を形成してから、この箔を600〜900°Fの温度で1〜16時間アニーリングすると、公知金属抵抗歪みゲージのGFをはるかに凌駕する歪みゲージを構成できた。すべての実施態様で、GFは少なくとも5以上になり、一部の実施態様では、GFは10〜20まで高くなった。既に説明したように、本発明の歪みゲージの場合、歪みゲージを構成する公知方法に従って、合金をワイヤに延伸するか、あるいは合金の金属膜蒸着によって構成することができる。
本発明者の研究結果に基づいて、冷間処理およびアニーリングを行うと、合金内にNi原子およびFe原子を配列することが容易になるため、図3に示すように、Ni原子が面心立方結晶格子の面位置を占め、そしてFe原子が隅位置を占めるという理論を打ち立てることができた。
また、一種かそれ以上の合金化成分を有する三元あるいはこれ以上の合金を10重量%以上添加すると、別な作用効果が得られることも分かった。一例として、およそ63重量%〜84重量%のNiおよびおよそ16重量%〜37重量%のFeを組成とする合金にマンガン(Mn)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)あるいはこれらの組み合わせを10重量%以下の量で添加した状態で、合金を電気抵抗歪みゲージに加工処理すると少なくとも一つ以上の作用効果が得られた。1%〜5%のMn、0.5%〜2%のW、1%〜5%のMoおよび1%〜5%のCrを個々に添加すると、ゲージ率の高い材料への合金の加工処理が改善することも認められた。重ねて述べると、図3に示すように、少なくともいくつかの合金を添加するとNi原子およびFe原子を面心立方格子300に配列することが容易になるという理論が見出された。
本発明はゲージ率(GF)が5以上の高い電気抵抗歪みゲージを提供するだけでなく、この歪みゲージのSN比を改善するもので、電気抵抗歪みゲージでは以前難しかった低レベルの歪みを測定できるためさらに有利である。加えて、ゲージ率(GF)が高いと、実質的に低い印加歪みレベル(ε)でCu−44Ni−2Mnなどの従来歪みゲージと同レベルの高い歪みゲージ数抵抗変化率(ΔR/R)を実現できる。このため、ゲージ率の高い歪みゲージを取り付けるトランスデューサのバネ要素をさらに有する測定システムの強靭性および安定性などのいくつかの作用効果も実現できる。
100:歪みゲージ、ゲージ
102:金属要素
104:支持材
106a、106b:接続パッド
108a、108b、110a、110b:電気リード線
200:NiFe状態図
204:L1領域
300:面心立方結晶格子、面心立方格子
302:ニッケル原子
304:鉄原子

Claims (23)

  1. 歪みに感度を示す金属要素を有し、この金属要素は化学的組成が重量基準で63%〜84%のニッケルおよび16%〜37%の鉄であり、前記歪みに感度を示す金属要素の材料はニッケル原子が面位置を占め且つ鉄原子が隅位置を占める面心立方格子の結晶を構成し、そして、少なくともゲージ率5を有する電気抵抗型であることを特徴とする歪みゲージ。
  2. さらに、前記の歪みに感度を示す金属要素の前記化学的組成の重量基準で10%未満の量で金属合金化添加物を有する請求項1に記載の歪みゲージ。
  3. 前記合金化添加物がマンガンである請求項2に記載の歪みゲージ。
  4. 前記マンガンが重量基準で前記合金の1%〜5%を占める請求項3に記載の歪みゲージ。
  5. 前記合金化添加物がタングステンである請求項2に記載の歪みゲージ。
  6. 前記タングステンが重量基準で前記合金の0.5%〜2%を占める請求項5に記載の歪みゲージ。
  7. 前記合金化添加物がモリブデンである請求項2に記載の歪みゲージ。
  8. 前記モリブデンが重量基準で前記合金の1%〜5%を占める請求項7に記載の歪みゲージ。
  9. 前記合金化添加物がクロムである請求項2に記載の歪みゲージ。
  10. 前記クロムが重量基準で前記合金の1%〜5%を占める請求項9に記載の歪みゲージ。
  11. 前記の歪みに感度を示す金属要素がワイヤである請求項2に記載の歪みゲージ。
  12. 前記ワイヤを蛇行パターンで構成した請求項11に記載の歪みゲージ。
  13. 前記の歪みに感度を示す金属要素が箔である請求項2に記載の歪みゲージ。
  14. 前記箔を蛇行パターンで構成した請求項13に記載の歪みゲージ。
  15. 前記の歪みに感度を示す金属要素が薄膜である請求項2に記載の歪みゲージ。
  16. 前記薄膜を蛇行パターンで構成した請求項15に記載の歪みゲージ。
  17. 前記の歪みに感度を示す金属要素がワイヤである請求項1に記載の歪みゲージ。
  18. 前記ワイヤを蛇行パターンで構成した請求項17に記載の歪みゲージ。
  19. 前記の歪みに感度を示す金属要素が箔である請求項1に記載の歪みゲージ。
  20. 前記箔を蛇行パターンで構成した請求項19に記載の歪みゲージ。
  21. 前記の歪みに感度を示す金属要素が薄膜である請求項1に記載の歪みゲージ。
  22. 前記薄膜を蛇行パターンで構成した請求項21に記載の歪みゲージ。
  23. 歪みに感度を示す金属要素を有し、この金属要素は化学的組成が重量基準で63%〜84%のニッケルおよび16%〜37%の鉄であり且つゲージ率が少なくとも5以上であり、そしてさらに合金化添加物を有し、この合金化添加物は前記の歪みに感度を示す金属要素の前記化学的組成の重量基準で10%を超えない量で存在し且つマンガン、タングステン、モリブデン、クロムおよびこれらの組み合わせからなる群から選択されていることを特徴とする電気抵抗歪みゲージ。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019066454A (ja) 2017-09-29 2019-04-25 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ、センサモジュール
JP6793103B2 (ja) * 2017-09-29 2020-12-02 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
JP2019066313A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
JP2019184344A (ja) 2018-04-05 2019-10-24 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ及びその製造方法
EP3855148A4 (en) 2018-10-23 2022-10-26 Minebea Mitsumi Inc. ACCELERATOR PEDAL, STEERING GEAR, 6-AXIS SENSOR, ENGINE, BUMPER AND THE LIKE
CN109883316B (zh) * 2019-03-22 2021-01-29 中国科学院力学研究所 一种电阻式应变传感器及应变测量方法
CN110095054B (zh) * 2019-04-03 2020-06-30 中国科学院力学研究所 一种电阻式应变片
JP1661600S (ja) * 2019-07-17 2020-06-15 ひずみゲージ
JP1669298S (ja) * 2019-07-17 2020-10-05
LU102298B1 (en) * 2020-12-16 2022-06-20 Univ Luxembourg Abrasive waterjet cutting nozzle with a resistive strain gauge sensor

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2899658A (en) * 1959-08-11 Leaf-type electrical resistance strain gage
US3134953A (en) * 1952-08-28 1964-05-26 Technograph Printed Circuits L Electric resistance devices
NL282500A (ja) 1962-08-24
US3922628A (en) * 1970-08-03 1975-11-25 Gen Electric Strain gage
US4325048A (en) * 1980-02-29 1982-04-13 Gould Inc. Deformable flexure element for strain gage transducer and method of manufacture
US4696188A (en) * 1981-10-09 1987-09-29 Honeywell Inc. Semiconductor device microstructure
JPS6017058A (ja) * 1983-07-06 1985-01-28 Toshiba Corp 高照射領域内機器用合金
JPH066774B2 (ja) 1989-07-24 1994-01-26 財団法人電気磁気材料研究所 ストレインゲージ用合金およびその製造方法
US5184516A (en) * 1991-07-31 1993-02-09 Hughes Aircraft Company Conformal circuit for structural health monitoring and assessment
FR2693795B1 (fr) * 1992-07-15 1994-08-19 Commissariat Energie Atomique Jauge de contrainte sur support souple et capteur muni de ladite jauge.
US5915285A (en) * 1993-01-21 1999-06-22 Optical Coating Laboratory, Inc. Transparent strain sensitive devices and method
JP2000235911A (ja) * 1998-12-14 2000-08-29 Fujitsu Ltd 磁性材料およびそれを用いた磁気ヘッド並びに磁気記録装置
CN100477025C (zh) * 2004-05-28 2009-04-08 金重勋 三元及多元铁基块状非晶合金及纳米晶合金
JP2007271285A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Millenium Gate Technology Co Ltd ひずみゲージの製造方法
CN102243058B (zh) * 2011-04-15 2013-03-27 中国船舶重工集团公司第七○二研究所 应变传感器灵敏度系数的标定装置和方法
GB2491806B (en) * 2011-05-25 2013-07-10 Microvisk Ltd Apparatus and method for measuring properties of a fluid
US9771642B2 (en) * 2012-07-04 2017-09-26 Apple Inc. BMG parts having greater than critical casting thickness and method for making the same

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