JP6785011B2 - 攪拌・脱泡装置 - Google Patents

Description

本発明は、容器を公転させる手段及び自転させる手段を備え、容器に収容した被処理物を攪拌・脱泡することができる公転自転式の攪拌・脱泡装置に関する。

被処理物を収容した容器を公転及び自転させることによって、被処理物を攪拌・脱泡する攪拌・脱泡装置が知られている。このような攪拌・脱泡装置は、たとえば異なる液体材料が混合された液や粉体材料と液体材料の混合材料等の被処理物を、公転させ遠心力を加えながら自転させることにより攪拌及び脱泡するものであり、均一に攪拌するとともに含有する気泡の低減を両立することが求められる。なお、本願明細書で、攪拌・脱泡という用語は、被処理物の攪拌、被処理物に含まれる泡を消失させるための脱泡、あるいは、上記攪拌及び脱泡の両方、を意味する用語として記載している。

攪拌・脱泡処理は、大気圧下で行う場合と、容器内の空気を吸引して真空下で行う場合とがある。後者は、真空手段を設けることで、装置が高価になる一方で、大気圧下では除去しきれない細かな泡も体積が膨張して除去が容易となるため、完全脱泡を実現することができ、かつ、脱泡にかかる処理時間を短縮化することができて生産性を向上することができるという極めて優れた利点がある。

真空手段を備える攪拌・脱泡装置としては、たとえば特許文献１に記載のように、装置全体を真空チャンバ内に収容し、真空チャンバ内の空気を吸引することにより、容器内の空気を吸引して容器内を真空状態にするものが知られている。しかし、この種の真空手段を備える攪拌・脱泡装置は、真空チャンバ内の空気量が多く、吸引に時間がかかるため、容器内が真空状態となるまでに時間がかかるという欠点がある。これは、材料の大容量化に対応して攪拌・脱泡装置が大型になるほど顕著となる。

そこで、容器内の空気を直接吸引して容器内を真空状態にする真空手段を備える攪拌・脱泡装置も知られている。特許文献２ないし５に記載の攪拌・脱泡装置は、容器を密閉する密閉手段と、真空ポンプと、容器の開口部を始端として公転中心に向かい、公転中心を通って系外に抜け、系外に設置された真空ポンプに至る吸引経路とを備え、容器内の空気を直接吸引して容器内を真空状態にするものである。

特開平１１−１０４４０４号公報 特開平１１−２９０６６８号公報 特開２００９−２０８０２６号公報 特開２０００−６１２０７号公報 特開２００１−２４６２３６号公報

しかし、真空下での攪拌・脱泡を適切に行うためには、単に真空ポンプを駆動して吸引経路を介して容器内の空気を吸引すればよいというものではなく、真空状態の適切な管理及びコントロールが重要である。そのためには、様々な技術的アプローチで攪拌・脱泡装置の装置構成を検討する必要がある。

本発明は、容器内の空気を直接吸引する真空手段を備える攪拌・脱泡装置であって、真空状態の適切な管理及び／又はコントロールを可能とする攪拌・脱泡装置を提供することを課題とする。

一つの本発明に係る攪拌・脱泡装置は、
公転軸を中心に回転可能な公転体と、
公転体上の少なくとも２つ以上の各自転軸を中心に回転可能で、それぞれ容器を保持可能な少なくとも２つ以上の自転体と、
各容器内の空気を吸引して各容器内を真空状態にする真空手段とを備え、
真空手段は、
各容器を密閉する密閉手段と、
真空発生源と、
各容器を始端として公転中心に向かい、公転中心を通って系外に抜け、系外に設置された真空発生源に至る吸引経路であって、始端から少なくとも一部が各容器に対応して独立した経路となっている吸引経路と、
各独立した経路に設けられる少なくとも２つ以上の真空計測手段とを備える
攪拌・脱泡装置である。

かかる構成によれば、吸引経路に共通して１つの真空計測手段が設けられるのではなく、各容器に対して真空計測手段が設けられるため、各容器内の真空状態を正確に把握することができ、これにより、真空状態の適切な管理及び／又はコントロールが可能となる。なお、かかる構成の具体例として、後述する実施形態１−１ないし１−７、実施形態２−１ないし２−５が挙げられる。

ここで、本発明に係る攪拌・脱泡装置の一態様として、
真空計測手段は、密閉手段により容器の密閉された空間に対して設けられる
との構成を採用することができる。
かかる構成によれば、容器に最も近い位置に真空計測手段が設けられるため、各容器内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができ、これにより、真空状態のさらに適切な管理及び／又はコントロールが可能となる。なお、かかる構成の具体例として、後述する実施形態１−１，１−２，１−５ないし１−７、実施形態２−１，２−２，２−４及び２−５が挙げられる。
この場合、
自転体は、
自転体本体部と、
自転体本体部の先端部に設けられる周壁部であって、内部が容器を収容する収容凹部となる周壁部とを備え、
密閉手段は、周壁部の端部に着脱自在に取り付けられ、収容凹部を密閉する密閉蓋であり、
真空計測手段は、密閉蓋に設けられる
との構成を採用することができる。

また、本発明に係る攪拌・脱泡装置の他態様として、
真空手段は、各独立した経路に設けられる個別に制御可能な少なくとも２つ以上の開閉弁をさらに備える
との構成を採用することができる。
かかる構成によれば、各容器の吸引経路を個別に開閉制御できるため、各容器の正確な真空状態の把握に基づき、各容器内の真空状態を適切に制御することができ、これにより、真空状態のさらに適切な管理及び／又はコントロールが可能となる。また、かかる構成によれば、たとえば、一部の容器については、真空状態とせず、大気圧下での処理や、一部の容器のみを用いた処理や、各容器に種類の異なる材料（異種材料）の処理が可能となる。なお、かかる構成の具体例として、後述する実施形態１−１ないし１−７、実施形態２−５が挙げられる。

また、本発明に係る攪拌・脱泡装置の別の態様として、
真空計測手段は、電源を内蔵し、かつ、無線通信機能を有する
との構成を採用することができる。

また、本発明に係る攪拌・脱泡装置のさらに別の態様として、
公転軸を規定する公転軸体をさらに備え、
吸引経路は、
容器を始端として自転体内を通る経路と、
自転体を出て公転中心に向かう経路と、
公転軸体内を通る経路と、
公転軸体を出て系外に抜ける経路とを備え、
容器を始端として自転体内を通る経路と、自転体を出て公転中心に向かう経路とは、回転継手を介して接続され、
自転体を出て公転中心に向かう経路、又は、公転軸体を出て系外に抜ける経路のいずれかの経路と、公転軸体内を通る経路とは、回転継手を介して接続される
との構成を採用することができる。
この場合、
少なくとも、容器を始端として自転体内を通る経路、自転体を出て公転中心に向かう経路、及び、公転軸体内を通る経路は、各容器に対応して独立した経路となっている
との構成を採用することができる。
あるいは、
各独立した経路は、自転体を出て公転中心に向かう経路と、公転軸体内を通る経路との間の回転継手内で合流する
との構成を採用することができる。

また、別の本発明に係る攪拌・脱泡装置は、
公転軸を中心に回転可能な公転体と、
公転体上の少なくとも２つ以上の各自転軸を中心に回転可能で、それぞれ容器を保持可能な少なくとも２つ以上の自転体と、
各容器内の空気を吸引して各容器内を真空状態にする真空手段とを備え、
真空手段は、
各容器を密閉する密閉手段と、
真空発生源と、
各容器を始端として公転中心に向かい、公転中心を通って系外に抜け、系外に設置された真空発生源に至る吸引経路であって、始端から少なくとも一部が各容器に対応して独立した経路となっている吸引経路と、
各独立した経路に設けられる個別に制御可能な少なくとも２つ以上の開閉弁とを備える
攪拌・脱泡装置である。

かかる構成によれば、各容器の吸引経路を個別に開閉制御できるため、各容器内の真空状態を適切に制御することができ、これにより、真空状態の適切な管理及び／又はコントロールが可能となる。また、かかる構成によれば、たとえば、一部の容器については、真空状態とせず、大気圧下での処理や、一部の容器のみを用いた処理や、各容器に種類の異なる材料（異種材料）の処理が可能となる。なお、かかる構成の具体例として、後述する実施形態１−１ないし１−８、実施形態２−５が挙げられる。

また、さらに別の本発明に係る攪拌・脱泡装置は、
公転軸を中心に回転可能な公転体と、
公転体上の自転軸を中心に回転可能で、容器を保持可能な自転体と、
容器内の空気を吸引して容器内を真空状態にする真空手段とを備え、
真空手段は、
容器を密閉する密閉手段と、
真空発生源と、
容器を始端として公転中心に向かい、公転中心を通って系外に抜け、系外に設置された真空発生源に至る吸引経路と、
密閉手段により容器の密閉された空間に対して設けられる真空計測手段とを備える
攪拌・脱泡装置である。

かかる構成によれば、容器に最も近い位置に真空計測手段が設けられるため、容器内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができ、これにより、真空状態の適切な管理及び／又はコントロールが可能となる。なお、かかる構成の具体例として、後述する実施形態１−１，１−２，１−５ないし１−７、実施形態２−１，２−２，２−４及び２−５、実施形態３−１及び３−２が挙げられる。

以上の如く、本発明に係る攪拌・脱泡装置によれば、真空状態の適切な管理及び／又はコントロールを可能とすることができる。

図１（ａ）は、実施形態１に係る攪拌・脱泡装置の断面図であり、図１（ｂ）は、同攪拌・脱泡装置の部分上面図である。 図２は、実施形態１−１に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図３は、実施形態１−２に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図４は、実施形態１−３に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図５は、実施形態１−４に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図６は、実施形態１−５に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図７は、実施形態１−６に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図８は、実施形態１−７に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図９は、実施形態１−８に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図１０（ａ）は、実施形態２に係る攪拌・脱泡装置の断面図であり、図１０（ｂ）は、同攪拌・脱泡装置の部分上面図である。 図１１は、実施形態２−１に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図１２は、実施形態２−２に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図１３は、実施形態２−３に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図１４は、実施形態２−４に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図１５は、実施形態２−５に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図１６は、実施形態２−６に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図１７は、実施形態２−７に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図１８は、実施形態３に係る攪拌・脱泡装置の断面図である。 図１９は、実施形態３−１に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図２０は、実施形態３−２に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図２１は、実施形態３−３に係る攪拌・脱泡装置の要部断面図である。 図２２は、実施形態１−１，１−２，１−５ないし１−７、実施形態２−１，２−２，２−４及び２−５、実施形態３−１及び３−２に係る攪拌・脱泡装置であって、自転体に取り付けられる密閉蓋における真空計測手段の好ましい配置領域に関する説明図である。 図２３は、実施形態１−１ないし１−７、実施形態２−５に係る攪拌・脱泡装置により可能となる真空制御の一例の説明図である。 図２４は、他実施形態に係る真空計測手段の配置に関する説明図である。

＜実施形態１＞
以下、本発明に係る攪拌・脱泡装置の実施形態１について、図１及び図２を参酌して説明する。なお、実施形態１に係る攪拌・脱泡装置は、後述するとおり、容器４０が複数（本実施形態においては、２つ）設けられ、各容器４０に対して吸引経路７３が独立して２系統設けられた構成の攪拌・脱泡装置である。

まず、攪拌・脱泡装置の全体構成について概略を説明する。図１に示す如く、攪拌・脱泡装置は、公転軸Ｌ１を中心に回転可能な公転体２０と、公転体２０上の自転軸Ｌ２を中心に回転可能な自転体３０と、自転体３０に保持される容器４０と、公転体２０を回転駆動する公転駆動部５０と、自転体３０を回転させる自転付与部６０と、容器４０内の空気を直接吸引して容器４０内を真空状態にする真空手段７０とを備える。なお、真空とは、ＪＩＳ Ｚ ８１２６−１：１９９９（ＩＳＯ ３５２９−１：１９８１）に定義があるとおり、通常の大気圧より低い圧力の気体で満たされた空間の状態をいう。

公転体２０は、基台１０に取り付けられた固定軸からなる公転軸体１１に軸受を介して回転自在に支持される。自転体３０は、公転軸Ｌ１を挟んで対向する二箇所の位置に一対設けられ、それぞれ、公転体２０の端部に形成された装着孔２１に軸受を介して回転自在に支持される。自転体３０は、容器４０を収容する収容凹部３３を備え、収容凹部３３内に容器４０を収容して、容器４０を直接に又はアダプタ（図示しない）等の介装体を介して間接に保持する。この点、自転体３０は、容器ホルダともいう。

容器４０は、上端が開口部４１となり、下端が閉塞された底部となる有底の容器であり、開口部４１を介して容器４０内に材料（被処理物）を投入し、処理後は、開口部４１を介して処理物を取り出す。容器４０の材質は、材料の種類や処理内容等に応じて、ポリエチレン等の合成樹脂、ステンレス、アルミニウム合金等の金属、セラミック、紙などから選択される。

公転駆動部５０は、駆動モータ５１と、駆動モータ５１の駆動軸に取り付けられた駆動歯車５２と、公転体２０と同心にして公転体２０に取り付けられ、駆動歯車５２と噛合する公転歯車５３とを備える。これにより、駆動モータ５１が回転すると、この回転が駆動歯車５２及び公転歯車５３を介して公転体２０に伝達され、公転体２０は、公転軸Ｌ１を中心に回転する。そして、公転体２０が回転することにより、自転体３０及び自転体３０に保持される容器４０は、公転軸Ｌ１を中心に公転する。

自転付与部６０は、パウダーブレーキ等の制動装置６１と、制動装置６１の制動軸に取り付けられた制動歯車６２と、公転体２０に軸受を介して相対的に回転自在に支持される太陽歯車６４と、太陽歯車６４と同心にして太陽歯車６４に取り付けられ、制動歯車６２と噛合する歯車６３と、公転体２０に軸受を介して回転自在に支持され、太陽歯車６４と噛合する中間歯車６５と、自転体３０と同心にして自転体３０に取り付けられ、中間歯車６５と噛合する自転歯車６６とを備える。これにより、制動装置６１の制動力が加わると、この制動力が制動歯車６２及び歯車６３を介して太陽歯車６４に伝達され、太陽歯車６４の回転速度が公転体２０の回転速度に比べて減少し（太陽歯車６４の回転速度と公転体２０の回転速度との間に差が生じ）、太陽歯車６４に対して中間歯車６５が相対的に回転する。そして、この回転が自転歯車６６を介して自転体３０に伝達され、自転体３０は、自転軸Ｌ２を中心に回転する。そして、自転体３０が回転することにより、自転体３０及び自転体３０に保持される容器４０は、自転軸Ｌ２を中心に自転する。

真空手段７０は、容器４０を密閉する密閉手段７１と、真空発生源としての真空ポンプ７２と、容器４０の開口部４１を始端として公転中心に向かい、公転中心を通って系外（公転及び自転に係る装置要素の可動領域を系とする系外の領域、すなわち、可動する装置要素との非干渉領域）に抜け、系外に設置された真空ポンプ７２に至る吸引経路７３とを備える。これにより、容器４０内、吸引経路７３及び真空ポンプ７２は、気密状態で連通し、真空ポンプ７２が駆動すると、吸引経路７３及びその先にある容器４０内の空気が吸引されて、容器４０内は真空状態となる。

図２は、図１の公転に係る装置要素の記載を一部省略して、真空手段７０に係る装置要素を理解しやすくした図である。自転体３０は、公転体２０の端部に形成された装着孔２１に装入され、回転支持される自転体本体部３１と、自転体本体部３１の先端部（本実施形態では、上端部）に一体的に形成される周壁部３２とを備え、周壁部３２内が容器４０を収容する収容凹部３３となる。密閉手段７１は、周壁部３２の端部に着脱自在に取り付けられ、収容凹部３３を密閉する密閉蓋３４である。密閉蓋３４が取り付けられると、収容凹部３３は、底部（自転体本体部３１の先端部）、周壁部３２及び密閉蓋３４により密閉された空間となり、真空室となる。なお、密閉蓋３４の周壁部３２の端部への取り付け構造は、ネジ螺合、嵌合、パッチン錠、ファスナ等の公知のものを適宜選択することができる。

吸引経路７３は、
ｉ）第１端が真空室３３の周壁部３２の内面で開口して真空室３３内に開口し、真空室３３の周壁部３２内を通り、第２端が真空室３３の底部に至る第１経路７３０と、
ｉｉ）第１端が第１経路７３０の第２端に接続され、真空室３３の底部内を通り、第２端が真空室３３の底部の自転中心に至る第２経路７３１と、
ｉｉｉ）第１端が第２経路７３１の第２端に接続され、自転体本体部３１内を通り、第２端が自転体本体部３１の先端部とは反対側（本実施形態では、下端部）の端部に至る第３経路７３２と、
ｉｖ）第１端が第３経路７３２の第２端に接続され、自転体本体部３１の反対側の端部に設けられた自転用回転継手７４内を通り、第２端が自転用回転継手７４の外面に至る第４経路７３３と、
ｖ）第１端が第４経路７３３の第２端に接続され、公転体２０の公転中心に向かい、第２端が公転軸体１１の先端部（本実施形態では、上端部）に設けられた公転用回転継手７５の外面に至る第５経路７３４と、
ｖｉ）第１端が第５経路７３４の第２端に接続され、公転用回転継手７５内を通り、第２端が公転用回転継手７５の交点軸体１１との接合面に至る第６経路７３５と、
ｖｉｉ）第１端が第６経路７３５の第２端に接続され、公転軸体１１内を通り、基台１０を通って、第２端が系外（公転及び自転に係る装置要素の可動領域を系とする系外の領域、すなわち、可動する装置要素との非干渉領域、本実施形態では、基台１０よりも下方の領域）に至る第７経路７３６と、
ｖｉｉｉ）第１端が第７経路７３６の第２端に接続され、真空ポンプ７２に向かい、第２端が真空ポンプ７２の手前に至る第８経路７３７と、
ｉｘ）第１端が第８経路７３７の第２端に接続され、第２端が真空ポンプ７２に接続される第９経路７３８と
で構成される。

吸引経路７３は、２つある容器４０，４０の一方の容器４０に対する一方の吸引経路７３Ａと、他方の容器４０に対する他方の吸引経路７３Ｂとを備え、吸引経路７３Ａ，７３Ｂは、それぞれ独立した経路である。ただし、双方の第８経路７３７の第２端が接続され、第９経路７３８だけは合流経路となっている。

第１経路７３０から第４経路７３３までと、第６経路７３５から第７経路７３６までは、金属部材内を通る経路であるため、ドリル等を用いた切削やその他の金属加工により金属部材に穿設して形成される。第５経路７３４は、空間を通る経路であるため、剛性又は可撓性の管を用いて構成される。なお、第５経路７３４の一部は、公転体３０を通るため、ここの部分は、穿設して形成するか、通路を形成して管を通すようにする。第８経路７３７及び第９経路７３８は、一般的な配管で構成される。

自転用回転継手７４は、いわゆるロータリージョイントであり、自転体本体部３１の反対側の端部（下端部）を回転部７４１とし、回転部７４１に回転自在に嵌合される部材を公転体２０に取り付け固定することで固定部７４０として構成される。すなわち、自転用回転継手７４は、自転体３０と一体である。しかし、独立した回転継手（一般的には市販品）を自転体３０に取り付けるようにしてもよい。

公転用回転継手７５は、いわゆるロータリージョイントであり、固定軸からなる公転軸体１１の先端部（上端部）に取り付けられる固定部７５０と、固定部７５０に回転自在に嵌合される回転部７５１とで構成される。すなわち、公転用回転継手７５は、公転軸体１１とは別体である。しかし、公転軸体１１の先端部を固定部として、公転軸体１１と一体にしてもよい。

公転用回転継手７５は、各経路（２つの第６経路７３５，７３５）が独立したマルチ回路（２回路）式のロータリージョイントである。各経路は、Ｏリングやメタルシールといったシール部材により、互いに絶縁されている。したがって、各経路を流れる流体が公転用回転継手７５内において交わることはない。

真空手段７０は、開閉弁７６と、開放弁７７と、バッファタンク７８と、フィルタ７９と、真空計８０とをさらに備える。

開閉弁７６は、各吸引経路７３、より詳しくは、各第８経路７３７に設けられ、攪拌・脱泡装置の制御部（図示しない）によって、開閉操作が制御される。開閉弁７６が閉状態で、吸引経路７３は閉鎖され、吸引経路７３及びその先にある真空室３３内の空気を吸引することができない。他方、開閉弁７６が開状態で、吸引経路７３は開放され、吸引経路７３及びその先にある真空室３３内の空気を吸引することができ、真空室３３内、ひいては容器４０内を真空状態にすることができる。そして、真空室３３内を真空状態にした後に、開閉弁７６を閉状態にして、吸引経路７３を閉鎖することにより、真空室３３内の真空状態を維持することができる。

開放弁７７は、各吸引経路７３、より詳しくは、各第８経路７３７であって、開閉弁７６よりも上流側（容器４０側）に設けられ、攪拌・脱泡装置の制御部（図示しない）によって、開閉操作が制御される。真空ポンプ７２を停止させた後、開放弁７７を開状態にすることにより、吸引経路７３を介して真空室３３内が大気圧に戻るため、密閉蓋３４を取り外して真空室３３を開放することができ、処理済みの容器４０を取り出すことができる。

バッファタンク７８は、開閉弁７６よりも下流側（開閉弁７６と真空ポンプ７２との間）、より詳しくは、第９経路７３８に設けられる。開閉弁７６を閉状態にして、真空ポンプ７２を駆動することにより、予めバッファタンク７８を真空状態にしておくことができる。この状態で、真空室３３内を真空状態にする際、開閉弁７６を開状態にすることにより、吸引経路７３及びその先にある真空室３３内の空気は、真空状態にされたバッファタンク７８により吸引されて真空室３３内が真空状態にされる。このため、真空室３３内、ひいては容器４０内を迅速に真空状態にすることができるとともに、真空ポンプ７２が高い圧力に晒されるのを防止することができる。

フィルタ７９は、各吸引経路７３、より詳しくは、各第５経路７３４、すなわち、公転用回転継手７５の上流側（容器４０側）に設けられる。容器４０内の空気を吸引する際に、容器４０からこぼれた材料や塵芥等が同時に吸引されて、公転用回転継手７５に侵入すると、公転用回転継手７５のシール部材が損傷等して、シール性の低下あるいは公転用回転継手７５の破損が生じるおそれがある。フィルタ７９は、これを防止するために設けられる。

真空計８０は、容器４０内の真空状態（真空度）を計測するために用いられる。真空計８０は、電源を内蔵したバッテリ式ないし電池式である。また、真空計８０は、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）、ＺｉｇＢｅｅ（登録商標）等の近距離無線通信規格、ＩＥＥＥ８０２．１１等の無線ＬＡＮ規格、又はＩｒＤＡ等の赤外線通信規格といった無線通信規格に準拠する無線通信機能を有し、計測値を無線で攪拌・脱泡装置の制御部に送信することができる。このため、真空計８０は、電源線も通信線もなく、線の絡みの問題はないため、容器４０とともに公転及び自転させることが可能となる。ただし、スリップリングを適宜必要な箇所に介在させることで、真空計８０から攪拌・脱泡装置の制御部までの配線は可能であるため、有線としてもよい。なお、真空計８０は、真空度だけでなく、自身のＩＤ（通信機のＩＤ）、電波強度、電池残量等の各種の情報も送信可能である。

次に、上記の構成からなる攪拌・脱泡装置による攪拌・脱泡方法について説明する。まず、攪拌・脱泡する材料の種類や使用目的等に応じて、公転回転数、自転回転数及び真空度をユーザインターフェイスを用いて攪拌・脱泡装置の制御部に入力する。その後、容器４０内に材料を収容し、容器４０を自転体３０の真空室３３内に収容する。運転開始を指示すると、駆動モータ５１が駆動することにより、公転体２０が回転し、容器４０が公転する。また、制動装置６１の制動力が伝達機構を介して自転体３０に付与されて、自転体３０が公転体２０に対して相対的に回転し、容器４０が自転する。これにより、容器４０内の材料に対し、容器４０の公転及び自転により、攪拌・脱泡処理が行われる。

その後、容器４０の公転回転数及び自転回転数がそれぞれセンサ（図示しない）により検知され、予め設定された数値に到達すると、真空室３３内の真空処理（真空引き）が開始される。この真空処理は、予め設定された真空度で所定時間行われる。すなわち、容器４０が一定状態で回転して所定の時間が経過する又は容器４０が一定の回転数に達すると同時に、開閉弁７６が開状態となり、上述したバッファタンク７８の作用により、真空室３３内、ひいては容器４０内が真空状態にされる。この際、脱泡による真空度の変化に応じて、開閉弁７６が開閉制御され、又は真空ポンプ７２の回転数が制御され、設定された真空度が連続して一定の状態に維持され、常に一定の高い精度の攪拌・脱泡処理が行われる。

なお、ここで説明した攪拌・脱泡方法は、あくまで一例である。たとえば、攪拌・脱泡装置を運転開始した後に真空処理を開始する、すなわち、真空処理の開始タイミングを装置の運転開始タイミングから遅延させるのではなく、装置の運転開始と同時に真空処理を開始することもできる。また、真空処理の開始タイミングを遅延させるとしても、他のトリガ（たとえば加速度センサで計測される容器４０の加速度）で真空処理を開始させることもできる。また、装置を運転終了した後に真空処理を終了する、すなわち、真空処理の終了タイミングを装置の運転終了タイミングから遅延させるか、装置の運転終了と同時に真空処理を終了するかのいずれかを選択することもできる。このように、本実施形態に係る攪拌・脱泡装置は、公転回転数、自転回転数、真空度及びこれらの作動タイミングを個別に制御することができる構成であり、これらの機能の下で多様な攪拌・脱泡方法を実施することができるのはいうまでもない。

＜実施形態１−１＞
この実施形態では、図２に示す如く、真空計８０は、各吸引経路７３に対応して２つ設けられ、それぞれ、真空室３３の密閉蓋３４の外面側に配置される。このとき、真空計８０のポートは、密閉蓋３４を貫通して真空室３３内に位置するとともに、密閉蓋３４は、容器４０の開口部４１に対向しているため、真空計８０のポートは、容器４０の開口部４１に近い位置にある。これが、容器４０（の開口部４１）に最も近い位置に真空計８０を配置する一つのパターンである。

かかる構成によれば、吸引経路７３に共通して真空計８０が１つだけ設けられるのではなく、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができる。また、容器４０に最も近い位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。

また、かかる構成によれば、各吸引経路７３が実質的に独立しており、これにより、各容器４０に対して真空手段７０が実質的に独立して設けられるため、真空ポンプ７２の駆動／停止の制御と、各開閉弁７６の開閉制御とを適宜組み合わせることにより、及び／又は、各容器４０内に種類の異なる材料を収容することにより、１台の攪拌・脱泡装置で多種多様な攪拌・脱泡処理を同時的に行うことができる。

容器４０が複数ある場合、容器４０ごとに真空度の違いや設定真空度に到達するまでの時間差が生じる場合がある。それは、たとえば、各容器４０に収容される材料の量（処理量）に違いがあることや、各容器４０に種類が異なる材料（異種材料）を収容することに起因するものである。実施形態１−１によれば、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができ、これにより、真空状態の適切な管理及び／又はコントロールが可能となる。

また、吸引経路７３に共通して真空計８０を１つだけ設ける場合、いずれかの容器４０の吸引経路７３に目詰まりや漏れが生じていて、これにより、容器４０内で真空低下が生じていても、それを１つの真空計８０では、発見できないおそれがある。実施形態１−１によれば、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができ、これにより、真空状態の適切な管理及び／又はコントロールが可能となる。

また、真空チャンバ式でなく、吸引経路を用いる真空処理の場合、吸引経路における口径の変化や経路長に起因する圧損の問題が生じる場合がある。特に攪拌・脱泡装置が大型になるほど、かかる問題は顕在化してくるおそれがある。経路長による時間差の問題も生じ得る。実施形態１−１によれば、容器４０に最も近い位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確かつ時間差なく迅速に把握することができ、これにより、真空状態の適切な管理及び／又はコントロールが可能となる。

なお、小型の攪拌・脱泡装置であれば、自転に係る装置要素に対する真空計８０の重量は無視できないものであり、円滑な自転運動を行わせるためには、真空計８０は、できるだけ密閉蓋３４の中心側に配置するのが好ましい。しかし、攪拌・脱泡装置が大型になるほど、真空計８０の重量は無視できるものになるので、真空計８０を密閉蓋３４の中心から外れた位置に配置しても問題はない。

しかし、真空計８０を密閉蓋３４の周辺部に配置すると、真空室３３の周壁部３２の内面に開口する吸引経路７３の第１経路７３０の第１端に近づくことになる。この第１端の近傍、すなわち吸引経路７３からの吸引口の近傍に真空計８０を設置すると、局所的な圧力の変動を受けやすい。このような局所的な圧力の変動は、容器４０内の真空度を把握するという観点からは、避けることが好ましい。このため、真空計８０は、第１経路７３０の第１端部を避けて第１端部からある程度離れた位置に配置するのが好ましい。しかし、自転体３０の軸回りに対する取付角度が定まっていない密閉蓋３４の構造の場合は、真空計８０が第１経路７３０の第１端部からある程度離れた位置となるように密閉蓋３４を取り付けることが煩雑又は困難である。そこで、これらのことを考慮して、真空計８０は、図２２に示す如く、密閉蓋３４の外周部３４ｂを除く、一点鎖線枠内のハッチングで表した中心領域３４ａに配置するのが好ましい。

なお、図２２（ａ）は、第１経路７３０が１本だけ設けられ、真空室３３の周壁部３２の内面に１つだけ第１端部が開口している例であり、同図（ｂ）は、第１経路７３０が２本設けられ、周壁部３２の内面の周方向２箇所（たとえば等分２箇所）に２つの第１端部が開口している例であり、同図（ｃ）は、第１経路７３０が３本設けられ、周壁部３２の内面の周方向３箇所（たとえば等分３箇所）に３つの第１端部が開口している例であり、同図（ｄ）は、第１経路７３０が４本設けられ、周壁部３２の内面の周方向４箇所（たとえば等分４箇所）に４つの第１端部が開口している例である。

＜実施形態１−２＞
この実施形態では、図３に示す如く、真空計８０は、各吸引経路７３に対応して２つ設けられ、それぞれ、真空室３３の密閉蓋３４の内面側に配置される。真空計８０のポートは、真空室３３内に位置するとともに、容器４０の開口部４１に近い位置にある。これが、容器４０（の開口部４１）に最も近い位置に真空計８０を配置するもう一つのパターンである。

かかる構成によっても、実施形態１−１と同様、吸引経路７３に共通して真空計８０が１つだけ設けられるのではなく、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができ、また、容器４０に最も近い位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。

また、かかる構成によっても、実施形態１−１と同様、各吸引経路７３が実質的に独立しており、これにより、各容器４０に対して真空手段７０が実質的に独立して設けられるため、真空ポンプ７２の駆動／停止の制御と、各開閉弁７６の開閉制御とを適宜組み合わせることにより、及び／又は、各容器４０内に種類の異なる材料を収容することにより、１台の攪拌・脱泡装置で多種多様な攪拌・脱泡処理を同時的に行うことができる。

＜実施形態１−３＞
この実施形態では、図４に示す如く、真空計８０は、各吸引経路７３に対応して２つ設けられ、それぞれ、自転体３０を出て公転中心に至るまでの吸引経路７３、すなわち、自転用回転継手７４及び公転用回転継手７５間の吸引経路７３、すなわち、第５経路７３４に配置される。第４経路７３３に配置されるものであってもよい。

かかる構成によっても、実施形態１−１と同様、吸引経路７３に共通して真空計８０が１つだけ設けられるのではなく、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができる。また、実施形態１−１よりは、真空計８０の位置が容器４０から遠くなるが、それでも、容器４０に近い位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。

また、かかる構成によっても、実施形態１−１と同様、各吸引経路７３が実質的に独立しており、これにより、各容器４０に対して真空手段７０が実質的に独立して設けられるため、真空ポンプ７２の駆動／停止の制御と、各開閉弁７６の開閉制御とを適宜組み合わせることにより、及び／又は、各容器４０内に種類の異なる材料を収容することにより、１台の攪拌・脱泡装置で多種多様な攪拌・脱泡処理を同時的に行うことができる。

＜実施形態１−４＞
この実施形態では、図５に示す如く、真空計８０は、各吸引経路７３に対応して２つ設けられ、それぞれ、公転中心を出て真空ポンプ７２に至るまでの吸引経路７３、すなわち、系外の吸引経路７３、すなわち、第８経路７３７又は第９経路７３８に配置される。

かかる構成によっても、実施形態１−１と同様、吸引経路７３に共通して真空計８０が１つだけ設けられるのではなく、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができる。

また、かかる構成によっても、実施形態１−１と同様、各吸引経路７３が実質的に独立しており、これにより、各容器４０に対して真空手段７０が実質的に独立して設けられるため、真空ポンプ７２の駆動／停止の制御と、各開閉弁７６の開閉制御とを適宜組み合わせることにより、及び／又は、各容器４０内に種類の異なる材料を収容することにより、１台の攪拌・脱泡装置で多種多様な攪拌・脱泡処理を同時的に行うことができる。

＜実施形態１−５＞
この実施形態では、図６に示す如く、真空計８０は、各吸引経路７３に対応して２つ設けられ、それぞれ、実施形態１−１ないし実施形態１−３のいずれかと同じように配置されるのに加え、真空ポンプ７２の近く、すなわち、第９経路７３８にも配置される。

かかる構成によっても、実施形態１−１と同様、吸引経路７３に共通して真空計８０が１つだけ設けられるのではなく、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができ、また、容器４０に最も近い位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。また、これらに加え、真空ポンプ７２に近い位置にも真空計８０が設けられるため、真空ポンプ７２の動作状況（真空度）を正確に把握することができるとともに、容器４０に近い位置に設けられる真空計８０による計測値と比較することにより、各容器４０内で真空低下が生じている場合にこれを確実に発見（検知）することができる。

また、かかる構成によっても、実施形態１−１と同様、各吸引経路７３が実質的に独立しており、これにより、各容器４０に対して真空手段７０が実質的に独立して設けられるため、真空ポンプ７２の駆動／停止の制御と、各開閉弁７６の開閉制御とを適宜組み合わせることにより、及び／又は、各容器４０内に種類の異なる材料を収容することにより、１台の攪拌・脱泡装置で多種多様な攪拌・脱泡処理を同時的に行うことができる。

＜実施形態１−６＞
この実施形態は、基本的には、実施形態１−１ないし１−５のいずれかと同じであるが、異なる点は、開閉弁７６及び開放弁７７は、実施形態１−１ないし実施形態１−５のように、公転中心を出て真空ポンプ７２に至るまでの吸引経路７３、すなわち、系外の吸引経路７３、すなわち、第８経路７３７に配置されるのではなく、図７に示す如く、自転体３０を出て公転中心に至るまでの吸引経路７３、すなわち、自転用回転継手７４及び公転用回転継手７５間の吸引経路７３、すなわち、第５経路７３４に配置される点である。

かかる構成によっても、実施形態１−１と同様、吸引経路７３に共通して真空計８０が１つだけ設けられるのではなく、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができ、また、容器４０に最も近い位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。また、これらに加え、容器４０に近い位置に開閉弁７６及び開放弁７７が設けられるため、真空処理を早くすることができる。

また、かかる構成によっても、実施形態１−１と同様、各吸引経路７３が実質的に独立しており、これにより、各容器４０に対して真空手段７０が実質的に独立して設けられるため、真空ポンプ７２の駆動／停止の制御と、各開閉弁７６の開閉制御とを適宜組み合わせることにより、及び／又は、各容器４０内に種類の異なる材料を収容することにより、１台の攪拌・脱泡装置で多種多様な攪拌・脱泡処理を同時的に行うことができる。

＜実施形態１−７＞
この実施形態は、基本的には、実施形態１−１ないし１−６のいずれかと同じであるが、異なる点は、真空ポンプ７２は、両吸引経路７３，７３に共通して１台ではなく、図８に示す如く、各吸引経路７３に設けられる点である。したがって、この実施形態では、第９経路７３８はなく、各第８経路７３７の第２端が各真空ポンプ７２に接続される。

かかる構成によっても、実施形態１−１と同様、吸引経路７３に共通して真空計８０が１つだけ設けられるのではなく、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができ、また、容器４０に最も近い位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。

また、かかる構成によれば、各吸引経路７３が完全に独立しており、これにより、各容器４０に対して真空手段７０が完全に独立して設けられるため、各真空ポンプ７２の駆動／停止の制御と、各開閉弁７６の開閉制御と、さらには各真空ポンプ７２の出力の制御を適宜組み合わせることにより、及び／又は、各容器４０内に種類の異なる材料を収容することにより、１台の攪拌・脱泡装置でさらに多種多様な攪拌・脱泡処理を同時的に行うことができる。

なお、各容器４０に対して真空手段７０が完全に独立して設けられるため、それだけで十分に真空状態の適切な管理及び／又はコントロールが可能となる。そのため、真空計８０を設けないようにすることもできる。

＜実施形態１−８＞
この実施形態では、図９に示す如く、真空計８０は設けてない。それ以外の点は、実施形態１−１ないし１−７のいずれかと同じである

かかる構成によっても、実施形態１−１と同様、各吸引経路７３が実質的に独立しており、これにより、各容器４０に対して真空手段７０が実質的に独立して設けられるため、真空ポンプ７２の駆動／停止の制御と、各開閉弁７６の開閉制御とを適宜組み合わせることにより、及び／又は、各容器４０内に種類の異なる材料を収容することにより、１台の攪拌・脱泡装置で多種多様な攪拌・脱泡処理を同時的に行うことができる。

なお、各容器４０に対して真空手段７０が実質的に独立して設けられるため、それだけで十分に真空状態の適切な管理及び／又はコントロールが可能となる。そのため、真空計８０を設けないようにすることができる。

＜実施形態２＞
以下、本発明に係る攪拌・脱泡装置の実施形態２について、図１０及び図１１を参酌して説明する。この実施形態は、基本的には、実施形態１と同じであるが、異なる点は、両吸引経路７３，７３が途中で合流している点である。

具体的には、
吸引経路７３は、
ｉ）第１端が真空室３３の周壁部３２の内面で開口して真空室３３内に開口し、真空室３３の周壁部３２内を通り、第２端が真空室３３の底部に至る第１経路７３０と、
ｉｉ）第１端が第１経路７３０の第２端に接続され、真空室３３の底部内を通り、第２端が真空室３３の底部の自転中心に至る第２経路７３１と、
ｉｉｉ）第１端が第２経路７３１の第２端に接続され、自転体本体部３１内を通り、第２端が自転体本体部３１の先端部とは反対側（本実施形態では、下端部）の端部に至る第３経路７３２と、
ｉｖ）第１端が第３経路７３２の第２端に接続され、自転体本体部３１の反対側の端部に設けられた自転用回転継手７４内を通り、第２端が自転用回転継手７４の外面に至る第４経路７３３と、
ｖ）第１端が第４経路７３３の第２端に接続され、公転体２０の公転中心に向かい、第２端が公転軸体１１の先端部（本実施形態では、上端部）に設けられた公転用回転継手７５の外面に至る第５経路７３４と、
ｖｉ）第１端が第５経路７３４の第２端に接続され、公転用回転継手７５内を通り、第２端が公転用回転継手７５の交点軸体１１との接合面に至る第６経路７３５と、
ｖｉｉ）第１端が第６経路７３５の第２端に接続され、公転軸体１１内を通り、基台１０を通って、第２端が系外（公転及び自転に係る装置要素の可動領域を系とする系外の領域、すなわち、可動する装置要素との非干渉領域、本実施形態では、基台１０よりも下方の領域）に至る第７経路７３６と、
ｖｉｉｉ）第１端が第７経路７３６の第２端に接続され、第２端が真空ポンプ７２に接続される第８経路７３７と
で構成され、
２つある容器４０，４０の一方の容器４０に対する一方の吸引経路７３と、他方の容器４０に対する他方の吸引経路７３は、第１経路７３０から第５経路７３４までは独立した経路であるが、公転用回転継手７５内、すなわち、第６経路７３５で合流して、第８経路７３７までは合流経路となっている。

＜実施形態２−１＞
この実施形態では、図１１に示す如く、真空計８０は、合流する前の各吸引経路７３に対応して２つ設けられ、それぞれ、真空室３３の密閉蓋３４の外面側に配置される。このとき、真空計８０のポートは、密閉蓋３４を貫通して真空室３３内に位置するとともに、密閉蓋３４は、容器４０の開口部４１に対向しているため、真空計８０のポートは、容器４０の開口部４１に近い位置にある。これが、容器４０（の開口部４１）に最も近い位置に真空計８０を配置する一つのパターンである。

かかる構成によれば、実施形態１−１と同様、吸引経路７３に共通して真空計８０が１つだけ設けられるのではなく、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができる。また、容器４０に最も近い位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。

＜実施形態２−２＞
この実施形態では、図１２に示す如く、真空計８０は、合流する前の各吸引経路７３に対応して２つ設けられ、それぞれ、真空室３３の密閉蓋３４の内面側に配置される。真空計８０のポートは、真空室３３内に位置するとともに、容器４０の開口部４１に近い位置にある。これが、容器４０（の開口部４１）に最も近い位置に真空計８０を配置するもう一つのパターンである。

かかる構成によっても、実施形態２−１と同様、吸引経路７３に共通して真空計８０が１つだけ設けられるのではなく、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができ、また、容器４０に最も近い位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。

＜実施形態２−３＞
この実施形態では、図１３に示す如く、真空計８０は、合流する前の各吸引経路７３に対応して２つ設けられ、それぞれ、自転体３０を出て公転中心に至るまでの吸引経路７３、すなわち、自転用回転継手７４及び公転用回転継手７５間の吸引経路７３、すなわち、第５経路７３４に配置される。第４経路７３３に配置されるものであってもよい。

かかる構成によっても、実施形態２−１と同様、吸引経路７３に共通して真空計８０が１つだけ設けられるのではなく、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができる。また、実施形態１−１よりは、真空計８０の位置が容器４０から遠くなるが、それでも、容器４０に近い位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。

＜実施形態２−４＞
この実施形態では、図１４に示す如く、真空計８０は、合流する前の各吸引経路７３に対応して２つ設けられ、それぞれ、実施形態２−１ないし実施形態２−３のいずれかと同じように配置されるのに加え、真空ポンプ７２の近く、すなわち、第８経路７３７にも配置される。

かかる構成によっても、実施形態２−１と同様、吸引経路７３に共通して真空計８０が１つだけ設けられるのではなく、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができ、また、容器４０に最も近い位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。また、これらに加え、真空ポンプ７２に近い位置にも真空計８０が設けられるため、真空ポンプ７２の動作状況（真空度）を正確に把握することができるとともに、容器４０に近い位置に設けられる真空計８０による計測値と比較することにより、各容器４０内で真空低下が生じている場合にこれを確実に発見（検知）することができる。

＜実施形態２−５＞
この実施形態は、基本的には、実施形態２−１ないし２−４のいずれかと同じであるが、異なる点は、開閉弁７６及び開放弁７７は、実施形態２−１ないし実施形態２−４のように、公転中心を出て真空ポンプ７２に至るまでの吸引経路７３、すなわち、系外の吸引経路７３、すなわち、第８経路７３７に配置されるのではなく、図１５に示す如く、自転体３０を出て公転中心に至るまでの吸引経路７３、すなわち、自転用回転継手７４及び公転用回転継手７５間の吸引経路７３、すなわち、第５経路７３４に配置される点である。

かかる構成によっても、実施形態２−１と同様、吸引経路７３に共通して真空計８０が１つだけ設けられるのではなく、各容器４０に対して真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握することができ、また、容器４０に最も近い位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。また、これらに加え、容器４０に近い位置に開閉弁７６及び開放弁７７が設けられるため、真空処理を早くすることができる。

＜実施形態２−６＞
この実施形態では、図１６に示す如く、真空計８０は、合流した両吸引経路７３，３７に対応して１つ設けられ、両吸引経路７３，７３の合流点又は合流点より下流側の近傍、すなわち、公転用回転継手７５、すなわち、第６経路７３５に配置される。

かかる構成によれば、実施形態２−１よりは、真空計８０の位置が容器４０から遠くなるが、それでも、容器４０に近い位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。

＜実施形態２−７＞
この実施形態では、図１７に示す如く、真空計８０は、合流した両吸引経路７３，７３に対応して１つ設けられ、公転中心を出て真空ポンプ７２に至るまでの吸引経路７３、すなわち、系外の吸引経路７３、すなわち、第８経路７３７に配置される。

かかる構成によれば、実施形態２−６よりは、真空計８０の位置が容器４０から遠くなるが、それでも、真空ポンプ７２からは離れて容器４０に近寄る位置に真空計８０が設けられるため、各容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差を少なくして迅速に把握することができる。

＜実施形態３＞
以下、本発明に係る攪拌・脱泡装置の実施形態３について、図１８及び図１９を参酌して説明する。この実施形態は、基本的には、実施形態１と同じであるが、異なる点は、容器４０は１つだけ設けられ、これに伴い、吸引経路７３も１系統だけである点である。なお、自転付与部６０において、すべてが歯車伝達機構ではなく、一部（公転自転間）にプーリ６７，６９及びベルト６８の伝達機構が用いられる点も異なる点である。また、容器４０が一つであるため、公転のバランスを取るために、公転体２０上であって、容器４０と反対側に、位置調整可能な位置可変式バランスウェイト２２も設けられる。

具体的には、
吸引経路７３は、
ｉ）第１端が真空室３３の周壁部３２の内面で開口して真空室３３内に開口し、真空室３３の周壁部３２内を通り、第２端が真空室３３の底部に至る第１経路７３０と、
ｉｉ）第１端が第１経路７３０の第２端に接続され、真空室３３の底部内を通り、第２端が真空室３３の底部の自転中心に至る第２経路７３１と、
ｉｉｉ）第１端が第２経路７３１の第２端に接続され、自転体本体部３１内を通り、第２端が自転体本体部３１の先端部とは反対側（本実施形態では、下端部）の端部に至る第３経路７３２と、
ｉｖ）第１端が第３経路７３２の第２端に接続され、自転体本体部３１の反対側の端部に設けられた自転用回転継手７４内を通り、第２端が自転用回転継手７４の外面に至る第４経路７３３と、
ｖ）第１端が第４経路７３３の第２端に接続され、公転体２０の公転中心に向かい、第２端が公転軸体１１の先端部（本実施形態では、上端部）に設けられた公転用回転継手７５の外面に至る第５経路７３４と、
ｖｉ）第１端が第５経路７３４の第２端に接続され、公転用回転継手７５内を通り、第２端が公転用回転継手７５の交点軸体１１との接合面に至る第６経路７３５と、
ｖｉｉ）第１端が第６経路７３５の第２端に接続され、公転軸体１１内を通り、基台１０を通って、第２端が系外（公転及び自転に係る装置要素の可動領域を系とする系外の領域、すなわち、可動する装置要素との非干渉領域、本実施形態では、基台１０よりも下方の領域）に至る第７経路７３６と、
ｖｉｉｉ）第１端が第７経路７３６の第２端に接続され、第２端が真空ポンプ７２に接続される第８経路７３７と
で構成される。

＜実施形態３−１＞
この実施形態では、図１９に示す如く、真空計８０は、吸引経路７３に対応して１つ設けられ、真空室３３の密閉蓋３４の外面側に配置される。このとき、真空計８０のポートは、密閉蓋３４を貫通して真空室３３内に位置するとともに、密閉蓋３４は、容器４０の開口部４１に対向しているため、真空計８０のポートは、容器４０の開口部４１に近い位置にある。これが、容器４０（の開口部４１）に最も近い位置に真空計８０を配置する一つのパターンである。

かかる構成によれば、実施形態１−１と同様、容器４０に最も近い位置に真空計８０が設けられるため、容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。

＜実施形態３−２＞
この実施形態では、図２０に示す如く、真空計８０は、吸引経路７３に対応して１つ設けられ、真空室３３の密閉蓋３４の内面側に配置される。真空計８０のポートは、真空室３３内に位置するとともに、容器４０の開口部４１に近い位置にある。これが、容器４０（の開口部４１）に最も近い位置に真空計８０を配置するもう一つのパターンである。

かかる構成によっても、実施形態３−１と同様、容器４０に最も近い位置に真空計８０が設けられるため、容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。

＜実施形態３−３＞
この実施形態では、図２１に示す如く、真空計８０は、吸引経路７３に対応して１つ設けられ、それぞれ、自転体３０を出て公転中心に至るまでの吸引経路７３、すなわち、自転用回転継手７４及び公転用回転継手７５間の吸引経路７３、すなわち、第５経路７３４に配置される。第４経路７３３に配置されるものであってもよい。

かかる構成によれば、実施形態３−１よりは、真空計８０の位置が容器４０から遠くなるが、それでも、容器４０に近い位置に真空計８０が設けられるため、容器４０内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができる。

＜実施形態４＞
上記各実施形態に係る攪拌・脱泡装置によれば、公転回転数、自転回転数、真空度及びこれらの作動タイミングを個別に制御することで、多様な攪拌・脱泡方法を実施することができると述べたが、ここで一例として、実施形態１−１ないし１−７、実施形態２−５に係る攪拌・脱泡装置により可能となる真空制御について、図２３を参酌しつつ説明する。

たとえば、２つある容器４０，４０の一方の容器４０に対する一方の吸引経路７３にごくわずかな真空漏れがある場合、図２３（ａ）に示す如く、一方の容器４０内と他方の容器４０内とが設定真空圧になるまでの到達時間が異なってくる（時間差Ｇ）。この場合、２つの容器４０，４０間で、脱泡の進行度（気泡の残留度合い）に差が生じてしまうおそれがある。そこで、同図（ｂ）に示す如く、真空処理中、２つの真空計８０，８０の計測値差（圧力差）を監視しながら、圧力が高い（真空度が低い）側に合わせるように、適宜圧力が低い側の吸引経路の開閉弁７６を開閉制御して（矢印の位置が開閉弁７６を閉じるポイントで、その先の圧力降下を始める位置が開閉弁７６を開くポイントとなる。）、圧力が低い側を圧力が高い側に同調させる真空制御を行う。この真空制御によれば、各容器４０内が設定真空圧になるまでの到達時間が揃うようになるため、２つの容器４０，４０間で材料の脱泡処理に差が生じることを防止することができる。

なお、かかる真空制御は、圧力が低い側を圧力が高い側に同調させる制御であるが、各吸引経路７３に流量調整弁を設け、吸引経路７３の開度を調整することにより、圧力が高い側を圧力が低い側に同調させる真空制御や、両者の中間値に同調させる真空制御も可能である。

＜その他の実施形態＞
なお、本発明に係る攪拌・脱泡装置は、上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。

まず、上記各実施形態においては、回転しない固定軸の公転軸体１１が基台１０に設けられ、公転体２０が公転軸体１１に回転自在に支持されて回転可能となる機構であり、これに伴い、吸引経路７３が回転系から静止系に移行する箇所である公転軸体１１の先端部（上記実施形態では、上端部）に公転用回転継手７５が設けられる。この場合、吸引経路は、真空室（容器）→自転体内→自転用回転継手→公転中心へ→公転用回転継手→公転軸体内→系外→真空ポンプ、となる。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。たとえば、特許文献４及び５のように、公転体が公転軸体を備え、公転軸体が基台に回転自在に支持されることにより、公転体が回転可能となる機構であり、これに伴い、吸引経路が回転系から静止系に移行する箇所である公転軸体の下端部に公転用回転継手が設けられるようにしてもよい。この場合、吸引経路は、真空室（容器）→自転体内→自転用回転継手→公転中心へ→公転軸体内→公転用回転継手→系外→真空ポンプ、となる。

また、上記各実施形態においては、真空ポンプ７２は、公転軸体１１よりも下方に配置され、これに伴い、吸引経路７３は、公転軸体１１内を通っている。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。たとえば、特許文献２の図３及び特許文献３のように、真空室の密閉蓋から剛性又は可撓性の管が上方に延びて公転中心に向かい、筐体の上部の公転中心に設けられた公転用回転継手に接続されるものであってもよい。この場合、吸引経路は、真空室（容器）→公転中心上方へ→公転用回転継手→系外→真空ポンプ、となる。

また、上記各実施形態においては、自転体本体部３１の先端部とは反対側（上記実施形態では、下端部）に自転用回転継手７４が設けられ、ここから公転中心の公転用回転継手７５に向かって吸引経路が設けられる。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。たとえば、自転体本体部３１の先端部（上記実施形態では、上端部）や中間部に自転用回転継手が設けられ、ここから公転中心の公転用回転継手又は公転軸体に向かって吸引経路が設けられるようにしたり、あるいは、真空室の密閉蓋から公転中心の公転用回転継手又は公転軸体に向かって吸引経路が設けられるようにしたり、あるいは、特許文献５の図３のように、真空室の周壁部から公転中心の公転用回転継手又は公転軸体に向かって吸引経路が設けられるようにしてもよい。

また、上記各実施形態においては、容器内の空気を直接吸引するために容器を密閉する構成として、自転体３０が真空室３３を備える。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。たとえば、特許文献３のように、自転体は容器を保持するだけであり、容器を密閉するのは、容器の端部（開口部）に着脱自在に取り付けられる密閉蓋であってもよい。また、容器４０の開口部４１に蓋を取り付け、この蓋に孔を設けることによって、真空室３３内と連通させてもよい。このように、孔を有する蓋を備えた容器４０を真空室３３内に収容した場合は、蓋に設けられた孔が開口部として機能し、吸引経路の一部を構成する。

また、上記各実施形態においては、吸引経路７３の第１経路７３０の第１端は、真空室３３の周壁部３２の内面のうち、容器４０の開口部４１よりも上方位置で開口している。このため、容器４０からこぼれた材料は第１経路７３０の第１端に届きにくくなっており、材料が吸引経路７３内に入り込んで吸引経路７３を詰まらせるという問題が生じるのを防止することができる。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。吸引経路７３の詰まりの問題が生じ得ない、又は無視できる、又は他の手段を用いて防止できるのであれば、第１経路７３０の第１端の開口位置は、容器４０の開口部４１よりも低い位置、たとえば、真空室３３の周壁部３２の下半分領域の内面や、真空室３３の底部の内面であってもよい。

また、上記各実施形態においては、真空発生源として、真空ポンプ７２を用いている。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。たとえば、真空ポンプ以外のポンプ、エジェクタ等、真空発生源として公知の種々のものを採用することができる。

また、上記各実施形態においては、真空手段７０は、開放弁７７と、バッファタンク７８と、フィルタ７９とを備える。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。たとえば、開放弁７７がなくても又は他の手段により、密閉蓋３４を取り外して真空室３３を開放することができるのであれば、開放弁７７は設けなくてもよい。また、バッファタンク７８やフィルタ７９も必須ではない。また、バッファタンク７８を設ける場合であっても、上記各実施形態で示すように、吸引経路７３に１つ設けるのではなく、上記実施形態１−１ないし１−６及び１−８において、各吸引経路７３、より詳しくは、各第８経路７３７に設けるようにしてもよい。

また、上記各実施形態においては、真空手段７０は、開閉弁７６を備えている。これにさらに流量調整弁を設けることで、あるいは流量調整弁が開閉弁としても機能する場合は、開閉弁７６に替えて流量調整弁を設けることで、より細かな真空制御が可能となる。

また、上記各実施形態においては、真空計８０が容器４０内の真空度を計測し、この計測値を無線で攪拌・脱泡装置の制御部に送信し、攪拌・脱泡装置の制御部は、この計測値に基づいて運転を制御するようにしている。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。たとえば、真空計に制御部を持たせ、真空計が容器内の真空度を計測するだけでなく、この計測値に基づいて運転条件を設定し、運転を制御するようにしてもよいし（攪拌・脱泡装置の制御部（中央の制御部）の代替）、あるいは、真空計が設定した運転条件を攪拌・脱泡装置の制御部（中央の制御部）に送信するようにしてもよい。

また、上記各実施形態においては、各真空計８０は、同じ箇所に配置される。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。たとえば、一方の真空計８０は、実施形態１−１，１−２や実施形態２−１，２−２のように、真空室３３に配置され、他方の真空計８０は、実施形態１−３，１−４や実施形態２−３のように、管路に配置される等、各真空計８０の配置箇所が異なるようにしてもよい。

また、上記各実施形態においては、真空計８０は、デジタル式の真空計が用いられる。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。たとえば、真空計は、アナログ式の真空計であってもよい。

また、最近では、気圧センサ、加速度センサ、温度センサ、湿度センサ、ジャイロセンサ、光強度センサ、距離センサ、磁気センサ、音センサ、歪みセンサ等の各種のセンサを手のひらサイズの小型の筐体にパッケージ化したセンサユニット（データロガー）が市販されている。このセンサユニットは、上記真空計８０と同様、無線通信機能を有し、各種の計測値を無線で攪拌・脱泡装置の制御部に送信することができ、しかも、気圧センサで真空度（真空圧）を計測できるため、真空計測手段として用いることができる。図２４にこのセンサユニット８１の配置方法を示す。図２４（ａ）は、真空室３３の密閉蓋３４の外面側に配置する態様を示し、同図（ｂ）は、密閉蓋３４の内面側に配置する態様を示す。前者は、密閉蓋３４の適所に通孔３４ｃが形成されるとともに、通孔２４ｃを覆うようにカバー３５が密閉蓋３４の外面に着脱自在に取り付けられ、カバー３５の内部空間（収容部）３６にセンサユニット８１が配置される。収容部３６内でセンサユニット８１が動かないようにする必要がある場合は、収容部３６内に緩衝材３７等が介装される。カバー３５は密閉蓋３４に気密に取り付けられており、収容部３６内と容器４０内とは、通孔３４ｃを介して連通している。したがって、真空処理時、収容部３６内と容器４０内とは、同じ真空度となる。後者は、カバー３５の適所に通孔３５ａが形成されるとともに、カバー３５が密閉蓋３４の内面に着脱自在に取り付けられ、カバー３５の内部空間（収容部）３６にセンサユニット８１が配置される。収容部３６内と容器４０内とは、通孔３５ａを介して連通している。したがって、真空処理時、収容部３６内と容器４０内とは、同じ真空度となる。

また、上記実施形態１及び２においては、自転付与部６０の制動力伝達機構として、歯車伝達機構が用いられ、上記実施形態３においては、自転付与部６０の制動力伝達機構として、一部にプーリ・ベルト伝達機構が用いられる。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。たとえば、実施形態１及び２において、実施形態３のように、一部にプーリ・ベルト伝達機構を用いるようにしてもよいし、実施形態３において、実施形態１及び２のように、すべてを歯車伝達機構にしてもよい。また、自転付与部の制動力伝達機構は、公知の種々のものを採用することができる。なお、攪拌・脱泡装置が大型になるほど、回転力及び回転による慣性力が大きくなるため、制動力の伝達を確実に行うことができる歯車伝達機構が好ましく、他方、装置が小型で、容器の数が１つであれば、安価なプーリ・ベルト伝達機構が好ましいが、どのような制動力伝達機構を採用するかは、適宜設計で決定すべき事項である。

また、上記各実施形態においては、自転付与部６０の制動装置６１として、パウダーブレーキが用いられる。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。たとえば、公転用の駆動モータと自転用の駆動モータを別々に備え、自転用の駆動モータで自転体を回転させるようにしてもよい。また、自転付与部の機構は、公知の種々のものを採用することができる。

また、上記各実施形態においては、自転軸Ｌ２は、たとえば垂直に対して約４０度傾いている。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。自転軸の角度は、０度（垂直）ないし９０度（水平）の範囲内の任意の角度に設定することができる。

また、上記実施形態１及び２においては、容器４０が複数の場合として、容器４０が２つ設けられる。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。たとえば、容器が３つ又は４つ等であってもよく、容器の数は特に限定されるものではない。

以上の各発明によれば、真空状態の適切な管理及び／又はコントロールを可能とすることができ、混合、混練、分散、反応、粉砕、乳化等の各種の材料製造プロセスに極めて有用である。

１０…基台、１１…公転軸体、２０…公転体、２１…装着孔、２２…位置可変式バランスウェイト、３０…自転体、３１…自転体本体部、３２…周壁部、３３…収容凹部（真空室）、３４…密閉蓋、３４ａ…中心領域、３４ｂ…外周部、３４ｃ…通孔、３５…カバー、３５ａ…通孔、３６…収容部、３７…緩衝材、４０…容器、４１…開口部、５０…公転駆動部、５１…駆動モータ、５２…駆動歯車、５３…公転歯車、６０…自転付与部、６１…制動装置、６２…制動歯車、６３…歯車、６４…太陽歯車、６５…中間歯車、６６…自転歯車、６７…公転プーリ、６８…ベルト、６９…自転プーリ、７０…真空手段、７１…密閉手段、７２…真空ポンプ（真空発生源）、７３…吸引経路、７３Ａ…一方の吸引経路、７３Ｂ…他方の吸引経路、７３０…第１経路、７３１…第２経路、７３２…第３経路、７３３…第４経路、７３４…第５経路、７３５…第６経路、７３６…第７経路、７３７…第８経路、７３８…第９経路、７４…自転用回転継手、７４０…固定部、７４１…回転部、７５…公転用回転継手、７５０…固定部、７５１…回転部、７６…開閉弁（制御弁）、７７…開放弁（制御弁）、７８…バッファタンク、７９…フィルタ、８０…真空計（真空計測手段）、８１…センサユニット（真空計測手段）、Ｌ１…公転軸、Ｌ２…自転軸

Claims (8)

1. 公転軸を中心に回転可能な公転体と、
   公転体上の少なくとも２つ以上の各自転軸を中心に回転可能で、それぞれ容器を保持可能な少なくとも２つ以上の自転体と、
   各容器内の空気を吸引して各容器内を真空状態にする真空手段とを備え、
   真空手段は、
   各容器を密閉する密閉手段と、
   真空発生源と、
   各容器を始端として公転中心に向かい、公転中心を通って系外に抜け、系外に設置された真空発生源に至る吸引経路であって、始端から少なくとも一部が各容器に対応して独立した経路となっている吸引経路と、
   各独立した経路に設けられる少なくとも２つ以上の真空計測手段とを備える
   攪拌・脱泡装置。
2. 真空計測手段は、密閉手段により容器の密閉された空間に対して設けられる
   請求項１に記載の攪拌・脱泡装置。
3. 自転体は、
   自転体本体部と、
   自転体本体部の先端部に設けられる周壁部であって、内部が容器を収容する収容凹部となる周壁部とを備え、
   密閉手段は、周壁部の端部に着脱自在に取り付けられ、収容凹部を密閉する密閉蓋であり、
   真空計測手段は、密閉蓋に設けられる
   請求項２に記載の攪拌・脱泡装置。
4. 真空計測手段は、電源を内蔵し、かつ、無線通信機能を有する
   請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の攪拌・脱泡装置。
5. 真空手段は、各独立した経路に設けられる個別に制御可能な少なくとも２つ以上の開閉弁をさらに備える
   請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の攪拌・脱泡装置。
6. 公転軸を規定する公転軸体をさらに備え、
   吸引経路は、
   容器を始端として自転体内を通る経路と、
   自転体を出て公転中心に向かう経路と、
   公転軸体内を通る経路と、
   公転軸体を出て系外に抜ける経路とを備え、
   容器を始端として自転体内を通る経路と、自転体を出て公転中心に向かう経路とは、回転継手を介して接続され、
   自転体を出て公転中心に向かう経路、又は、公転軸体を出て系外に抜ける経路のいずれかの経路と、公転軸体内を通る経路とは、回転継手を介して接続される
   請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の攪拌・脱泡装置。
7. 少なくとも、容器を始端として自転体内を通る経路、自転体を出て公転中心に向かう経路、及び、公転軸体内を通る経路は、各容器に対応して独立した経路となっている
   請求項６に記載の攪拌・脱泡装置。
8. 各独立した経路は、自転体を出て公転中心に向かう経路と、公転軸体内を通る経路との間の回転継手内で合流する
   請求項６に記載の攪拌・脱泡装置。

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