JP2020163360A - 攪拌・脱泡装置 - Google Patents
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Abstract
Description
公転軸を中心に回転可能な公転体と、
公転体上の少なくとも2つ以上の各自転軸を中心に回転可能で、それぞれ容器を保持可能な少なくとも2つ以上の自転体と、
各容器内の空気を吸引して各容器内を真空状態にする真空手段とを備え、
真空手段は、
各容器を密閉する密閉手段と、
真空発生源と、
各容器を始端として公転中心に向かい、公転中心を通って系外に抜け、系外に設置された真空発生源に至る吸引経路であって、始端から少なくとも一部が各容器に対応して独立した経路となっている吸引経路と、
各独立した経路に設けられる少なくとも2つ以上の真空計測手段とを備える
攪拌・脱泡装置である。
各真空計測手段は、密閉手段により各容器の密閉された空間に対して設けられる
との構成を採用することができる。
真空手段は、各独立した経路に設けられる個別に制御可能な少なくとも2つ以上の開閉弁をさらに備える
との構成を採用することができる。
公転軸を中心に回転可能な公転体と、
公転体上の少なくとも2つ以上の各自転軸を中心に回転可能で、それぞれ容器を保持可能な少なくとも2つ以上の自転体と、
各容器内の空気を吸引して各容器内を真空状態にする真空手段とを備え、
真空手段は、
各容器を密閉する密閉手段と、
真空発生源と、
各容器を始端として公転中心に向かい、公転中心を通って系外に抜け、系外に設置された真空発生源に至る吸引経路であって、始端から少なくとも一部が各容器に対応して独立した経路となっている吸引経路と、
各独立した経路に設けられる個別に制御可能な少なくとも2つ以上の開閉弁とを備える
攪拌・脱泡装置である。
公転軸を中心に回転可能な公転体と、
公転体上の自転軸を中心に回転可能で、容器を保持可能な自転体と、
容器内の空気を吸引して容器内を真空状態にする真空手段とを備え、
真空手段は、
容器を密閉する密閉手段と、
真空発生源と、
容器を始端として公転中心に向かい、公転中心を通って系外に抜け、系外に設置された真空発生源に至る吸引経路と、
密閉手段により容器の密閉された空間に対して設けられる真空計測手段とを備える
攪拌・脱泡装置である。
以下、本発明に係る攪拌・脱泡装置の実施形態1について、図1及び図2を参酌して説明する。なお、実施形態1に係る攪拌・脱泡装置は、後述するとおり、容器40が複数(本実施形態においては、2つ)設けられ、各容器40に対して吸引経路73が独立して2系統設けられた構成の攪拌・脱泡装置である。
i)第1端が真空室33の周壁部32の内面で開口して真空室33内に開口し、真空室33の周壁部32内を通り、第2端が真空室33の底部に至る第1経路730と、
ii)第1端が第1経路730の第2端に接続され、真空室33の底部内を通り、第2端が真空室33の底部の自転中心に至る第2経路731と、
iii)第1端が第2経路731の第2端に接続され、自転体本体部31内を通り、第2端が自転体本体部31の先端部とは反対側(本実施形態では、下端部)の端部に至る第3経路732と、
iv)第1端が第3経路732の第2端に接続され、自転体本体部31の反対側の端部に設けられた自転用回転継手74内を通り、第2端が自転用回転継手74の外面に至る第4経路733と、
v)第1端が第4経路733の第2端に接続され、公転体20の公転中心に向かい、第2端が公転軸体11の先端部(本実施形態では、上端部)に設けられた公転用回転継手75の外面に至る第5経路734と、
vi)第1端が第5経路734の第2端に接続され、公転用回転継手75内を通り、第2端が公転用回転継手75の交点軸体11との接合面に至る第6経路735と、
vii)第1端が第6経路735の第2端に接続され、公転軸体11内を通り、基台10を通って、第2端が系外(公転及び自転に係る装置要素の可動領域を系とする系外の領域、すなわち、可動する装置要素との非干渉領域、本実施形態では、基台10よりも下方の領域)に至る第7経路736と、
viii)第1端が第7経路736の第2端に接続され、真空ポンプ72に向かい、第2端が真空ポンプ72の手前に至る第8経路737と、
ix)第1端が第8経路737の第2端に接続され、第2端が真空ポンプ72に接続される第9経路738と
で構成される。
この実施形態では、図2に示す如く、真空計80は、各吸引経路73に対応して2つ設けられ、それぞれ、真空室33の密閉蓋34の外面側に配置される。このとき、真空計80のポートは、密閉蓋34を貫通して真空室33内に位置するとともに、密閉蓋34は、容器40の開口部41に対向しているため、真空計80のポートは、容器40の開口部41に近い位置にある。これが、容器40(の開口部41)に最も近い位置に真空計80を配置する一つのパターンである。
この実施形態では、図3に示す如く、真空計80は、各吸引経路73に対応して2つ設けられ、それぞれ、真空室33の密閉蓋34の内面側に配置される。真空計80のポートは、真空室33内に位置するとともに、容器40の開口部41に近い位置にある。これが、容器40(の開口部41)に最も近い位置に真空計80を配置するもう一つのパターンである。
この実施形態では、図4に示す如く、真空計80は、各吸引経路73に対応して2つ設けられ、それぞれ、自転体30を出て公転中心に至るまでの吸引経路73、すなわち、自転用回転継手74及び公転用回転継手75間の吸引経路73、すなわち、第5経路734に配置される。第4経路733に配置されるものであってもよい。
この実施形態では、図5に示す如く、真空計80は、各吸引経路73に対応して2つ設けられ、それぞれ、公転中心を出て真空ポンプ72に至るまでの吸引経路73、すなわち、系外の吸引経路73、すなわち、第8経路737又は第9経路738に配置される。
この実施形態では、図6に示す如く、真空計80は、各吸引経路73に対応して2つ設けられ、それぞれ、実施形態1−1ないし実施形態1−3のいずれかと同じように配置されるのに加え、真空ポンプ72の近く、すなわち、第9経路738にも配置される。
この実施形態は、基本的には、実施形態1−1ないし1−5のいずれかと同じであるが、異なる点は、開閉弁76及び開放弁77は、実施形態1−1ないし実施形態1−5のように、公転中心を出て真空ポンプ72に至るまでの吸引経路73、すなわち、系外の吸引経路73、すなわち、第8経路737に配置されるのではなく、図7に示す如く、自転体30を出て公転中心に至るまでの吸引経路73、すなわち、自転用回転継手74及び公転用回転継手75間の吸引経路73、すなわち、第5経路734に配置される点である。
この実施形態は、基本的には、実施形態1−1ないし1−6のいずれかと同じであるが、異なる点は、真空ポンプ72は、両吸引経路73,73に共通して1台ではなく、図8に示す如く、各吸引経路73に設けられる点である。したがって、この実施形態では、第9経路738はなく、各第8経路737の第2端が各真空ポンプ72に接続される。
この実施形態では、図9に示す如く、真空計80は設けてない。それ以外の点は、実施形態1−1ないし1−7のいずれかと同じである
以下、本発明に係る攪拌・脱泡装置の実施形態2について、図10及び図11を参酌して説明する。この実施形態は、基本的には、実施形態1と同じであるが、異なる点は、両吸引経路73,73が途中で合流している点である。
吸引経路73は、
i)第1端が真空室33の周壁部32の内面で開口して真空室33内に開口し、真空室33の周壁部32内を通り、第2端が真空室33の底部に至る第1経路730と、
ii)第1端が第1経路730の第2端に接続され、真空室33の底部内を通り、第2端が真空室33の底部の自転中心に至る第2経路731と、
iii)第1端が第2経路731の第2端に接続され、自転体本体部31内を通り、第2端が自転体本体部31の先端部とは反対側(本実施形態では、下端部)の端部に至る第3経路732と、
iv)第1端が第3経路732の第2端に接続され、自転体本体部31の反対側の端部に設けられた自転用回転継手74内を通り、第2端が自転用回転継手74の外面に至る第4経路733と、
v)第1端が第4経路733の第2端に接続され、公転体20の公転中心に向かい、第2端が公転軸体11の先端部(本実施形態では、上端部)に設けられた公転用回転継手75の外面に至る第5経路734と、
vi)第1端が第5経路734の第2端に接続され、公転用回転継手75内を通り、第2端が公転用回転継手75の交点軸体11との接合面に至る第6経路735と、
vii)第1端が第6経路735の第2端に接続され、公転軸体11内を通り、基台10を通って、第2端が系外(公転及び自転に係る装置要素の可動領域を系とする系外の領域、すなわち、可動する装置要素との非干渉領域、本実施形態では、基台10よりも下方の領域)に至る第7経路736と、
viii)第1端が第7経路736の第2端に接続され、第2端が真空ポンプ72に接続される第8経路737と
で構成され、
2つある容器40,40の一方の容器40に対する一方の吸引経路73と、他方の容器40に対する他方の吸引経路73は、第1経路730から第5経路734までは独立した経路であるが、公転用回転継手75内、すなわち、第6経路735で合流して、第8経路737までは合流経路となっている。
この実施形態では、図11に示す如く、真空計80は、合流する前の各吸引経路73に対応して2つ設けられ、それぞれ、真空室33の密閉蓋34の外面側に配置される。このとき、真空計80のポートは、密閉蓋34を貫通して真空室33内に位置するとともに、密閉蓋34は、容器40の開口部41に対向しているため、真空計80のポートは、容器40の開口部41に近い位置にある。これが、容器40(の開口部41)に最も近い位置に真空計80を配置する一つのパターンである。
この実施形態では、図12に示す如く、真空計80は、合流する前の各吸引経路73に対応して2つ設けられ、それぞれ、真空室33の密閉蓋34の内面側に配置される。真空計80のポートは、真空室33内に位置するとともに、容器40の開口部41に近い位置にある。これが、容器40(の開口部41)に最も近い位置に真空計80を配置するもう一つのパターンである。
この実施形態では、図13に示す如く、真空計80は、合流する前の各吸引経路73に対応して2つ設けられ、それぞれ、自転体30を出て公転中心に至るまでの吸引経路73、すなわち、自転用回転継手74及び公転用回転継手75間の吸引経路73、すなわち、第5経路734に配置される。第4経路733に配置されるものであってもよい。
この実施形態では、図14に示す如く、真空計80は、合流する前の各吸引経路73に対応して2つ設けられ、それぞれ、実施形態2−1ないし実施形態2−3のいずれかと同じように配置されるのに加え、真空ポンプ72の近く、すなわち、第8経路737にも配置される。
この実施形態は、基本的には、実施形態2−1ないし2−4のいずれかと同じであるが、異なる点は、開閉弁76及び開放弁77は、実施形態2−1ないし実施形態2−4のように、公転中心を出て真空ポンプ72に至るまでの吸引経路73、すなわち、系外の吸引経路73、すなわち、第8経路737に配置されるのではなく、図15に示す如く、自転体30を出て公転中心に至るまでの吸引経路73、すなわち、自転用回転継手74及び公転用回転継手75間の吸引経路73、すなわち、第5経路734に配置される点である。
この実施形態では、図16に示す如く、真空計80は、合流した両吸引経路73,37に対応して1つ設けられ、両吸引経路73,73の合流点又は合流点より下流側の近傍、すなわち、公転用回転継手75、すなわち、第6経路735に配置される。
この実施形態では、図17に示す如く、真空計80は、合流した両吸引経路73,73に対応して1つ設けられ、公転中心を出て真空ポンプ72に至るまでの吸引経路73、すなわち、系外の吸引経路73、すなわち、第8経路737に配置される。
以下、本発明に係る攪拌・脱泡装置の実施形態3について、図18及び図19を参酌して説明する。この実施形態は、基本的には、実施形態1と同じであるが、異なる点は、容器40は1つだけ設けられ、これに伴い、吸引経路73も1系統だけである点である。なお、自転付与部60において、すべてが歯車伝達機構ではなく、一部(公転自転間)にプーリ67,69及びベルト68の伝達機構が用いられる点も異なる点である。また、容器40が一つであるため、公転のバランスを取るために、公転体20上であって、容器40と反対側に、位置調整可能な位置可変式バランスウェイト22も設けられる。
吸引経路73は、
i)第1端が真空室33の周壁部32の内面で開口して真空室33内に開口し、真空室33の周壁部32内を通り、第2端が真空室33の底部に至る第1経路730と、
ii)第1端が第1経路730の第2端に接続され、真空室33の底部内を通り、第2端が真空室33の底部の自転中心に至る第2経路731と、
iii)第1端が第2経路731の第2端に接続され、自転体本体部31内を通り、第2端が自転体本体部31の先端部とは反対側(本実施形態では、下端部)の端部に至る第3経路732と、
iv)第1端が第3経路732の第2端に接続され、自転体本体部31の反対側の端部に設けられた自転用回転継手74内を通り、第2端が自転用回転継手74の外面に至る第4経路733と、
v)第1端が第4経路733の第2端に接続され、公転体20の公転中心に向かい、第2端が公転軸体11の先端部(本実施形態では、上端部)に設けられた公転用回転継手75の外面に至る第5経路734と、
vi)第1端が第5経路734の第2端に接続され、公転用回転継手75内を通り、第2端が公転用回転継手75の交点軸体11との接合面に至る第6経路735と、
vii)第1端が第6経路735の第2端に接続され、公転軸体11内を通り、基台10を通って、第2端が系外(公転及び自転に係る装置要素の可動領域を系とする系外の領域、すなわち、可動する装置要素との非干渉領域、本実施形態では、基台10よりも下方の領域)に至る第7経路736と、
viii)第1端が第7経路736の第2端に接続され、第2端が真空ポンプ72に接続される第8経路737と
で構成される。
この実施形態では、図19に示す如く、真空計80は、吸引経路73に対応して1つ設けられ、真空室33の密閉蓋34の外面側に配置される。このとき、真空計80のポートは、密閉蓋34を貫通して真空室33内に位置するとともに、密閉蓋34は、容器40の開口部41に対向しているため、真空計80のポートは、容器40の開口部41に近い位置にある。これが、容器40(の開口部41)に最も近い位置に真空計80を配置する一つのパターンである。
この実施形態では、図20に示す如く、真空計80は、吸引経路73に対応して1つ設けられ、真空室33の密閉蓋34の内面側に配置される。真空計80のポートは、真空室33内に位置するとともに、容器40の開口部41に近い位置にある。これが、容器40(の開口部41)に最も近い位置に真空計80を配置するもう一つのパターンである。
この実施形態では、図21に示す如く、真空計80は、吸引経路73に対応して1つ設けられ、それぞれ、自転体30を出て公転中心に至るまでの吸引経路73、すなわち、自転用回転継手74及び公転用回転継手75間の吸引経路73、すなわち、第5経路734に配置される。第4経路733に配置されるものであってもよい。
上記各実施形態に係る攪拌・脱泡装置によれば、公転回転数、自転回転数、真空度及びこれらの作動タイミングを個別に制御することで、多様な攪拌・脱泡方法を実施することができると述べたが、ここで一例として、実施形態1−1ないし1−7、実施形態2−5に係る攪拌・脱泡装置により可能となる真空制御について、図23を参酌しつつ説明する。
なお、本発明に係る攪拌・脱泡装置は、上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
真空計測手段は、密閉手段により容器の密閉された空間に対して設けられる
との構成を採用することができる。
かかる構成によれば、容器に最も近い位置に真空計測手段が設けられるため、各容器内の真空状態を正確に把握するだけでなく、時間差なく迅速に把握することができ、これにより、真空状態のさらに適切な管理及び/又はコントロールが可能となる。なお、かかる構成の具体例として、後述する実施形態1−1,1−2,1−5ないし1−7、実施形態2−1,2−2,2−4及び2−5が挙げられる。
この場合、
自転体は、
自転体本体部と、
自転体本体部の先端部に設けられる周壁部であって、内部が容器を収容する収容凹部となる周壁部とを備え、
密閉手段は、周壁部の端部に着脱自在に取り付けられ、収容凹部を密閉する密閉蓋であり、
真空計測手段は、密閉蓋に設けられる
との構成を採用することができる。
真空手段は、各独立した経路に設けられる個別に制御可能な少なくとも2つ以上の開閉弁をさらに備える
との構成を採用することができる。
かかる構成によれば、各容器の吸引経路を個別に開閉制御できるため、各容器の正確な真空状態の把握に基づき、各容器内の真空状態を適切に制御することができ、これにより、真空状態のさらに適切な管理及び/又はコントロールが可能となる。また、かかる構成によれば、たとえば、一部の容器については、真空状態とせず、大気圧下での処理や、一部の容器のみを用いた処理や、各容器に種類の異なる材料(異種材料)の処理が可能となる。なお、かかる構成の具体例として、後述する実施形態1−1ないし1−7、実施形態2−5が挙げられる。
真空計測手段は、電源を内蔵し、かつ、無線通信機能を有する
との構成を採用することができる。
公転軸を規定する公転軸体をさらに備え、
吸引経路は、
容器を始端として自転体内を通る経路と、
自転体を出て公転中心に向かう経路と、
公転軸体内を通る経路と、
公転軸体を出て系外に抜ける経路とを備え、
容器を始端として自転体内を通る経路と、自転体を出て公転中心に向かう経路とは、回転継手を介して接続され、
自転体を出て公転中心に向かう経路、又は、公転軸体を出て系外に抜ける経路のいずれかの経路と、公転軸体内を通る経路とは、回転継手を介して接続される
との構成を採用することができる。
この場合、
少なくとも、容器を始端として自転体内を通る経路、自転体を出て公転中心に向かう経路、及び、公転軸体内を通る経路は、各容器に対応して独立した経路となっている
との構成を採用することができる。
あるいは、
各独立した経路は、自転体を出て公転中心に向かう経路と、公転軸体内を通る経路との間の回転継手内で合流する
との構成を採用することができる。
Claims (5)
- 公転軸を中心に回転可能な公転体と、
公転体上の少なくとも2つ以上の各自転軸を中心に回転可能で、それぞれ容器を保持可能な少なくとも2つ以上の自転体と、
各容器内の空気を吸引して各容器内を真空状態にする真空手段とを備え、
真空手段は、
各容器を密閉する密閉手段と、
真空発生源と、
各容器を始端として公転中心に向かい、公転中心を通って系外に抜け、系外に設置された真空発生源に至る吸引経路であって、始端から少なくとも一部が各容器に対応して独立した経路となっている吸引経路と、
各独立した経路に設けられる少なくとも2つ以上の真空計測手段とを備える
攪拌・脱泡装置。 - 各真空計測手段は、密閉手段により各容器の密閉された空間に対して設けられる
請求項1に記載の攪拌・脱泡装置。 - 真空手段は、各独立した経路に設けられる個別に制御可能な少なくとも2つ以上の開閉弁をさらに備える
請求項1又は請求項2に記載の攪拌・脱泡装置。 - 公転軸を中心に回転可能な公転体と、
公転体上の少なくとも2つ以上の各自転軸を中心に回転可能で、それぞれ容器を保持可能な少なくとも2つ以上の自転体と、
各容器内の空気を吸引して各容器内を真空状態にする真空手段とを備え、
真空手段は、
各容器を密閉する密閉手段と、
真空発生源と、
各容器を始端として公転中心に向かい、公転中心を通って系外に抜け、系外に設置された真空発生源に至る吸引経路であって、始端から少なくとも一部が各容器に対応して独立した経路となっている吸引経路と、
各独立した経路に設けられる個別に制御可能な少なくとも2つ以上の開閉弁とを備える
攪拌・脱泡装置。 - 公転軸を中心に回転可能な公転体と、
公転体上の自転軸を中心に回転可能で、容器を保持可能な自転体と、
容器内の空気を吸引して容器内を真空状態にする真空手段とを備え、
真空手段は、
容器を密閉する密閉手段と、
真空発生源と、
容器を始端として公転中心に向かい、公転中心を通って系外に抜け、系外に設置された真空発生源に至る吸引経路と、
密閉手段により容器の密閉された空間に対して設けられる真空計測手段とを備える
攪拌・脱泡装置。
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