CN113677415A - 搅拌/脱泡装置 - Google Patents

Abstract

为了能够适当地管理和/或控制真空状态，在作为公转自转式搅拌/脱泡装置的本发明的搅拌/脱泡装置中，用于吸引各容器(40)内的空气使各容器(40)内成为真空状态的真空单元，包括：密封体(71)，密封各容器(40)；真空产生源(72)；吸引路径(73)，以各容器(40)为开始端朝向公转中心，穿过公转中心向系统外延伸，到达设置在系统外的真空产生源(72)，并且，从开始端开始，其至少一部分与各容器(40)对应地形成为独立的路径；以及至少两个以上真空测量部(80、80)，设置在各独立的路径。

Description

搅拌/脱泡装置

技术领域

本发明涉及一种公转自转式搅拌/脱泡装置，其包括使容器公转的机构和自转的机构，并且能够对容纳于容器的被处理物进行搅拌/脱泡。

背景技术

已知一种通过使容纳有被处理物的容器进行公转及自转，来对被处理物进行搅拌/脱泡的搅拌/脱泡装置。这样的搅拌/脱泡装置，在使例如混合有不同液体材料的液体或由粉末材料和液体材料混合的材料等被处理物公转并施加离心力的同时使其进行自转，由此来进行搅拌和脱泡，需要进行均匀搅拌并且减少包含的气泡。需要说明的是，在本申请说明书中，术语“搅拌/脱泡”是指，对被处理物进行的搅拌、用于对包含在被处理物中的气泡进行消除的脱泡、或者上述搅拌和脱泡两者。

搅拌/脱泡处理分为在大气压下进行的情况和吸引容器内的空气而在真空下进行的情况。后者设置有真空单元，因此装置昂贵，另一方面，在大气压下无法完全去除的细小气泡也会体积膨胀而容易去除，因此能够实现完全脱泡且能够缩短脱泡所需的处理时间，从而具有能够提高生产效率的极优异的优点。

作为具备真空单元的搅拌/脱泡装置，例如如专利文献1所记载，已知一种通过将整个装置容纳于真空室内并吸引真空室内的空气，来吸引容器内的空气，使容器内成为真空状态的装置。但是，这种具备真空单元的搅拌/脱泡装置，由于真空室内的空气量多，吸引花费时间，因此存在容器内成为真空状态花费时间的缺点。随着材料的大容量化，搅拌/脱泡装置变得越大，该缺点越明显。

并且，还已知一种包括直接吸引容器内的空气使容器内成为真空状态的真空单元的搅拌/脱泡装置。专利文献2至5中记载的搅拌/脱泡装置，包括：密封体，密封容器；真空泵；吸引路径，以容器的开口部为开始端朝向公转中心，穿过公转中心之后向系统外延伸，并且到达设置于系统外的真空泵，直接吸引容器内的空气使容器内成为真空状态。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11-104404号公报

专利文献2：日本特开平11-290668号公报

专利文献3：日本特开2009-208026号公报

专利文献4：日本特开2000-61207号公报

专利文献5：日本特开2001-246236号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，为了在真空下适当地进行搅拌/脱泡，重要的是适当地管理和控制真空状态，而不是简单地驱动真空泵并经由吸引路径吸引容器内的空气。为此，需要通过各种技术方法研究搅拌/脱泡装置的装置结构。

本发明的目的在于，提供一种具备直接吸引容器内的空气的真空单元，并且能够适当地管理和/或控制真空状态的搅拌/脱泡装置。

用于解决问题的手段

一个本发明的搅拌/脱泡装置，其中，包括：

公转体，能够以公转轴为中心旋转；

至少两个以上自转体，能够以公转体上的至少两个以上的自转轴中的各自转轴为中心旋转，并且分别能够保持容器；以及

真空单元，吸引各容器内的空气，使各容器内成为真空状态，

真空单元包括：

密封体，密封各容器；

真空产生源；

吸引路径，以各容器为开始端朝向公转中心，穿过公转中心向系统外延伸，到达设置在系统外的真空产生源，并且，所述吸引路径从开始端至少一部分开始与各容器对应地形成为独立的路径；以及

至少两个以上真空测量部，设置在各独立的路径。

根据该结构，并非在吸引路径共同地设置一个真空测量部，而是针对各容器设置真空测量部，因此能够正确地掌握各容器内的真空状态，由此，能够适当地管理和/或控制真空状态。需要说明的是，作为上述结构的具体例，可以举出后述的实施方式1-1至1-7、实施方式2-1至2-5。

在此，作为本发明的搅拌/脱泡装置的一个方式，可以采用真空测量部针对由密封体密封的容器的空间而设置的结构。

并且，在该情况下，可以采用如下结构，

自转体包括：

自转体主体部；以及

周壁部，设置于自转体主体部的前端部，其内部形成为容纳容器的容纳凹部，

密封体是可自由装卸地安装于周壁部的端部并密封容纳凹部的密封盖，

真空测量部设置于密封盖。

根据该结构，由于真空测量部设置于最接近容器的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器内的真空状态，而且还可以没有时间差地迅速掌握，由此，能够进一步适当地管理和/或控制真空状态。需要说明的是，作为上述结构的具体例，可以举出后述的实施方式1-1、1-2、1-5至1-7、实施方式2-1、2-2、2-4以及2-5。

另外，作为本发明的搅拌/脱泡装置的另一方式，可以采用真空测量部内置有电源且具有无线通信功能的结构。

另外，作为本发明的搅拌/脱泡装置的又一方式，可以采用真空单元还包括设置于各独立的路径的能够单独控制的至少两个以上的开闭阀的结构。

根据该结构，由于能够单独地开闭控制各容器的吸引路径，因此能够正确地掌握各容器的真空状态，并且基于此，能够适当地控制各容器内的真空状态，由此，能够进一步适当地管理和/或控制真空状态。另外，根据该结构，例如，能够使一部分的容器不处于真空状态，而是在大气压下进行处理，或者能够仅使用一部分的容器进行处理，或者能够在各容器中处理种类不同的材料(不同种类的材料)。需要说明的是，作为上述结构的具体例，可以举出后述的实施方式1-1至1-7、实施方式2-5。

另外，作为本发明的搅拌/脱泡装置的又一方式，可以采用如下结构，其中，

还包括规定公转轴的公转轴体，

吸引路径包括：

以容器为开始端穿过自转体内的路径；

出自转体之后朝向公转中心的路径；

穿过公转轴体内的路径；以及

出公转轴体之后向系统外延伸的路径，

以容器为开始端穿过自转体内的路径和出自转体之后朝向公转中心延伸的路径，经由旋转接头连接，

出自转体之后朝向公转中心的路径或出公转轴体之后向系统外延伸的路径中的任一个路径和穿过公转轴体内的路径，经由旋转接头连接。

在该情况下，可以采用如下结构，

至少以容器为开始端穿过自转体内的路径、出自转体之后朝向公转中心的路径、以及穿过公转轴体内的路径，与各容器对应地形成为独立的路径。

或者，可以采用如下结构，

各独立的路径在出自转体之后朝向公转中心的路径与穿过公转轴体内的路径之间的旋转接头内合流。

另外，另一本发明的搅拌/脱泡装置，包括：

公转体，能够以公转轴为中心旋转；

自转体，设置有至少两个以上，能够以公转体上的至少两个以上的自转轴中的各自转轴为中心旋转，并且分别能够保持容器；以及

真空单元，吸引各容器内的空气，使各容器内成为真空状态，

真空单元包括：

密封体，密封各容器；

真空产生源；

吸引路径，以各容器为开始端朝向公转中心，穿过公转中心向系统外延伸，到达设置在系统外的真空产生源，并且，所述吸引路径从开始端开始至少一部分与各容器对应地形成为独立的路径；以及

至少两个以上开闭阀，设置于各独立的路径且能够单独控制。

根据该结构，由于能够单独地开闭控制各容器的吸引路径，因此能够适当地控制各容器内的真空状态，由此，能够适当地管理和/或控制真空状态。另外，根据该结构，例如，能够使一部分的容器不处于真空状态，而是在大气压下进行处理，或者能够仅使用一部分的容器进行处理，或者能够在各容器中处理种类不同的材料(不同种类的材料)。需要说明的是，作为上述结构的具体例，可以举出后述的实施方式1-1至1-8、实施方式2-5。

另外，又一本发明的搅拌/脱泡装置，其中，包括：

公转体，能够以公转轴为中心旋转；

自转体，能够以公转体上的自转轴为中心旋转，并且能够保持容器；以及

真空单元，吸引容器内的空气，使容器内成为真空状态，

真空单元包括：

密封体，密封容器；

真空产生源；

吸引路径，以容器为开始端朝向公转中心，穿过公转中心向系统外延伸，到达设置在系统外的真空产生源；以及

真空测量部，针对由密封体密封的容器的空间而设置。

根据该结构，由于真空测量部设置于最接近容器的位置，因此不仅能够正确地掌握容器内的真空状态，而且还能够没有时间差地迅速掌握，由此，能够适当地管理和/或控制真空状态。需要说明的是，作为上述结构的具体例，可以举出后述的实施方式1-1、1-2、1-5至1-7、实施方式2-1、2-2、2-4以及2-5、实施方式3-1以及3-2。

发明的效果

如上所述，根据本发明的搅拌/脱泡装置，能够适当地管理和/或控制真空状态。

附图说明

图1(a)是实施方式1的搅拌/脱泡装置的剖视图，图1(b)是该搅拌/脱泡装置的局部俯视图。

图2是实施方式1-1的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图3是实施方式1-2的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图4是实施方式1-3的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图5是实施方式1-4的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图6是实施方式1-5的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图7是实施方式1-6的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图8是实施方式1-7的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图9是实施方式1-8的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图10(a)是实施方式2的搅拌/脱泡装置的剖视图，图10(b)是该搅拌/脱泡装置的局部俯视图。

图11是实施方式2-1的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图12是实施方式2-2的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图13是实施方式2-3的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图14是实施方式2-4的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图15是实施方式2-5的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图16是实施方式2-6的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图17是实施方式2-7的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图18是实施方式3的搅拌/脱泡装置的剖视图。

图19是实施方式3-1的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图20是实施方式3-2的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图21是实施方式3-3的搅拌/脱泡装置的主要部分剖视图。

图22是与实施方式1-1、1-2、1-5至1-7、实施方式2-1、2-2、2-4以及2-5、实施方式3-1以及3-2的搅拌/脱泡装置中的安装于自转体的密封盖中的真空测量部的优选配置区域有关的说明图。

图23是能够通过实施方式1-1至1-7、实施方式2-5的搅拌/脱泡装置执行的真空控制的一例的说明图。

图24是与另一实施方式的真空测量部的配置有关的说明图。

具体实施方式

＜实施方式1＞

以下，参照图1和图2，说明本发明的搅拌/脱泡装置的实施方式1。需要说明的是，如下所述，实施方式1的搅拌/脱泡装置是设置有多个容器40(在本实施方式中为两个)且针对每个容器40均独立设置有吸引路径73的结构的搅拌/脱泡装置。

首先，对搅拌/脱泡装置的整体结构进行概略说明。如图1所示，搅拌/脱泡装置包括：公转体20，能够以公转轴L1为中心旋转；自转体30，能够以公转体20上的自转轴L2为中心旋转；容器40，保持于自转体30；公转驱动部50，旋转驱动公转体20；自转给予部60，使自转体30旋转；真空机构(真空单元)70，直接吸引容器40内的空气，使容器40内成为真空状态。需要说明的是，如JIS Z 8126-1：1999(ISO 3529-1：1981)所定义，真空是指，充满了比通常的大气压压力低的气体的空间的状态。

公转体20经由轴承可自由旋转地支撑于由安装于基台10的固定轴构成的公转轴体11。自转体30在隔着公转轴L1相对的两处位置设置有一对，分别经由轴承可自由旋转地支撑于形成在公转体20的端部的安装孔21。自转体30包括容纳容器40的容纳凹部33，在容纳凹部33内容纳容器40，直接地或者经由适配器(未图示的)等安装体间接地保持容器40。由此，自转体30也被称为容器保持架。

容器40是上端呈开口部41且下端为封闭的底部的有底容器，经由开口部41向容器40内投入材料(被处理物)，处理后，经由开口部41取出处理物。容器40的材质，根据材料的种类或处理内容等，从聚乙烯等合成树脂、不锈钢、铝合金等金属、陶瓷、纸等中选择。

公转驱动部50包括：驱动马达51；驱动齿轮52，安装于驱动马达51的驱动轴；以及公转齿轮53，与公转体20同心地安装于公转体20，并且与驱动齿轮52啮合。由此，当驱动马达51旋转时，该旋转经由驱动齿轮52和公转齿轮53传递到公转体20，公转体20以公转轴L1为中心旋转。并且，随着公转体20旋转，自转体30和保持于自转体30的容器40以公转轴L1为中心公转。

自转给予部60包括：粉末制动器等制动装置61；制动齿轮62，安装于制动装置61的制动轴；太阳齿轮64，经由轴承可自由旋转地相对支撑于公转体20；齿轮63，与太阳齿轮64同心地安装于太阳齿轮64，并且与制动齿轮62啮合；中间齿轮65，经由轴承可自由旋转地支撑于公转体20，并且与太阳齿轮64啮合；以及自转齿轮66，与自转体30同心地安装于自转体30，并且与中间齿轮65啮合。由此，当制动装置61施加制动力时，该制动力经由制动齿轮62和齿轮63传递到太阳齿轮64，与公转体20的转速相比，太阳齿轮64的转速减少(在太阳齿轮64的转速与公转体20的转速之间产生差异)，中间齿轮65相对于太阳齿轮64相对地旋转。并且，该旋转经由自转齿轮66传递到自转体30，自转体30以自转轴L2为中心旋转。并且，随着自转体30旋转，自转体30和保持于自转体30的容器40以自转轴L2为中心自转。

真空机构70包括：密封机构(密封体)71，密封容器40；作为真空产生源的真空泵72；以及吸引路径73，以容器40的开口部41为开始端朝向公转中心，穿过公转中心向系统外延伸(将与公转和自转相关的装置要素的可动区域作为系统时的系统外的区域、即与可动的装置要素不发生干扰的区域)，到达设置于系统外的真空泵72。由此，在容器40内，吸引路径73和真空泵72以气密状态连通，当真空泵72驱动时，吸引路径73和其前面的容器40内的空气被吸引，从而容器40内成为真空状态。

图2是为了更容易理解与真空机构70相关的装置要素而省略了图1中的与公转相关的装置要素的一部分记载的图。自转体30包括：自转体主体部31，装入于形成在公转体20的端部的安装孔21并被旋转支撑；以及周壁部32，一体地形成于自转体主体部31的前端部(在本实施方式中，上端部)，周壁部32内为容纳容器40的容纳凹部33。密封机构71是可自由装卸地安装于周壁部32的端部并密封容纳凹部33的密封盖34。当安装了密封盖34时，容纳凹部33成为由底部(自转体主体部31的前端部)、周壁部32和密封盖34密封的空间，并且成为真空室。需要说明的是，密封盖34与周壁部32的端部的安装结构，可以适当选择螺纹螺合、配合、卡扣、紧固件等公知的结构。

吸引路径73，包括：

i)第一路径730，其第一端在真空室33的周壁部32的内表面开口而向真空室33内开口，并且穿过真空室33的周壁部32内，其第二端到达真空室33的底部；

ii)第二路径731，其第一端连接于第一路径730的第二端，穿过真空室33的底部内，其第二端到达真空室33的底部的自转中心；

iii)第三路径732，其第一端连接于第二路径731的第二端，穿过自转体主体部31内，其第二端到达与自转体主体部31的前端部相反的一侧(在本实施方式中，下端部)的端部；

iv)第四路径733，其第一端连接于第三路径732的第二端，穿过设置在与自转体主体部31相反的一侧的端部的自转用旋转接头74内，其第二端到达自转用旋转接头74的外表面；

v)第五路径734，其第一端连接于第四路径733的第二端，朝向公转体20的公转中心，其第二端到达设置于公转轴体11的前端部(在本实施方式中，上端部)的公转用旋转接头75的外表面；

vi)第六路径735，其第一端连接于第五路径734的第二端，穿过公转用旋转接头75内，其第二端到达公转用旋转接头75的与公转轴体11的接合面；

vii)第七路径736，其第一端连接于第六路径735的第二端，穿过公转轴体11内，并穿过基台10，其第二端到达系统外(将与公转和自转相关的装置要素的可动区域作为系统时的系统外的区域、即与可动的装置要素不发生干扰的区域，在本实施方式中，比基台10更靠下方的区域)；

viii)第八路径737，其第一端连接于第七路径736的第二端，朝向真空泵72，其第二端到达真空泵72的近前；以及

ix)第九路径738，其第一端连接于第八路径737的第二端，其第二端连接于真空泵72。

吸引路径73包括与两个容器40、40中的一个容器40对应的一个吸引路径73A和与另一个容器40对应的另一个吸引路径73B，吸引路径73A、73B是分别独立的路径。但是，两者的第八路径737的第二端相连，并且仅有第九路径738是合流路径。

由于从第一路径730到第四路径733以及从第六路径735到第七路径736是穿过金属构件内的路径，因此通过使用钻头等的切削或其他的金属加工在金属构件穿设而形成。由于第五路径734是穿过空间的路径，因此由具有刚性或挠性的管构成。需要说明的是，由于第五路径734的一部分穿过公转体30，因此该部分穿设而形成，或者形成通道使管穿过。第八路径737和第九路径738由一般的配管构成。

自转用旋转接头74是所谓的旋转接头，包括：旋转部741，位于与自转体主体部31相反的一侧的端部(下端部)；以及固定部740，通过将与旋转部741可自由旋转地嵌合的部件安装固定于公转体20而形成。即、自转用旋转接头74与自转体30形成为一体。但是，也可以将独立的旋转接头(通常为市售品)安装于自转体30。

公转用旋转接头75是所谓的旋转接头，包括：固定部750，安装于由固定轴构成的公转轴体11的前端部(上端部)；以及旋转部751，可自由旋转地配合于固定部750。即、公转用旋转接头75与公转轴体11分开。但是，也可以将公转轴体11的前端部作为固定部，与公转轴体11形成为一体。

公转用旋转接头75是各路径(两个第六路径735、735)独立的多回路(二回路)式旋转接头。各路径通过O形环或金属密封件等密封构件彼此绝缘。因此，流动在各路径中的流体不会在公转用旋转接头75内相交。

真空机构70还包括开闭阀76、开放阀77、缓冲罐78、过滤器79、以及作为真空测量单元(真空测量部)的真空计80。

开闭阀76设置于各吸引路径73，更详细而言，设置于各第八路径737，由搅拌/脱泡装置的控制部(未图示的)控制开闭操作。当开闭阀76处于关闭状态时，吸引路径73封闭，从而无法吸引吸引路径73和其前面的真空室33内的空气。另一方面，当开闭阀76处于打开状态时，吸引路径73开放，从而能够吸引吸引路径73和其前面的真空室33内的空气，继而能够使真空室33内、进而使容器40内成为真空状态。并且，在使真空室33内成为真空状态之后，通过使开闭阀76成为关闭状态而封闭吸引路径73，能够保持真空室33内的真空状态。

开放阀77设置于各吸引路径73，更详细而言，设置于各第八路径737中的比开闭阀76更靠上游侧(容器40侧)的位置，由搅拌/脱泡装置的控制部(未图示的)控制开闭操作。在停止真空泵72之后，通过使开放阀77成为打开状态，真空室33内经由吸引路径73恢复到大气压，从而能够拆卸密封盖34并开放真空室33，并且能够取出已处理的容器40。

缓冲罐78设置于比开闭阀76更靠下游侧(开闭阀76与真空泵72之间)的位置，更详细而言，设置于第九路径738。通过使开闭阀76处于关闭状态并驱动真空泵72，可以预先使缓冲罐78成为真空状态。在该状态下，在使真空室33内成为真空状态时，通过使开闭阀76成为打开状态，来使吸引路径73和其前面的真空室33内的空气被处于真空状态的缓冲罐78吸引，从而真空室33内成为真空状态。因此，能够使真空室33内、进而使容器40内迅速成为真空状态，并且能够防止真空泵72暴露于高压。

过滤器79设置于各吸引路径73，更详细而言，设置于各第五路径734、即公转用旋转接头75的上游侧(容器40侧)。当容器40内的空气被吸引时，若从容器40溢出的材料或灰尘等一起被吸引而侵入公转用旋转接头75，则会损伤公转用旋转接头75的密封构件等，从而可能引起密封性降低或公转用旋转接头75的破损。设置过滤器79以防止这种情况。

真空计80用于测量容器40内的真空状态(真空度)。真空计80是内置有电源的蓄电池式或电池式。另外，真空计80具有符合蓝牙(Bluetooth，注册商标)、紫蜂(ZigBee，注册商标)等近距离无线通讯标准、IEEE802.11等无线LAN标准、或IrDA(Infrared DataAssociation：红外数据组织)等红外线通信标准之类的无线通信标准的无线通信功能，能够将测量值以无线方式发送到搅拌/脱泡装置的控制部。因此，真空计80既没有电源线也没有通信线，从而不存在线的缠绕问题，因此能够与容器40一起公转及自转。但是，可以通过在必要的地方适当地设置滑环，从真空计80布线到达搅拌/脱泡装置的控制部，因此也可以是有线的。需要说明的是，真空计80不仅可以发送真空度，还可以发送自身的ID(通信器的ID)、电波强度、电池剩余量等各种信息。

接着，对由上述结构构成的搅拌/脱泡装置的搅拌/脱泡方法进行说明。首先，根据要搅拌/脱泡的材料的种类或使用目的等，利用用户接口将公转转数、自转转数以及真空度输入到搅拌/脱泡装置的控制部。之后，将材料容纳到容器40内，并且将容器40容纳到自转体30的真空室33内。当指示运转开始时，驱动马达51驱动，由此公转体20旋转，容器40公转。另外，制动装置61的制动力经由传递机构施加到自转体30，由此自转体30相对于公转体20相对旋转，从而使容器40自转。由此，通过容器40的公转和自转，对容器40内的材料进行搅拌/脱泡处理。

之后，通过传感器(未图示的)分别检测容器40的公转转数和自转转数，当达到预先设定的数值时，开始真空室33内的真空处理(抽真空)。该真空处理以预先设定的真空度进行规定的时间。即，在容器40以恒定状态旋转并经过规定的时间或容器40达到恒定转数的同时，使开闭阀76成为打开状态，由此在上述的缓冲罐78的作用下，真空室33内、进而容器40内成为真空状态。此时，根据脱泡引起的真空度的变化，开闭控制开闭阀76，或控制真空泵72的转数，由此所设定的真空度连续保持在恒定的状态，始终进行恒定的高精度的搅拌/脱泡处理。

需要说明的是，在此说明的搅拌/脱泡方法只是一个例子。例如，可以使真空处理的开始时机与搅拌/脱泡装置的运转开始时机一致地开始进行真空处理，而不是在搅拌/脱泡装置开始运转后再开始进行真空处理、即相对于装置的运转开始时机不发生延迟。另外，即使延迟真空处理的开始时机，也可以利用其他触发(例如，由加速度传感器测量的容器40的加速度)来使真空处理开始。另外，还可以从在装置结束运转后结束真空处理即、使真空处理的结束时机相对于装置的运转结束时机发生延迟，或者在装置结束运转的同时结束真空处理的任一个中选择。如上所述，本实施方式的搅拌/脱泡装置是能够单独地控制公转转数、自转转数、真空度以及它们的动作时机的结构，显然能够在这些功能下实施多种多样的搅拌/脱泡方法。

＜实施方式1-1＞

在该实施方式中，如图2所示，真空计80与各吸引路径73对应地设置有两个，分别配置于真空室33的密封盖34的外表面侧。此时，真空计80的端口贯通密封盖34位于真空室33内，并且由于密封盖34与容器40的开口部41相对，因此真空计80的端口位于接近容器40的开口部41的位置。这是在最接近容器40(的开口部41)的位置配置真空计80的一个方式。

根据该结构，并非在吸引路径73共同地仅设置一个真空计80，而是针对各容器40设置真空计80，因此能够正确地掌握各容器40内的真空状态。另外，由于真空计80设置在最接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器40内的真空状态，而且还可以没有时间差地迅速掌握。

另外，根据该结构，各吸引路径73实质上独立，由此，真空机构70相对于各容器40实质上独立地设置，因此，通过适当组合真空泵72的驱动/停止的控制和各开闭阀76的开闭控制，和/或通过在各容器40内容纳种类不同的材料，能够利用1台搅拌/脱泡装置同时进行多种多样的搅拌/脱泡处理。

在容器40设置有多个的情况下，每个容器40之间可能产生真空度的差异或达到设定真空度所需的时间存在差异的情况。这是因为，例如，容纳在各容器40的材料的量(处理量)存在差异，或者在各容器40容纳了种类不同的材料(不同种类的材料)而引起的。根据实施方式1-1，由于针对各容器40设置了真空计80，能够正确地掌握各容器40内的真空状态，由此，能够适当地管理和/或控制真空状态。

另外，在吸引路径73共同地仅设置一个真空计80的情况下，当任一个容器40的吸引路径73因发生堵塞或泄漏，而在容器40内发生真空降低时，利用一个真空计80可能无法发现该真空降低。根据实施方式1-1，由于针对各容器40设置了真空计80，能够正确地掌握各容器40内的真空状态，由此，能够适当地管理和/或控制真空状态。

另外，在使用吸引路径而不是真空室式进行真空处理的情况下，可能会存在因吸引路径中的口径的变化或路径长度引起的压力损失的问题。尤其是搅拌/脱泡装置越大，问题可能会越明显。并且还可能产生因路径长度引起的时间差的问题。根据实施方式1-1，由于真空计80设置于最接近容器40的位置，因此能够正确且无时间差地迅速掌握各容器40内的真空状态，由此，能够适当地管理和/或控制真空状态。

需要说明的是，若是小型的搅拌/脱泡装置，则无法忽略真空计80相对于与自转相关的装置要素的重量，为了进行平稳的自转运动，优选地，真空计80尽可能配置在密封盖34的中心侧。但是，搅拌/脱泡装置越大，越是可以忽略真空计80的重量，因此即使将真空计80配置在偏离密封盖34的中心的位置，也没有问题。

但是，若将真空计80配置于密封盖34的周边部，则与在真空室33的周壁部32的内表面开口的吸引路径73的第一路径730的第一端接近。若将真空计80设置于该第一端的附近、即吸引路径73的吸引口的附近，则容易受到局部的压力的变动。从掌握容器40内的真空度的观点出发，优选避免这样的局部的压力的变动。因此，优选地，真空计80配置于避开第一路径730的第一端部并与第一端部隔开一定距离的位置。但是，在密封盖34的结构形成为安装角度相对于自转体30的转轴不固定的情况下，将密封盖34安装为真空计80位于从第一路径730的第一端部隔开一定距离的位置，是繁琐或困难的。因此，考虑到这些，如图22所示，优选地，真空计80配置于除了密封盖34的外周部34b以外的利用阴影表示的点划线框内的中心区域34a。

需要说明的是，图22(a)是仅设置有一个第一路径730，并且在真空室33的周壁部32的内表面仅有一个第一端部的开口的示例，图22(b)是设置有两个第一路径730，并且在周壁部32的内表面的周向两处(例如等分两处)设置有两个第一端部的开口的示例，图22(c)是设置有三个第一路径730，并且在周壁部32的内表面的周向三处(例如等分三处)设置有三个第一端部的开口的示例，图22(d)是设置有四个第一路径730，并且在周壁部32的内表面的周向四处(例如等分四处)设置有四个第一端部的开口的示例。

＜实施方式1-2＞

在该实施方式中，如图3所示，真空计80与各吸引路径73对应地设置有两个，分别配置于真空室33的密封盖34的内表面侧。真空计80的端口位于真空室33内，并且位于接近容器40的开口部41的位置。这是在最接近容器40(的开口部41)的位置配置真空计80的又一个方式。

根据该结构，与实施方式1-1同样地，并非在吸引路径73共同地仅设置一个真空计80，而是针对各容器40设置真空计80，因此能够正确地掌握各容器40内的真空状态，另外，由于真空计80设置于最接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器40内的真空状态，而且还可以没有时间差地迅速掌握。

另外，根据该结构，与实施方式1-1同样地，各吸引路径73实质上独立，由此，真空机构70相对于各容器40实质上独立地设置，因此，通过适当组合真空泵72的驱动/停止的控制和各开闭阀76的开闭控制，和/或通过在各容器40内容纳种类不同的材料，能够利用1台搅拌/脱泡装置同时进行多种多样的搅拌/脱泡处理。

＜实施方式1-3＞

在该实施方式中，如图4所示，真空计80与各吸引路径73对应地设置有两个，分别配置于出自转体30之后到达公转中心的吸引路径73、即自转用旋转接头74与公转用旋转接头75之间的吸引路径73、即第五路径734。也可以配置在第四路径733。

根据该结构，与实施方式1-1同样地，并非在吸引路径73共同地仅设置一个真空计80，而是针对各容器40设置真空计80，因此能够正确地掌握各容器40内的真空状态。另外，虽然真空计80的位置比实施方式1-1远离容器40，但即便如此，由于真空计80仍然设置在接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器40内的真空状态，而且还能够没有时间差地迅速掌握。

另外，根据该结构，与实施方式1-1同样地，各吸引路径73实质上独立，由此，真空机构70相对于各容器40实质上独立地设置，因此，通过适当组合真空泵72的驱动/停止的控制和各开闭阀76的开闭控制，和/或通过在各容器40内容纳种类不同的材料，能够利用1台搅拌/脱泡装置同时进行多种多样的搅拌/脱泡处理。

＜实施方式1-4＞

在该实施方式中，如图5所示，真空计80与各吸引路径73对应地设置有两个，分别配置于出公转中心之后到达真空泵72的吸引路径73、即系统外的吸引路径73、即第八路径737或第九路径738。

根据该结构，与实施方式1-1同样地，并非在吸引路径73共同地仅设置一个真空计80，而是针对各容器40设置真空计80，因此能够正确地掌握各容器40内的真空状态。

另外，根据该结构，与实施方式1-1同样地，各吸引路径73实质上独立，由此，真空机构70相对于各容器40实质上独立地设置，因此，通过适当组合真空泵72的驱动/停止的控制和各开闭阀76的开闭控制，和/或通过在各容器40内容纳种类不同的材料，能够利用1台搅拌/脱泡装置同时进行多种多样的搅拌/脱泡处理。

＜实施方式1-5＞

在该实施方式中，如图6所示，真空计80与各吸引路径73对应地设置有两个，除了分别以与实施方式1-1至实施方式1-3中的任一个相同的方式配置之外，还配置于真空泵72的附近、即第九路径738。

根据该结构，与实施方式1-1同样地，并非在吸引路径73共同地仅设置一个真空计80，而是针对各容器40设置真空计80，因此能够正确地掌握各容器40内的真空状态，另外，由于真空计80设置于最接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器40内的真空状态，而且还可以没有时间差地迅速掌握。另外，除此之外，真空计80还设置在接近真空泵72的位置，因此能够正确地掌握真空泵72的动作状况(真空度)，并且通过与设置在接近容器40的位置的真空计80的测量值进行比较，能够在各容器40内产生真空降低时可靠地发现(检测)。

另外，根据该结构，与实施方式1-1同样地，各吸引路径73实质上独立，由此，真空机构70相对于各容器40实质上独立地设置，因此，通过适当组合真空泵72的驱动/停止的控制和各开闭阀76的开闭控制，和/或通过在各容器40内容纳种类不同的材料，能够利用1台搅拌/脱泡装置同时进行多种多样的搅拌/脱泡处理。

＜实施方式1-6＞

该实施方式基本上与实施方式1-1至1-5中的任一个相同，而不同之处在于，如图7所示，开闭阀76和开放阀77配置于出自转体30之后到达公转中心的吸引路径73、即自转用旋转接头74和公转用旋转接头75之间的吸引路径73、即第五路径734，而不像实施方式1-1至实施方式1-5那样，配置于出公转中心之后到达真空泵72的吸引路径73、即系统外的吸引路径73、即第八路径737。

根据该结构，与实施方式1-1同样地，并非在吸引路径73共同地仅设置一个真空计80，而是针对各容器40设置真空计80，因此能够正确地掌握各容器40内的真空状态，另外，由于真空计80设置于最接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器40内的真空状态，而且还可以没有时间差地迅速掌握。除此之外，由于开闭阀76和开放阀77设置于接近容器40的位置，因此能够加快真空处理。

另外，根据该结构，与实施方式1-1同样地，各吸引路径73实质上独立，由此，真空机构70相对于各容器40实质上独立地设置，因此，通过适当组合真空泵72的驱动/停止的控制和各开闭阀76的开闭控制，和/或通过在各容器40内容纳种类不同的材料，能够利用1台搅拌/脱泡装置同时进行多种多样的搅拌/脱泡处理。

＜实施方式1-7＞

该实施方式基本上与实施方式1-1至1-6中的任一个相同，而不同之处在于，如图8所示，真空泵72设置于各吸引路径73，而不是在两个吸引路径73、73共同地设置1台。因此，在该实施方式中，各第八路径737的第二端与各真空泵72连接，而不是与第九路径738连接。

根据该结构，与实施方式1-1同样地，并非在吸引路径73共同地仅设置一个真空计80，而是针对各容器40设置真空计80，因此能够正确地掌握各容器40内的真空状态，另外，由于真空计80设置于最接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器40内的真空状态，而且还可以没有时间差地迅速掌握。

另外，根据该结构，各吸引路径73完全独立，由此，真空机构70相对于各容器40完全独立地设置，因此，通过适当组合各真空泵72的驱动/停止的控制、各开闭阀76的开闭控制、以及各真空泵72的输出的控制，和/或通过在各容器40内容纳种类不同的材料，能够利用1台搅拌/脱泡装置同时进行更多种多样的搅拌/脱泡处理。

需要说明的是，由于真空机构70相对于各容器40完全独立地设置，因此，仅此就能够充分进行真空状态的适当的管理和/或控制。因此，也可以不设置真空计80。

＜实施方式1-8＞

在该实施方式中，如图9所示，没有设置真空计80。除此之外，与实施方式1-1至1-7中的任一个相同。

根据该结构，与实施方式1-1同样地，各吸引路径73实质上独立，由此，真空机构70相对于各容器40实质上独立地设置，因此，通过适当组合真空泵72的驱动/停止的控制和各开闭阀76的开闭控制，和/或通过在各容器40内容纳种类不同的材料，能够利用1台搅拌/脱泡装置同时进行多种多样的搅拌/脱泡处理。

需要说明的是，由于真空机构70相对于各容器40实质上独立地设置，因此，仅此就能够充分地进行真空状态的适当的管理和/或控制。因此，可以不设置真空计80。

＜实施方式2＞

以下，参照图10和图11，对本发明的搅拌/脱泡装置的实施方式2进行说明。该实施方式基本上与实施方式1相同，而不同之处在于，两个吸引路径73、73在中途合流。

具体而言，吸引路径73，包括：

i)第一路径730，其第一端在真空室33的周壁部32的内表面开口而向真空室33内开口，并且穿过真空室33的周壁部32内，其第二端到达真空室33的底部；

ii)第二路径731，其第一端连接于第一路径730的第二端，穿过真空室33的底部内，其第二端到达真空室33的底部的自转中心；

iii)第三路径732，其第一端连接于第二路径731的第二端，穿过自转体主体部31内，其第二端到达与自转体主体部31的前端部相反的一侧(在本实施方式中，下端部)的端部；

iv)第四路径733，其第一端连接于第三路径732的第二端，穿过设置在与自转体主体部31相反的一侧的端部的自转用旋转接头74内，其第二端到达自转用旋转接头74的外表面；

v)第五路径734，其第一端连接于第四路径733的第二端，朝向公转体20的公转中心，其第二端到达设置于公转轴体11的前端部(在本实施方式中，上端部)的公转用旋转接头75的外表面；

vi)第六路径735，其第一端连接于第五路径734的第二端，穿过公转用旋转接头75内，其第二端到达公转用旋转接头75与公转轴体11的接合面；

vii)第七路径736，其第一端连接于第六路径735的第二端，穿过公转轴体11内，并穿过基台10，其第二端到达系统外(将与公转和自转相关的装置要素的可动区域作为系统时的系统外的区域、即与可动的装置要素不发生干扰的区域，在本实施方式中，比基台10更靠下方的区域)；以及

viii)第八路径737，其第一端连接于第七路径736的第二端，第二端连接于真空泵72，

与两个容器40、40中的一个容器40对应的一个吸引路径73和与另一个容器40对应的另一个吸引路径73，从第一路径730到第五路径734是独立的路径，但是在公转用旋转接头75内、即第六路径735合流，形成到第八路径737为止的合流路径。

＜实施方式2-1＞

在该实施方式中，如图11所示，真空计80与合流之前的各吸引路径73对应地设置有两个，分别配置于真空室33的密封盖34的外表面侧。此时，真空计80的端口贯通密封盖34位于真空室33内，并且由于密封盖34与容器40的开口部41相对，因此真空计80的端口位于接近容器40的开口部41的位置。这是在最接近容器40(的开口部41)的位置配置真空计80的一个方式。

根据该结构，与实施方式1-1同样地，并非在吸引路径73共同地仅设置一个真空计80，而是针对各容器40设置真空计80，因此能够正确地掌握各容器40内的真空状态。另外，由于真空计80设置在最接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器40内的真空状态，而且还可以没有时间差地迅速掌握。

＜实施方式2-2＞

在该实施方式中，如图12所示，真空计80与合流之前的各吸引路径73对应地设置有两个，分别配置于真空室33的密封盖34的内表面侧。真空计80的端口位于真空室33内，并且位于接近容器40的开口部41的位置。这是在最接近容器40(的开口部41)的位置配置真空计80的又一个方式。

根据该结构，与实施方式2-1同样地，并非在吸引路径73共同地仅设置一个真空计80，而是针对各容器40设置真空计80，因此能够正确地掌握各容器40内的真空状态，另外，由于真空计80设置于最接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器40内的真空状态，而且还可以没有时间差地迅速掌握。

＜实施方式2-3＞

在该实施方式中，如图13所示，真空计80与合流之前的各吸引路径73对应地设置有两个，分别配置于出自转体30之后到达公转中心的吸引路径73、即自转用旋转接头74与公转用旋转接头75之间的吸引路径73、即第五路径734。也可以配置在第四路径733。

根据该结构，与实施方式2-1同样地，并非在吸引路径73共同地仅设置一个真空计80，而是针对各容器40设置真空计80，因此能够正确地掌握各容器40内的真空状态。另外，虽然真空计80的位置比实施方式1-1远离容器40，但即便如此，由于真空计80仍然设置在接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器40内的真空状态，而且还能够没有时间差地迅速掌握。

＜实施方式2-4＞

在该实施方式中，如图14所示，真空计80与合流之前的各吸引路径73对应地设置有两个，除了分别以与实施方式2-1至实施方式2-3中的任一个相同的方式配置之外，还配置于真空泵72的附近、即第八路径737。

根据该结构，与实施方式2-1同样地，并非在吸引路径73共同地仅设置一个真空计80，而是针对各容器40设置真空计80，因此能够正确地掌握各容器40内的真空状态，另外，由于真空计80设置于最接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器40内的真空状态，而且还可以没有时间差地迅速掌握。另外，除此之外，真空计80还设置在接近真空泵72的位置，因此能够正确地掌握真空泵72的动作状况(真空度)，并且通过与设置在接近容器40的位置的真空计80的测量值进行比较，能够在各容器40内产生真空降低时可靠地发现(检测)。

＜实施方式2-5＞

该实施方式基本上与实施方式2-1至2-4中的任一个相同，而不同之处在于，如图15所示，开闭阀76和开放阀77配置于出自转体30之后到达公转中心的吸引路径73、即自转用旋转接头74和公转用旋转接头75之间的吸引路径73、即第五路径734，而不像实施方式2-1至实施方式2-4那样，配置于出公转中心之后到达真空泵72的吸引路径73、即系统外的吸引路径73、即第八路径737。

根据该结构，与实施方式2-1同样地，并非在吸引路径73共同地仅设置一个真空计80，而是针对各容器40设置真空计80，因此能够正确地掌握各容器40内的真空状态，另外，由于真空计80设置于最接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器40内的真空状态，而且还可以没有时间差地迅速掌握。除此之外，由于开闭阀76和开放阀77设置于接近容器40的位置，因此能够加快真空处理。

＜实施方式2-6＞

在该实施方式中，如图16所示，真空计80与合流的两个吸引路径73、37对应地设置有一个，配置于两个吸引路径73、73的合流处或比合流处更靠下游侧的附近、即公转用旋转接头75、即第六路径735。

根据该结构，虽然真空计80的位置比实施方式2-1远离容器40，但即便如此，由于真空计80仍然设置在接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器40内的真空状态，而且还能够没有时间差地迅速掌握。

＜实施方式2-7＞

在该实施方式中，如图17所示，真空计80与合流的两个吸引路径73、73对应地设置有一个，配置于出公转中心之后到达真空泵72的吸引路径73、即系统外的吸引路径73、即第八路径737。

根据该结构，虽然真空计80的位置比实施方式2-6远离容器40，但即便如此，由于真空计80仍然设置在远离真空泵72且接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握各容器40内的真空状态，而且还能够减少时间差地迅速掌握。

＜实施方式3＞

以下，参照图18和图19，对本发明的搅拌/脱泡装置的实施方式3进行说明。该实施方式基本上与实施方式1相同，而不同之处在于，容器40仅设置有一个，与此相应地，吸引路径73也仅有一个系统。需要说明的是，不同之处还在于，在自转给予部60中，并非全部是齿轮传递机构，在一部分(公转与自转之间)中使用了带轮67、69和带68的传递机构。另外，由于容器40为一个，因此为了保持公转的平衡，在公转体20上的与容器40相反的一侧还设置有位置可调整的位置可变式平衡块22。

具体而言，吸引路径73，包括：

i)第一路径730，其第一端在真空室33的周壁部32的内表面开口而向真空室33内开口，并且穿过真空室33的周壁部32内，其第二端到达真空室33的底部；

ii)第二路径731，其第一端连接于第一路径730的第二端，穿过真空室33的底部内，其第二端到达真空室33的底部的自转中心；

iii)第三路径732，其第一端连接于第二路径731的第二端，穿过自转体主体部31内，其第二端到达与自转体主体部31的前端部相反的一侧(在本实施方式中，下端部)的端部；

iv)第四路径733，其第一端连接于第三路径732的第二端，穿过设置在与自转体主体部31相反的一侧的端部的自转用旋转接头74内，其第二端到达自转用旋转接头74的外表面；

v)第五路径734，其第一端连接于第四路径733的第二端，朝向公转体20的公转中心延伸，其第二端到达设置于公转轴体11的前端部(在本实施方式中，上端部)的公转用旋转接头75的外表面；

vi)第六路径735，其第一端连接于第五路径734的第二端，穿过公转用旋转接头75内，其第二端到达公转用旋转接头75与公转轴体11的接合面；

vii)第七路径736，其第一端连接于第六路径735的第二端，穿过公转轴体11内，并穿过基台10，其第二端到达系统外(将与公转和自转相关的装置要素的可动区域作为系统时的系统外的区域、即与可动的装置要素不发生干扰的区域，在本实施方式中，比基台10更靠下方的区域)；以及

viii)第八路径737，其第一端连接于第七路径736的第二端，第二端连接于真空泵72。

＜实施方式3-1＞

在该实施方式中，如图19所示，真空计80与吸引路径73对应地设置有一个，配置于真空室33的密封盖34的外表面侧。此时，真空计80的端口贯通密封盖34位于真空室33内，并且由于密封盖34与容器40的开口部41相对，因此真空计80的端口位于接近容器40的开口部41的位置。这是在最接近容器40(的开口部41)的位置配置真空计80的一个方式。

根据该结构，与实施方式1-1同样地，由于真空计80设置在最接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握容器40内的真空状态，而且还能够没有时间差地迅速掌握。

＜实施方式3-2＞

在该实施方式中，如图20所示，真空计80与吸引路径73对应地设置有一个，配置于真空室33的密封盖34的内表面侧。真空计80的端口位于真空室33内，并且位于接近容器40的开口部41的位置。这是在最接近容器40(的开口部41)的位置配置真空计80的又一个方式。

根据该结构，与实施方式3-1同样地，由于真空计80设置在最接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握容器40内的真空状态，而且还能够没有时间差地迅速掌握。

＜实施方式3-3＞

在该实施方式中，如图21所示，真空计80与吸引路径73对应地设置有一个，分别配置于出自转体30之后到达公转中心的吸引路径73、即自转用旋转接头74与公转用旋转接头75之间的吸引路径73、即第五路径734。也可以配置在第四路径733。

根据该结构，虽然真空计80的位置比实施方式3-1远离容器40，但即便如此，由于真空计80仍然设置在接近容器40的位置，因此不仅能够正确地掌握容器40内的真空状态，而且还能够没有时间差地迅速掌握。

＜实施方式4＞

根据上述各实施方式的搅拌/脱泡装置，说明了通过单独控制公转转数、自转转数、真空度以及它们的动作时机，能够实施多种多样的搅拌/脱泡方法，在此作为一例，参照图23，对可以通过实施方式1-1至1-7、实施方式2-5的搅拌/脱泡装置实施的真空控制进行说明。

例如，如图23(a)所示，当在与两个容器40、40中的一个容器40对应的一个吸引路径73发生极少量的真空泄漏时，一个容器40内和另一个容器40内达到设定真空压的到达时间不同(时间差G)。在该情况下，在两个容器40、40之间，脱泡进度(气泡的残留程度)可能会产生差异。因此，如图23(b)所示，在真空处理中，监测两个真空计80、80的测量值差(压力差)，并且适当地开闭控制压力较低侧的吸引路径的开闭阀76(箭头位置是关闭开闭阀76的点，而其前端的开始压力下降的位置是打开开闭阀76的点。)，以使压力较低侧与压力较高(真空度较低)侧一致，由此进行使压力较低侧同步调节到压力较高侧的真空控制。根据该真空控制，由于各容器40内达到设定真空压的到达时间一致，因此能够防止两个容器40、40之间的材料的脱泡处理产生差异。

需要说明的是，该真空控制是使压力较低侧同步调节到压力较高侧的控制，但通过在各吸引路径73设置流量调整阀并调节吸引路径73的开度，可以进行使压力较高侧同步调节到压力较低侧的真空控制，或可以进行同步调节到两者的中间值的真空控制。

＜其他实施方式＞

需要说明的是，本发明的搅拌/脱泡装置并不限定于上述各实施方式，可以在不脱离本发明的主旨的范围内进行各种变更。

首先，在上述各实施方式中，不旋转的固定轴的公转轴体11设置于基台10，公转体20可自由旋转地支撑于公转轴体11而成为可旋转的机构，与此相应地，在作为吸引路径73从旋转系统向静止系统过渡的部位的公转轴体11的前端部(在上述实施方式中，上端部)设置公转用旋转接头75。在该情况下，吸引路径如下：真空室(容器)→自转体内→自转用旋转接头→向公转中心→公转用旋转接头→公转轴体内→系统外→真空泵。但是，本发明并不限于此。例如，如专利文献4和5所描述，还可以通过使公转体具备公转轴体，并且使公转轴体可自由旋转地支撑于基台，来使公转体成为可旋转的机构，与此相应地，在作为吸引路径从旋转系统向静止系统过渡的部位的公转轴体的下端部设置公转用旋转接头。在该情况下，吸引路径如下：真空室(容器)→自转体内→自转用旋转接头→向公转中心→公转轴体内→公转用旋转接头→系统外→真空泵。

另外，在上述各实施方式中，真空泵72配置在比公转轴体11更靠下方的位置，与此相应地，吸引路径73穿过公转轴体11内。但是，本发明并不限于此。例如，还可以如专利文献2的图3和专利文献3所描述，刚性或挠性的管从真空室的密封盖向上方延伸朝向公转中心，并连接于设置在框体的上部的公转中心的公转用旋转接头。在该情况下，吸引路径如下：真空室(容器)→向公转中心上方→公转用旋转接头→系统外→真空泵。

另外，在上述各实施方式中，在与自转体主体部31的前端部相反的一侧(上述实施方式中，下端部)设置自转用旋转接头74，并从该自转用旋转接头74朝向公转中心的公转用旋转接头75设置吸引路径。但是，本发明并不限于此。例如，还可以在自转体主体部31的前端部(上述实施方式中，上端部)或中间部设置自转用旋转接头，并从该自转用旋转接头朝向公转中心的公转用旋转接头或公转轴体设置吸引路径，或者可以从真空室的密封盖朝向公转中心的公转用旋转接头或公转轴体设置吸引路径，或者如专利文献5的图3所示，可以从真空室的周壁部朝向公转中心的公转用旋转接头或公转轴体设置吸引路径。

另外，在上述各实施方式中，为了直接吸引容器内的空气，自转体30具备作为密封容器的结构的真空室33。但是，本发明并不限于此。例如，如专利文献3所描述，自转体仅保持容器，对容器进行密封的可以是可自由装卸地安装于容器的端部(开口部)的密封盖。另外，还可以通过在容器40的开口部41安装盖并在该盖设置孔，来与真空室33内连通。这样，当在真空室33内容纳包括具有孔的盖的容器40时，设置在盖的孔作为开口部发挥功能，构成吸引路径的一部分。

另外，在上述各实施方式中，吸引路径73的第一路径730的第一端在真空室33的周壁部32的内表面中的比容器40的开口部41更靠上方的位置开口。因此，从容器40溢出的材料难以到达第一路径730的第一端，从而能够防止材料进入吸引路径73内堵塞吸引路径73的问题。但是，本发明并不限于此。只要不会产生吸引路径73的堵塞问题，或可以忽略，或可以使用其他手段来防止，第一路径730的第一端的开口位置就可以位于比容器40的开口部41更低的位置，例如，真空室33的周壁部32的下半部分区域的内表面，或真空室33的底部的内表面。

另外，在上述各实施方式中，作为真空产生源，使用了真空泵72。但是，本发明并不限于此。例如，可以采用真空泵以外的泵、喷射器等公知的各种机构作为真空产生源。

另外，在上述各实施方式中，真空机构70包括开放阀77、缓冲罐78、过滤器79。但是，本发明并不限于此。例如，若即使没有开放阀77，或者通过其他手段，也能够拆卸密封盖34而开放真空室33，则可以不设置开放阀77。另外，缓冲罐78和过滤器79也不是必须的。另外，如上述各实施方式所示，在上述实施方式1-1至1-6以及1-8中，可以在各吸引路径73设置缓冲罐78，更详细而言，可以在各第八路径737设置缓冲罐78，而不是在吸引路径73设置一个缓冲罐78。

另外，在上述各实施方式中，真空机构70具备开闭阀76。通过进一步设置流量调整阀，或者在流量调整阀还作为开闭阀发挥功能时，通过设置流量调整阀来代替开闭阀76，能够进行更精细的真空控制。

另外，在上述各实施方式中，真空计80测量容器40内的真空度，并且将该测量值利用无线发送到搅拌/脱泡装置的控制部，搅拌/脱泡装置的控制部基于该测量值控制运转。但是，本发明并不限于此。例如，可以使真空计具有控制部，并且使真空计不仅测量容器内的真空度，还基于该测量值设定运转条件并控制运转(代替搅拌/脱泡装置的控制部(中央控制部))，或者，也可以将真空计所设定的运转条件发送到搅拌/脱泡装置的控制部(中央控制部)。

另外，在上述各实施方式中，各真空计80配置在相同的位置。但是，本发明并不限于此。各真空计80的配置位置也可以不同，例如，一个真空计80可以像实施方式1-1、1-2或实施方式2-1、2-2那样配置于真空室33，而另一个真空计80可以像实施方式1-3、1-4或实施方式2-3那样配置于管路等。

另外，在上述各实施方式中，真空计80使用了数字式真空计。但是，本发明并不限于此。例如，真空计还可以是模拟式真空计。

另外，最近，在市面上出售有将气压传感器、加速度传感器、温度传感器、湿度传感器、陀螺传感器、光强度传感器、距离传感器、磁传感器、声音传感器、变形传感器等各种传感器封装于手掌大小的小型框体的传感器单元(数据记录器)。该传感器单元与上述真空计80同样地，具有无线通信功能，能够将各种测量值利用无线发送到搅拌/脱泡装置的控制部，并且能够利用气压传感器测量真空度(真空压)，因此可以作为真空测量单元使用。在图24中示出了该传感器单元81的配置方法。图24(a)示出了配置在真空室33的密封盖34的外表面侧的方式，图24(b)示出了配置在密封盖34的内表面侧的方式。在前者中，在密封盖34的适当的位置形成有通孔34c，并且罩35可自由装卸地安装于密封盖34的外表面以覆盖通孔24c，在罩35的内部空间(容纳部)36配置有传感器单元81。在需要使传感器单元81在容纳部36内不移动时，缓冲材料37等安装于容纳部36内。罩35气密地安装于密封盖34，容纳部36内和容器40内经由通孔34c连通。因此，在真空处理时，容纳部36内和容器40内具有相同的真空度。在后者中，在罩35的适当的位置形成有通孔35a，并且罩35可自由装卸地安装于密封盖34的内表面，在罩35的内部空间(容纳部)36配置传感器单元81。容纳部36内和容器40内经由通孔35a连通。因此，在真空处理时，容纳部36内和容器40内具有相同的真空度。

另外，在上述实施方式1和2中，作为自转给予部60的制动力传递机构，使用了齿轮传递机构，在上述实施方式3中，作为自转给予部60的制动力传递机构，在一部分中使用了带轮/带传递机构。但是，本发明并不限于此。例如，可以在实施方式1和2中，像实施方式3那样，在一部分中使用带轮/带传递机构，也可以在实施方式3中，像实施方式1和2那样，全部使用齿轮传递机构。另外，自转给予部的制动力传递机构可以采用公知的各种机构。需要说明的是，搅拌/脱泡装置越大，旋转力和由旋转引起的惯性力越大，因此优选能够可靠地进行制动力的传递的齿轮传递机构，另一方面，若装置较小，并且容器的数量为一个，则优选廉价的带轮/带传递机构，采用何种制动力传递机构，是应该通过适当的设计来确定的事项。

另外，在上述各实施方式中，作为自转给予部60的制动装置61，使用了粉末制动器。但是，本发明并不限于此。例如，可以分别具备公转用的驱动马达和自转用的驱动马达，由此可以利用自转用的驱动马达来使自转体旋转。另外，自转给予部的机构可以采用公知的各种机构。

另外，在上述各实施方式中，自转轴L2例如相对于竖直方向倾斜约40度。但是，本发明并不限于此。自转轴的角度可以设定为0度(竖直)至90度(水平)范围内的任意的角度。

另外，在上述实施方式1和2中，作为容器40为多个的情况，容器40设置有两个。但是，本发明并不限于此。例如，容器可以是三个或四个等，容器的数量没有特别限制。

工业上的可利用性

根据以上各发明，能够适当地管理和/或控制真空状态，对混合、混炼、分散、反应、粉碎、乳化等各种材料制造工艺极为有用。

附图标记说明

10：基台，11：公转轴体，20：公转体，21：安装孔，22：位置可变式平衡块，30：自转体，31：自转体主体部，32：周壁部，33：容纳凹部(真空室)，34：密封盖，34a：中心区域，34b：外周部，34c：通孔，35：罩，35a：通孔，36：容纳部，37：缓冲材料，40：容器，41：开口部，50：公转驱动部，51：驱动马达，52：驱动齿轮，53：公转齿轮，60：自转给予部，61：制动装置，62：制动齿轮，63：齿轮，64：太阳齿轮，65：中间齿轮，66：自转齿轮，67：公转带轮，68：带，69：自转带轮，70：真空机构(真空单元)，71：密封机构(密封体)，72：真空泵(真空产生源)，73：吸引路径，73A：一个吸引路径，73B：另一个吸引路径，730：第一路径，731：第二路径，732：第三路径，733：第四路径，734：第五路径，735：第六路径，736：第七路径，737：第八路径，738：第九路径，74：自转用旋转接头，740：固定部，741：旋转部，75：公转用旋转接头，750：固定部，751：旋转部，76：开闭阀(控制阀)，77：开放阀(控制阀)，78：缓冲罐，79：过滤器，80：真空计(真空测量单元(真空测量部))，81：传感器单元(真空测量单元(真空测量部))，L1：公转轴，L2：自转轴

Claims (10)

1.一种搅拌/脱泡装置，其中，包括：

公转体，能够以公转轴为中心旋转；

至少两个以上自转体，能够以公转体上的至少两个以上的自转轴中的各自转轴为中心旋转，并且分别能够保持容器；以及

真空单元，吸引各容器内的空气，使各容器内成为真空状态，

真空单元包括：

密封体，密封各容器；

真空产生源；

吸引路径，以各容器为开始端朝向公转中心，穿过公转中心向系统外延伸，到达设置在系统外的真空产生源，并且所述吸引路径从开始端开始至少一部分与各容器对应地形成为独立的路径；以及

至少两个以上真空测量部，设置在各独立的路径。

2.根据权利要求1所述的搅拌/脱泡装置，其中，

真空测量部针对由密封体密封的容器的空间而设置。

3.根据权利要求2所述的搅拌/脱泡装置，其中，

自转体包括：

自转体主体部；以及

周壁部，设置于自转体主体部的前端部，并且，内部形成为容纳容器的容纳凹部，

密封体是可自由装卸地安装于周壁部的端部并密封容纳凹部的密封盖，

真空测量部设置于密封盖。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的搅拌/脱泡装置，其中，

真空测量部内置有电源且具有无线通信功能。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的搅拌/脱泡装置，其中，

真空单元还包括设置于各独立的路径的、能够单独控制的至少两个以上的开闭阀。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的搅拌/脱泡装置，其中，

还包括规定公转轴的公转轴体，

吸引路径包括：

以容器为开始端穿过自转体内的路径；

出自转体之后朝向公转中心的路径；

穿过公转轴体内的路径；以及

出公转轴体之后向系统外延伸的路径，

以容器为开始端穿过自转体内的路径和出自转体之后朝向公转中心的路径，经由旋转接头连接，

出自转体之后朝向公转中心的路径或出公转轴体之后向系统外延伸的路径中的任一个路径和穿过公转轴体内的路径，经由旋转接头连接。

7.根据权利要求6所述的搅拌/脱泡装置，其中，

至少以容器为开始端穿过自转体内的路径、出自转体之后朝向公转中心的路径、以及穿过公转轴体内的路径，与各容器对应地形成为独立的路径。

8.根据权利要求6所述的搅拌/脱泡装置，其中，

各独立的路径在出自转体之后朝向公转中心的路径与穿过公转轴体内的路径之间的旋转接头内合流。

9.一种搅拌/脱泡装置，其中，包括：

公转体，能够以公转轴为中心旋转；

至少两个以上自转体，能够以公转体上的至少两个以上的自转轴中的各自转轴为中心旋转，并且分别能够保持容器；以及

真空单元，吸引各容器内的空气，使各容器内成为真空状态，

真空单元包括：

密封体，密封各容器；

真空产生源；

吸引路径，以各容器为开始端朝向公转中心，穿过公转中心向系统外延伸，到达设置在系统外的真空产生源，并且，所述吸引路径从开始端开始至少一部分与各容器对应地形成为独立的路径；以及

至少两个以上开闭阀，设置于各独立的路径且能够单独控制。

10.一种搅拌/脱泡装置，其中，包括：

公转体，能够以公转轴为中心旋转；

自转体，能够以公转体上的自转轴为中心旋转，并且能够保持容器；以及

真空单元，吸引容器内的空气，使容器内成为真空状态，

真空单元包括：

密封体，密封容器；

真空产生源；

吸引路径，以容器为开始端朝向公转中心，穿过公转中心向系统外延伸，到达设置在系统外的真空产生源；以及

真空测量部，针对由密封体密封的容器的空间而设置。

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