JP6784023B2 - 組成物、該組成物を用いた部材、及びその製造方法、並びに該部材を備えたタッチパネル - Google Patents
組成物、該組成物を用いた部材、及びその製造方法、並びに該部材を備えたタッチパネル Download PDFInfo
- Publication number
- JP6784023B2 JP6784023B2 JP2015253424A JP2015253424A JP6784023B2 JP 6784023 B2 JP6784023 B2 JP 6784023B2 JP 2015253424 A JP2015253424 A JP 2015253424A JP 2015253424 A JP2015253424 A JP 2015253424A JP 6784023 B2 JP6784023 B2 JP 6784023B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- alkoxysilane
- antifouling layer
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims description 94
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 claims description 68
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 49
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 32
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims description 23
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 17
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 10
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 10
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000006376 (C3-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000002729 alkyl fluoride group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 7
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 5
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000003669 anti-smudge Effects 0.000 claims 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 56
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 27
- 239000010408 film Substances 0.000 description 26
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 25
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 18
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 14
- -1 methylsiloxane Chemical class 0.000 description 13
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 10
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 7
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- 229910003471 inorganic composite material Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 3
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 3
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N decyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 2
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- AVYKQOAMZCAHRG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F AVYKQOAMZCAHRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005376 alkyl siloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N but-2-ene Chemical group CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006343 heptafluoro propyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 125000005246 nonafluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 210000002374 sebum Anatomy 0.000 description 1
- 230000035807 sensation Effects 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- NIINUVYELHEORX-UHFFFAOYSA-N triethoxy(triethoxysilylmethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C[Si](OCC)(OCC)OCC NIINUVYELHEORX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Description
本発明は、基材上に防汚層を形成した部材、その製造方法、該部材を備えたタッチパネル、及び該防汚層を形成する組成物に関する。
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機・無機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー、ＶＦＤ（Ｖａｃｕｕｍ Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＥＰＤ（Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃ Ｄｉｓｐｌａｙ）などの画像表示装置、タッチパネル、携帯電話、音楽プレーヤーなどの携帯用電子機器、ＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ Ｄｉｓｋ）、ＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｋ）、ブルーレイディスクなどの光記録媒体等は、その取り扱い時に、表面に指紋、皮脂、汗などの汚れが付着することがある。このような汚れは、画像表示装置、タッチパネルや各種電子機器のディスプレイの場合には、視認性を低下させ、該ディスプレイ上で操作する場合には、操作性に悪影響を及ぼすことがある。また、上記光記録媒体においては、信号の記録及び再生に障害が発生することがある。
したがって、上記物品の表面には、汚れの付着防止性や汚れの拭き取りやすさといった特性（防汚性）を付与することが必要となる。
そこで、物品表面に防汚性あるいは撥水性のある薄膜を形成することが種々検討されている。
したがって、上記物品の表面には、汚れの付着防止性や汚れの拭き取りやすさといった特性（防汚性）を付与することが必要となる。
そこで、物品表面に防汚性あるいは撥水性のある薄膜を形成することが種々検討されている。
例えば、特許文献１には、真空蒸着法によって基材表面に防汚性あるいは撥水性のあるフルオロアルキルシランを用いて形成させた防汚性薄膜が開示されている。
また、特許文献２には、固体表面に有機シランと金属アルコキシドとを加水分解、縮重合させて形成させた有機‐無機ハイブリット皮膜が開示されている。
また、特許文献２には、固体表面に有機シランと金属アルコキシドとを加水分解、縮重合させて形成させた有機‐無機ハイブリット皮膜が開示されている。
しかしながら、特許文献１に記載の薄膜は、表面自由エネルギーは低下させることが可能だが、滑落性についての言及がない。ここで、本発明において「滑落性」とは、汚れの付き難さ及び汚れの拭き取りやすさを表す指標である。一般にパーフルオロアルキル基で修飾した面は、パーフルオロアルキル基の剛直性により滑落性が得られず、指紋の付着や拭き取りと言った防汚性が十分でない。したがって、特許文献１も同様と考えられる。
また、特許文献２に記載の皮膜は、有機シランと共に金属アルコキシドを用いることにより、従来の有機シラン単独で形成した薄膜と比較して、該皮膜表面の液滴の滑落性を改善させているものの、アルキルシランを用いた場合には表面自由エネルギーが十分に低下しないことや、パーフルオロアルキルシランを用いた場合にはパーフルオロアルキル基が剛直であることから、汚れの付着防止や拭き取りに対する効果は十分なものではなかった。
また、特許文献２に記載の皮膜は、有機シランと共に金属アルコキシドを用いることにより、従来の有機シラン単独で形成した薄膜と比較して、該皮膜表面の液滴の滑落性を改善させているものの、アルキルシランを用いた場合には表面自由エネルギーが十分に低下しないことや、パーフルオロアルキルシランを用いた場合にはパーフルオロアルキル基が剛直であることから、汚れの付着防止や拭き取りに対する効果は十分なものではなかった。
また、スマートフォンやタブレット端末等のタッチパネルディスプレイを有する端末の操作には、画面を指で触れる（タップ）、触れながら指を移動させる（スライド、ピンチ）といった動作が必須となる。そのため、テレビ等のディスプレイに用いられる従来の防汚部材に比べて指紋付着による汚れの頻度が高く、指紋付着による汚れ防止に対する要望が大きくなっており、従来求められていた防汚性よりも高い性能が要求されている。
しかしながら、上述したような従来の防汚部材では、実際に指で圧力をかけながら触れつつ指紋を付着させるという、タッチパネル特有の指紋付着問題の解決には不十分であった。
しかしながら、上述したような従来の防汚部材では、実際に指で圧力をかけながら触れつつ指紋を付着させるという、タッチパネル特有の指紋付着問題の解決には不十分であった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、汚れの付着防止性や汚れの拭き取りやすさ等といった防汚性に優れた部材、該部材の製造方法、該部材の防汚層を形成する組成物、及び該部材を備えたタッチパネルを提供することを目的とする。
本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、一般式（１）又は（２）で表される特定の構造を有するアルコキシシランとを組み合わせて用いることにより、部材表面の防汚性を向上させることができることを見出した。
本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、以下の［１］〜［８］を提供する。
［１］基材上に防汚層を形成してなる部材であって、
該防汚層がパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと下記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種との縮重合物を含むことを特徴とする、部材。
（式中、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、又は環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１及びＲ２が複数ある場合、複数のＲ１及びＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは２〜４の整数である。）
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｙは２価の有機基である。複数のＲ３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
［２］前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランが、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランであることを特徴とする、上記［１］に記載の部材。
［３］前記一般式（１）で表されるアルコキシシランが、テトラアルコキシシランであることを特徴とする、上記［１］又は［２］に記載の部材。
［４］前記テトラアルコキシシランが、テトラメトキシシラン及びテトラエトキシシランから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする、上記［１］〜［３］のいずれか一項に記載の部材。
［５］前記防汚層表面の純水の接触角が９５°以上、且つ、滑落角が３０°以下であることを特徴とする、上記［１］〜［４］のいずれか一項に記載の部材。
［６］基材上に防汚層を形成してなる部材の製造方法であって、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと下記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とを、有機溶媒と水と酸との混合溶媒中で加水分解、縮重合して得られた縮重合物を含む組成物を調製する工程（１）と、該組成物を該基材に塗布して防汚層を形成する工程（２）とを有することを特徴とする、部材の製造方法。
（式中、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、又は環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１及びＲ２が複数ある場合、複数のＲ１及びＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは２〜４の整数である。）
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｙは２価の有機基である。複数のＲ３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
［７］上記［１］〜［５］のいずれか一項に記載の部材を備えたタッチパネル。
［８］パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと下記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種との縮重合物を含む組成物。
（式中、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、又は環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１及びＲ２が複数ある場合、複数のＲ１及びＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは２〜４の整数である。）
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｙは２価の有機基である。複数のＲ３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
［１］基材上に防汚層を形成してなる部材であって、
該防汚層がパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと下記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種との縮重合物を含むことを特徴とする、部材。
（式中、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、又は環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１及びＲ２が複数ある場合、複数のＲ１及びＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは２〜４の整数である。）
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｙは２価の有機基である。複数のＲ３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
［２］前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランが、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランであることを特徴とする、上記［１］に記載の部材。
［３］前記一般式（１）で表されるアルコキシシランが、テトラアルコキシシランであることを特徴とする、上記［１］又は［２］に記載の部材。
［４］前記テトラアルコキシシランが、テトラメトキシシラン及びテトラエトキシシランから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする、上記［１］〜［３］のいずれか一項に記載の部材。
［５］前記防汚層表面の純水の接触角が９５°以上、且つ、滑落角が３０°以下であることを特徴とする、上記［１］〜［４］のいずれか一項に記載の部材。
［６］基材上に防汚層を形成してなる部材の製造方法であって、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと下記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とを、有機溶媒と水と酸との混合溶媒中で加水分解、縮重合して得られた縮重合物を含む組成物を調製する工程（１）と、該組成物を該基材に塗布して防汚層を形成する工程（２）とを有することを特徴とする、部材の製造方法。
（式中、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、又は環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１及びＲ２が複数ある場合、複数のＲ１及びＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは２〜４の整数である。）
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｙは２価の有機基である。複数のＲ３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
［７］上記［１］〜［５］のいずれか一項に記載の部材を備えたタッチパネル。
［８］パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと下記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種との縮重合物を含む組成物。
（式中、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、又は環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１及びＲ２が複数ある場合、複数のＲ１及びＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは２〜４の整数である。）
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｙは２価の有機基である。複数のＲ３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
本発明によれば、本来有する光学物性や物理特性を維持しながら、防汚性に優れた部材、該部材の製造方法、該部材の防汚層を形成する組成物、及び該部材を備えたタッチパネルを提供することができる。
まず、本発明の部材について説明する。
［部材］
本発明の部材は、基材上にパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと下記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種との縮重合物を含む防汚層を形成したものである。
ここで、本発明において「パーフルオロポリエーテル構造を有する」とは、パーフルオロポリエーテル結合を含む基を有することを意味する。
（式中、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、又は環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１及びＲ２が複数ある場合、複数のＲ１及びＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは２〜４の整数である。）
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｙは２価の有機基である。複数のＲ３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
［部材］
本発明の部材は、基材上にパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと下記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種との縮重合物を含む防汚層を形成したものである。
ここで、本発明において「パーフルオロポリエーテル構造を有する」とは、パーフルオロポリエーテル結合を含む基を有することを意味する。
（式中、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、又は環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１及びＲ２が複数ある場合、複数のＲ１及びＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは２〜４の整数である。）
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｙは２価の有機基である。複数のＲ３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
＜基材＞
本発明の部材に用いる基材としては、例えば、ガラス板、酸化アルミ板、スピン−オン−グラス（ＳＯＧ）材料などの各種無機系材料、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などの各種有機系樹脂材料、有機−無機複合材料などが挙げられる。なかでも、シランとの反応性の観点から、表面に水酸基を有するものが好ましく、また、材料の加工性、得られる部材の機械的強度、及び防汚層の形成しやすさなどの観点から、ガラス板又は有機−無機複合材料が好ましく、ガラス板がより好ましい。ガラス板は強度を向上させる目的から、化学的に強化をしても良い。ＳＯＧ材料としては、メチルシロキサンなどのアルキルシロキサン系材料や、ヒドロキシシルセスキオキサン系材料、シラザン系材料、シルセスキオキサン系材料などが挙げられ、耐久性などの点からシルセスキオキサン系材料が好ましい。
市販品のＳＯＧ材料としては、例えば層間絶縁膜用塗布材料「ＨＳＧ」（商品名、日立化成（株）製）、東京応化工業（株）製のＯＣＮシリーズなどが挙げられる。また市販品の有機−無機複合材料としては、ＵＶ照射により最表面が自発的に無機化する有機−無機複合材料（商品名「ＮＨ−１０００Ｇ」、日本曹達（株）製）などが挙げられる。
なお、上記基材の形状は、平面構造であってもよいし、立体構造であってもよい。
本発明の部材に用いる基材としては、例えば、ガラス板、酸化アルミ板、スピン−オン−グラス（ＳＯＧ）材料などの各種無機系材料、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などの各種有機系樹脂材料、有機−無機複合材料などが挙げられる。なかでも、シランとの反応性の観点から、表面に水酸基を有するものが好ましく、また、材料の加工性、得られる部材の機械的強度、及び防汚層の形成しやすさなどの観点から、ガラス板又は有機−無機複合材料が好ましく、ガラス板がより好ましい。ガラス板は強度を向上させる目的から、化学的に強化をしても良い。ＳＯＧ材料としては、メチルシロキサンなどのアルキルシロキサン系材料や、ヒドロキシシルセスキオキサン系材料、シラザン系材料、シルセスキオキサン系材料などが挙げられ、耐久性などの点からシルセスキオキサン系材料が好ましい。
市販品のＳＯＧ材料としては、例えば層間絶縁膜用塗布材料「ＨＳＧ」（商品名、日立化成（株）製）、東京応化工業（株）製のＯＣＮシリーズなどが挙げられる。また市販品の有機−無機複合材料としては、ＵＶ照射により最表面が自発的に無機化する有機−無機複合材料（商品名「ＮＨ−１０００Ｇ」、日本曹達（株）製）などが挙げられる。
なお、上記基材の形状は、平面構造であってもよいし、立体構造であってもよい。
基材として用いられるガラス板の厚みは、特に制限はないが、光学特性や耐久性の観点から、好ましくは０．０１〜１００ｍｍ、より好ましくは０．０２〜１０ｍｍである。また基材として用いられる樹脂フィルムの厚みは、強度及び光学特性の観点から、好ましくは１〜５００μｍ、より好ましくは３〜３００μｍである。
基材の表面には、光学特性の向上のために低反射層を形成してもよい。低反射層はスパッタリング法等により無機化合物を複数層積層することで形成できる。また、基材や上記低反射層の表面には、接着性を向上させて使用環境下での長期の信頼性を向上させるために、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布や、接着層としての無機層の成膜を予め行ってもよい。無機層としてはシリコン系化合物が好ましく、ＳｉＯ２やＳｉＯｘが接着性や耐久性の観点からより好ましい。上記接着層は蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーティング法、化学気相成長法といった方法を用いて成膜できる。また、これらの層の形成の有無にかかわらず、接着性を向上させるために、コロナ放電処理、酸化処理、プラズマ処理等の物理的な処理を行ってもよい。
また、ディスプレイ等として用いる観点から、上記基材の全光線透過率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。基材の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光線透過率の試験方法）に準拠する方法により測定することができる。
基材の表面には、光学特性の向上のために低反射層を形成してもよい。低反射層はスパッタリング法等により無機化合物を複数層積層することで形成できる。また、基材や上記低反射層の表面には、接着性を向上させて使用環境下での長期の信頼性を向上させるために、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布や、接着層としての無機層の成膜を予め行ってもよい。無機層としてはシリコン系化合物が好ましく、ＳｉＯ２やＳｉＯｘが接着性や耐久性の観点からより好ましい。上記接着層は蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーティング法、化学気相成長法といった方法を用いて成膜できる。また、これらの層の形成の有無にかかわらず、接着性を向上させるために、コロナ放電処理、酸化処理、プラズマ処理等の物理的な処理を行ってもよい。
また、ディスプレイ等として用いる観点から、上記基材の全光線透過率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。基材の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光線透過率の試験方法）に準拠する方法により測定することができる。
＜防汚層＞
本発明の部材に用いる防汚層は、防汚性を有する層であり、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種との縮重合物（以下、単に「縮重合物」ともいう）を含む。上記縮重合物が、パーフルオロポリエーテル構造を有することにより、防汚層の表面自由エネルギーを低下させ、汚れを付き難くすることができる。また、上記縮重合物が、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とが縮重合した構造であるため、隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することにより、滑落性が向上し、更に汚れを付き難くし、かつ、付いた汚れの拭き取りを容易にすることができる。
上記防汚層を占める上記縮重合物の割合は、６０〜１００質量％であることが好ましく、７０〜１００質量％であることがより好ましく、８０〜１００質量％であることが更に好ましい。
本発明の部材に用いる防汚層は、防汚性を有する層であり、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種との縮重合物（以下、単に「縮重合物」ともいう）を含む。上記縮重合物が、パーフルオロポリエーテル構造を有することにより、防汚層の表面自由エネルギーを低下させ、汚れを付き難くすることができる。また、上記縮重合物が、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とが縮重合した構造であるため、隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することにより、滑落性が向上し、更に汚れを付き難くし、かつ、付いた汚れの拭き取りを容易にすることができる。
上記防汚層を占める上記縮重合物の割合は、６０〜１００質量％であることが好ましく、７０〜１００質量％であることがより好ましく、８０〜１００質量％であることが更に好ましい。
（パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン）
前記縮重合物の原料として用いられるパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランは、パーフルオロポリエーテル構造を有することにより、防汚層の表面自由エネルギーを低下させ、汚れを付き難くする。更に、隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することにより、更に汚れを付き難くし、かつ、付いた汚れの拭き取りを容易にする。
上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとしては、例えば、下記一般式（３）乃至（６）で表される化合物が挙げられ、防汚性の観点から、下記一般式（３）で表される化合物が好ましい。
前記縮重合物の原料として用いられるパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランは、パーフルオロポリエーテル構造を有することにより、防汚層の表面自由エネルギーを低下させ、汚れを付き難くする。更に、隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することにより、更に汚れを付き難くし、かつ、付いた汚れの拭き取りを容易にする。
上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとしては、例えば、下記一般式（３）乃至（６）で表される化合物が挙げられ、防汚性の観点から、下記一般式（３）で表される化合物が好ましい。
（式中、Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基である。但し、複数のＲ４は同一でも異なっていてもよい。Ｒ５〜Ｒ１２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の２価の有機基を示す。Ｚ１はシロキサン結合を有する１〜１０価のオルガノポリシロキサン基であり、Ｚ２はシロキサン結合を有する２〜１０価のオルガノポリシロキサン基である。Ｑはパーフルオロポリエーテル結合を含む基である。Ｒｆは、直鎖または分岐鎖構造のフッ化アルキル基である。ｎは１〜２００の整数、ｍは１〜１０の整数である。）
上記Ｒ４の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられ、防汚性及び反応性の観点からメチル基、エチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
上記Ｒ５〜Ｒ１２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２、好ましくは炭素数３〜８の２価の有機基であり、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基（トリメチレン基、メチルエチレン基）、ブチレン基（テトラメチレン基、メチルプロピレン基）、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等のアルキレン基、フェニレン基等のアリーレン基、又はこれらの基の２種以上の組み合わせ等が挙げられる。また、これらの基は、エーテル結合、アミド結合、エステル結合、及びビニル結合を含んでいてもよく、更に、酸素原子、窒素原子及びフッ素原子を含んでいてもよい。
上記Ｒ５〜Ｒ１２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２、好ましくは炭素数３〜８の２価の有機基であり、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基（トリメチレン基、メチルエチレン基）、ブチレン基（テトラメチレン基、メチルプロピレン基）、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等のアルキレン基、フェニレン基等のアリーレン基、又はこれらの基の２種以上の組み合わせ等が挙げられる。また、これらの基は、エーテル結合、アミド結合、エステル結合、及びビニル結合を含んでいてもよく、更に、酸素原子、窒素原子及びフッ素原子を含んでいてもよい。
上記Ｚ２のシロキサン結合を有する２〜１０価のオルガノポリシロキサン基としては、例えば、以下の一般式（７−１）〜（７−１２）で表される基が挙げられる。
上記一般式（７−１）〜（７−１２）で表される基の中でも、本発明の効果である防汚性を得る観点から、一般式（７−１）、（７−２）、（７−３）、（７−４）、（７−７）で表される基が好ましい。
上記Ｑのパーフルオロポリエーテル結合を含む基としては、例えば、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−Ｃ（ＣＦ３）２Ｏ−などが挙げられる。
中でも、防汚性の観点から、−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−が好ましい。これらは、１種類のみでも２種類以上を含んでもよい。
中でも、防汚性の観点から、−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−が好ましい。これらは、１種類のみでも２種類以上を含んでもよい。
上記Ｒｆは、直鎖または分岐鎖構造のフッ化アルキル基であり、本発明の効果を得る観点から、直鎖のフッ化アルキル基が好ましい。
直鎖のフッ化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基等が挙げられ、分岐鎖構造のフッ化アルキル基としては、１−（トリフルオロメチル）−１，２，２，２−テトラフルオロエチル基、１，１−ジ（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエチル基、２−（トリフルオロメチル）−１，１，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基などが挙げられる。
直鎖のフッ化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基等が挙げられ、分岐鎖構造のフッ化アルキル基としては、１−（トリフルオロメチル）−１，２，２，２−テトラフルオロエチル基、１，１−ジ（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエチル基、２−（トリフルオロメチル）−１，１，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基などが挙げられる。
上記ｎは、１〜２００の整数であり、防汚性の観点から、好ましくは２〜１００、より好ましくは、３〜６０である。ｎを１以上とすることで基材表面を十分に被覆することができ、防汚層表面の表面自由エネルギーが低下し、防汚性を向上させることができる。ｎを２００以下とすることで、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＲ４）３）の反応性を高めることができる。
上記ｍは、１〜１０の整数であり、防汚性の観点から、好ましくは１〜７、より好ましくは、１〜５である。ｍを１以上とすることで滑り性が向上し、より高い防汚性が得られる。ｍを１０以下とすることで、表面自由エネルギーの増大を抑制し、防汚性の低下を抑制できる。
上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランは、防汚性及び反応性の観点から、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランであることが好ましい。
また、上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとしては、信越化学（株）製「Ｘ−７１−１９５」、「ＫＹ−１７８」、「ＫＹ−１６４」、「ＫＹ−１０８」、「ＫＰ−９１１」、ダイキン工業（株）製「オプツールＤＳＸ」、「オプツールＤＳＸ−Ｅ」等が商業的に入手可能であり、生産性及び防汚性の観点から、「Ｘ−７１−１９５」が好ましい。
また、上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとしては、信越化学（株）製「Ｘ−７１−１９５」、「ＫＹ−１７８」、「ＫＹ−１６４」、「ＫＹ−１０８」、「ＫＰ−９１１」、ダイキン工業（株）製「オプツールＤＳＸ」、「オプツールＤＳＸ−Ｅ」等が商業的に入手可能であり、生産性及び防汚性の観点から、「Ｘ−７１−１９５」が好ましい。
（一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシラン）
下記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランは、前記縮重合物の原料として用いられる。
（式中、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、又は環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１及びＲ２が複数ある場合、複数のＲ１及びＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは２〜４の整数である。）
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｙは２価の有機基である。複数のＲ３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
下記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランは、前記縮重合物の原料として用いられる。
（式中、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、又は環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１及びＲ２が複数ある場合、複数のＲ１及びＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは２〜４の整数である。）
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｙは２価の有機基である。複数のＲ３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
上記一般式（１）中のＲ１の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられる。中でも、防汚性及び反応性の観点から、メチル基、エチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
上記Ｒ２は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、環形成原子数６〜２０のアリール基である。中でも、防汚性及び反応性の観点から、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基が好ましい。
上記Ｒ２の炭素数１〜１０、好ましくは１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。中でも、防汚性及び反応性の観点から、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
上記Ｒ２の炭素数２〜８、好ましくは２〜４のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基などが挙げられ、防汚性及び反応性の観点から、ビニル基が好ましい。
上記Ｒ２の環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
上記Ｒ２の環形成原子数６〜２０、好ましくは６〜１２のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基等が挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
上記Ｒ２の環形成原子数６〜２０、好ましくは６〜１２のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基等が挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
上記アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、及びアリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、アルコキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等が挙げられる。中でも、メタクリロイルオキシ基が好ましい。
ｘは２〜４の整数であり、防汚性及び反応性の観点から、好ましくは３又は４であり、より好ましくは４である。
上記一般式（２）中のＲ３の炭素数１〜６のアルキル基としては、上記Ｒ１と同じものが挙げられ、中でも、防汚性及び反応性の観点から、メチル基、エチル基が好ましい。
上記Ｙの２価の有機基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基等の炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基等の炭素数６〜１４のアリーレン基などが挙げられる。中でも耐久性の観点から、メチレン基、エチレン基が好ましい。
上記Ｙの２価の有機基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基等の炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基等の炭素数６〜１４のアリーレン基などが挙げられる。中でも耐久性の観点から、メチレン基、エチレン基が好ましい。
前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランは、防汚性及び反応性の観点から、前記一般式（１）で表されるアルコキシシランが好ましく、中でも、トリアルコキシシラン、テトラアルコキシシランが好ましく、テトラアルコキシシランがより好ましい。
トリアルコキシシランの具体例としては、トリメトキシ（メチル）シラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。中でも、トリメトキシ（メチル）シラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましく、トリメトキシ（メチル）シラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランがより好ましく、トリメトキシ（メチル）シラン、ビニルトリメトキシシランがさらに好ましい。
トリアルコキシシランの具体例としては、トリメトキシ（メチル）シラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。中でも、トリメトキシ（メチル）シラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましく、トリメトキシ（メチル）シラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランがより好ましく、トリメトキシ（メチル）シラン、ビニルトリメトキシシランがさらに好ましい。
テトラアルコキシシランは、４つのアルコキシ基を有することから、前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとの反応性が高い。テトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン及びテトラエトキシシランから選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
２種以上を併用する場合、その組み合わせは特に限定されないが、防汚性及び反応性の観点から、テトラアルコキシシランと、トリアルコキシシランとの組み合わせが好ましい。テトラアルコキシシランと、トリアルコキシシランとの重量比は、任意の値により本発明の効果を得ることができるが、防汚性に加えて機械的強度、耐薬品性も併せて付与する観点から、好ましくは１：０〜１００、より好ましくは１：０．０１〜９９、更に好ましくは１：０．０３〜９８である。
２種以上を併用する場合、その組み合わせは特に限定されないが、防汚性及び反応性の観点から、テトラアルコキシシランと、トリアルコキシシランとの組み合わせが好ましい。テトラアルコキシシランと、トリアルコキシシランとの重量比は、任意の値により本発明の効果を得ることができるが、防汚性に加えて機械的強度、耐薬品性も併せて付与する観点から、好ましくは１：０〜１００、より好ましくは１：０．０１〜９９、更に好ましくは１：０．０３〜９８である。
（組成物）
前記防汚層を形成する組成物は、上記縮重合物を含む。該縮重合物は、有機溶媒と水と酸との混合溶媒中で前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とを加水分解、縮重合して得られる態様が好ましい。
具体的には、上記縮重合物は、前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランのアルコキシ基、並びに前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種が有するアルコキシ基がそれぞれ加水分解してシラノール基を形成した後、それぞれのシラノール基が縮重合することにより得られる。
前記防汚層を形成する組成物は、上記縮重合物を含む。該縮重合物は、有機溶媒と水と酸との混合溶媒中で前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とを加水分解、縮重合して得られる態様が好ましい。
具体的には、上記縮重合物は、前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランのアルコキシ基、並びに前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種が有するアルコキシ基がそれぞれ加水分解してシラノール基を形成した後、それぞれのシラノール基が縮重合することにより得られる。
有機溶媒としては、上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランを溶解させる観点から、好ましくはフッ素系溶媒が用いられる。また、水との溶解性の観点から、フッ素系溶媒と両親媒性溶媒との混合有機溶媒であることが好ましい。
両親媒性溶媒としては、例えば、アルコール類、ケトン類等の水溶性の有機溶媒が好適に用いられる。上記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、ターシャリーブチルアルコール等が挙げられる。上記ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。その他の水溶性の有機溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、酢酸エチル等が用いられる。これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。
両親媒性溶媒としては、例えば、アルコール類、ケトン類等の水溶性の有機溶媒が好適に用いられる。上記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、ターシャリーブチルアルコール等が挙げられる。上記ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。その他の水溶性の有機溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、酢酸エチル等が用いられる。これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。
組成物中の有機溶媒の配合量は、好ましくは９０．０００〜９９．９９９質量％、より好ましくは９２．００〜９９．９９質量％、更に好ましくは９５．０〜９９．９質量％である。９０．０００質量％以上とすることで、混合溶媒中での反応を均一に進めると共に、該組成物から形成された防汚層を均一透明なものとすることができ、９９．９９９質量％以下とすることで、基材表面に十分な防汚層を形成することができる。
水としては、イオン交換水、蒸留水等が挙げられる。また、上記混合溶媒中に含有される水の配合量は、０．００１質量％以上であれば、特に限定されないが、好ましくは０．００１〜１．０００質量％、より好ましくは０．００５〜０．５００質量％の割合で配合する。０．００１質量％以上とすることで、上記加水分解が促進され、１．０００質量％以下とすることで、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランの沈殿を抑制することができる。
酸としては、上記加水分解を促進する作用を有するものであれば特に限定されず、塩酸、硫酸、硝酸、ホウ酸、リン酸、コハク酸、酢酸、蟻酸、シュウ酸、クエン酸、安息香酸等が挙げられ、反応性や乾燥時の防汚層からの除去の観点から、塩酸が好ましい。また、上記混合溶媒中に含有される酸の配合量は、上記加水分解を促進させる観点から、好ましくは０．０００００１〜１０．００００００質量％、より好ましくは０．００００１〜５．０００００質量％、更に好ましくは０．０００１〜１．００００質量％である。
本発明の組成物には、以上の各成分の他に、本発明の効果を阻害しない範囲で、この種の組成物に一般に配合される光酸発生剤や光塩基発生剤等を必要に応じて配合することができる。該光酸発生剤もしくは光塩基発生剤を配合することにより、より強固な防汚層を形成することができる。
また、上記組成物の固形分濃度は、好ましくは０．０１〜１５．００質量％であり、より好ましくは０．０５〜１０．００質量％であり、更に好ましくは０．１〜５．０質量％である。０．０１質量％以上とすることで、防汚層の硬化を促進することができ、１５．００質量％以下とすることで、防汚層の着色や防汚性の低下を抑制することができる。
また、上記組成物の固形分濃度は、好ましくは０．０１〜１５．００質量％であり、より好ましくは０．０５〜１０．００質量％であり、更に好ましくは０．１〜５．０質量％である。０．０１質量％以上とすることで、防汚層の硬化を促進することができ、１５．００質量％以下とすることで、防汚層の着色や防汚性の低下を抑制することができる。
防汚層の厚みは特に限定されないが、防汚性、及び耐久性の観点から、好ましくは１〜３０ｎｍ（推定値）、より好ましくは１〜１０ｎｍ（推定値）である。
防汚層は、従来、汚れを付き難くするために、水と油脂との接触角を大きくすることが検討されてきた。これに対して、本発明では、水と油脂との接触角を大きくするとともに、両者の滑落角を小さくすることで、高い滑落性が得られることにより、汚れを付き難く、かつ付いた汚れをふき取りやすくしている。
滑落性は、純水及びｎ−ヘキサデカンの滑落角を測定することで評価でき、該滑落角が小さいほど滑落性が良好である。滑落角は、測定対象物である部材の防汚層表面に、水平な状態で１０μＬの純水及び３μＬのｎ−ヘキサデカンを滴下し、部材を徐々に傾斜させて、液滴が滑り始める傾斜角度（滑落角）を測定することにより求められる。測定装置としては、例えば、協和界面科学（株）製の接触角計「ＤＭ ５００」を用いることができる。滑落角は、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
滑落性は、純水及びｎ−ヘキサデカンの滑落角を測定することで評価でき、該滑落角が小さいほど滑落性が良好である。滑落角は、測定対象物である部材の防汚層表面に、水平な状態で１０μＬの純水及び３μＬのｎ−ヘキサデカンを滴下し、部材を徐々に傾斜させて、液滴が滑り始める傾斜角度（滑落角）を測定することにより求められる。測定装置としては、例えば、協和界面科学（株）製の接触角計「ＤＭ ５００」を用いることができる。滑落角は、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
本発明の部材は、防汚層表面の純水の接触角が好ましくは９５°以上であり、より好ましくは１１２°以上であり、更に好ましくは１１４°以上である。また、防汚層表面の純水の滑落角が好ましくは３０°以下であり、より好ましくは１５°以下であり、更に好ましくは８°未満である。
上記接触角が９５°以上であると、防汚層が低い表面自由エネルギーを有していることを示しており、汚れを付き難くすることができる。また、上記滑落角が３０°以下であると、防汚層表面の滑落性が向上し、さらに汚れを付き難くし、かつ、付いた汚れを拭き取りやすくすることができる。
本発明において、上記接触角を９５°以上とすることができるのは、上記縮重合物が、パーフルオロポリエーテル構造部位を有することに起因すると考えられる。また、上記滑落角を３０°以下とすることができるのは、上記縮重合物が、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とが縮重合した構造であるため、隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することに起因すると考えられる。
なお、接触角は、接触角測定装置（例えば、協和界面科学（株）製の接触角計「ＤＭ ５００」）を用いて、純水及びｎ−ヘキサデカンに対する接触角をθ／２法により測定することで求められる。接触角は、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
上記接触角が９５°以上であると、防汚層が低い表面自由エネルギーを有していることを示しており、汚れを付き難くすることができる。また、上記滑落角が３０°以下であると、防汚層表面の滑落性が向上し、さらに汚れを付き難くし、かつ、付いた汚れを拭き取りやすくすることができる。
本発明において、上記接触角を９５°以上とすることができるのは、上記縮重合物が、パーフルオロポリエーテル構造部位を有することに起因すると考えられる。また、上記滑落角を３０°以下とすることができるのは、上記縮重合物が、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とが縮重合した構造であるため、隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することに起因すると考えられる。
なお、接触角は、接触角測定装置（例えば、協和界面科学（株）製の接触角計「ＤＭ ５００」）を用いて、純水及びｎ−ヘキサデカンに対する接触角をθ／２法により測定することで求められる。接触角は、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
また、本発明の部材は、防汚層表面のｎ−ヘキサデカンの接触角が好ましくは５０°以上であり、より好ましくは５５°以上であり、更に好ましくは６０°以上である。また、防汚層表面のｎ−ヘキサデカンの滑落角が好ましくは１５°以下であり、より好ましくは１０°以下であり、更に好ましくは６°以下である。
本発明者らは、防汚層がパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種との縮重合物を含むことにより、防汚層表面と、指や拭き取りに用いる布等との摩擦係数を小さくし、滑り性を向上させることを見出した。本発明の部材は、水と油脂との接触角を大きくすることにより防汚層の表面自由エネルギーを低下させ、水と油脂との滑落角を小さくすることにより、高い滑落性が得られることに加え、高い滑り性が得られることにより、上記防汚層表面に対し、更に汚れを付き難くし（指紋付着量が少ない）、かつ付いた汚れをふき取りやすくすること（指紋拭取性が良好）ができる。
このように、本発明の部材が、従来の防汚部材では得られなかった極めて優れた防汚性を有するのは、上記縮重合物が有する隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することに起因すると考えられる。
特に、タッチパネル等のような指でスライドさせて用いる表面の防汚性を得るには、上記滑り性の向上は重要である。
なお、本発明において「滑り性」とは、部材の防汚層表面の滑らかさを表す指標である。滑り性は、具体的には実施例に記載の方法により評価することができる。
このように、本発明の部材が、従来の防汚部材では得られなかった極めて優れた防汚性を有するのは、上記縮重合物が有する隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することに起因すると考えられる。
特に、タッチパネル等のような指でスライドさせて用いる表面の防汚性を得るには、上記滑り性の向上は重要である。
なお、本発明において「滑り性」とは、部材の防汚層表面の滑らかさを表す指標である。滑り性は、具体的には実施例に記載の方法により評価することができる。
［部材の製造方法］
次に、前述する部材の製造方法を説明する。
本発明の部材の製造方法は、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とを、有機溶媒と水と酸との混合溶媒中で加水分解、縮重合して得られた縮重合物を含む組成物を調製する工程（１）と、該組成物を該基材に塗布して防汚層を形成する工程（２）とを有する。
以下、本発明の部材の製造方法について詳細に説明する。
次に、前述する部材の製造方法を説明する。
本発明の部材の製造方法は、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とを、有機溶媒と水と酸との混合溶媒中で加水分解、縮重合して得られた縮重合物を含む組成物を調製する工程（１）と、該組成物を該基材に塗布して防汚層を形成する工程（２）とを有する。
以下、本発明の部材の製造方法について詳細に説明する。
（工程（１））
本工程においては、例えば、有機溶媒と水と酸との混合溶媒中に、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とを混合、攪拌し、上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とを加水分解し、次いで縮重合することにより縮重合物を得る。
上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン、前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシラン、有機溶媒、水、酸としては、それぞれ上記部材の項で説明したものを用いることができ、有機溶媒、水、及び酸の配合量は、それぞれ上記部材の項で説明した範囲内で適宜調整する。
また、上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランの重量平均分子量は、ＧＰＣ測定により求めることができる。
本工程においては、例えば、有機溶媒と水と酸との混合溶媒中に、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とを混合、攪拌し、上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とを加水分解し、次いで縮重合することにより縮重合物を得る。
上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン、前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシラン、有機溶媒、水、酸としては、それぞれ上記部材の項で説明したものを用いることができ、有機溶媒、水、及び酸の配合量は、それぞれ上記部材の項で説明した範囲内で適宜調整する。
また、上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランの重量平均分子量は、ＧＰＣ測定により求めることができる。
上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、前記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種との重量比は、好ましくは１：０．１〜１０．０、より好ましくは１：０．１５〜８．０、更に好ましくは１：０．２〜６．０である。上記範囲内とすることにより、防汚性を向上させることができる。
加水分解および縮重合反応は、これらの反応が適切に起こる一定の雰囲気下で行うことが好ましい。具体的には、−２５〜１２０℃の範囲で、０．１〜２００時間程度行うことが好ましく、−１０〜１００℃で、０．５〜１５０時間程度行うことがより好ましく、０〜７０℃で、１〜１２０時間程度行うことが更に好ましい。
なお、上記成分の他に、必要に応じて上記部材の項で説明したその他の成分を添加することができる。
なお、上記成分の他に、必要に応じて上記部材の項で説明したその他の成分を添加することができる。
（工程（２））
上記工程（１）で調製した組成物を基材上に塗布して乾燥し、硬化させることにより防汚層を形成する。
上記組成物を塗布する方法は、所望の厚みに均一に塗布できる方法であればよく、従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。例えば、グラビアコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法等が挙げられる。
上記工程（１）で調製した組成物を基材上に塗布して乾燥し、硬化させることにより防汚層を形成する。
上記組成物を塗布する方法は、所望の厚みに均一に塗布できる方法であればよく、従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。例えば、グラビアコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法等が挙げられる。
上記組成物を塗布して形成した膜の乾燥処理の設定条件は、原料、溶媒や、雰囲気の温度や湿度によって変わるが、本発明の効果が得られるのに適した一定の雰囲気下にコントロールした状況で行うことが好ましい。例えば、通常、室温（２５℃）〜３００℃で、０．１〜４８時間程度行うことが好ましく、２５〜２５０℃で、０．２〜２４時間程度行うことがより好ましい。これらの処理は１種類の雰囲気下で完結させてもよく、２種類以上の雰囲気下で段階的に処理してもよい。
本発明の部材は、防汚性に優れるため、手で触れた際に表面に指紋、皮脂、汗などの汚れが付着しやすいもの、例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機・無機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー、ＶＦＤ、ＥＰＤなどの画像表示装置、タッチパネル、携帯電話、音楽プレーヤーなどの携帯用電子機器、ＣＤ、ＤＶＤ、ブルーレイディスクなどの光記録媒体、自動車、電車、航空機などの窓ガラス、外壁用建材、壁紙等の内壁、家電、車載パネル等の表面材として好適に用いられる。
［タッチパネル］
本発明のタッチパネルは、上記部材を備えるものである。
タッチパネルとしては、静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。タッチパネルは、オンセル式でもインセル式でもよい。
本発明のタッチパネルは、例えば、本発明の部材を表面材として備えた各種画像表示装置に使用することができる。なお、上記部材は、各種画像表示装置の画像表示部表面に用いる防汚性フィルムとして好適に用いることができる。
本発明のタッチパネルは、上記部材を備えるものである。
タッチパネルとしては、静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。タッチパネルは、オンセル式でもインセル式でもよい。
本発明のタッチパネルは、例えば、本発明の部材を表面材として備えた各種画像表示装置に使用することができる。なお、上記部材は、各種画像表示装置の画像表示部表面に用いる防汚性フィルムとして好適に用いることができる。
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、実施例に記載の形態に限定されるものではない。
実施例及び比較例の部材の評価は以下のようにして行った。
実施例及び比較例の部材の評価は以下のようにして行った。
（１）接触角の測定
協和界面科学（株）製の接触角計「ＤＭ ５００」を用いて、純水及びｎ−ヘキサデカンの接触角を測定した。部材の防汚層表面に１．５μＬの純水を滴下し、着滴１秒後に、θ／２法に従って、滴下した液滴の左右端点と頂点を結ぶ直線の、固体表面に対する角度から接触角を算出した。５回測定した平均値を、接触角の値とした。
（２）表面自由エネルギー
上記接触角の測定結果から、以下の基準で表面自由エネルギーを評価した。接触角が大きいほど、表面自由エネルギーが低く優れることを示す。
◎：純水１１０°以上、かつｎ−ヘキサデカン６０°以上
○：純水１１０°未満９５°以上、かつｎ−ヘキサデカン６０°未満５０°以上
×：純水９５°未満もしくはｎ−ヘキサデカン５０°未満
（３）滑落角の測定
協和界面科学（株）製の接触角計「ＤＭ ５００」を用いて、純水及びｎ−ヘキサデカンの滑落角を測定した。部材を水平に配置し、該部材の防汚層表面に１０μＬの純水、及び３μＬのｎ−ヘキサデカンをそれぞれ滴下し、部材を徐々に傾斜させて、液滴が滑り始める傾斜角度（滑落角）を測定した。５回測定した平均値を、滑落角の値とした。
（４）滑落性
上記滑落角の測定結果から、以下の基準で滑落性を評価した。滑落角が小さいほど、滑落性に優れることを示す。
◎:純水１５°未満、かつｎ−ヘキサデカン１０°未満
○:純水１５°以上３０°以下、もしくはｎ−ヘキサデカン１０°以上１５°以下
×:純水３０°超もしくはｎ−ヘキサデカン１５°超
（５）滑り性の評価
被験者１０名が、実施例１〜１５および比較例１〜６で作製した各部材の防汚層表面に指を接触させて、その指を防汚層表面と平行に横方向に往復移動させた（スマートフォンでスライド操作をする様な動き）。その際の指と防汚層表面との摩擦による触感を下記評価基準により判定し、被験者１０名の平均値を求めた。この平均値を下記判定基準に従って判定した。
＜評価基準＞
５点：常に滑らか
３点：滑らか
０点：悪い
＜判定基準＞
○：４．４点以上
△：２．１点以上４．４点未満
×：２．１点未満
（６）指紋付着
シリコーン樹脂版（１０ｍｍφ×３０ｍｍの円柱状）に人工指紋液（伊勢久（株）製、ＪＩＳ Ｃ９６０６の付属書４に準拠）を付着させたものを部材の防汚層表面に押し付けて指紋を付着させた。指紋の付着状態を目視観察し、以下の基準で評価した。
◎：指紋を強く弾いており、付着量が非常に少ない
○：指紋を弾いており、付着量が少ない
△：指紋を弾くが、付着する
×：指紋が広く付着する
（７）指紋拭取性
シリコーン樹脂版（１０ｍｍφ×３０ｍｍの円柱状）に人工指紋液（伊勢久（株）製、ＪＩＳ Ｃ９６０６の付属書４に準拠）を付着させたものを部材の防汚層表面に押し付けて指紋を付着させた。付着させた指紋を旭化成（株）製 ベンコットンで拭取り、指紋の残り跡を目視観察し、以下の基準で評価した。
◎：３回までの拭取りで、指紋の付着跡が完全に見えない
○：４〜７回の拭取りで、指紋の付着跡が完全に見えない
△：８回〜１０回の拭取りで、指紋の付着跡が完全に見えない
×：１０回の拭取り後に指紋の拭き取り跡がはっきりと視認できる
協和界面科学（株）製の接触角計「ＤＭ ５００」を用いて、純水及びｎ−ヘキサデカンの接触角を測定した。部材の防汚層表面に１．５μＬの純水を滴下し、着滴１秒後に、θ／２法に従って、滴下した液滴の左右端点と頂点を結ぶ直線の、固体表面に対する角度から接触角を算出した。５回測定した平均値を、接触角の値とした。
（２）表面自由エネルギー
上記接触角の測定結果から、以下の基準で表面自由エネルギーを評価した。接触角が大きいほど、表面自由エネルギーが低く優れることを示す。
◎：純水１１０°以上、かつｎ−ヘキサデカン６０°以上
○：純水１１０°未満９５°以上、かつｎ−ヘキサデカン６０°未満５０°以上
×：純水９５°未満もしくはｎ−ヘキサデカン５０°未満
（３）滑落角の測定
協和界面科学（株）製の接触角計「ＤＭ ５００」を用いて、純水及びｎ−ヘキサデカンの滑落角を測定した。部材を水平に配置し、該部材の防汚層表面に１０μＬの純水、及び３μＬのｎ−ヘキサデカンをそれぞれ滴下し、部材を徐々に傾斜させて、液滴が滑り始める傾斜角度（滑落角）を測定した。５回測定した平均値を、滑落角の値とした。
（４）滑落性
上記滑落角の測定結果から、以下の基準で滑落性を評価した。滑落角が小さいほど、滑落性に優れることを示す。
◎:純水１５°未満、かつｎ−ヘキサデカン１０°未満
○:純水１５°以上３０°以下、もしくはｎ−ヘキサデカン１０°以上１５°以下
×:純水３０°超もしくはｎ−ヘキサデカン１５°超
（５）滑り性の評価
被験者１０名が、実施例１〜１５および比較例１〜６で作製した各部材の防汚層表面に指を接触させて、その指を防汚層表面と平行に横方向に往復移動させた（スマートフォンでスライド操作をする様な動き）。その際の指と防汚層表面との摩擦による触感を下記評価基準により判定し、被験者１０名の平均値を求めた。この平均値を下記判定基準に従って判定した。
＜評価基準＞
５点：常に滑らか
３点：滑らか
０点：悪い
＜判定基準＞
○：４．４点以上
△：２．１点以上４．４点未満
×：２．１点未満
（６）指紋付着
シリコーン樹脂版（１０ｍｍφ×３０ｍｍの円柱状）に人工指紋液（伊勢久（株）製、ＪＩＳ Ｃ９６０６の付属書４に準拠）を付着させたものを部材の防汚層表面に押し付けて指紋を付着させた。指紋の付着状態を目視観察し、以下の基準で評価した。
◎：指紋を強く弾いており、付着量が非常に少ない
○：指紋を弾いており、付着量が少ない
△：指紋を弾くが、付着する
×：指紋が広く付着する
（７）指紋拭取性
シリコーン樹脂版（１０ｍｍφ×３０ｍｍの円柱状）に人工指紋液（伊勢久（株）製、ＪＩＳ Ｃ９６０６の付属書４に準拠）を付着させたものを部材の防汚層表面に押し付けて指紋を付着させた。付着させた指紋を旭化成（株）製 ベンコットンで拭取り、指紋の残り跡を目視観察し、以下の基準で評価した。
◎：３回までの拭取りで、指紋の付着跡が完全に見えない
○：４〜７回の拭取りで、指紋の付着跡が完全に見えない
△：８回〜１０回の拭取りで、指紋の付着跡が完全に見えない
×：１０回の拭取り後に指紋の拭き取り跡がはっきりと視認できる
実施例１
（組成物の調製）
フッ素系有機溶媒（３Ｍ製、商品名：Ｎｏｖｅｃ ７３００）２８．１ｇと、両親媒性溶媒（関東化学（株）製、商品名：２−プロパノール）４．８ｇと、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）０．１５ｇと、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）０．０７６ｇとを混合した混合溶液中に、水５．９ｍｇと、１Ｍ 塩酸３１．１ｍｇとを添加し、２５℃で３時間攪拌し、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとテトラアルコキシシランとの縮重合物を含む組成物１を得た。
（部材の製造）
ガラス基板（日本電気硝子（株）製、商品名：ＯＡ−１０Ｇ、厚さ７００μｍ）上にスピンコーターを用いて、上記組成物１を、回転速度３０００回転／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。該塗膜を室温（２５℃）で１２時間乾燥し、溶剤を除去し、硬化させ、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
（組成物の調製）
フッ素系有機溶媒（３Ｍ製、商品名：Ｎｏｖｅｃ ７３００）２８．１ｇと、両親媒性溶媒（関東化学（株）製、商品名：２−プロパノール）４．８ｇと、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）０．１５ｇと、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）０．０７６ｇとを混合した混合溶液中に、水５．９ｍｇと、１Ｍ 塩酸３１．１ｍｇとを添加し、２５℃で３時間攪拌し、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとテトラアルコキシシランとの縮重合物を含む組成物１を得た。
（部材の製造）
ガラス基板（日本電気硝子（株）製、商品名：ＯＡ−１０Ｇ、厚さ７００μｍ）上にスピンコーターを用いて、上記組成物１を、回転速度３０００回転／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。該塗膜を室温（２５℃）で１２時間乾燥し、溶剤を除去し、硬化させ、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
実施例２
（基材の作製）
ポリエステルフィルム（東洋紡（株）製、商品名：コスモシャインＡ４１００、厚さ１００μｍ）上にバーコーターを用いて、有機−無機複合材料（日本曹達（株）製、商品名「ＮＨ−１０００Ｇ」）の５３質量％メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）溶液を塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を７０℃で６０秒間乾燥し、溶剤を除去した。
次いで、上記塗膜に高圧水銀灯を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２で照射し、塗膜を硬化させて、硬化後の膜厚が１０μｍの表面が無機化された基材を得た。
（組成物の調製）
フッ素系有機溶媒（３Ｍ製、商品名：Ｎｏｖｅｃ ７３００）１８．７ｇと、両親媒性溶媒（関東化学（株）製、商品名：２−プロパノール）３．２ｇと、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）０．１ｇと、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）０．０５１ｇとを混合した混合溶液中に、水４．０ｍｇと、１Ｍ 塩酸２０．７ｍｇとを添加し、室温（２５℃）で３時間攪拌し、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとテトラアルコキシシランとの縮重合物を含む組成物２を得た。
（部材の製造）
上記基材上にスピンコーターを用いて、上記組成物２を、回転速度３０００回転／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。該塗膜を２５℃で１２時間乾燥し、溶剤を除去し、硬化させ、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
（基材の作製）
ポリエステルフィルム（東洋紡（株）製、商品名：コスモシャインＡ４１００、厚さ１００μｍ）上にバーコーターを用いて、有機−無機複合材料（日本曹達（株）製、商品名「ＮＨ−１０００Ｇ」）の５３質量％メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）溶液を塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を７０℃で６０秒間乾燥し、溶剤を除去した。
次いで、上記塗膜に高圧水銀灯を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２で照射し、塗膜を硬化させて、硬化後の膜厚が１０μｍの表面が無機化された基材を得た。
（組成物の調製）
フッ素系有機溶媒（３Ｍ製、商品名：Ｎｏｖｅｃ ７３００）１８．７ｇと、両親媒性溶媒（関東化学（株）製、商品名：２−プロパノール）３．２ｇと、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）０．１ｇと、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）０．０５１ｇとを混合した混合溶液中に、水４．０ｍｇと、１Ｍ 塩酸２０．７ｍｇとを添加し、室温（２５℃）で３時間攪拌し、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとテトラアルコキシシランとの縮重合物を含む組成物２を得た。
（部材の製造）
上記基材上にスピンコーターを用いて、上記組成物２を、回転速度３０００回転／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。該塗膜を２５℃で１２時間乾燥し、溶剤を除去し、硬化させ、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
実施例３
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＹ−１７８」、固形分２０％）を０．１６５ｇ、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を０．０７６ｇ用いた以外は、実施例１と同様にして部材を得た。
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＹ−１７８」、固形分２０％）を０．１６５ｇ、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を０．０７６ｇ用いた以外は、実施例１と同様にして部材を得た。
実施例４
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＹ−１７８」、固形分２０％）を０．１１ｇ、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を０．０５１ｇ用いた以外は、実施例２と同様にして部材を得た。
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＹ−１７８」、固形分２０％）を０．１１ｇ、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を０．０５１ｇ用いた以外は、実施例２と同様にして部材を得た。
実施例５
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）を１．０ｇ、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を５０．７ｍｇ用いた以外は実施例１と同様にして部材を得た。
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）を１．０ｇ、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を５０．７ｍｇ用いた以外は実施例１と同様にして部材を得た。
実施例６
（組成物の調製）
フッ素系有機溶媒（３Ｍ製、商品名：Ｎｏｖｅｃ ７３００）２８．１ｇと、両親媒性溶媒（関東化学（株）製、商品名：２−プロパノール）４．８ｇと、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）０．１５ｇと、トリアルコキシシラン（トリメトキシ（メチル）シラン）（東京化成工業（株）製、固形分１００％）０．１４ｇとを混合した混合溶液中に、水１１．９ｍｇと、１Ｍ 塩酸６０．６ｍｇとを添加し、２５℃で３時間攪拌し、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとトリアルコキシシランとの縮重合物を含む組成物６を得た。
（部材の製造）
ガラス基板（日本電気硝子（株）製、商品名：ＯＡ−１０Ｇ、厚さ７００μｍ）上にスピンコーターを用いて、上記組成物６を、回転速度３０００回転／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。該塗膜を室温（２５℃）で１２時間乾燥し、溶剤を除去し、硬化させ、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
（組成物の調製）
フッ素系有機溶媒（３Ｍ製、商品名：Ｎｏｖｅｃ ７３００）２８．１ｇと、両親媒性溶媒（関東化学（株）製、商品名：２−プロパノール）４．８ｇと、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）０．１５ｇと、トリアルコキシシラン（トリメトキシ（メチル）シラン）（東京化成工業（株）製、固形分１００％）０．１４ｇとを混合した混合溶液中に、水１１．９ｍｇと、１Ｍ 塩酸６０．６ｍｇとを添加し、２５℃で３時間攪拌し、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとトリアルコキシシランとの縮重合物を含む組成物６を得た。
（部材の製造）
ガラス基板（日本電気硝子（株）製、商品名：ＯＡ−１０Ｇ、厚さ７００μｍ）上にスピンコーターを用いて、上記組成物６を、回転速度３０００回転／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。該塗膜を室温（２５℃）で１２時間乾燥し、溶剤を除去し、硬化させ、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
実施例７
トリアルコキシシランとして、トリメトキシ（メチル）シランの代わりにビニルトリメトキシシラン（東京化成工業（株）製、固形分１００％）を０．１５ｇ用いた以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
トリアルコキシシランとして、トリメトキシ（メチル）シランの代わりにビニルトリメトキシシラン（東京化成工業（株）製、固形分１００％）を０．１５ｇ用いた以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
実施例８
トリアルコキシシランとして、トリメトキシ（メチル）シランの代わりにフェニルトリメトキシシラン（東京化成工業（株）製、固形分１００％）を０．２０ｇ用いた以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
トリアルコキシシランとして、トリメトキシ（メチル）シランの代わりにフェニルトリメトキシシラン（東京化成工業（株）製、固形分１００％）を０．２０ｇ用いた以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
実施例９
トリアルコキシシランとして、トリメトキシ（メチル）シランの代わりに３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名：ＫＢＭ−５０３、固形分１００％）を０．２５ｇ用いた以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
トリアルコキシシランとして、トリメトキシ（メチル）シランの代わりに３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名：ＫＢＭ−５０３、固形分１００％）を０．２５ｇ用いた以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
実施例１０
トリアルコキシシランとして、トリメトキシ（メチル）シランの代わりに３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名：ＫＢＭ−５１０３、固形分１００％）を０．２３ｇ用いた以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
トリアルコキシシランとして、トリメトキシ（メチル）シランの代わりに３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名：ＫＢＭ−５１０３、固形分１００％）を０．２３ｇ用いた以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
実施例１１
トリアルコキシシランの代わりに下記式（８）で表されるアルコキシシラン（ビス（トリエトキシシリル）メタン）（Ｇｅｌｅｓｔ製、固形分１００％）を０．１７ｇ用いた以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
トリアルコキシシランの代わりに下記式（８）で表されるアルコキシシラン（ビス（トリエトキシシリル）メタン）（Ｇｅｌｅｓｔ製、固形分１００％）を０．１７ｇ用いた以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
実施例１２
テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を０．０７６ｇ、トリアルコキシシラン（トリメトキシ（メチル）シラン）（東京化成工業（株）製、固形分１００％）を０．０６８ｇ併用した以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を０．０７６ｇ、トリアルコキシシラン（トリメトキシ（メチル）シラン）（東京化成工業（株）製、固形分１００％）を０．０６８ｇ併用した以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
実施例１３
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）を０．１５ｇと、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を０．０３８ｇと、トリアルコキシシラン（ビニルトリメトキシシラン）（東京化成工業（株）製、固形分１００％）を０．１１ｇとを混合した混合溶液中に、１Ｍ 塩酸６０．６ｍｇを添加した以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）を０．１５ｇと、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を０．０３８ｇと、トリアルコキシシラン（ビニルトリメトキシシラン）（東京化成工業（株）製、固形分１００％）を０．１１ｇとを混合した混合溶液中に、１Ｍ 塩酸６０．６ｍｇを添加した以外は、実施例６と同様にして部材を得た。
実施例１４
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）を０．１５ｇと、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を０．０７６ｇと、トリアルコキシシラン（ビニルトリメトキシシラン）（東京化成工業（株）製、固形分１００％）を０．０７４ｇとを混合した混合溶液中に、水２．９４ｍｇと、１Ｍ 塩酸６０．６ｍｇを添加した以外は、実施例１３と同様にして部材を得た。
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）を０．１５ｇと、テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を０．０７６ｇと、トリアルコキシシラン（ビニルトリメトキシシラン）（東京化成工業（株）製、固形分１００％）を０．０７４ｇとを混合した混合溶液中に、水２．９４ｍｇと、１Ｍ 塩酸６０．６ｍｇを添加した以外は、実施例１３と同様にして部材を得た。
実施例１５
テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を０．１１ｇ、トリアルコキシシラン（ビニルトリメトキシシラン）（東京化成工業（株）製、固形分１００％）を０．０３７ｇ、水７．４４ｍｇに変更した以外は、実施例１４と同様にして部材を得た。
テトラアルコキシシラン（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）を０．１１ｇ、トリアルコキシシラン（ビニルトリメトキシシラン）（東京化成工業（株）製、固形分１００％）を０．０３７ｇ、水７．４４ｍｇに変更した以外は、実施例１４と同様にして部材を得た。
比較例１
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）中の溶剤を除去して得られたパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランをガラス基板上に電子ビーム蒸着法（真空度＝１．０×１０−３Ｐａ、電流値＝９ｍＡ）により蒸着し、厚み１０ｎｍ（推定値）の防汚層を全面に製膜して、部材を得た。
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）中の溶剤を除去して得られたパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランをガラス基板上に電子ビーム蒸着法（真空度＝１．０×１０−３Ｐａ、電流値＝９ｍＡ）により蒸着し、厚み１０ｎｍ（推定値）の防汚層を全面に製膜して、部材を得た。
比較例２
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＹ−１７８」、固形分２０％）を用いた以外は、比較例１と同様にして部材を得た。
パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＹ−１７８」、固形分２０％）を用いた以外は、比較例１と同様にして部材を得た。
比較例３
エタノール４．６ｇと、アルキルシラン（Ｇｅｌｅｓｔ製、商品名：デシルトリエトキシシラン）０．２２ｇと、金属アルコキシド（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）１．６ｇとを混合した混合溶媒中（デシルトリエトキシシラン／オルトけい酸テトラメチル＝１／１４）に、０．０１Ｍ 塩酸０．７８ｇを添加し、室温（２５℃）で２４時間攪拌した。得られた溶液をガラス基板（日本電気硝子（株）製、商品名：ＯＡ−１０Ｇ、厚さ７００μｍ）上にスピンコートし、一日、室温（２５℃）で静置し、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
エタノール４．６ｇと、アルキルシラン（Ｇｅｌｅｓｔ製、商品名：デシルトリエトキシシラン）０．２２ｇと、金属アルコキシド（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）１．６ｇとを混合した混合溶媒中（デシルトリエトキシシラン／オルトけい酸テトラメチル＝１／１４）に、０．０１Ｍ 塩酸０．７８ｇを添加し、室温（２５℃）で２４時間攪拌した。得られた溶液をガラス基板（日本電気硝子（株）製、商品名：ＯＡ−１０Ｇ、厚さ７００μｍ）上にスピンコートし、一日、室温（２５℃）で静置し、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
比較例４
エタノール２．４ｇと、フッ化アルキルシラン（Ｇｅｌｅｓｔ製、商品名：トリエトキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロ−ｎ−オクチルシラン）０．３７ｇと、金属アルコキシド（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）０．７８ｇとを混合した混合溶媒中（トリエトキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロ−ｎ−オクチルシラン／オルトけい酸テトラメチル＝１／７）に、０．０１Ｍ 塩酸０．４１ｇを添加し、室温（２５℃）で２４時間攪拌した。得られた溶液をガラス基板（日本電気硝子（株）製、商品名：ＯＡ−１０Ｇ、厚さ７００μｍ）上にスピンコートし、一日、室温（２５℃）で静置し、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
エタノール２．４ｇと、フッ化アルキルシラン（Ｇｅｌｅｓｔ製、商品名：トリエトキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロ−ｎ−オクチルシラン）０．３７ｇと、金属アルコキシド（東京化成工業（株）製、商品名：オルトけい酸テトラメチル）０．７８ｇとを混合した混合溶媒中（トリエトキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロ−ｎ−オクチルシラン／オルトけい酸テトラメチル＝１／７）に、０．０１Ｍ 塩酸０．４１ｇを添加し、室温（２５℃）で２４時間攪拌した。得られた溶液をガラス基板（日本電気硝子（株）製、商品名：ＯＡ−１０Ｇ、厚さ７００μｍ）上にスピンコートし、一日、室温（２５℃）で静置し、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
比較例５
フッ素系有機溶媒（３Ｍ製、商品名：Ｎｏｖｅｃ ７３００）２８．１ｇと、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）０．１５ｇとを混合した混合溶液をガラス基板（日本電気硝子（株）製、商品名：ＯＡ−１０Ｇ、厚さ７００μｍ）上にスピンコーターを用いて、回転速度３０００回転／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。該塗膜を２５℃で１２時間乾燥し、溶剤を除去し、硬化させ、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
フッ素系有機溶媒（３Ｍ製、商品名：Ｎｏｖｅｃ ７３００）２８．１ｇと、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）０．１５ｇとを混合した混合溶液をガラス基板（日本電気硝子（株）製、商品名：ＯＡ−１０Ｇ、厚さ７００μｍ）上にスピンコーターを用いて、回転速度３０００回転／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。該塗膜を２５℃で１２時間乾燥し、溶剤を除去し、硬化させ、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
比較例６
フッ素系有機溶媒（３Ｍ製、商品名：Ｎｏｖｅｃ ７３００）１８．７ｇと、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）０．０５ｇとを混合した混合溶液を実施例２で作製した基材上にスピンコーターを用いて、回転速度３０００回転／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。該塗膜を２５℃で１２時間乾燥し、溶剤を除去し、硬化させ、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
フッ素系有機溶媒（３Ｍ製、商品名：Ｎｏｖｅｃ ７３００）１８．７ｇと、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）０．０５ｇとを混合した混合溶液を実施例２で作製した基材上にスピンコーターを用いて、回転速度３０００回転／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。該塗膜を２５℃で１２時間乾燥し、溶剤を除去し、硬化させ、膜厚１０ｎｍ（推定値）の部材を得た。
（結果のまとめ）
表１に示すように、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと特定の構造を有するアルコキシシランとを組み合わせて用いた実施例１〜１５では、純水の接触角が１１２〜１１７°、ｎ−ヘキサデカンの接触角が６５〜６８°であり、いずれも表面自由エネルギーが低く優れていた。また、純水の滑落角が３〜１４°、ｎ−ヘキサデカンの滑落角が２〜６°であり、いずれも滑落性に優れており、更に、滑り性の評価も高かった。これらの結果から、実施例１〜１５の部材は、いずれも指紋が付着し難く、指紋の拭取性に優れていることがわかり、これらの効果は、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと特定の構造を有するアルコキシシランとの縮重合物が有する隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することに起因すると考えられる。
一方、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランを蒸着法により蒸着した比較例１及び２では、表面自由エネルギーが低く、滑落性が良好であるが、滑り性の評価が実施例に比べて劣るため、いずれも実施例と比較して指紋付着及び指紋拭取性の評価が劣っていた。また、アルキルシランを用いた比較例３では、滑落性に優れるものの、表面自由エネルギーが高く、滑り性の評価が悪く、その結果、指紋が広く付着し、１０回の拭取り後にも指紋の拭き取り跡がはっきりと視認できた。フッ化アルキルシランを用いた比較例４では、表面自由エネルギーが低く、滑落性が優れるものの、滑り性の評価が悪く、その結果、指紋が広く付着し、１０回の拭取り後にも指紋の拭き取り跡がはっきりと視認できた。比較例５及び６では、特定の構造を有するアルコキシシランを使用していないため、いずれも実施例と比較して指紋付着及び指紋拭取性の評価が劣っていた。
表１に示すように、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと特定の構造を有するアルコキシシランとを組み合わせて用いた実施例１〜１５では、純水の接触角が１１２〜１１７°、ｎ−ヘキサデカンの接触角が６５〜６８°であり、いずれも表面自由エネルギーが低く優れていた。また、純水の滑落角が３〜１４°、ｎ−ヘキサデカンの滑落角が２〜６°であり、いずれも滑落性に優れており、更に、滑り性の評価も高かった。これらの結果から、実施例１〜１５の部材は、いずれも指紋が付着し難く、指紋の拭取性に優れていることがわかり、これらの効果は、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと特定の構造を有するアルコキシシランとの縮重合物が有する隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することに起因すると考えられる。
一方、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランを蒸着法により蒸着した比較例１及び２では、表面自由エネルギーが低く、滑落性が良好であるが、滑り性の評価が実施例に比べて劣るため、いずれも実施例と比較して指紋付着及び指紋拭取性の評価が劣っていた。また、アルキルシランを用いた比較例３では、滑落性に優れるものの、表面自由エネルギーが高く、滑り性の評価が悪く、その結果、指紋が広く付着し、１０回の拭取り後にも指紋の拭き取り跡がはっきりと視認できた。フッ化アルキルシランを用いた比較例４では、表面自由エネルギーが低く、滑落性が優れるものの、滑り性の評価が悪く、その結果、指紋が広く付着し、１０回の拭取り後にも指紋の拭き取り跡がはっきりと視認できた。比較例５及び６では、特定の構造を有するアルコキシシランを使用していないため、いずれも実施例と比較して指紋付着及び指紋拭取性の評価が劣っていた。
本発明の部材は、防汚性に優れるため、特にタッチパネルディスプレイを有する携帯用電子機器に好適に使用することができる。
Claims (7)
- 基材上に防汚層を形成してなる部材であって、
該防汚層の厚みが１〜３０ｎｍであり、
該防汚層がパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと下記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種との縮重合物を含み、該基材の全光線透過率は８５％以上であり、該パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとして一般式（３）乃至（６）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする、部材。
（式中、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、又は環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１及びＲ２が複数ある場合、複数のＲ１及びＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは２〜４の整数である。）
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｙは２価の有機基である。複数のＲ３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
（式中、Ｒ ４ は、炭素数１〜６のアルキル基である。但し、複数のＲ ４ は同一でも異なっていてもよい。Ｒ ５ 〜Ｒ １２ は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の２価の有機基を示す。Ｚ １ はシロキサン結合を有する１〜１０価のオルガノポリシロキサン基であり、Ｚ ２ はシロキサン結合を有する２〜１０価のオルガノポリシロキサン基である。Ｑはパーフルオロポリエーテル結合を含む基である。Ｒｆは、直鎖または分岐鎖構造のフッ化アルキル基である。ｎは１〜２００の整数、ｍは１〜１０の整数である。） - 前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランが、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランであることを特徴とする、請求項１に記載の部材。
- 前記一般式（１）で表されるアルコキシシランが、テトラアルコキシシランであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の部材。
- 前記テトラアルコキシシランが、テトラメトキシシラン及びテトラエトキシシランから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする、請求項３に記載の部材。
- 前記防汚層表面の純水の接触角が９５°以上、且つ、滑落角が３０°以下であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の部材。
- 基材上に防汚層を形成してなる部材の製造方法であって、
下記一般式（３）乃至（６）で表されるパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種と下記一般式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランの中から選ばれる少なくとも１種とを、有機溶媒と水と酸との混合溶媒中で加水分解、縮重合して得られた縮重合物を含む組成物を調製する工程（１）と、
該組成物を該基材に塗布して防汚層を形成する工程（２）とを有し、該基材の全光線透過率は８５％以上であることを特徴とする、部材の製造方法。
（式中、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、又は環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１及びＲ２が複数ある場合、複数のＲ１及びＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは２〜４の整数である。）
（式中、Ｒ３はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｙは２価の有機基である。複数のＲ３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
（式中、Ｒ ４ は、炭素数１〜６のアルキル基である。但し、複数のＲ ４ は同一でも異なっていてもよい。Ｒ ５ 〜Ｒ １２ は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の２価の有機基を示す。Ｚ １ はシロキサン結合を有する１〜１０価のオルガノポリシロキサン基であり、Ｚ ２ はシロキサン結合を有する２〜１０価のオルガノポリシロキサン基である。Ｑはパーフルオロポリエーテル結合を含む基である。Ｒｆは、直鎖または分岐鎖構造のフッ化アルキル基である。ｎは１〜２００の整数、ｍは１〜１０の整数である。） - 請求項１〜５のいずれか一項に記載の部材を備えたタッチパネル。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014265762 | 2014-12-26 | ||
| JP2014265762 | 2014-12-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016153221A JP2016153221A (ja) | 2016-08-25 |
| JP6784023B2 true JP6784023B2 (ja) | 2020-11-11 |
Family
ID=56760360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015253424A Active JP6784023B2 (ja) | 2014-12-26 | 2015-12-25 | 組成物、該組成物を用いた部材、及びその製造方法、並びに該部材を備えたタッチパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6784023B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6503743B2 (ja) * | 2015-01-09 | 2019-04-24 | 大日本印刷株式会社 | 部材、該部材を備えたタッチパネル、及び該タッチパネルを備えた画像表示装置 |
| JP6503787B2 (ja) * | 2015-02-27 | 2019-04-24 | 大日本印刷株式会社 | 部材、該部材を備えたタッチパネル、及び該タッチパネルを備えた画像表示装置 |
| JP6503788B2 (ja) * | 2015-02-27 | 2019-04-24 | 大日本印刷株式会社 | 部材、該部材を備えたタッチパネル、及び該タッチパネルを備えた画像表示装置 |
| JP6503789B2 (ja) * | 2015-02-27 | 2019-04-24 | 大日本印刷株式会社 | 部材、該部材を備えたタッチパネル、及び該タッチパネルを備えた画像表示装置 |
| JP6986408B2 (ja) * | 2017-09-29 | 2021-12-22 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | 膜形成用液組成物の製造方法 |
| JP7079900B2 (ja) * | 2019-12-27 | 2022-06-02 | 株式会社ネオス | コーティング組成物及びコーティングを備えた物品 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4022598B2 (ja) * | 1996-03-01 | 2007-12-19 | ダイキン工業株式会社 | 撥水性ガラス |
| DE69624923T2 (de) * | 1995-08-11 | 2003-08-21 | Daikin Ind Ltd | Silizium enthaltende organische fluorpolymere und ihre verwendung |
| JP2001228302A (ja) * | 1999-12-08 | 2001-08-24 | Toray Ind Inc | 光学物品 |
| US6649272B2 (en) * | 2001-11-08 | 2003-11-18 | 3M Innovative Properties Company | Coating composition comprising fluorochemical polyether silane polycondensate and use thereof |
| CN103509422B (zh) * | 2012-06-29 | 2018-07-31 | 3M创新有限公司 | 一种疏水和疏油的涂层组合物 |
| JP2014021316A (ja) * | 2012-07-19 | 2014-02-03 | Asahi Glass Co Ltd | ハードコート層形成用組成物およびハードコート層を有する物品 |
| CN103897192A (zh) * | 2012-12-31 | 2014-07-02 | 住友大阪水泥股份有限公司 | 防污涂料和附有防污膜的透明材料层合体 |
-
2015
- 2015-12-25 JP JP2015253424A patent/JP6784023B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2016153221A (ja) | 2016-08-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6784023B2 (ja) | 組成物、該組成物を用いた部材、及びその製造方法、並びに該部材を備えたタッチパネル | |
| EP3333172B1 (en) | Silane compound containing perfluoro(poly)ether group | |
| JP6892626B2 (ja) | シリル基を有するパーフルオロポリエーテルを含む硬化性組成物 | |
| JP6988905B2 (ja) | 撥水撥油部材及び撥水撥油部材の製造方法 | |
| JP6702022B2 (ja) | タッチパネル、多層フィルム、及び多層フィルムの製造方法 | |
| US20170044315A1 (en) | Silane compound containing perfluoro(poly)ether group | |
| KR102084270B1 (ko) | 플루오로옥시알킬렌기 함유 중합체 변성 실란 및 상기 실란을 포함하는 표면 처리제, 및 상기 표면 처리제로 표면 처리된 물품 | |
| JP2010031184A (ja) | パーフルオロエーテル部含有ポリマー及び該ポリマーを含む面処理剤 | |
| JPWO2014069634A1 (ja) | 含フッ素高分岐ポリマー及びシロキサンオリゴマーを含む硬化性組成物 | |
| TW201605992A (zh) | 含氟塗覆劑及經該塗覆劑處理之物品 | |
| JP7211423B2 (ja) | 撥水撥油部材及び撥水撥油部材の製造方法 | |
| JP7236624B2 (ja) | 撥水撥油部材及び撥水撥油部材の製造方法 | |
| JP2017170827A (ja) | 積層体、タッチパネル、タッチパネル表示装置、及び積層体の製造方法 | |
| JP6503743B2 (ja) | 部材、該部材を備えたタッチパネル、及び該タッチパネルを備えた画像表示装置 | |
| JP2017186495A (ja) | 難着霜性、難結露性、難着氷性を有する低温環境用部材 | |
| TW201739787A (zh) | 含有氟聚醚基之聚合物改質矽烷、表面處理劑及物品 | |
| WO2019035271A1 (ja) | 撥水部材及び撥水部材の製造方法 | |
| EP3950779A1 (en) | Fluoropolyether group-containing compound | |
| JP6503789B2 (ja) | 部材、該部材を備えたタッチパネル、及び該タッチパネルを備えた画像表示装置 | |
| JP6503787B2 (ja) | 部材、該部材を備えたタッチパネル、及び該タッチパネルを備えた画像表示装置 | |
| JP2017193666A (ja) | 難着霜性、難結露性、難着氷性を有する低温環境用部材 | |
| JP5845466B2 (ja) | コーティング材組成物、及びこのコーティング材組成物により被覆されている被覆品 | |
| EP4242249A1 (en) | Surface treatment agent | |
| KR20230108323A (ko) | 표면 처리제 | |
| JP6503788B2 (ja) | 部材、該部材を備えたタッチパネル、及び該タッチパネルを備えた画像表示装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181029 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190716 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190723 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20190910 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191113 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200407 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200521 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200923 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201006 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6784023 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |