JP6782477B2 - 電気銅めっき浴 - Google Patents
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Description
本実施形態の電気銅めっき浴(PB)は、電気めっきを行うための槽内に貯められるめっき液である。電気銅めっき浴(PB)は銅イオンを含有する。
化合物(AM)は、分子内にアミノ基を含有する化合物である。化合物(AM)は分子内に1個又は2個以上のアミノ基を含有してもよい。化合物(AM)は1種であってもよいが、構造式が異なる2種以上を含有してもよい。例えば、化合物(AM)は、下記一般式(I)で表される1種又は複数種のアミン化合物を含んでもよい。
aが4のとき、3,3-bis(2-aminoethyl)-1,5-pentanediamine、2,2-bis(aminomethyl)-1,3-propanediamine、2,2-bis(dimethylaminomethyl)-N,N,N’,N’-tetramethyl-1,3-propanediamine、
aが3のとき、Jeffamine T-403(Huntsman Corp.製)、Jeffamine T-3000(Huntsman Corp.製)、Jeffamine T-5000A(Huntsman Corp.製)、2-(aminomethyl)-2-methyl-1,3-propanediamine、2-(aminomethyl)-1,3-propanediamine、 3-(2-aminoethyl)-3-methyl-1,5-pentanediamine、3-(1-aminoethyl)-3-methyl-2,4-pentanediamine、Tris[2-(dimethylamino)ethyl]amine、
aが2のとき、1,3-diaminopropane、1,6-diaminohexane、1,3-di(4-piperidyl)propane、N,N,N’,N’-tetramethyl-1,3-diaminopropane、N,N,N’,N’-tetramethylhexamethylenediamine、bis(3-aminopropyl)ether、bis(2-dimethylaminoethyl)ether、iminobispropylamine、N,N,N’,N’’,N’’-pentamethyldiethylenetriamine、N,N,N’,N’’,N’’-pentamethyldipropylenetriamine、Jeffamine D-230(Huntsman Corp.製)、Jeffamine D-400(Huntsman Corp.製)、Jeffamine D-2000(Huntsman Corp.製)、Jeffamine D-4000(Huntsman Corp.製)、Jeffamine EDR-148(Huntsman Corp.製)、Jeffamine EDR-176(Huntsman Corp.製)、Jeffamine ED-600(Huntsman Corp.製)、Jeffamine ED-900(Huntsman Corp.製)、Jeffamine ED-2003(Huntsman Corp.製)、Jeffamine HK-511(Huntsman Corp.製)、
aが1のとき、ethylamine、N-methylamine、propylamine、diethylamine、triethylamine、dipropylamine、butylamine、dibutylamine、N,N-dimethylbutylamine、N-butylamine、hexylamine、N-methylhexylamine、ethanolamine、2-dimethylaminoethylamine、N,N’-dimethylethylenediamine、N,N,N’,N’-tetramethylethylenediamine、2-ethylaminoethylamine、2-diethylaminoethylamine、3-methylaminopropylamine、3-dimethylaminopropylamine、3-diethylaminopropylamine
などが挙げられる。
化合物(EP)は、分子内にエポキシ基を含有する化合物である。化合物(EP)は分子内に1個又は2個以上のエポキシ基を含有してもよい。化合物(EP)は1種であってもよいが、構造式が異なる2種以上を含有してもよい。例えば、化合物(EP)は、下記一般式(II)で表される1種又は複数種のエポキシド化合物を含んでもよい。
bが4の時、pentaerythritol tetraglycidyl ether、sorbitol tetraglycidyl ether、polyglycerin tetraglycidyl ether、
bが3の時、trimethylolpropane triglycidyl ether、sorbitol triglycidyl ether、polyglycerin triglycidyl ether、
bが2の時、glycerin diglycidyl ether、neopenthyl glycol diglycidyl ether、1,6-hexanediol diglycidyl ether、1,4-butanediol diglycidyl ether、bisphenol A diglycidyl ether、hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether、
bが1の時、ethylene glycol diglycidyl ether、diethylene glycol diglycidyl ether、poly(ethylene glycol)#200 diglycidyl ether、poly(ethylene glycol)#400 diglycidyl ether、propylene glycol diglycidyl ether、poly(propylene glycol) diglycidyl ether、n-butyl glycidyl ether、2-ethylhexyl glycidyl ether
などが挙げられる。
酸(AC)は、化合物(AM)と化合物(EP)の反応を酸存在下で行わせるために使用される。酸(AC)は有機酸と無機酸との一方又両方を使用することができる。有機酸としては酢酸、クエン酸、乳酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸などを使用することができる。無機酸としては、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸などを使用することができる。
反応生成物(RP)は酸(AC)の存在下で化合物(AM)と化合物(EP)とを反応させることで得られる。反応生成物(RP)は水溶性の化合物である。また反応生成物(RP)は化合物(AM)と化合物(EP)とが結合した重合体であると考えられる。また反応生成物(RP)は化合物(AM)と化合物(EP)とが結合した高分子であると考えられる。なお、発明者らは、反応生成物(RP)の詳細な構造の同定を試みたが、反応生成物(RP)の単離の困難さ故、その構造の同定に至っていない。
低分子量成分(LC)は、化合物(AM)と化合物(EP)とが酸の存在下で反応して反応生成物(RP)を生成する際に生じる副反応生成物である。本実施形態における低分子量成分(LC)とは、ゲルろ過クロマトグラフ上で低分子量の領域、すなわち相対重量平均分子量500未満の化合物である。なお、低分子量成分(LC)の構造についても、反応生成物(RP)と同じ事情により構造を決定することが困難であった。
電気銅めっき浴(PB)は、反応生成物(RP)をレベラー(添加剤)として含んでいる。また電気銅めっき浴(PB)は、反応生成物(RP)及び低分子量成分(LC)をレベラーとして含んでいる。さらに、電気銅めっき浴(PB)は、キャリアー、ブライトナーなどの各種の添加剤及び水並びに銅イオンを含有することができる。
本実施形態の電気銅めっき浴は、スルーホールに銅めっきを充填する際にも使用することができる。
[反応生成物(RP)の調製]
温度計、攪拌機及び原料投入口を備えた1L容量のガラス製反応容器に、表1に示す1当量の化合物(AM)と、記載された当量の酸(AC)とを混合し、精製水で化合物(AM)の濃度が35質量%となるように希釈した。
各製造例で得られた反応生成物(RP)の40質量%水溶液(低分子量成分(LC)も含む)を4g/Lに精製水で希釈した液を試料として、下記の装置及び条件によるゲルろ過クロマトグラフ測定を行うことで、ポリエチレングリコール換算の相対重量平均分子量及び低分子量の副生成物の含有量を測定した。
・装置:Prominenceシステム(株式会社島津製作所製)
・カラム:TSKgel G3000PWXL−CP(東ソー株式会社製)
・移動相:0.1M 硝酸ナトリウム水溶液
・流速:0.8ml/min
・カラム温度:40℃
・検出器:示差屈折率検出器
・分子量換算:ポリエチレングリコール
[絶対重量平均分子量]
各製造例で得られた反応生成物(RP)の40質量%水溶液(低分子量成分(LC)も含む)を4g/Lに精製水で希釈した試料を、下記の装置及び条件によるゲルろ過クロマトグラフ測定を行うことで、絶対重量平均分子量を測定した。
・装置:Viscotek TDAmaxシステム(スペクトリス株式会社製)
・カラム:TSKgel G3000PWXL−CP(東ソー株式会社製)
・移動相:0.1M 硝酸ナトリウム水溶液
・流速:0.8ml/min
・カラム温度:40℃
・検出器:粘度検出器、示差屈折率検出器、光散乱検出器(直列)
・校正試料:ポリエチレングリコール
[めっき試験]
製造例1〜18で調製した反応生成物(RP)及び低分子量成分(LC)をそれぞれ以下の組成の硫酸銅めっき液に50mg/L含有させ、電気銅めっき浴を調整した(実施例1〜16、比較例6、7)。また、比較例1〜5に記載された化合物についても同様の組成の硫酸銅めっき液に2mg/L〜50mg/L含有させて、電気銅めっき浴を調整した。
硫酸銅めっき液組成
・硫酸銅5水和物 150g/L、硫酸 150g/L、塩素イオン40mg/L
・添加剤:表2に示した量の添加剤
めっき条件
・電流密度:1.65A/dm2
・時間:28分
・浴量:500mL
・攪拌:エアレーション 1.5L/min
<フィリング性評価基準>
充填したビアホール上方の窪み量(μm)を評点として、3次元白色光干渉型顕微鏡を用いて測定した。また、評価基準として、窪み量が3μm未満をA(非常に良い)、3μm以上7μm未満をB(やや良い)、7μm以上11μ未満をC(普通)、11μm以上をD(悪い)とした。結果を表3に示す。
・SPS:ビス―(3−ナトリウムスルホプロピル)ジスルフィド
・PEG:ポリエチレングリコール(分子量4000)
・Jeffamine D230:ポリエーテルアミン(Huntsman Corp.製)
・Jeffamine ED600:ポリエーテルアミン(Huntsman Corp.製)
・ポリエチレンイミン600:ポリエチレンイミン(分子量600)(株式会社日本触媒製)
・PAA−1112:アリルアミン・ジメチルアリルアミン共重合体(ニットーボーメディカル株式会社製)
・PAS−M1−A:メチルジアリルアミン酢酸塩重合体(ニットーボーメディカル株式会社製)
以上述べた実施形態及び実施例から明らかなように、第1の態様に係る電気銅めっき浴は、分子内にアミノ基を含有する化合物と、分子内にエポキシ基を含有する化合物との、酸の存在下における反応生成物を含有する。
Claims (6)
- 分子内にアミノ基を含有する化合物と、分子内にエポキシ基を含有する化合物との、酸の存在下における反応生成物を含有し、
前記酸が無機酸を含み、前記酸の酸当量が前記アミノ基に対して1.5当量以下である
電気銅めっき浴。 - 前記分子内にアミノ基を含有する化合物が、下記一般式(I)で表されるアミン化合物を含み、
前記分子内にエポキシ基を含有する化合物が、下記一般式(II)で表されるエポキシド化合物を含む
請求項1に記載の電気銅めっき浴。
- 前記酸の酸当量が前記アミノ基に対して0.5当量以上である
請求項1又は2に記載の電気銅めっき浴。 - 前記反応生成物のポリエチレングリコール換算の相対重量平均分子量が500以上20000以下の範囲内であり、絶対重量平均分子量が2000以上60000以下の範囲内であり、
前記相対重量平均分子量/前記絶対重量平均分子量の比が0.13以上1.3以下の範囲内である
請求項1ないし3のいずれか一項に記載の電気銅めっき浴。 - さらに、前記反応生成物の生成で生じた副反応生成物である低分子量成分を含有し、
前記低分子量成分は、前記相対重量平均分子量が1000未満である
請求項1ないし4のいずれか一項に記載の電気銅めっき浴。 - 前記低分子量成分が前記反応生成物に対して30質量%以上70質量%以下の範囲内で含有する
請求項1ないし5のいずれか一項に記載の電気銅めっき浴。
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