JP6780710B2 - 回路モジュール - Google Patents

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Description

本発明は、回路モジュールに関するものである。
高周波フィルタモジュールと称する物が特開2005−110017号公報(特許文献1)に記載されている。この文献に記載されたモジュールは、多層セラミック基板と、これに実装された薄膜圧電共振器とを備える。薄膜圧電共振器は中空部を有する形で樹脂により封止されており、薄膜圧電共振器の振動子は中空部に対して露出して配置されている。
特開2005−110017号公報
回路モジュールが、基板などに実装された電子部品を備え、この電子部品が中空部を有し、かつ、電子部品が中空部に露出する状態で接続部を備えている場合がある。一般的に、電子部品は、電子部品本体と接続部とを備え、電子部品本体は接続部を介して基板などに電気的に接続されている。この場合の電子部品の接続部にクラックなどの不具合が生じる場合がある。発明者らは、この不具合の原因は以下のとおりであると考えた。
電子部品を樹脂で封止するために行なわれる樹脂の硬化の際に樹脂の収縮によって電子部品に上向きの引張応力が発生する場合がある。この引張応力は、中空部に露出する接続部を、電子部品本体または基板などから剥離させるように作用する。さらに、この状態で、はんだ付け、電子部品本体の発熱および冷却、環境温度の変化などに伴う封止樹脂の膨張および収縮が繰り返されると、接続部周辺の引張応力が繰返し変化し、最終的に接続部と電子部品本体または基板との界面でクラックなどの不具合が生じる場合がある。
そこで、本発明は、封止樹脂部の収縮などに起因する引張応力によって中空部に露出する接続部にクラックなどの不具合が生じることを防止することができる回路モジュールを提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明に基づく回路モジュールは、主表面を有する基板と、上記主表面に実装された第1部品と、上記主表面を覆いつつ上記第1部品の少なくとも側面を覆う封止樹脂部とを備える。上記第1部品は中空部を有しており、上記第1部品は、上記中空部に露出する接続部を備える。上記封止樹脂部は上記第1部品の上面のうち上記中空部に対応する領域の少なくとも一部を避けて配置されている。
本発明によれば、封止樹脂部は第1部品の上面のうち中空部に対応する領域の少なくとも一部を避けて配置されているので、封止樹脂部の収縮などに起因する引張応力によって中空部に露出する電子部品の接続部にクラックなどの不具合が生じることを防止することができる。
本発明に基づく実施の形態1における回路モジュールの平面図である。 本発明に基づく実施の形態1における回路モジュールの側面図である。 本発明に基づく実施の形態1における回路モジュールの透視平面図である。 図3におけるIV−IV線に関する矢視断面図である。 本発明に基づく実施の形態1における回路モジュールの製造方法の第1の説明図である。 本発明に基づく実施の形態1における回路モジュールの製造方法の第2の説明図である。 本発明に基づく実施の形態1における回路モジュールの製造方法の第3の説明図である。 本発明に基づく実施の形態1における回路モジュールの製造方法の第4の説明図である。 本発明に基づく実施の形態1における回路モジュールの製造方法の第5の説明図である。 本発明に基づく実施の形態1における回路モジュールの製造方法の第6の説明図である。 本発明に基づく実施の形態2における回路モジュールの平面図である。 本発明に基づく実施の形態2における回路モジュールの側面図である。 本発明に基づく実施の形態2における回路モジュールの透視平面図である。 図13におけるXIV−XIV線に関する矢視断面図である。 本発明に基づく実施の形態2における回路モジュールの製造方法の第1の説明図である。 本発明に基づく実施の形態2における回路モジュールの製造方法の第2の説明図である。 本発明に基づく実施の形態2における回路モジュールの製造方法の第3の説明図である。 本発明に基づく実施の形態2における回路モジュールの製造方法の第4の説明図である。 本発明に基づく実施の形態2における回路モジュールの製造方法の第5の説明図である。 本発明に基づく実施の形態2における回路モジュールの製造方法の第6の説明図である。 本発明に基づく実施の形態3における回路モジュールの平面図である。 本発明に基づく実施の形態3における回路モジュールの側面図である。 本発明に基づく実施の形態3における回路モジュールの透視平面図である。 図23におけるXXIV−XXIV線に関する矢視断面図である。 本発明に基づく実施の形態3における回路モジュールの製造方法の第1の説明図である。 本発明に基づく実施の形態3における回路モジュールの製造方法の第2の説明図である。 本発明に基づく実施の形態3における回路モジュールの製造方法の第3の説明図である。 本発明に基づく実施の形態3における回路モジュールの製造方法の第4の説明図である。 本発明に基づく実施の形態3における回路モジュールの製造方法の第5の説明図である。
図面において示す寸法比は、必ずしも忠実に現実のとおりを表しているとは限らず、説明の便宜のために寸法比を誇張して示している場合がある。以下の説明において、上または下の概念に言及する際には、絶対的な上または下を意味するとは限らず、図示された姿勢の中での相対的な上または下を意味する場合がある。
(実施の形態1)
図1〜図4を参照して、本発明に基づく実施の形態1における回路モジュールについて説明する。本実施の形態における回路モジュール101の平面図を図1に示す。回路モジュール101の側面図を図2に示す。回路モジュール101は、基板1と封止樹脂部3と導体膜7とを有する。導体膜7は、たとえばシールドとして形成された膜である。導体膜7は、たとえば金属膜である。
回路モジュール101の透視平面図を図3に示す。回路モジュール101に内蔵される部品などは、封止樹脂部3によって覆われているが、図3では説明の便宜のために封止樹脂部3を透視して内部の構造を示している。図3におけるIV−IV線に関する矢視断面図を図4に示す。図3および図4に示すように、基板1の主表面1aには、部品4,5の他に第1部品6が配置されている。部品5はたとえばトランシーバICであってよい。部品4はたとえばフィルタ、水晶振動子、LCR素子などのいずれかであってよい。第1部品6は、中空パッケージ構造を備える部品である。第1部品6は、たとえば弾性表面波フィルタ(SAW)、バルク弾性波フィルタ(BAW)、水晶振動子、MEMSスイッチなどのいずれかであってよい。本実施の形態では、第1部品6は、部品本体6aと、接続部6bと、第1樹脂部6dと、インターポーザ6fとを備える。ここで示した例では、接続部6bは部品本体6aの下側に配置されている。インターポーザ6fは主表面1aに重なるように配置されている。接続部6bは、部品本体6aとインターポーザ6fとを電気的に接続している。ここで示した例では、第1樹脂部6dは部品本体6aの上側に配置されている。
本実施の形態における回路モジュール101は、主表面1aを有する基板1と、主表面1aに実装された第1部品6と、主表面1aを覆いつつ第1部品6の少なくとも側面を覆う封止樹脂部3とを備える。第1部品6は中空部6cを有している。第1部品6は、中空部6cに露出する接続部6bを備える。封止樹脂部3は第1部品6の上面のうち中空部6cに対応する領域の少なくとも一部を避けて配置されている。本実施の形態では、図4に示すように、第1部品6の上面は封止樹脂部3に覆われていない。導体膜7は、第1部品6の上面と封止樹脂部3の上面とを一括して覆うように形成されている。
本実施の形態では、第1樹脂部6dは、部品本体6aの上面および側面を一括して覆っているものとしているが、第1樹脂部6dはこのような構造に限らない。たとえば部品本体6aを何らかのラミネート樹脂によって覆う構造においてラミネート樹脂をさらにエポキシ樹脂で覆った構造であってもよい。この場合、ラミネート樹脂の上を覆うエポキシ樹脂部が第1樹脂部6dに相当する。
第1部品6の第1樹脂部6dとしては、硬化時に接続部6bへの引張応力をなるべく生じないように、収縮率の小さい材料を用いることが好ましい。たとえばエポキシ樹脂で第1樹脂部6dを形成する場合、硬化時に接続部6bに対して引張応力をなるべく生じさせないように、エポキシ樹脂の条件は、収縮率が小さくなるように選択されるべきである。エポキシ樹脂において収縮率が小さくなるように調整しようとした場合、このエポキシ樹脂は、シリカ(SiO2)などのフィラー充填量が多く粘度が高いものとなりがちである。このような材料は封止樹脂部3を形成するための樹脂としては使いにくい。したがって、同じくエポキシ樹脂であっても、第1樹脂部6dに用いるものと封止樹脂部3に用いるものとで条件を違えておくことが好ましい。
たとえば、第1部品6の第1樹脂部6dの材料としては、フィラー充填率約91%のものを用い、封止樹脂部3の材料としては、フィラー充填率約87%のものを用いる。
本実施の形態では、封止樹脂部3は第1部品6の上面のうち中空部6cに対応する領域の少なくとも一部を避けて配置されているので、封止樹脂部3の収縮などによって第1部品6に上向きの力が作用する度合を軽減することができる。したがって、封止樹脂部3の収縮などに起因する引張応力によって中空部6cに露出する電子部品の接続部6bにクラックなどの不具合が生じることを防止することができる。
本実施の形態では、「封止樹脂部3は第1部品6の上面のうち中空部6cに対応する領域の少なくとも一部を避ける」と述べたが、当然、「封止樹脂部3は第1部品6の上面のうち中空部6cに対応する領域の全てを避ける」構成であってもよい。このように、第1部品6の上面のうち中空部6cに対応する領域の全てを避けていれば、封止樹脂部3の収縮などに起因する引張応力によるクラックなどの不具合を、より確実に防止することができる。
ここでは接続部6bは基板1の主表面1aにインターポーザ6fを介して接しているものとしたが、これはあくまで一例であってこの通りとは限らない。たとえばインターポーザ6fがない構成であってもよい。接続部6bは、基板1の主表面1aと直接接していてもよい。
本実施の形態では、第1部品6はインターポーザ6fを含んでいるので、中空部6cはインターポーザ6fと第1樹脂部6dと、部品本体6aとに囲まれて完全に閉じた空間となっている。したがって、第1部品6を単独で取り出した時にも中空部6cは閉じた空間として規定されている。しかし、中空部6cは、第1部品6を単独で取り出したときにも完全に閉じた空間として確保される空間とは限らない。中空部6cは、第1部品6を単独で取り出したときには単なる凹部であってもよく、第1部品6が主表面1aなどに実装されることによって初めて閉じた空間として規定されるものであってもよい。
本実施の形態において、第1部品6は、中空部6cより上側に樹脂からなる第1樹脂部6dを含み、第1樹脂部6dの上面と封止樹脂部3の上面とは、同一平面内にあることが好ましい。この構成を採用することにより、回路モジュールの上面を平坦にすることができる。
なお、第1樹脂部6dの上面が封止樹脂部3の上面よりも高い位置にあっても、本実施の形態で説明した効果は得られる。第1樹脂部6dの上端が封止樹脂部3の上面から突出していても許されるような状況下では、このような構成であってもよい。
本実施の形態で示したように、少なくとも第1部品6の上面と封止樹脂部3の上面との間の境界を覆うように導体膜7が配置されていることが好ましい。この構成を採用することにより、第1部品6と封止樹脂部3との境界からの水などの侵入を防止することができる。
図5〜図10を参照して、本発明に基づく実施の形態1における回路モジュールの製造方法について説明する。
まず、図5に示すように、主表面1aを有する基板1を用意する。基板1は配線基板であってよい。基板1は内部に導体パターン2を含んでいてよい。図6に示すように、部品4,5および第1部品6を主表面1aに実装する。本実施の形態では、予め背が高い第1部品6を用いることが好ましい。第1部品6は、部品本体6aよりも上側の第1樹脂部6dの厚みを大きくすることによって第1部品6全体の高さを調整することができる。通常は、第1部品6の第1樹脂部6dとしてのエポキシ樹脂層の厚みは約0.1mmであって、第1部品6全体の高さは約0.4mmであるとすると、本実施の形態では、第1樹脂部6dとしてのエポキシ樹脂層の厚みを0.4mmとして、第1部品6全体の高さは0.7mmとすることが考えられる。ただし、これはあくまで一例である。
図7に示すように、封止樹脂部3を形成する。封止樹脂部3は、部品4,5および第1部品6を覆うように形成される。この時点では、第1部品6の上面も封止樹脂部3によって覆われていてもよい。封止樹脂部3は、第1部品6以外の部品のうち主表面1aからの高さが最大であるものを封止樹脂部3が覆うように形成される。
図8に示すように、封止樹脂部3の上面を研削加工し、第1部品6の上面を露出させる。第1部品6の上面を露出させる際には、第1部品6の上端の一部が削り取られてもよい。結果的に、図8に示すように、封止樹脂部3の上面と第1部品6の上面とが同一平面内に位置するようになってよい。本実施の形態では、第1部品6以外に主表面1aに実装された部品のうち主表面1aからの高さが最大である部品の高さが0.5mmであるとすると、この高さ0.5mmの部品の上側には封止樹脂部3が厚み0.1mmだけ残って覆うように研削加工を行なった。この研削加工時には第1部品6の第1樹脂部6dとしてのエポキシ樹脂層も研削加工されることとなり、第1部品6の高さは0.6mmとなる。封止樹脂部3と第1部品6とを同時に研削加工しているので、回路モジュールの上面は平坦となる。
図9に示すように、いわゆるハーフカットを行なう。ハーフカットとは、基板などを完全には切断せずに厚み方向の途中まで切り込むことである。図9に示した例では、封止樹脂部3が完全に切り分けられ、基板1の途中まで切り込んでいる。これにより、溝11が形成される。
図10に示すように、導体膜7を形成する。導体膜7は公知技術によって形成することができる。導体膜7は、塗布によって形成してもよい。たとえば銀ペーストを塗布してから硬化させることによって導体膜7を形成することができる。導体膜7は、第1部品6の上面と封止樹脂部3の上面とを一括して覆うように形成される。導体膜7は溝11の内面も覆う。本実施の形態では、ハーフカットした状態で導体膜7の形成を行なっているので、硬化前の銀ペーストが回路モジュールの下面に滲出してくることを防ぐことができる。
図10に示した状態から、個別の回路モジュール101のサイズに分断する。ここでは、既に形成されている溝11に沿って基板1を分断すればよい。こうして、図4に示すような回路モジュール101を得ることができる。
(実施の形態2)
図11〜図14を参照して、本発明に基づく実施の形態2における回路モジュールについて説明する。本実施の形態における回路モジュール102の平面図を図11に示す。回路モジュール102の側面図を図12に示す。回路モジュール102の透視平面図を図13に示す。図13におけるXIV−XIV線に関する矢視断面図を図14に示す。回路モジュール102の基本的な構成は、実施の形態1で説明した回路モジュール101と同様である。回路モジュール102は、実施の形態1で説明した回路モジュール101に比べて、主に以下の点で異なる。
回路モジュール102においては、第1部品6の上面は、封止樹脂部3の上面より低い位置にあり、第1部品6の上側に、封止樹脂部3の材料よりヤング率が低い樹脂からなる第2樹脂部8が配置されている。ここで示す例では、第2樹脂部8は第1部品6の上面に載っている。第2樹脂部8の上面と封止樹脂部3の上面とは、同一平面内にある。
回路モジュール102においては、第1部品6は、部品本体6aの上面および側面を覆う樹脂部6eを備える。樹脂部6eはたとえば厚み0.1mmのエポキシ樹脂であってよい。第2樹脂部8はたとえばシリコーン樹脂で形成されていてよい。
本実施の形態では、実施の形態1で説明した効果を得ることができる。さらに、第1部品6の上側に、封止樹脂部3の材料よりヤング率が低い樹脂からなる第2樹脂部8が配置されているので、封止樹脂部3の樹脂の収縮に伴う応力が第2樹脂部8によって吸収されやすく、第1部品6の上面にほぼ作用しないようにすることができる。したがって、第1部品6の接続部6bには過大な力が作用しなくなる。こうして、接続部6bにクラックなどの不具合が生じることを防止することができる。特に、本実施の形態では、第1部品6の上面に第2樹脂部8を載せた構造を採用しており、第2樹脂部8によって高さを調整することができるので、第1部品6自体としては、従来どおりの高さのものを使用することができる。
本実施の形態で示したように、少なくとも第2樹脂部8の上面と封止樹脂部3の上面との間の境界を覆うように導体膜7が配置されていることが好ましい。この構成を採用することにより、第2樹脂部8と封止樹脂部3との境界からの水などの侵入を防止することができる。
図5、図15〜図20、図14を参照して、本発明に基づく実施の形態2における回路モジュールの製造方法について説明する。
まず、図5に示すように、主表面1aを有する基板1を用意する。ここまでは、実施の形態1で説明した工程と同じである。
図15に示すように、部品4,5および第1部品6を主表面1aに実装する。本実施の形態では、第1部品6は背が高いものとする必要はない。第1部品6は、樹脂部6eとして厚み0.1mmのエポキシ樹脂を備えるものであってよい。
図16に示すように、第1部品6の上にシリコーン樹脂をポッティングする。このシリコーン樹脂としては、常温から100℃程度で硬化し、かつ、回路モジュールを搭載する機器基板のはんだ付け温度である300℃程度では劣化しないものを選択することが好ましい。第1部品6の上にポッティングによって塗布されたシリコーン樹脂の部分がのちに第2樹脂部8となる。図16などでは第2樹脂部8を長方形で示しているが、実際には、第2樹脂部8は、ポッティングによって塗布されているので、このような長方形とは限らず、上に凸な形状となる。第2樹脂部8は、たとえばドーム形状であってよい。
図17に示すように、封止樹脂部3を形成する。封止樹脂部3は、少なくとも部品4,5および第1部品6を覆うように形成される。この時点では、第2樹脂部8の上面も封止樹脂部3によって覆われていてもよい。
図18に示すように、封止樹脂部3の上面を研削加工し、第2樹脂部8の上面を露出させる。第2樹脂部8の上面を露出させる際には、第2樹脂部8の上端の一部が削り取られてもよい。結果的に、図18に示すように、封止樹脂部3の上面と第2樹脂部8の上面とが同一平面内に位置するようになってよい。
図19に示すように、いわゆるハーフカットを行なう。これにより、溝11が形成される。
図20に示すように、導体膜7を形成する。導体膜7は、第2樹脂部8の上面と封止樹脂部3の上面とを一括して覆うように形成される。図20に示した状態から、個別の回路モジュール102のサイズに分断する。ここでは、既に形成されている溝11に沿って基板1を分断すればよい。こうして、図14に示すような回路モジュール102を得ることができる。
(実施の形態3)
図21〜図24を参照して、本発明に基づく実施の形態3における回路モジュールについて説明する。本実施の形態における回路モジュール103の平面図を図21に示す。回路モジュール103の側面図を図22に示す。回路モジュール103の透視平面図を図23に示す。図23におけるXXIV−XXIV線に関する矢視断面図を図24に示す。回路モジュール103の基本的な構成は、実施の形態2で説明した回路モジュール102と同様である。回路モジュール103は、実施の形態2で説明した回路モジュール102に比べて、主に以下の点で異なる。
回路モジュール103では、第1部品6の上側に第2樹脂部8はない。回路モジュール103は、上面に凹部12を有する。凹部12は、第1部品6の上面に対応する領域に設けられている。第1部品6の上面は、封止樹脂部3の上面より低くなっている。第1部品6の上面をなす樹脂部6eを導体膜7が直接覆っている。
本実施の形態においても、実施の形態1で説明したような効果を得ることができる。
図5、図15、図25〜図29、図24を参照して、本発明に基づく実施の形態3における回路モジュールの製造方法について説明する。
まず、図5に示すように、主表面1aを有する基板1を用意する。図15に示すように、部品4,5および第1部品6を主表面1aに実装する。ここまでは、実施の形態2で説明した工程と同じである。
図25に示すように、第1部品6の上に樹脂をポッティングする。こうして、第1部品6の上に樹脂部9を形成する。樹脂部9の材料としては、封止樹脂部3の材料である樹脂の硬化温度である約150℃では劣化せず、かつ、アルコールなどの液体エッチャーによって除去することができる樹脂が選択される。具体的にはたとえばブチラール樹脂が採用可能である。図25では樹脂部9を長方形で示しているが、実際には、樹脂部9は、ポッティングによって塗布されているので、このような長方形とは限らず、上に凸な形状となる。樹脂部9は、たとえばドーム形状であってよい。
たとえば第1部品6の高さが0.4mmであり、最も高い部品の高さが0.5mmであり、最も高い部品の上における封止樹脂部3の厚みが0.1mmであるものとすると、樹脂部9は0.2mmより厚く形成する。たとえば樹脂部9は厚み0.3mmとなるように形成する。
図26に示すように、封止樹脂部3を形成する。封止樹脂部3は、少なくとも部品4,5および第1部品6を覆うように形成される。この時点では、樹脂部9の上面も封止樹脂部3によって覆われていてもよい。
封止樹脂部3の上面を研削加工し、樹脂部9を露出させ、さらに樹脂部9をエッチングなどの公知技術によって除去する。たとえばアルコールなどのエッチャーを用いて樹脂部9を除去する。その結果、図27に示すように、第1部品6に対応する領域に凹部12が存在する構成を得ることができる。凹部12は、図においては単純化して表示しているが、実際には、上から下まで同じ径とは限らずテーパ状となっていてもよい。凹部12は、たとえば下方にいくにつれて幅が狭くなっていてもよい。
図28に示すように、いわゆるハーフカットを行なう。これにより、溝11が形成される。
図29に示すように、導体膜7を形成する。導体膜7は、凹部12の内面と封止樹脂部3の上面とを一括して覆うように形成される。図29に示した状態から、個別の回路モジュール103のサイズに分断する。ここでは、既に形成されている溝11に沿って基板1を分断すればよい。こうして、図24に示すような回路モジュール103を得ることができる。
なお、上記実施の形態のうち複数を適宜組み合わせて採用してもよい。
なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
1 基板、1a 主表面、2 導体パターン、3 封止樹脂部、4,5 部品、6 第1部品、6a 部品本体、6b 接続部、6c 中空部、6d 第1樹脂部、6e 樹脂部、6f インターポーザ、7 導体膜、8 第2樹脂部、9 (のちに除去される予定の)樹脂部、11 溝、12 凹部、101,102,103 回路モジュール。

Claims (6)

  1. 上面および側面を有し、主表面を有する基板と、
    前記主表面に実装された第1部品と、
    前記主表面を覆いつつ前記第1部品の少なくとも前記側面を覆う封止樹脂部とを備え、
    前記第1部品は中空部を有しており、前記第1部品は、前記中空部に露出する接続部を備え、
    前記封止樹脂部は前記第1部品の前記上面のうち前記中空部に対応する領域の少なくとも一部を避けて配置されており、
    前記第1部品の上面は、前記封止樹脂部の上面より低い位置にあり、
    前記第1部品は、前記中空部より上側に樹脂からなる第1樹脂部を含み、
    前記第1樹脂部の上面と前記封止樹脂部の上面とは、同一平面内にある、回路モジュール。
  2. 上面および側面を有し、主表面を有する基板と、
    前記主表面に実装された第1部品と、
    前記主表面を覆いつつ前記第1部品の少なくとも前記側面を覆う封止樹脂部とを備え、
    前記第1部品は中空部を有しており、前記第1部品は、前記中空部に露出する接続部を備え、
    前記封止樹脂部は前記第1部品の前記上面のうち前記中空部に対応する領域の少なくとも一部を避けて配置されており、
    前記第1部品の上面は、前記封止樹脂部の上面より低い位置にあり、
    前記第1部品の上側に、前記封止樹脂部の材料よりヤング率が低い樹脂からなる第2樹脂部が配置されており、前記第2樹脂部の上面と前記封止樹脂部の上面とは、同一平面内にある、回路モジュール。
  3. 少なくとも前記第1部品の上面と前記封止樹脂部の上面との間の境界を覆うように導体膜が配置されている、請求項1に記載の回路モジュール。
  4. 少なくとも前記第2樹脂部の上面と前記封止樹脂部の上面との間の境界を覆うように導体膜が配置されている、請求項に記載の回路モジュール。
  5. 主表面を有する基板と、
    中空部を有し、前記主表面に配置される第1部品と、
    前記主表面に配置され、前記第1部品よりも背の高い第2部品と、
    第1樹脂部とを備え、
    前記第1樹脂部は、前記第2部品の上面を覆い、かつ、前記第1部品の上面のうち前記中空部に対応する領域の少なくとも一部を避けて配置されており、
    前記第1部品の上側に、前記第1樹脂部の材料よりヤング率が低い樹脂からなる第2樹脂部が配置されている、回路モジュール。
  6. 少なくとも前記第2樹脂部の上面と前記第1樹脂部の上面との間の境界を覆うように導体膜が配置されている、請求項に記載の回路モジュール。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7063390B2 (ja) 2018-09-28 2022-05-09 株式会社村田製作所 電子部品モジュール
US12055633B2 (en) * 2020-08-25 2024-08-06 Lumentum Operations Llc Package for a time of flight device

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001243437A (ja) * 2000-02-29 2001-09-07 Toshiba Chem Corp データキャリアモジュール、データキャリア及びデータキャリアの製造方法
JP2003115563A (ja) * 2001-10-04 2003-04-18 Toshiba Corp 電気部品とその製造方法
JP2005110017A (ja) 2003-09-30 2005-04-21 Toshiba Corp 高周波フィルタモジュール及びその製造方法
DE102006033319B4 (de) * 2006-07-17 2010-09-30 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements in Halbleiterchipgröße mit einem Halbleiterchip
US7928538B2 (en) * 2006-10-04 2011-04-19 Texas Instruments Incorporated Package-level electromagnetic interference shielding
JP5003260B2 (ja) * 2007-04-13 2012-08-15 日本電気株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP5046770B2 (ja) * 2007-07-25 2012-10-10 日本電波工業株式会社 圧電部品
JP2010165748A (ja) * 2009-01-13 2010-07-29 Renesas Electronics Corp 電子装置
JP2011146486A (ja) * 2010-01-13 2011-07-28 Panasonic Corp 光学デバイスおよびその製造方法ならびに電子機器
US8492203B2 (en) * 2011-01-21 2013-07-23 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor device and method for forming semiconductor package having build-up interconnect structure over semiconductor die with different CTE insulating layers
JP2013062328A (ja) * 2011-09-12 2013-04-04 Toshiba Corp 半導体装置
JP5864180B2 (ja) * 2011-09-21 2016-02-17 新光電気工業株式会社 半導体パッケージ及びその製造方法
JP5861771B2 (ja) * 2012-03-26 2016-02-16 株式会社村田製作所 弾性波装置及びその製造方法
WO2014080931A1 (ja) * 2012-11-21 2014-05-30 株式会社カネカ 放熱構造体
CN103871961B (zh) * 2012-12-17 2017-08-25 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 互连结构及其制造方法
US9484313B2 (en) * 2013-02-27 2016-11-01 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor packages with thermal-enhanced conformal shielding and related methods
CN103400825B (zh) * 2013-07-31 2016-05-18 日月光半导体制造股份有限公司 半导体封装件及其制造方法
US9263425B2 (en) * 2013-12-11 2016-02-16 Infineon Technologies Austria Ag Semiconductor device including multiple semiconductor chips and a laminate
JP6190732B2 (ja) * 2014-01-30 2017-08-30 新光電気工業株式会社 放熱板及び半導体装置
US20150221578A1 (en) * 2014-02-05 2015-08-06 Infineon Technologies Ag Semiconductor package and method for producing a semiconductor
JP2015154032A (ja) * 2014-02-19 2015-08-24 株式会社東芝 配線基板とそれを用いた半導体装置
FR3018630A1 (fr) * 2014-03-11 2015-09-18 St Microelectronics Grenoble 2 Boitier electronique perfore et procede de fabrication
TWI549235B (zh) * 2014-07-03 2016-09-11 矽品精密工業股份有限公司 封裝結構及其製法與定位構形
US9941219B2 (en) * 2014-09-19 2018-04-10 Intel Corporation Control of warpage using ABF GC cavity for embedded die package
JP6557968B2 (ja) * 2014-12-25 2019-08-14 日亜化学工業株式会社 パッケージ、発光装置及びそれらの製造方法
WO2017077837A1 (ja) * 2015-11-05 2017-05-11 株式会社村田製作所 部品実装基板
JP6556081B2 (ja) * 2016-03-24 2019-08-07 京セラ株式会社 弾性表面波装置

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