JP6778585B2 - 配線回路基板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の配線回路基板およびその製造方法の第1実施形態を、図1〜図3Gを参照して、順に説明する。
この配線回路基板1は、長手方向(図1における左右方向)に延びる略平板形状を有する。図1に示すように、配線回路基板1は、絶縁層の一例としてのベース絶縁層2と、導体層3と、カバー絶縁層10とを上下方向(厚み方向の一例)に順に備える。
配線回路基板1の製造方法は、図2A〜図3Gに示すように、ベース絶縁層2を用意する第1工程(図2A参照)、導体層3をベース絶縁層2の上面(厚み方向一方面の一例)に配置する第2工程(図2B〜図3F参照)、および、カバー絶縁層10を配置する第10工程(図3G参照)を順に備える。
図2Aに示すように、第1工程では、ベース絶縁層2を、第1ベース部5、第2ベース部6および第3ベース部7を連続して有するように、形成する。
第2工程は、第3工程(図2B参照)、第4工程(図2C参照)、第5工程(図2D参照)および第6工程(図3Eおよび図3F参照)を備える。第3工程、第4工程、第5工程および第6工程は、順に実施される。
図2Bに示すように、第3工程では、第2配線部9の厚みT4(図3E参照)と同一の厚みT4を有する第1導体層11を、ベース絶縁層2の上面に配置する。
図2Cに示すように、第4工程では、フォトレジスト12を、第1導体層11の上面全面に配置する。
図2Cおよび図2Dに示すように、第5工程では、フォトレジスト12を露光および現像することにより、めっきレジスト13を、第1配線部8の反転パターンで形成する。
図3Eに示すように、第6工程では、第2導体層14を、めっきレジスト13から露出する第1導体層11の上面に、めっきにより形成する。
図3Gに示すように、第10工程では、カバー絶縁層10を、公知の方法で、上記したパターンで、ベース絶縁層2の上に配置する。
図1に示す配線回路基板1によれば、第1ベース部5および第1配線部8の2層から肉厚部分を形成できるとともに、第2ベース部6およびそれに対応する第2配線部9の2層から、肉厚部分に比べて十分に薄い肉薄部分を形成することができる。そのため、肉厚部分および肉薄部分によって、優れた屈曲性および優れた剛性を両立することができる。
変形例において、第1実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
第2実施形態において、第1実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
図8Aに示すように、第7工程では、第1配線部8の厚みT3(図9D参照)と同一の厚みT3を有する第3導体層15を、ベース絶縁層2の上面に配置する。例えば、図示しない導体シートをベース絶縁層2の上面に接着剤を介して接着し、その後、導体シート(図示せず)をエッチングして、第3導体層15を形成する。
図8Bおよび図8Cに示すように、第8工程では、エッチングレジスト16(図8C参照)を、第3導体層15の上面に、第1配線部8と同一パターンで形成する。
図9Dに示すように、第9工程では、エッチングレジスト16から露出する第3導体層15の上側部分24(図8C参照)をエッチングする。
図4に示すように、第1配線部8の長手方向他端縁(に位置する連結面20)を、厚みが変化する第3ベース部7の上面に配置する配線回路基板1の製造方法(比較例2)を検討する。
変形例において、第1および第2実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
上記した第1および第2実施形態を適宜組み合わせることができ、例えば、第1実施形態における図2Bで示される第3工程では、第1導体層11をめっきによって形成したが、例えば、導体シートのエッチングによって第1導体層11を形成することもできる。
2 ベース絶縁層
3 導体層
4 配線
5 第1ベース部
6 第2ベース部
7 第3ベース部
8 第1配線部
9 第2配線部
11 第1導体層
12 フォトレジスト
13 めっきレジスト
14 第2導体層
15 第3導体層
16 エッチングレジスト
30 回路付サスペンション基板
Claims (3)
- 絶縁層と、
前記絶縁層の厚み方向一方面に配置される導体層とを備え、
前記絶縁層は、
第1絶縁部と、
前記第1絶縁部の厚みより薄い厚みを有する第2絶縁部と、
前記第1絶縁部および前記第2絶縁部の間に配置され、前記第1絶縁部から前記第2絶縁部に向かって次第に薄くなる厚みを有する第3絶縁部とを連続して有し、
前記導体層は、
前記第1絶縁部の前記厚み方向一方面に配置される第1導体部と、
前記第2絶縁部の前記厚み方向一方面に配置され、前記第1導体部の厚みより薄い厚みを有する第2導体部とを連続して有し、
前記第1導体部が、さらに、前記第2絶縁部および前記第3絶縁部の前記厚み方向一方面に配置されるか、あるいは、
前記第2導体部が、さらに、前記第1絶縁部および前記第3絶縁部の前記厚み方向一方面に配置されることを特徴とする、配線回路基板。 - 絶縁層を用意する第1工程、および、
導体層を、前記絶縁層の厚み方向一方面に配置する第2工程を備え、
前記絶縁層は、
第1絶縁部と、
前記第1絶縁部の厚みより薄い厚みを有する第2絶縁部と、
前記第1絶縁部および前記第2絶縁部の間に配置され、前記第1絶縁部から前記第2絶縁部に向かって次第に薄くなる厚みを有する第3絶縁部とを連続して有し、
前記導体層は、
前記第1絶縁部の前記厚み方向一方面に配置される第1導体部と、
前記第2絶縁部の前記厚み方向一方面に配置され、前記第1導体部の厚みより薄い厚みを有する第2導体部とを連続して有し、
前記第1導体部が、さらに、前記第2絶縁部および前記第3絶縁部の前記厚み方向一方面に配置されるか、あるいは、
前記第2導体部が、さらに、前記第1絶縁部および前記第3絶縁部の前記厚み方向一方面に配置され、
前記第2工程は、
前記第2導体部の厚みと同一の厚みを有する第1導体層を、前記絶縁層の前記厚み方向一方面に配置する第3工程と、
フォトレジストを、前記第1導体層の前記厚み方向一方面全面に配置する第4工程と、
前記フォトレジストを露光および現像することにより、めっきレジストを、前記第1導体部の反転パターンで形成する第5工程と、
第2導体層を、前記めっきレジストから露出する前記第1導体層の前記厚み方向一方面に、めっきにより形成する第6工程とを備え、
前記第6工程では、前記第1導体層と前記第2導体層との総厚みが、前記第1導体部の厚みと同一となるように、めっきすることを特徴とする、配線回路基板の製造方法。 - 絶縁層を用意する第1工程、および、
導体層を、前記絶縁層の前記厚み方向一方面に形成する第2工程を備え、
前記絶縁層は、
第1絶縁部と、
前記第1絶縁部の厚みより薄い厚みを有する第2絶縁部と、
前記第1絶縁部および前記第2絶縁部の間に配置され、前記第1絶縁部から前記第2絶縁部に向かって次第に薄くなる厚みを有する第3絶縁部とを連続して有し、
前記導体層は、
前記第1絶縁部の前記厚み方向一方面に配置される第1導体部と、
前記第2絶縁部の前記厚み方向一方面に配置され、前記第1導体部の厚みより薄い厚みを有する第2導体部とを連続して有し、
前記第1導体部が、さらに、前記第2絶縁部および前記第3絶縁部の前記厚み方向一方面に配置されるか、あるいは、
前記第2導体部が、さらに、前記第1絶縁部および前記第3絶縁部の前記厚み方向一方面に配置され、
前記第2工程は、
前記第1導体部の厚みと同一の厚みを有する第3導体層を、前記絶縁層の前記厚み方向一方面に配置する第7工程と、
エッチングレジストを、前記第3導体層の前記厚み方向一方面に、前記第1導体部と同一パターンで形成する第8工程と、
前記エッチングレジストから露出する前記第3導体層の前記厚み方向一方側部分をエッチングする第9工程とを備え、
前記第9工程では、前記第1導体部の厚みから前記第2導体部の厚みを差し引いた厚み分、前記第3導体層をエッチングすることを特徴とする、配線回路基板の製造方法。
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