JP6752447B2 - ガラス基板の製造装置及び製造方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明の第一実施形態を図1〜図4を参照して説明する。なお、本実施形態では、板状ガラスとして、成形した帯状板ガラスから所定の寸法に切り出したガラス基板の裏面に表面処理を施す場合を例にとって説明する。
この工程S1では、図3に示すように、第一開閉弁23を閉じて、第二開閉弁24を開けると共に、第三開閉弁25を閉じる。これにより、処理ガス生成装置16で生成された処理ガスGaは給気路17に導入され、給気路17の下流端に位置する給気口14から放出される。給気口14が面する挿通路13に図1に示すガラス基板P(図3では省略)が挿通されると、給気口14から放出された処理ガスGaがガラス基板Pの一方の主表面Pa(給気口14に面する下面)に供給され、一方の主表面Paに所定の表面処理が施される。ガラス基板に供給された処理ガスGaは、給気口14と異なる位置で挿通路13に面する排気口15(本実施形態では二つ)を介して排気路19に引き込まれ、排気路19の下流側に位置する除害装置18に導入される。導入された処理ガスGaは除害装置18により除害され、有害物質を取り除いた状態で除害装置18の外に排出される。
上述のように表面処理装置11を稼働している間、ガラス基板Pに対して所定の表面処理が施される。一方で、何らかの理由で表面処理を停止して、表面処理装置11を分解する必要が生じた場合には、以下の処理(動作)を行った上で表面処理装置11のメンテナンスを行う。すなわち、メンテナンスを始めるに際しては、稼働時の状態から、図4に示すように、まず第二開閉弁24を閉じると共に第三開閉弁25を開く。そして、第一開閉弁23を開く。これにより、給気路17のうち少なくとも第二開閉弁24よりも下流側に向けた処理ガスGaの供給が停止されると共に、合流位置P1よりも下流側で給気路17に無害ガスGbが新たに導入される。よって、給気路17、挿通路13、及び排気路19に流通していた処理ガスGaは無害ガスGbに押し出される形で除害装置18に排出され、これにより、処理ガス分岐路21内を除く、表面処理装置11中の処理ガスGaが無害ガスGbによって置換される。従って、作業者が安全に表面処理装置11を分解して状態確認や整備等のメンテナンスを行うことが可能となる。また、上述のように無害ガス導入路20を設けることで、処理ガス生成装置16を通ることなく給気路17に無害ガスGbを導入することができるので、無害ガスGbの導入条件(流量、圧力、温度など)を比較的自由に設定することができる。よって、例えば流量を多めに設定することにより、無害ガスGbによる処理ガスGaの置換を短時間で行うことが可能となる。
図5は、第二実施形態に係る製造装置30の流路構成図、図6は、この製造装置30を用いた製造方法(表面処理及びメンテナンス)の手順を示すフローチャートをそれぞれ示している。図5に示すように、この製造装置30は、第一実施形態とは流路構成の異なる表面処理装置31を備えており、具体的には、排気路19のうち処理ガス分岐路21の合流位置P2よりも上流側に、排気路19を開閉する第四開閉弁26が配設されている。なお、これ以外の構成は、第一実施形態に係る製造装置10(表面処理装置11)と同じであるので、詳細な説明を省略する。
この工程では、図7に示すように、第一開閉弁23を閉じて、第二開閉弁24を開け、第三開閉弁25を閉じると共に、第四開閉弁26を開いた状態とする。これにより、処理ガス生成装置16で生成された処理ガスGaは給気路17に導入され、給気路17の下流端に位置する給気口14から放出される。給気口14が面する挿通路13に図1に示すガラス基板P(図7では省略)が挿通されると、給気口14から放出された処理ガスGaがガラス基板Pの一方の主表面Pa(給気口14に面する下面)に供給され、一方の主表面Paに所定の表面処理が施される。また、排気路19上に設けた第四開閉弁26を開いた状態にしているので、ガラス基板Pに供給された処理ガスGaは、給気口14と異なる位置で挿通路13に面する排気口15(本実施形態では二つ)を介して排気路19に引き込まれ、排気路19の下流側に位置する除害装置18に導入される。導入された処理ガスGaは除害装置18により除害され、有害物質を取り除いた状態で除害装置18の外に排出される。
(S21)無害ガス導入ステップ
また、本実施形態において、何らかの理由で表面処理を停止して、表面処理装置31のメンテナンスを行う必要が生じた場合には、以下の処理(動作)を行う。すなわち、無害ガスGbで処理ガスGaを置換するステップにおいては、図8に示すように、まず第二開閉弁24を閉じると共に第三開閉弁25を開く。そして、第一開閉弁23を開く。第四開閉弁26は開いたままの状態とする。これにより、給気路17のうち少なくとも第二開閉弁24よりも下流側に向けた処理ガスGaの供給が停止されると共に、合流位置P1よりも下流側に無害ガスGbが新たに導入される。よって、給気路17、挿通路13、及び排気路19に流通していた処理ガスGaは無害ガスGbに押し出される形で除害装置18に排出され、これにより、処理ガス分岐路21内を除く、表面処理装置11中の処理ガスGaが無害ガスGbよって置換される。従って、作業者が安全に表面処理装置11を分解してメンテナンスを行うことが可能となる。
ステップS21において、給気路17に無害ガスGbを導入し、給気路17と挿通路13、及び排気路19が無害ガスGbで置換された後、このステップを実施する。すなわち、図9に示すように、第一開閉弁23を閉じて無害ガスGbの給気路17への供給を停止すると共に、第四開閉弁26を閉じて排気路19のうち処理ガス分岐路21の合流位置P2よりも上流側で排気路19の流れを塞ぐ。第二開閉弁24は閉じた状態のまま、及び第三開閉弁25は開いた状態のままとする。これにより、給気路17のうち第二開閉弁24よりも下流側の領域と、ガラス基板の処理空間となる挿通路13、及び排気路19のうち第四開閉弁26よりも上流側の領域が、処理ガス分岐路21及び排気路19のうち第四開閉弁26よりも下流側の領域と完全に切り離された状態となる。言い換えると、表面処理装置31の流路が、無害ガスGbのみが存在する空間と、処理ガスGaのみが存在する空間とに分断された状態となる。例えば図4に示す流路構成をとる場合、無害ガスGbの流量又は流体圧が、処理ガスGaの流量又は流体圧より大幅に大きく設定されていれば、処理ガスGaが、処理ガス分岐路21の合流位置P2から排気路19の上流側に逆流する事態を防ぐことはできるが、完全に遮断された状態でない以上、わずかな量であっても処理ガスGaが給気路17側に流れ込む可能性を完全に排除することは難しい。これに対して、本実施形態に係る製造装置30によれば、上述した給気路17とガラス基板の処理空間(挿通路13)が完全に無害ガスGbで満たされた状態となった時点で、第四開閉弁26を閉じることで、処理ガスGaの生成及び供給を続行したままで無害ガスGbの置換を行う場合であっても、作業者が処理ガスGaに触れる可能性を完全に排除して、表面処理装置31を安全に分解して確認作業やメンテナンスを行うことが可能となる。
次に、本発明の第三実施形態を、主に図10に基づき説明する。なお、本実施形態において使用する製造装置は、図5に示す製造装置30とする。
この工程S3では、直前のメンテナンス工程S2時の状態(図9に示す状態)から、まず第二開閉弁24を開くと共に第四開閉弁26を開き、かつ第三開閉弁25を閉じる。第一開閉弁23は閉じたままの状態とする。この間、処理ガス生成装置16による処理ガスGaの生成及び供給は停止することなく続行されている(何れも図7を参照)。このようにすることで、即座に図7に示すように給気路17に処理ガスGaが導入され、給気路17に流通していた無害ガスGbが処理ガスGaで置換されるので、短時間で給気路17及び排気路19を再び処理ガスGaで満たすことができる。従って、例えば一旦処理ガス生成装置16を停止した状態から再起動させた場合に生じ得る、処理ガスGaの生成を再開してから処理ガスGaの生成状態が安定するまでの待ち時間を省略して、メンテナンス後、早急に表面処理を再開することが可能となる。
次に、本発明の第四実施形態を、主に図11及び図12に基づき説明する。なお、本実施形態において使用する製造装置は、図5に示す製造装置30とする。
(S23)キャリアガス導入ステップ
このメンテナンス工程S2では、第二実施形態と同様、まず第二開閉弁24を閉じると共に第三開閉弁25を開く。そして、第一開閉弁23を開く。第四開閉弁26は開いた状態のままとする。これにより、給気路17のうち少なくとも第二開閉弁24よりも下流側に向けた処理ガスGaの供給が停止されると共に、合流位置P1よりも下流側で給気路17に無害ガスGbが新たに導入される。よって、給気路17、挿通路13、及び排気路19に流通していた処理ガスGaは無害ガスGbに押し出される形で除害装置18に排出され、これにより、処理ガス分岐路21内を除く、表面処理装置11中の処理ガスGaが無害ガスGbよって置換される。従って、作業者が安全に表面処理装置11を分解してメンテナンスを行うことが可能となる。
図13はその一例(本発明の第五実施形態)に係るガラス基板製造装置40を示している。この製造装置40は、図1に示す第一開閉弁23及び第二開閉弁24の代わりに、無害ガス導入路20と給気路17との合流位置P1に、流路の切り替えを行う三方弁41を配設してなる。この三方弁41は、給気路17のうち合流位置P1の上流側から導入されてきた処理ガスGaが合流位置P1を通過して給気路17の下流側に向かう流れと、無害ガス導入路20から導入されてきた無害ガスGbが合流位置P1を通過して給気路17の下流側に向かう流れとに択一的に切り替え可能としている。そのため、処理ガスGaと無害ガスGbを共に供給している場合であっても、給気路17の合流位置P1よりも下流側には、常に処理ガスGaと無害ガスGbの何れか一方のみが導入され、他方の導入は防止されるようになっている。
図14はその一例(本発明の第六実施形態)に係るガラス基板製造装置50を示している。この製造装置50は、図1に示す第二開閉弁24と第三開閉弁25の代わりに、給気路17からの処理ガス分岐路21の分岐位置P3に、流路の切り替えを行う三方弁51を配設してなる。この三方弁51は、給気路17のうち分岐位置P3の上流側から導入されてきた処理ガスGaが分岐位置P3を通過してそのまま給気路17の下流側に向かう流れと、上記処理ガスGaが分岐位置P3を経由して処理ガス分岐路21に向かう流れとに択一的に切り替え可能としている。そのため、処理ガス生成装置16から処理ガスGaが供給されている場合、常に給気路17の分岐位置P3より下流側と処理ガス分岐路21の何れか一方のみに処理ガスGaが導入され、他方への導入は防止されるようになっている。上述の理由から、処理ガスGaを継続して生成、供給する場合(第一〜第三実施形態の場合)、処理ガスGaは常に給気路17と処理ガス分岐路21の何れか一方のみに導入すれば足りるためである。よって、分岐位置P3に三方弁51を設けて、表面処理工程S1時には給気路17の側を開き、メンテナンス工程S2時には処理ガス分岐路21の側を開くように三方弁51を操作することで、設備コストを抑えつつ安全にメンテナンスを行うことが可能となる。
11,31 表面処理装置
12 処理槽
13 挿通路
14 給気口
15 排気口
16 処理ガス生成装置
17 給気路
18 除害装置
19 排気路
20 無害ガス導入路
21 処理ガス分岐路
22 無害ガス導入装置
23 第一開閉弁
24 第二開閉弁
25 第三開閉弁
26 第四開閉弁
41,51 三方弁
Fa 原料ガス
Fb キャリアガス
Fc 流体(水)
Ga 処理ガス
Gb 無害ガス
S1 表面処理工程
S2 メンテナンス工程
S21 無害ガス導入ステップ
S22 流路分断ステップ
S23 キャリアガス導入ステップ
S3 表面処理の再開準備工程
Claims (12)
- ガラス基板となる板状ガラスの表面に処理ガスを供給して、所定の表面処理を施すための表面処理装置を備えたガラス基板の製造装置であって、
前記表面処理装置は、前記処理ガスの原料とキャリアガスの導入により前記処理ガスを生成する処理ガス生成装置と、前記処理ガスを前記表面に供給する給気路と、前記処理ガスに除害処理を施す除害装置と、前記表面に供給された前記処理ガスを前記除害装置に導入する排気路とを備え、
前記給気路に、前記キャリアガスとは異なる種類のガスである無害ガスを導入可能とする無害ガス導入路が前記給気路に合流している、ガラス基板の製造装置。 - 前記無害ガス導入路を開閉可能な第一開閉弁と、前記合流位置よりも前記給気路の上流側で前記給気路を開閉可能な第二開閉弁とをさらに備えた請求項1に記載のガラス基板の製造装置。
- 前記合流位置に設けられ、前記給気路のうち前記合流位置の上流側から下流側に向かう前記処理ガスの流れと、前記無害ガス導入路から前記合流位置の下流側に向かう前記無害ガスの流れとを切り替え可能な三方弁をさらに備えた請求項1に記載のガラス基板の製造装置。
- 前記合流位置よりも前記給気路の上流側で分岐して前記排気路に前記処理ガスを導入可能とする処理ガス分岐路をさらに備えた請求項1〜3の何れか一項に記載のガラス基板の製造装置。
- 前記処理ガス分岐路を開閉する第三開閉弁をさらに備えた請求項4に記載のガラス基板の製造装置。
- 前記処理ガス分岐路が前記排気路に合流する位置よりも前記排気路の上流側に配設され、前記排気路の開閉を行う第四開閉弁をさらに備えた、請求項4又は5に記載のガラス基板の製造装置。
- 前記無害ガスは、クリーンドライエアーである請求項1〜6の何れか一項に記載のガラス基板の製造装置。
- ガラス基板となる板状ガラスの表面に処理ガスを供給して、所定の表面処理を施す表面処理工程と、表面処理工程を停止している間に、前記表面処理を施すための装置のメンテナンスを行うメンテナンス工程とを備えたガラス基板の製造方法であって、
処理ガス生成装置は、前記処理ガス生成装置に導入された前記処理ガスの原料とキャリアガスとから前記処理ガスを生成し、
前記表面処理工程において、前記処理ガス生成装置で生成した前記処理ガスを、給気路を介して前記表面に供給すると共に、前記表面に供給された前記処理ガスを、排気路を介して除害装置に導入して前記処理ガスに除害処理を施し、
前記メンテナンス工程において、前記給気路を閉じると共に、前記給気路を閉じた位置よりも前記給気路の下流側に前記キャリアガスとは異なる種類のガスである無害ガスを導入することで、前記給気路を通る前記処理ガスを前記無害ガスに置換する、ガラス基板の製造方法。 - 前記メンテナンス工程において、前記給気路を閉じた位置よりも前記給気路の上流側で前記給気路から分岐して前記排気路に前記処理ガスを導入可能とした請求項8に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記メンテナンス工程において、前記給気路を通る前記処理ガスを前記無害ガスに置換した後、前記給気路への前記無害ガスの導入を停止すると共に、前記給気路から分岐して前記処理ガスを前記排気路に導入した位置よりも前記排気路の上流側で前記排気路を閉じる請求項9に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記給気路を開いて前記給気路に前記処理ガスを導入すると共に、前記給気路から分岐した流路を閉じ、かつ前記排気路を開くことで、前記無害ガスを前記処理ガスに置換する表面処理の再開準備工程をさらに備えた請求項10に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記メンテナンス工程において、前記処理ガス生成装置による前記処理ガスの生成を停止すると共に、
前記処理ガスの前記原料となる原料ガスの前記処理ガス生成装置への供給を停止し、前記キャリアガスの前記処理ガス生成装置への供給を続行する請求項9に記載のガラス基板の製造方法。
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