JP5672297B2 - イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射装置の運転方法 - Google Patents
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Description
これまでに述べた本発明で用いられるイオンビーム照射装置の例としては、カセット7を大気側に配置しておくタイプのものであったが、カセット7を真空予備室6内に導入するタイプのイオンビーム照射装置にも適用できる。この場合、これらまでの例と同様に未処理基板と処理済基板との交換の際にクリーニングを行うようにしてもいいし、これとは別に、処理済基板が収納されたカセット7と未処理基板が収納されたカセット7との交換の間に、装置内部のクリーニングを行うようにしてもいい。
2・・・引出電極系
3・・・イオンビーム
4・・・基板
5・・・処理室
6・・・真空予備室
7・・・カセット
Claims (6)
- 複数枚の基板が収納されるカセットと、
前記基板へのイオンビーム照射処理がなされる処理室と、
前記カセットと前記処理室との間で、前記カセットに収納された未処理基板と前記処理室内でイオンビーム照射処理された処理済基板との基板交換を前記カセットに収納された全ての未処理基板に対してイオンビーム照射処理が実施されるまでに複数回行う基板搬送部と、
イオンビームを発生させ、前記処理室内に当該イオンビームを供給するイオンビーム供給部と、を備えたイオンビーム照射装置であって、
前記基板搬送部によって複数回行われる基板交換作業のうち、少なくとも1回の基板交換作業と並行して、前記イオンビーム供給部の運転パラメータを設定変更して、前記イオンビーム供給部内のクリーニングを行うことを特徴とするイオンビーム照射装置。 - 前記イオンビーム照射装置は前記イオンビーム供給部内のクリーニングを行う為のクリーニング用の運転パラメータが格納された記憶装置を有しており、
前記イオンビーム供給部内のクリーニング時には、前記記憶装置から前記クリーニング用の運転パラメータの読み出しが行われることを特徴とする請求項1記載のイオンビーム照射装置。 - 前記記憶装置には前記クリーニング用のクリーニング効果が異なる運転パラメータが複数格納されていて、
前記記憶装置からの前記運転パラメータの読み出しは、前記イオンビーム照射装置の運転時間、イオンビーム照射条件、あるいは、前記イオンビーム供給部で発生した放電回数のいずれかに基づいて行われることを特徴とする請求項2記載のイオンビーム照射装置。 - 前記イオンビーム照射装置は、前記処理室内に設けられ、前記イオンビームの電流を計測するイオンビーム電流計測器を備えていて、
前記イオンビーム供給部内のクリーニングが終了してから所定時間経過後に、前記イオンビーム電流計測器での計測を開始することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のイオンビーム照射装置。 - 前記イオンビーム供給部は、
ドーパントガスが導入され、内部でプラズマが生成されるプラズマ生成容器と、
前記プラズマ生成容器内で生成されたプラズマからイオンビームを引出す為の複数枚の電極群から構成された引出電極系を備えていて、
前記イオンビーム供給部内のクリーニングが終了した後で、かつ、前記プラズマ生成容器内に導入される前記ドーパントガスの導入量が所定量に達した後に、前記引出電極系に所定電圧が印加されることで前記イオンビームの引出しが行われることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のイオンビーム照射装置。 - 複数枚の基板が収納されたカセットと、
前記基板へのイオンビーム照射処理がなされる処理室と、
前記カセットと前記処理室との間で、前記カセットに収納された未処理基板と前記処理室内でイオンビーム照射処理された処理済基板との基板交換を前記カセットに収納された全ての未処理基板に対してイオンビーム照射処理が実施されるまでに複数回行う基板搬送部と、
イオンビームを発生させ、前記処理室内に当該イオンビームを供給するイオンビーム供給部と、を備えたイオンビーム照射装置であって、
前記基板搬送部によって複数回行われる基板交換作業のうち、少なくとも1回の基板交換作業と並行して、前記イオンビーム供給部内のクリーニングを行うことを特徴とするイオンビーム照射装置の運転方法。
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