JP6730367B2 - 太陽電池 - Google Patents

太陽電池 Download PDF

Info

Publication number
JP6730367B2
JP6730367B2 JP2018085025A JP2018085025A JP6730367B2 JP 6730367 B2 JP6730367 B2 JP 6730367B2 JP 2018085025 A JP2018085025 A JP 2018085025A JP 2018085025 A JP2018085025 A JP 2018085025A JP 6730367 B2 JP6730367 B2 JP 6730367B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
semiconductor structure
conductive film
transparent conductive
solar cell
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018085025A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018198313A (ja
Inventor
金 張
金 張
洋 魏
洋 魏
開利 姜
開利 姜
▲ハン▼ 守善
守善 ▲ハン▼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hon Hai Precision Industry Co Ltd filed Critical Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Publication of JP2018198313A publication Critical patent/JP2018198313A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6730367B2 publication Critical patent/JP6730367B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0224Electrodes
    • H01L31/022408Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/022425Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0224Electrodes
    • H01L31/022408Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0224Electrodes
    • H01L31/022466Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/0304Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only AIIIBV compounds
    • H01L31/03042Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only AIIIBV compounds characterised by the doping material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/06Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/06Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
    • H01L31/072Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/102Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier
    • H01L31/109Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier the potential barrier being of the PN heterojunction type
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/112Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by field-effect operation, e.g. junction field-effect phototransistor
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/10Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising heterojunctions between organic semiconductors and inorganic semiconductors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/80Constructional details
    • H10K30/81Electrodes
    • H10K30/82Transparent electrodes, e.g. indium tin oxide [ITO] electrodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/80Constructional details
    • H10K30/81Electrodes
    • H10K30/82Transparent electrodes, e.g. indium tin oxide [ITO] electrodes
    • H10K30/821Transparent electrodes, e.g. indium tin oxide [ITO] electrodes comprising carbon nanotubes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/50Photovoltaic [PV] devices
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/20Carbon compounds, e.g. carbon nanotubes or fullerenes
    • H10K85/221Carbon nanotubes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/544Solar cells from Group III-V materials
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)

Description

本発明は、太陽電池に関する。
太陽エネルギーは、現在最も清潔なエネルギー源の一つである。太陽エネルギーの利用方式は、光エネルギー−熱エネルギーの変換、光エネルギー−電気エネルギーの変換、光エネルギー−化学エネルギーの変換を含む。太陽電池は、光エネルギーが電気エネルギーに変換する典型的な例であり、半導体材料の光起電力効果を利用して、製造されるものである。現在、シリコン太陽電池が主要な太陽電池である(非特許文献1を参照)。シリコン太陽電池において、単結晶シリコン及び多結晶シリコンが光電転換の材料とされる。シリコン太陽電池は一般的に、単結晶シリコンウェハーで製造される。
張明傑など、"多結晶シリコンの生産"、材料及び冶金学報、2007年、第16巻、p.33−38
しかしながら、現在、単結晶シリコンウェハーの製造技術が発展のニーズを満足できず、且つ単結晶シリコンウェハーの製造が大量の電気エネルギーを消耗するので、単結晶シリコンウェハーが非常に高くなり、単結晶シリコンウェハーを採用する部品も非常に高くなっている。近年は、多結晶シリコンウェハーを有するシリコンのコストが低くなり、産量が顕著に多くなっている。しかし、従来技術の多結晶シリコン太陽電池は、構造が複雑である。そして、多結晶シリコンウェハーの生長過程において、熱応力の作用により、結晶粒に大量の欠陥(例えば、ダングリングボンド、粒界、ディスロケーション、微小な欠陥等)が形成され、太陽電池の全体の性能に影響を及ぼす。
これによって、ファンデルワールスヘテロ接合構造を含む新型の太陽電池を提供する必要がある。
太陽電池は、背面電極、半導体構造及び前面電極を含む。前記半導体構造は積層して設置されるP型半導体層及びN型半導体層を含み、該半導体構造が第一表面及び該第一表面と対向して設置される第二表面を含む、前記背面電極が前記半導体構造の第一表面に設置され、カーボンナノチューブである。前記前面電極が透明導電フィルムであり、該透明導電フィルムが堆積する方法によって、前記半導体構造の第二表面に形成され、該半導体構造を前記カーボンナノチューブと前記導電フィルムとの間に設置させ、前記カーボンナノチューブ、前記半導体構造及び前記導電フィルムが積層して、多層の立体構造を形成する。
前記カーボンナノチューブが金属性のカーボンナノチューブである。
前記多層の立体構造の横方向断面の面積が1nm〜1000nmである。
前記半導体構造の厚さが1ナノメートル〜1000ナノメートルである。
太陽電池は、第一電極、第二電極、絶縁層、ゲート電極及び太陽電池ユニットを含む。前記絶縁層が前記ゲート電極の表面に設置される。前記太陽電池ユニットが背面電極、半導体構造及び前面電極を含む。前記半導体構造が前記絶縁層の表面に設置され、前記絶縁層を通じて、前記ゲート電極と絶縁して設置され、前記半導体構造が積層して設置されるP型半導体層及びN型半導体層を含み、該半導体構造が第一表面及び該第一表面と対向して設置される第二表面を含む。前記背面電極が前記半導体構造の第一表面に設置され、カーボンナノチューブである。前記前面電極が透明導電フィルムであり、該透明導電フィルムが堆積する方法によって、前記半導体構造の第二表面に形成され、該半導体構造を前記カーボンナノチューブと前記導電フィルムとの間に設置させ、前記カーボンナノチューブ、前記半導体構造及び前記導電フィルムが積層して、多層の立体構造を形成する。前記第一電極が前記カーボンナノチューブと電気的に接続され、前記第二電極が前記透明導電フィルムと電気的に接続される。
従来技術と比べて、本発明は、新型の太陽電池を提供する。太陽電池はコストが低く、構造が簡単であり、未来のナノ電子工学及びナノ光電子工学の領域に巨大な応用潜在力を有する。
本発明の第一実施例の太陽電池の構造を示す図である。 本発明の第一実施例の太陽電池の側面を示す図である。 本発明の第一実施例の他の太陽電池の側面を示す図である。 本発明の第二実施例の太陽電池の構造を示す図である。
以下、図面を参照して、本発明の実施例について説明する。
図1及び図2を参照すると、本発明の第一実施例は、太陽電池100を提供する。太陽電池100は、背面電極102、半導体構造104及び前面電極106を含む。背面電極102が半導体構造104の表面に設置される。半導体構造104の厚さが1ナノメートル〜1000ナノメートルである。前面電極106が半導体構造104の他の表面に設置され、半導体構造104を背面電極102と前面電極106との間に設置させる。半導体構造104がP型半導体層104a及びN型半導体層104bを含む。P型半導体層104a及びN型半導体層104bが積層して設置される。半導体構造104が第一表面及び第二表面を含み、第一表面及び第二表面が対向して設置される。
背面電極102は、一つのカーボンナノチューブである。カーボンナノチューブが金属性のカーボンナノチューブであり、カーボンナノチューブの直径は制限されず、0.5ナノメートル〜150ナノメートルである。ある実施例において、カーボンナノチューブの直径が1ナノメートル〜10ナノメートルである。好ましくは、カーボンナノチューブが単層カーボンナノチューブであり、その直径が1ナノメートル〜5ナノメートルである。本実施例において、カーボンナノチューブが金属性の単層カーボンナノチューブであり、その直径が1ナノメートルである。カーボンナノチューブが半導体構造104の第一表面に設置され、第一表面と直接的に接触される。
半導体構造104は、二次元構造の半導体層である。即ち、半導体構造104の厚さが小さくて、半導体構造104の厚さが1ナノメートル〜2000ナノメートルである。好ましくは、半導体構造104の厚さが1ナノメートル〜1000ナノメートルである。より好ましくは、半導体構造104の厚さが1ナノメートル〜200ナノメートルである。半導体構造104がP型半導体層104a及びN型半導体層104bを含み、P型半導体層104a及びN型半導体層104bが積層して設置される。半導体構造104が第一表面及び第二表面を含み、第一表面及び第二表面が対向して設置される。図2を参照すると、第一表面がP型半導体層104aの表面であり、第二表面がN型半導体層104bの表面である。背面電極102がP型半導体層104aの表面に設置され、前面電極106がN型半導体層104bの表面に設置される。
図3を参照すると、他の実施例において、第一表面がN型半導体層104bの表面であり、第二表面がP型半導体層104aの表面である。背面電極102がN型半導体層104bの表面に設置され、前面電極106がP型半導体層104aの表面に設置される。P型半導体層104a及びN型半導体層104bの材料が制限されず、無機化合物半導体、元素半導体、有機半導体又はこれらの材料がドープされた材料である。本実施例において、P型半導体層104aの材料がセレン化タングステン(WSe)であり、その厚さが6ナノメートルであり、N型半導体層104bの材料が硫化モリブデン(M)であり、その厚さが2.6ナノメートルである。背面電極102がN型半導体層104bの表面に設置され、前面電極106がP型半導体層104aの表面に設置される。
前面電極106が透明導電フィルムである。透明導電フィルムの材料は、導電材料である。具体的には、導電材料が金属、導電性ポリマー又はITOである。透明導電フィルムが半導体構造104の第二表面に直接的に堆積される。透明導電フィルムが半導体構造104の第二表面に堆積される具体的な方法は、制限されず、イオンスパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法又は他のフィルムをコーティングする方法であってもよい。透明導電フィルムの厚さが制限されず、5ナノメートル〜100マイクロメートルである。ある実施例において、透明導電フィルムの厚さが5ナノメートル〜100ナノメートルである。もうある実施例において、透明導電フィルムの厚さが5ナノメートル〜20ナノメートルである。透明導電フィルムの形状が制限されず、長手形状、線形、方形などの形状である。本実施例において、透明導電フィルムは、材料が金属であり、形状が長手形状である。
背面電極102、半導体構造104及び前面電極106が積層して設置される。具体的には、カーボンナノチューブ、半導体構造104及び透明導電フィルムが積層して、多層の立体構造110を形成する。カーボンナノチューブのサイズが半導体構造104及び透明導電フィルムのサイズより小さいので、多層の立体構造110の断面の面積がカーボンナノチューブの直径及び長さによって決まる。多層の立体構造110は、横方向断面及び縦方向断面を定義して、横方向断面が半導体構造104の表面に平行する断面であり、縦方向断面が半導体構造104の表面に垂直する断面である。横方向断面の面積がカーボンナノチューブの直径及び長さによって決まる。縦方向断面の面積がカーボンナノチューブの長さ及び多層の立体構造110の厚さによって決まる。カーボンナノチューブのサイズが半導体構造104及び透明導電フィルムのサイズより小さいので、多層の立体構造110の横方向断面及び縦方向断面の面積が小さく、多層の立体構造110の体積も小さい。好ましくは、多層の立体構造110の横方向断面の面積は、0.25nm〜100000nmである。更に好ましくは、多層の立体構造110の横方向断面の面積は、1nm〜10000nmである。
カーボンナノチューブ及び透明導電フィルムと半導体構造104は、多層の立体構造110にファンデルワールスヘテロ接合構造を形成する。応用する時には、カーボンナノチューブ及び透明導電フィルムが半導体構造104の対向する二つの表面に設置される電極であると見られ、カーボンナノチューブ及び透明導電フィルムにバイアス電圧を印加して、多層の立体構造110がオン状態になる。この時に、電流が多層の立体構造110の横方向断面を流れて、太陽電池100の有効部分が多層の立体構造110である。太陽電池100の全体のサイズが多層の立体構造110の体積より大きればよい。従って、太陽電池100が小さいサイズを有してもよく、多層の立体構造110を含めばよい。太陽電池100はナノスケールの太陽電池となる。太陽電池は、ナノスケールのサイズ及びより高い集積度を持つ。
本発明の太陽電池100がカーボンナノチューブに基づく非対称のファンデルワールスヘテロ接合構造(CCVH)である。半導体構造は、二次元の構造であり、非対称にカーボンナノチューブ及び透明導電フィルムとの間に挟まれる。半導体構造がP−N接合を含み、カーボンナノチューブ及び導電フィルムがそれぞれP−N接合の二つの電極とする。カーボンナノチューブが特別な幾何学的形状及びエネルギーバンド構造を有するので、カーボンナノチューブのフェルミエネルギーがゲート電極に変調されやすい。従って、太陽電池が独特の優れた性能を表現する。
図4を参照すると、本発明の第二実施例は、太陽電池200を提供する。太陽電池200は、第一電極202、第二電極204、絶縁層210、ゲート電極208及び太陽電池ユニット206を含む。太陽電池ユニット206の構造が第一実施例の太陽電池100の構造と同じであり、ここで詳しく説明しない。即ち、第一実施例の太陽電池100と比べて、本実施例の太陽電池200は、更に第一電極202、第二電極204、絶縁層210及びゲート電極208を含む。具体的には、太陽電池ユニット206が絶縁層210を通じて、ゲート電極208と絶縁して設置され、第一電極202が背面電極102と電気的に接続され、第二電極204が前面電極106と電気的に接続され、ゲート電極208が絶縁層210を通じて、背面電極102、半導体構造104、前面電極106、第一電極202及び第二電極204と絶縁して設置される。
太陽電池200において、ゲート電極208及び絶縁層210が積層して設置され、太陽電池ユニット206が絶縁層210の表面に設置され、絶縁層210をゲート電極208と太陽電池ユニット206との間に位置させる。太陽電池200において、背面電極102としてのカーボンナノチューブが絶縁層210の表面に直接的に設置され、半導体構造104がカーボンナノチューブの上方に設置され、カーボンナノチューブを半導体構造104と絶縁層210との間に位置させ、前面電極106としての透明導電フィルムが半導体構造104の上方に位置する。本実施例において、カーボンナノチューブは、絶縁層210の表面に直接的に設置され、ゲート電極208に接近して、ゲート電極208が太陽電池ユニット206を制御することができる。また、透明導電フィルムがゲート電極208から離れるので、透明導電フィルムは半導体構造104及びゲート電極208に遮蔽効果を生成することができず、太陽電池200が作動できないことを防止するようになる。本実施例において、カーボンナノチューブがN型半導体層104bの表面に設置され、透明導電フィルムがP型半導体層104aの表面に設置され、P型半導体層104aは、厚さが6ナノメートルであるWSeであり、N型半導体層104bは、厚さが2.6ナノメートルであるMoSである。
第一電極202及び第二電極204が導電材料からなり、導電材料が金属、ITO、ATO、導電銀テープ、導電性ポリマー又は導電カーボンナノチューブ等である。金属材料がアルミニウム、銅、タングステン、モリブデン、金、チタン、パラジウム又は任意の組み合わせの合金である。第一電極202及び第二電極204も導電フィルムであってもよく、導電フィルムの厚さが2ナノメートル〜100マイクロメートルである。本実施例において、第一電極202及び第二電極204が金及びチタンからなる金属複合構造である。具体的には、金属複合構造が金層及びチタン層からなり、金層がチタン層の表面に設置される。チタン層の厚さが5ナノメートルであり、金層の厚さが5ナノメートルである。本実施例において、第一電極202は、カーボンナノチューブと電気的に接続され、カーボンナノチューブの一端に設置され、カーボンナノチューブの表面と緊密に接触する。チタン層がカーボンナノチューブの表面に設置され、金層がチタン層の表面に設置される。第二電極204は、透明導電フィルムと電気的に接続され、透明導電フィルムの一端に設置され、透明導電フィルムの表面と緊密に接触する。チタン層が透明導電フィルムの表面に設置され、金層がチタン層の表面に設置される。
絶縁層210の材料が絶縁材料であり、その厚さが1ナノメートル〜100マイクロメートルである。絶縁層210がカーボンナノチューブとゲート電極208とを、間隔を置いて、絶縁的に設置させる。本実施例において、絶縁層の材料が酸化シリコンである。
ゲート電極208が導電材料からなり、導電材料が金属、ITO、ATO、導電銀テープ、導電性ポリマー又は導電カーボンナノチューブ等である。金属材料がアルミニウム、銅、タングステン、モリブデン、金、チタン、パラジウム又は任意の組み合わせの合金である。本実施例において、ゲート電極208が層状の構造であり、絶縁層210がゲート電極208の表面に設置され、第一電極202、第二電極204及び太陽電池ユニット206が絶縁層210に設置され、ゲート電極208及び絶縁層210に支持される。
本実施例の太陽電池200が応用される時には、太陽光線が透明導電フィルムを通して、半導体構造104に照射され、半導体構造104と、カーボンナノチューブ及び透明導電フィルムとは、ファンデルワールスヘテロ接合構造を形成するので、光起電力効果を生成して、光エネルギーが電気エネルギーに変換する。本実施例の太陽電池200において、カーボンナノチューブが背面電極102とされ、絶縁層210に直接的に設置され、ゲート電極208と絶縁層210のみが隔てられ、カーボンナノチューブが特別な性能を有するので、ゲート電極によって、太陽電池ユニット206における半導体構造の作動性能を調節でき、異なる半導体材料からなる太陽電池200の性能を向上できる。
100 太陽電池
102 背面電極
104 半導体構造
104a P型半導体層
104b N型半導体層
106 前面電極
110 多層の立体構造
200 太陽電池
202 第一電極
204 第二電極
206 太陽電池ユニット
208 ゲート電極
210 絶縁層

Claims (5)

  1. 背面電極、半導体構造及び前面電極を含む太陽電池において、
    前記半導体構造が積層して設置されるP型半導体層及びN型半導体層を含み、該半導体構造が第一表面及び該第一表面と対向して設置される第二表面を含み、
    前記背面電極が前記半導体構造の第一表面に設置され、一つの単層カーボンナノチューブであり、
    前記前面電極が透明導電フィルムであり、該透明導電フィルムが堆積する方法によって、前記半導体構造の第二表面に形成され、該半導体構造を前記単層カーボンナノチューブと前記透明導電フィルムとの間に設置させ、前記単層カーボンナノチューブ、前記半導体構造及び前記透明導電フィルムが積層して、多層の立体構造を形成し、
    前記単層カーボンナノチューブが、第一の方向に沿って延在しており、
    前記半導体構造の第二表面に前記透明導電フィルムを積層させたものが、前記単層カーボンナノチューブを跨いで、前記第一の方向と交差する第二の方向に沿って延在しており、
    前記多層の立体構造の前記半導体構造の表面に平行する断面の面積は、一つの前記単層カーボンナノチューブの直径及び長さによって決まることを特徴とする太陽電池。
  2. 前記単層カーボンナノチューブが金属性の単層カーボンナノチューブであることを特徴とする、請求項1に記載の太陽電池。
  3. 前記多層の立体構造の前記半導体構造の表面に平行する断面の面積が1nm〜1000nmであることを特徴とする、請求項1に記載の太陽電池。
  4. 第一電極、第二電極、絶縁層、ゲート電極及び太陽電池ユニットを含む太陽電池において、
    前記絶縁層が前記ゲート電極の表面に設置され、
    前記太陽電池ユニットが背面電極、半導体構造及び前面電極を含み、
    前記半導体構造が前記絶縁層の表面に設置され、前記絶縁層を通じて、前記ゲート電極と絶縁して設置され、前記半導体構造が積層して設置されるP型半導体層及びN型半導体層を含み、該半導体構造が第一表面及び該第一表面と対向して設置される第二表面を含み、
    前記背面電極が前記半導体構造の第一表面に設置され、一つの単層カーボンナノチューブであり、
    前記前面電極が透明導電フィルムであり、該透明導電フィルムが堆積する方法によって、前記半導体構造の第二表面に形成され、該半導体構造を前記単層カーボンナノチューブと前記透明導電フィルムとの間に設置させ、前記単層カーボンナノチューブ、前記半導体構造及び前記透明導電フィルムが積層して、多層の立体構造を形成し、
    前記単層カーボンナノチューブが、前記絶縁層の表面上において第一の方向に沿って延在しており、
    前記半導体構造の第二表面に前記透明導電フィルムを積層させたものが、前記絶縁層の表面上における前記単層カーボンナノチューブを跨いで、前記第一の方向と交差する第二の方向に沿って延在しており、
    前記多層の立体構造の前記半導体構造の表面に平行する断面の面積は、一つの前記単層カーボンナノチューブの直径及び長さによって決まり、
    前記第一電極が、前記単層カーボンナノチューブと電気的に接続され、前記単層カーボンナノチューブにおける前記第一の方向の一端に設置されており、
    前記第二電極が、前記透明導電フィルムと電気的に接続され、前記透明導電フィルムにおける前記第二の方向の一端に設置されていることを特徴とする太陽電池。
  5. 前記第一電極及び前記第二電極は、金及びチタンからなる金属複合構造をなしており、
    前記第一電極のチタン層が、前記単層カーボンナノチューブの表面に設置されるとともに、前記第一電極の金層が前記第一電極のチタン層の表面に設置され、
    前記第二電極のチタン層が、前記透明導電フィルムの表面に設置されるとともに、前記第二電極の金層が前記第二電極のチタン層の表面に設置されている
    ことを特徴とする請求項4に記載の太陽電池。
JP2018085025A 2017-05-24 2018-04-26 太陽電池 Active JP6730367B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710374694.9 2017-05-24
CN201710374694.9A CN108963003B (zh) 2017-05-24 2017-05-24 太阳能电池

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018198313A JP2018198313A (ja) 2018-12-13
JP6730367B2 true JP6730367B2 (ja) 2020-07-29

Family

ID=64401470

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018085025A Active JP6730367B2 (ja) 2017-05-24 2018-04-26 太陽電池

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10600925B2 (ja)
JP (1) JP6730367B2 (ja)
CN (1) CN108963003B (ja)
TW (1) TWI656654B (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110676341B (zh) * 2018-07-03 2021-06-25 清华大学 半导体结构、光电器件、光探测器及光探测仪
CN112786755B (zh) 2019-11-08 2023-03-17 清华大学 发光二极管
CN112786678B (zh) 2019-11-08 2022-11-22 清华大学 半导体结构及半导体器件
CN112786715B (zh) * 2019-11-08 2022-11-22 清华大学 太阳能电池

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6185875A (ja) * 1984-10-03 1986-05-01 Sharp Corp 太陽電池
JP4170701B2 (ja) 2002-07-31 2008-10-22 信越半導体株式会社 太陽電池及びその製造方法
JP2008055375A (ja) 2006-09-01 2008-03-13 Osaka Univ 単層カーボンナノチューブの分離方法
CN101627479B (zh) * 2007-01-30 2011-06-15 索拉斯特公司 光电池及其制造方法
US20080202581A1 (en) * 2007-02-12 2008-08-28 Solasta, Inc. Photovoltaic cell with reduced hot-carrier cooling
CN101562203B (zh) 2008-04-18 2014-07-09 清华大学 太阳能电池
TWI450402B (zh) * 2008-05-02 2014-08-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 太陽能電池
JP2010093118A (ja) 2008-10-09 2010-04-22 Sony Corp 受光素子および受光装置
WO2010062644A2 (en) 2008-10-28 2010-06-03 The Regents Of The University Of California Vertical group iii-v nanowires on si, heterostructures, flexible arrays and fabrication
EP2432027A4 (en) 2009-04-30 2017-06-28 Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University Silicon solar cell comprising a carbon nanotube layer
CN202839630U (zh) * 2009-06-10 2013-03-27 应用材料公司 基于碳纳米管的太阳能电池及形成其的设备
CN101667611B (zh) * 2009-09-15 2011-07-20 上海交通大学 基于定向碳纳米管的太阳能微电池制备方法
US8829342B2 (en) * 2009-10-19 2014-09-09 The University Of Toledo Back contact buffer layer for thin-film solar cells
US20110139249A1 (en) * 2009-12-10 2011-06-16 Uriel Solar Inc. High Power Efficiency Polycrystalline CdTe Thin Film Semiconductor Photovoltaic Cell Structures for Use in Solar Electricity Generation
KR101225143B1 (ko) * 2010-02-24 2013-01-25 (주)씨아이제이 연성 전극소재 및 그 제조방법
JP5742335B2 (ja) * 2011-03-18 2015-07-01 富士通株式会社 半導体装置
KR20140105430A (ko) * 2011-08-02 2014-09-01 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 수분으로부터 보호하기 위하여 복잡한 표면 상에 공형 코팅된 결정질 특징을 갖는 얇은 차단 필름을 갖는 광전자 장치
KR20130040358A (ko) * 2011-10-14 2013-04-24 한국전자통신연구원 태양전지
US9013021B2 (en) * 2011-12-21 2015-04-21 Intermolecular, Inc. Optical absorbers
CN102646745B (zh) * 2012-04-01 2015-03-11 北京大学深圳研究生院 一种光伏器件及太阳能电池
WO2013173740A1 (en) * 2012-05-18 2013-11-21 Brookhaven Science Associates, Llc Thin film photovoltaic device optical field confinement and method for making same
US20140150859A1 (en) * 2012-12-02 2014-06-05 The Board Of Regents Of The University Of Texas System Ionically reconfigurable organic photovoltaic and photonic devices with tunable common electrode
US20140261660A1 (en) * 2013-03-13 2014-09-18 Intermolecular , Inc. TCOs for Heterojunction Solar Cells
US9755099B2 (en) * 2013-08-14 2017-09-05 Globalfoundries Inc. Integrated micro-inverter and thin film solar module and manufacturing process
CN103715280B (zh) * 2013-12-30 2015-12-09 商丘师范学院 一种微米/纳米二级阵列结构薄膜太阳能电池及其制备方法
KR101568148B1 (ko) * 2014-06-02 2015-11-11 한밭대학교 산학협력단 화합물 반도체 박막 태양전지
CN205376554U (zh) 2015-12-01 2016-07-06 傲迪特半导体(南京)有限公司 一种硅光电二极管
CN105489694A (zh) 2016-01-14 2016-04-13 中国石油大学(华东) 氧化锌/硅p-n异质结紫外光探测器及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201901978A (zh) 2019-01-01
CN108963003B (zh) 2020-06-09
US20180342632A1 (en) 2018-11-29
CN108963003A (zh) 2018-12-07
TWI656654B (zh) 2019-04-11
JP2018198313A (ja) 2018-12-13
US10600925B2 (en) 2020-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6730367B2 (ja) 太陽電池
TWI650808B (zh) 半導體元件
TWI667191B (zh) 半導體器件
JP5850055B2 (ja) 太陽電池と該太陽電池の製造方法
JP6377813B2 (ja) ナノヘテロ接合構造
JP6621499B2 (ja) 半導体素子及び半導体部品
JP6736604B2 (ja) 光検出器
TWI668181B (zh) 半導體器件
WO2014136691A1 (ja) 光電変換装置及び同装置の製造方法
JP6946491B2 (ja) 半導体構造体及び半導体部品
JP2022551624A (ja) 薄膜太陽電池の改良型超格子構造体
JP7311442B2 (ja) 太陽電池の製造方法
JP6621498B2 (ja) 半導体構造及び半導体部品
TWM394571U (en) Solar cell structure

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180426

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190320

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190403

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190624

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20191204

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200305

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20200312

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200623

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200702

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6730367

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250