JP6729840B1 - 配線基板及び配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
まず、本実施の形態に係る配線基板10について説明する。図1は、配線基板10を示す平面図である。図2は、図1の配線基板10のA−A線に沿った断面図である。図3は、図1の配線基板10のB−B線に沿った断面図である。
基材20は、少なくとも2つの方向において伸縮性を有するよう構成された部材である。基材20は、配線52側に位置する第1面21と、第1面21の反対側に位置する第2面22と、を含む。図1に示す例において、基材20は、第1面21の法線方向に沿って見た場合に、第1方向D1に延びる一対の辺と、第2方向D2に延びる一対の辺とを含む四角形状を有する。以下の説明において、第1面21の法線方向に沿って配線基板10又は配線基板10の構成要素を見ることを、単に「平面視」とも称する。
配線52は、導電性を有し、平面視において細長い形状を有する部材である。図1に示す例において、配線52は、基材20の一対の辺が延びる第1方向D1に延びている。
配線52に用いられ得る、それ自体は伸縮性を有さない材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、白金、クロム等の金属や、これらの金属を含む合金が挙げられる。配線52の材料自体が伸縮性を有さない場合、配線52としては、金属膜を用いることができる。
配線52に用いられる材料自体が伸縮性を有する場合、材料の伸縮性は、例えば、基材20の伸縮性と同様である。配線52に用いられ得る、それ自体が伸縮性を有する材料としては、例えば、導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物が挙げられる。導電性粒子としては、配線に使用できるものであればよく、例えば、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子が挙げられる。中でも、銀粒子が好ましく用いられる。
例えば、配線52の材料が伸縮性を有さない場合、配線52の厚みは、25nm以上100μm以下の範囲内とすることができ、50nm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、100nm以上5μm以下の範囲内であることがより好ましい。
また、配線52の材料が伸縮性を有する場合、配線52の厚みは、5μm以上60μm以下の範囲内とすることができ、10μm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、20μm以上40μm以下の範囲内であることがより好ましい。
配線52の幅は、例えば50μm以上且つ10mm以下である。
補強部材31は、基材20を伸長させた後に基材20を収縮させた場合に、配線52と同一の方向に延びるシワが配線52に生じることを抑制するための部材である。補強部材31は、平面視において少なくとも部分的に配線52に重なるように位置している。本実施の形態において、補強部材31は、基材20の第1面21側に位置している。具体的には、補強部材31は、第1面21側において配線52上に積層されている。この場合、補強部材31は、配線52に接していてもよく、若しくは、配線52と補強部材31との間に絶縁層などのその他の層が介在されていてもよい。なお、「重なる」とは、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合に2つの構成要素が重なることを意味している。
以下、図9(a)〜(d)を参照して、配線基板10の製造方法について説明する。
配線基板10に張力を加えていない場合
・蛇腹形状部の振幅S1:192μm
・山部32の幅M1:254μm
・谷部33の幅M2:286μm
・山部の比率X1:254/(254+286)=0.47
配線基板10に張力を加えて1.25倍に伸長させている場合
・蛇腹形状部の振幅S10:108μm
・山部32の幅M10:296μm
・谷部33の幅M20:370μm
・山部の比率X2:296/(296+370)=0.44
・S10/S1=0.56
配線基板10に張力を加えていない場合
・蛇腹形状部の振幅S1:256μm
・山部32の幅M1:322μm
・谷部33の幅M2:318μm
・山部の比率X1:322/(322+318)=0.50
配線基板10に張力を加えて1.25倍に伸長させている場合
・蛇腹形状部の振幅S10:140μm
・山部32の幅M10:386μm
・谷部33の幅M20:418μm
・山部の比率X2:386/(386+418)=0.48
・S10/S1=0.54
図10は、第1の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図10に示すように、制御領域23を構成する補強部材31は、第1方向D1に延びるとともに第2方向D2に並ぶ複数の配線52と重なるように広がっていてもよい。図10に示す配線基板10においても、互いに異なる方向に延びて交わる複数の山部32が制御領域23に現れることを抑制することができる。
図11は、第2の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図11に示す例において、配線52は、第1方向D1に延びる第1配線521と、第1方向D1に交差する第2方向D2に延びる第2配線522と、を含む。第1配線521と第2配線522とは、互いに交差していてもよい。例えば図11に示すように、配線52が格子状のパターンを形成するように第1配線521と第2配線522とが並んでいてもよい。
図13は、第3の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図13に示す例において、配線52は、第1方向D1に延びる第1配線521と、第1方向D1に交差する第2方向D2に延びる第2配線522と、第1配線521と第2配線522の間に位置し、第1方向D1及び第2方向D2に交差する第3方向D3に延びる第3配線523と、を含む。この場合、補強部材31も配線52と同様に、第1方向D1に延びる部分、第2方向D2に延びる部分及び第3方向D3に延びる部分を含む。従って、補強部材31によって構成される制御領域23も、第1方向D1に延びる第1制御領域231と、第1方向D1に交差する第2方向D2に延びる第2制御領域232と、第1制御領域231と第2制御領域232の間に位置し、第1方向D1及び第2方向D2に交差する第3方向D3に延びる第3制御領域233と、を含む。
図15は、第4の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図15に示すように、第1制御領域231、第2制御領域232、第3制御領域233などの複数の方向に延びる部分を含む制御領域23は、制御領域23が延びる方向に交差する方向において複数並んでいてもよい。この場合、隣り合う2つの制御領域23の間の領域は、非制御領域26であってもよい。これにより、制御領域23が延びる方向に直交する方向において、すなわち配線52が延びる方向に直交する方向において、非制御領域26によって制御領域23を挟むことができる。
図16は、第5の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図16に示すように、配線52及び配線52に重なる補強部材31は、平面視において湾曲した湾曲形状部を有していてもよい。図16に示す例において、配線52及び補強部材31は、いわゆる馬蹄形状を有する。この場合、配線基板10を伸長させると、配線52及び補強部材31は、湾曲形状部の曲率半径が拡大するように変形することができる。このため、配線基板10の伸張に起因して配線52に折れなどの破損が生じてしまうことを抑制することができる。
図18は、第6の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図18は、上述の図3と同様に、配線52が延びる方向に直交する方向において配線基板10を切断した場合の断面を示している。
上述の実施の形態においては、配線52が基材20の第1面21に設けられる例を示したが、これに限られることはない。本変形例においては、配線52が支持基板によって支持される例を示す。
支持基板40は、基材20よりも低い伸縮性を有するよう構成された部材である。支持基板40は、基材20側に位置する第2面42と、第2面42の反対側に位置する第1面41と、を含む。図19及び図20に示す例において、支持基板40は、その第1面41側において配線52を支持している。また、支持基板40は、その第2面42側において基材20の第1面に接合されている。例えば、基材20と支持基板40との間に、接着剤を含む接着層60が設けられていてもよい。接着層60を構成する材料としては、例えばアクリル系接着剤、シリコーン系接着剤等を用いることができる。接着層60の厚みは、例えば5μm以上且つ200μm以下である。また、図示はしないが、非接着表面を分子修飾させて、分子接着結合させる方法によって支持基板40の第2面42が基材20の第1面21に接合されていてもよい。この場合、基材20と支持基板40との間に接着層が設けられていなくてもよい。
なお、支持基板40の弾性係数が低すぎると、補強部材31の形成工程中に支持基板40が変形し易く、この結果、配線52に対する補強部材31の位置合わせが難しくなる。また、支持基板40の弾性係数が高すぎると、弛緩時の基材20の復元が難しくなり、また基材20の割れや折れが発生し易くなる。
以下、図22(a)〜(d)を参照して、本変形例に係る配線基板10の製造方法について説明する。
図23は、第8の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図23は、配線52が延びる方向に直交する方向において、支持基板40を含む配線基板10を切断した場合の断面を示している。
図24は、第9の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図24は、配線52が延びる方向において配線基板10を切断した場合の断面を示している。
図25は、第10の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。上述の実施の形態及び各変形例においては、補強部材31が配線52を覆う例を示した。言い換えると、配線52が補強部材31と基材20との間に位置する例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図25に示すように、補強部材31は、基材20と配線52との間に位置していてもよい。このような配線基板10は、例えば、まず、転写用基材の上に配線52及び補強部材31を順に形成し、続いて、補強部材31及び配線52を基材20の第1面21側に転写することによって作製され得る。
本変形例では、図25に示す配線基板10が更に支持基板40を備える例について説明する。この場合、図26に示すように、基材20の第1面21側から順に補強部材31、配線52及び支持基板40の順で並んでいてもよい。若しくは、図27に示すように、基材20の第1面21側から順に支持基板40、補強部材31、配線52の順で並んでいてもよい。
上述の実施の形態及び各変形例においては、制御領域23には補強部材31が設けられ、非制御領域26には、補強部材31などの、基材20又は支持基板40を覆う部材が設けられていない例を示した。本変形例においては、非制御領域26にも、基材20又は支持基板40を覆う部材が設けられている例について説明する。この場合であっても、制御領域23の剛性と非制御領域26の剛性との間に適切な差があれば、制御領域23において、配線52が延びる方向に並ぶ複数の山部32とは異なる方向に延びるその他の山部が生じることを抑制することができる。
図37は、配線基板10のうち異なる方向に延びる2つの配線、例えば上述の第1配線521と第2配線522とが、交差したり交わったりしている部分を拡大して示す平面図である。以下の記載において、異なる方向に延びる2つ以上の配線が交差したり交わったりしている部分のことを、交差部分とも称する。なお図37においては、補強部材31を省略している。
また、図示はしないが、固定部材70は、基材20の第1面21側に位置していてもよい。
第13の変形例においては、固定部材70が平面視において配線52の交差部分に重なっている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図40〜図43に示すように、固定部材70は、枠状の形状を有し、枠状の固定部材70の内側に配線52の交差部分が位置していてもよい。本変形例においても、基材20を伸長させた場合、基材20のうち枠状の固定部材70の内側に位置する部分には張力が及びにくく、変形しにくい。このため、枠状の固定部材70の内側に位置する配線52の交差部分に変形が生じることを抑制することができる。
第13の変形例及び第14の変形例においては、固定部材70を配線52の交差部分に適用する例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、固定部材70を電子部品51に適用してもよい。例えば、図44に示すように、平面視において枠状の固定部材70の内側に電子部品51が位置していてもよい。また、図示はしないが、図37の場合と同様に、平面視において電子部品51が固定部材70に重なっていてもよい。このように固定部材70を電子部品51に適用することにより、電子部品51に応力が加わることを抑制することができる。これにより、電子部品51が破損することなどを抑制することができる。
上述の実施の形態及び変形例においては、補強部材31が、印刷法によって配線52上に形成される部材である例を示した。しかしながら、補強部材31に重なる制御領域23に現れる複数の山部32の方向を制御することができる限りにおいて、補強部材31の形成方法が限られることはない。例えば、補強部材31は、支持基板40のようなフィルムで供給される部材であってもよい。
以下、図48(a)〜(d)を参照して、本変形例に係る配線基板10の製造方法について説明する。
図45に示す第16の変形例に係る配線基板10が、印刷法によって配線52上に形成された補強部材を更に備えていてもよい。本変形例においては、配線52を支持する図45の補強部材31のことを第1補強部材31Aと称し、印刷法によって配線52上に形成された補強部材のことを第2補強部材31Bと称する。
≪基材及び接着層の準備≫
支持台の上に、接着層60として機能する粘着シートを載置した。続いて、粘着シート上に2液付加縮合のポリジメチルシロキサン(PDMS)を厚さ1.5mmになるよう塗布し、PDMSを硬化させた。これにより、支持台の上に、接着層60及び基材20の積層体を形成した。第1方向D1における基材20の寸法は80mmであり、第2方向D2における基材20の寸法は80mmであった。続いて、積層体の一部分をサンプルとして取り出し、基材20の弾性係数を、JIS K6251に準拠した引張試験により測定した。結果、基材20の弾性係数は0.05MPaであった。
支持基板40として厚さ2.5μmのポリエチレンナフタレート(PEN)フィルムを準備した。第1方向D1における支持基板40の寸法は30mmであり、第2方向D2における支持基板40の寸法は60mmであった。続いて、支持基板40の第1面41に、1μmの厚みを有する銅層を蒸着法により形成した。続いて、フォトリソグラフィ法およびエッチング法を用いて銅層を加工した。これにより、第2方向D2に方向に延びる配線52を得た。第2方向D2における配線52の寸法は40mmであった。第2方向D2に直交する第1方向D1における配線52の寸法は500μmであった。
続いて、第1方向D1及び第2方向D2の2軸において基材20を1.5倍に伸長させた。また、1.5倍に伸長された状態の基材20と、配線52及び補強部材31が設けられた支持基板40とを接合した。具体的には、基材20に積層された接着層60を、支持基板40のうち配線52及び補強部材31が設けられていない面に貼り合わせた。
支持基板40に配線52及び補強部材31を設けなかったこと以外は、実施例1の場合と同様にして、配線基板10を作製した。この場合、配線基板10には、不規則な方向に延びる山部及び谷部が不規則に現れた。すなわち、山部及び谷部が延びる方向及び並ぶ方向を制御することができなかった。
0.2MPaの弾性係数を有するPDMSを用いて基材20を構成したこと以外は、実施例1の場合と同様にして、配線基板10を作成した。この場合も、実施例1の場合と同様に、配線52、補強部材31及び補強部材31と重なる支持基板40には、配線52が延びる第2方向D2に並ぶ複数の山部32及び谷部33が現れた。山部32及び谷部33は、第2方向D2に交差する方向に延びていた。山部32及び谷部33が延びる方向と第2方向D2とが成す角度は、50°以上140°以下であった。また、互いに異なる方向に延びて交わる複数の山部32は、配線52及び補強部材31には現れていなかった。一方、基材20のうち補強部材31と重ならない領域においては、山部及び谷部が延びる方向が不規則であった。
支持基板40の第1面41に、第1方向D1に延びる配線52を形成し、その後、配線52上に補強部材31を形成したこと以外は、実施例1の場合と同様にして、配線基板10を作製した。第1方向D1における配線52及び補強部材31の寸法は40mmであった。第2方向D2における配線52及び補強部材31の寸法は500μmであった。
配線52及び補強部材31が、図11に示すように格子状に延びていること以外は、実施例1の場合と同様にして、配線基板10を作製した。配線52及び補強部材31が延びる方向に直交する方向における配線52及び補強部材31の寸法は、1mmであった。平行に延びる配線52間の間隔T(図11参照)は5mmであった。
配線52及び補強部材31が、図13に示すように、第1方向D1に延びる部分と、第1方向D1に直交する第2方向D2に延びる部分と、両者の間に位置し、第1方向D1及び第2方向D2に対して45°を成す第3方向D3に延びる部分と、を含むこと以外は、実施例1の場合と同様にして、配線基板10を作製した。第1方向D1に延びる部分の長さは20mmであり、幅は500μmであった。第2方向D2に延びる部分の長さは20mmであり、幅は500μmであった。第3方向D3に延びる部分の長さは20mmであり、幅は500μmであった。
配線52及び補強部材31が馬蹄形状を有すること以外は、実施例1の場合と同様にして、配線基板10を作製した。馬蹄形状における湾曲形状部の曲率半径は5mmであった。また、配線52及び補強部材31が延びる方向に直交する方向における配線52及び補強部材31の寸法、すなわち幅は200μmであった。
支持基板40に設ける補強部材31として、配線52が延びる第2方向D2に直交する第1方向D1における寸法が、第2方向D2における位置によらず400μmであるものを用いたこと以外は、実施例1の場合と同様にして、配線基板10を作製した。
0.2MPaの弾性係数を有するPDMSを用いて基材20を構成したこと、及び、支持基板40として厚さ2.0μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いたこと以外は、実施例1の場合と同様にして、配線基板10を作成した。この場合も、実施例1の場合と同様に、配線52、補強部材31及び補強部材31と重なる支持基板40には、配線52が延びる第2方向D2に並ぶ複数の山部32及び谷部33が現れた。山部32及び谷部33は、第2方向D2に交差する方向に延びていた。山部32及び谷部33が延びる方向と第2方向D2とが成す角度は、50°以上140°以下であった。また、互いに異なる方向に延びて交わる複数の山部32は、配線52及び補強部材31には現れていなかった。一方、基材20のうち補強部材31と重ならない領域においては、山部及び谷部が延びる方向が不規則であった。
・倍率:81倍
・視野:3mm×3mm
実施例2の場合と同様にして、0.2MPaの弾性係数を有するPDMSを用いて基材20を構成した。第1方向D1における基材20の寸法は80mmであり、第2方向D2における基材20の寸法は80mmであった。
実施例9の場合と同様にして、基材20と、配線52が設けられた補強部材31とを準備した。また、配線52が第1方向D1における補強部材31の中心に位置する条件下で補強部材31を様々に切断して、図53に示す20種類のサンプル1〜20を準備した。図53において、「接合前」の「第1方向」及び「第2方向」の欄はそれぞれ、基材20に接合される前の補強部材31の第1方向D1における寸法及び第2方向D2における寸法を表す。また、「比率」の欄は、第2方向D2における補強部材31の寸法を第1方向D1における補強部材31の寸法で割った値を表す。
実施例2の場合と同様にして、0.2MPaの弾性係数を有するPDMSを用いて基材20を構成した。第1方向D1における基材20の寸法は80mmであり、第2方向D2における基材20の寸法は80mmであった。
20 基材
21 第1面
22 第2面
23 制御領域
231 第1制御領域
232 第2制御領域
233 第3制御領域
26 非制御領域
27 山部
28 交差山部群
30 被覆部材
31 補強部材
32 山部
33 谷部
34 保護層
40 支持基板
41 第1面
42 第2面
51 電子部品
52 配線
70 固定部材
Claims (28)
- 第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する配線と、
前記基材の前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記配線に重なる補強部材と、を備え、
前記配線が延びる方向における前記補強部材の寸法は、前記配線が延びる方向に直交する方向における前記補強部材の寸法よりも大きく、
前記基材は、前記補強部材に重なる制御領域と、前記配線が延びる方向に直交する方向において前記制御領域を挟むように位置し、前記補強部材に重ならない非制御領域と、を有する、配線基板。 - 前記補強部材は、前記基材よりも高い曲げ剛性又は弾性係数を有する、請求項1に記載の配線基板。
- 前記補強部材は、前記基材の前記第1面側に位置する、請求項1又は2に記載の配線基板。
- 前記配線は、前記基材と前記補強部材との間に位置する、請求項2に記載の配線基板。
- 前記補強部材は、前記基材と前記配線との間に位置する、請求項2に記載の配線基板。
- 前記補強部材は、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタラートを含む、請求項5に記載の配線基板。
- 支持基板を更に備える、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の配線基板。
- 前記支持基板は、前記基材よりも高い弾性係数を有し、前記配線を支持する、請求項7に記載の配線基板。
- 前記支持基板は、前記配線と前記基材の前記第1面との間に位置し、前記配線を支持する、請求項7又は8に記載の配線基板。
- 前記支持基板は、前記基材と前記補強部材との間に位置する、請求項5を引用する請求項7に記載の配線基板。
- 前記支持基板は、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタラートを含む、請求項7乃至10のいずれか一項に記載の配線基板。
- 第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する配線と、
前記基材を前記基材の前記第1面側から覆う被覆部材と、を備え、
前記基材は、前記基材の前記第1面の法線方向に沿って見た場合に、少なくとも第1厚みを有するとともに前記配線を覆う前記被覆部材に重なる制御領域と、前記配線が延びる方向に直交する方向において前記制御領域を挟むように位置し、前記第1厚みよりも小さい厚みを有する前記被覆部材に重なる非制御領域と、を有する、配線基板。 - 前記被覆部材は、前記基材よりも高い曲げ剛性又は弾性係数を有する、請求項12に記載の配線基板。
- 前記配線が延びる方向における前記制御領域の寸法は、前記配線が延びる方向に直交する方向における前記制御領域の寸法の1.5倍以上である、請求項1乃至13のいずれか一項に記載の配線基板。
- 前記制御領域は、前記基材の前記第1面側において、前記配線が延びる方向に交差する方向において制御領域を横断するように延び、前記配線が延びる方向に並ぶ複数の山部を含み、
前記非制御領域は、前記基材の前記第1面側において、互いに異なる方向に延びて交わる複数の山部からなる交差山部群を複数含む、請求項1乃至14のいずれか一項に記載の配線基板。 - 第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する配線と、
前記基材の前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記配線に重なる補強部材と、を備え、
前記基材は、前記補強部材に重なる制御領域と、前記配線が延びる方向に直交する方向において前記制御領域を挟むように位置し、前記補強部材に重ならない非制御領域と、を有し、
前記制御領域は、前記基材の前記第1面側において、前記配線が延びる方向に交差する方向において制御領域を横断するように延び、前記配線が延びる方向に並ぶ複数の山部を含み、
前記非制御領域は、前記基材の前記第1面側において、互いに異なる方向に延びて交わる複数の山部からなる交差山部群を複数含む、配線基板。 - 前記制御領域の前記山部の幅は、前記非制御領域の前記山部の幅よりも大きい、請求項15又は16に記載の配線基板。
- 前記制御領域の前記山部の振幅は、前記非制御領域の前記山部の振幅よりも大きい、請求項15乃至17のいずれか一項に記載の配線基板。
- 前記制御領域において、前記基材の前記第1面の反対側に位置する第2面に現れる山部の振幅が、前記基材の前記第1面側において前記配線に現れる山部の振幅よりも小さい、請求項15乃至18のいずれか一項に記載の配線基板。
- 前記基材は、熱可塑性エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゲル又はシリコンゲルを含む、請求項1乃至19のいずれか一項に記載の配線基板。
- 前記配線に電気的に接続される電子部品を更に備える、請求項1乃至20のいずれか一項に記載の配線基板。
- 配線基板の製造方法であって、
伸縮性を有する基材に、第1方向及び前記第1方向に交差する第2方向において引張応力を加えて、前記基材を伸長させる伸長工程と、
伸長した状態の前記基材の第1面側に配線を設ける配線工程と、
前記基材から前記引張応力を取り除く収縮工程と、を備え、
前記配線基板は、前記基材の前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記配線に重なる補強部材を備え、
前記配線が延びる方向における前記補強部材の寸法は、前記配線が延びる方向に直交する方向における前記補強部材の寸法よりも大きく、
前記基材は、前記配線に重なる前記補強部材に重なる制御領域と、前記配線が延びる方向に直交する方向において前記制御領域を挟むように位置し、前記補強部材に重ならない非制御領域と、を備える、配線基板の製造方法。 - 前記補強部材は、前記基材よりも高い曲げ剛性又は弾性係数を有する、請求項22に記載の配線基板の製造方法。
- 配線基板の製造方法であって、
伸縮性を有する基材に、第1方向及び前記第1方向に交差する第2方向において引張応力を加えて、前記基材を伸長させる伸長工程と、
伸長した状態の前記基材の第1面側に配線を設ける配線工程と、
前記基材から前記引張応力を取り除く収縮工程と、を備え、
前記配線基板は、前記基材及び前記配線を前記基材の前記第1面側から覆う被覆部材を備え、
前記基材は、前記基材の前記第1面の法線方向に沿って見た場合に、少なくとも第1厚みを有するとともに前記配線を覆う前記被覆部材に重なる制御領域と、前記配線が延びる方向に直交する方向において前記制御領域を挟むように位置し、前記第1厚みよりも小さい厚みを有する前記被覆部材に重なる非制御領域と、を備える、配線基板の製造方法。 - 前記被覆部材は、前記基材よりも高い曲げ剛性又は弾性係数を有する、請求項24に記載の配線基板の製造方法。
- 前記配線が延びる方向における前記制御領域の寸法は、前記配線が延びる方向に直交する方向における前記制御領域の寸法よりも大きい、請求項22乃至25のいずれか一項に記載の配線基板の製造方法。
- 前記配線が延びる方向における前記制御領域の寸法は、前記配線が延びる方向に直交する方向における前記制御領域の寸法の1.5倍以上である、請求項22乃至25のいずれか一項に記載の配線基板の製造方法。
- 支持基板上に前記配線を設ける配線準備工程を更に備え、
前記配線工程は、前記配線が設けられた支持基板を、前記伸長した状態の前記基材に前記第1面側から接合する接合工程を含む、請求項22乃至27のいずれか一項に記載の配線基板の製造方法。
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