JP6727193B2 - 高電圧フィードスルー・アセンブリ、電子回折または画像化装置、および真空環境において電極装置を操作する方法 - Google Patents
高電圧フィードスルー・アセンブリ、電子回折または画像化装置、および真空環境において電極装置を操作する方法 Download PDFInfo
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Description
[2]R. J. D. Miller et al.、“Acta Crystallographica”, vol.A66, 2010, p.137-156、
[3]B. J. Siwick et al.、“Chemical Physics”, vol.299, 2004, p.285-305、
[4]S. Shibuya et al、“Proceedings of EPAC” 2000, Vienna, Austria, p.2465、
[5]米国特許第7085351号、
[6]米国特許第5929373号、
[7]欧州特許出願公開第1515806号、
[8]米国特許第4008413号、
[9]米国特許第3978363号、
[10]欧州特許出願公開第0383988号、
[11]国際公開第2011/132767号、
[12]特開2002−216686号公報、
[13]特開昭51−84567号公報、
[14]米国特許出願公開第2013/264496号、
[15]国際公開第2014/061625号、
[16]欧州特許出願公開第0556043号、および
[17]M. Harb et al.、"J. Phys. Chem. B" vol.110, 2006, 25308-25313。
これらの目的は、独立請求項の特徴をそれぞれ含む、高電圧フィードスルー・アセンブリ、静的なおよび/または時間分解された動作に適合化された電子回折または画像化(撮像)装置、および電極装置操作方法によって達成(解決)される。本発明の好ましい実施形態および適用例が従属請求項に記載されている。
Claims (38)
- 真空環境において電位を形成するよう構成された高電圧フィードスルー・アセンブリ(100)であって、
− 真空容器(201)との接続に適合化されたフランジ・コネクタ(10)であって、前記真空容器(201)の方を向く内側(11)と、前記真空容器(201)の環境の方を向く外側(12)とを有するフランジ・コネクタ(10)と、
− 前記フランジ・コネクタ(10)の方を向く第1の端部(21)と、前記真空容器(201)内に突出するよう適合化された第2の端部(22)とを有する、長手方向の伸長を有する真空気密の電気絶縁体チューブ(20)と、
− 前記絶縁体チューブ(20)と前記フランジ・コネクタ(10)とを真空気密結合するよう適合化された柔軟チューブ・コネクタ(40)と、
− 前記絶縁体チューブ(20)に接続され、前記フランジ・コネクタ(10)に対する前記絶縁体チューブ(20)の幾何学的配置を調整するよう適合化されたマニピュレータ装置(50)と、
− 前記絶縁体チューブ(20)の前記第2の端部に結合され、前記真空容器(201)の方を向く前側電極(31)と、高電圧ケーブル(214)を受け入れるためのケーブル・アダプタ(32)とを有する電極装置(30)と、
を含み、
− 前記前側電極(31)は、前記マニピュレータ装置(50)を用いて前記フランジ・コネクタに対する前記絶縁体チューブ(20)の幾何学的配置を調整することによって、前記真空容器内の固定部品との相対的関係で前記真空容器(201)内に配置することができ、
− 前記前側電極(31)は、前記電極装置(30)に含まれ前記真空容器(201)に露出される光電陰極(211)を含み、
特徴として、
− 前記電極装置(30)は、さらに、前記絶縁体チューブ(20)の前記第2の端部(22)を電気的に遮蔽するよう配置された第1のリング状電極(34)と、前記前側電極(31)を前記第1のリング状電極(34)に電気的に接続するよう配置された第2のリング状電極(36)とを含み、
− 前記絶縁体チューブ(20)の前記第2の端部(22)と前記前側電極(31)との間の前記第2のリング状電極(36)の内部空間に、光偏向器装置(60)が配置され、
前記光偏向器装置(60)は、入力レーザ・ビーム(221)を前記光電陰極(211)に方向づけるように適合化され、
− 前記第2のリング状電極(36)は、前記入力レーザ・ビームを前記光偏向器装置(60)に結合するための少なくとも1つの側部開口(35、37)を有するものである、
高電圧フィードスルー・アセンブリ。 - 前記絶縁体チューブ(20)の前記第2の端部は、前側プレート(33)によって閉じられ、前記電極装置(30)は前記前側プレート(33)に接続されるものである、請求項1に記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 前記前側プレート(33)は、前記光電陰極(211)に向かって伸びる光ファイバを支持するよう適合化された少なくとも1つの光コネクタ、および/または前記真空環境において露出した補助電極を形成する少なくとも1つの電気コネクタ(94)を含むものである、請求項2に記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- − 前記前側プレート(33)は後方照射用に配置された窓プレート部(39)を有し、
− 前記絶縁体チューブ(20)は、前記絶縁体チューブ(20)の第1の端部(21)に結合された第1の端部と、前記前側プレート(33)に結合された第2の端部とを有する内側チューブ(27)を含んでいて、前記後方照射が前記内側チューブ(27)を通って前記窓プレート部(39)に当たるものである、
請求項2または3に記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。 - 前記前側プレート(33)は、前記真空容器(201)の方を向き、電子源交換システムにおいて受容器として構成されたアダプタを含むものである、請求項2乃至4のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 前記柔軟チューブ・コネクタ(40)は、前記フランジ・コネクタ(10)の前記内側(11)に結合されるものである、請求項1乃至5のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 前記マニピュレータ装置(50)は前記フランジ・コネクタ(10)に接続されるものである、請求項1乃至6のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 前記マニピュレータ装置(50)は、前記フランジ・コネクタ(10)の前記外側(12)に配置されるものである、請求項1乃至7のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 前記マニピュレータ装置(50)は、アクチュエータ・モータ(51)と、前記絶縁体チューブ(20)に結合されたギア・ボックス(52)とを有するものである、請求項1乃至8のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 前記マニピュレータ装置(50)は、前記絶縁体チューブ(20)の長手方向の伸長に平行な、前記絶縁体チューブ(20)および前記電極装置(30)の軸方向の移動に適合化されるものである、請求項1乃至9のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 前記マニピュレータ装置(50)は、前記絶縁体チューブ(20)の長手方向の伸長に垂直な、前記絶縁体チューブ(20)および前記電極装置(30)の横方向の移動に適合化されるものである、請求項1乃至10のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 前記マニピュレータ装置(50)は、前記フランジ・コネクタ(10)に対する前記絶縁体チューブ(20)および前記電極装置(30)の旋回運動に適合化されるものである、請求項1乃至11のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 前記電気絶縁体チューブ(20)は、セラミックまたはプラスチックで形成されたものである、請求項1乃至12のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 前記電気絶縁体チューブ(20)は、チューブ外面上にリップル(23)を有するものである、請求項1乃至13のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 前記電気絶縁体チューブ(20)は一体的な部品である、請求項1乃至14のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 前記電気絶縁体チューブ(20)は、前記絶縁体チューブ(20)の長手方向の伸長に沿って配置された、および、金属接合部、誘電体接合部および非金属接合部の中の少なくとも1つによって接続された、少なくとも2つの絶縁体チューブ部(24)で形成されるものである、請求項1乃至15のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 2つの電気絶縁体チューブ部(24)の各金属接合部は、遮蔽リング状電極(25)によって遮蔽され、
前記遮蔽リング状電極(25)と、接地点または隣接の遮蔽リング状電極との間に高抵抗器(26)が接続されるものである、請求項16に記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。 - 前記電気絶縁体チューブ(20)は誘電性液体が充填されるものである、請求項1乃至17のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- − 前記前側電極(31)は、ブルース・プロファイルまたはロゴスキー・プロファイルを有する、および/または
− 前記前側電極(31)は、その中央において前記陽極装置に向かう均一な電界分布を生成するよう適合化されるものである、
請求項1乃至18のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。 - 前記電極装置(30)は前記光電陰極(211)を含み、
前記光電陰極(211)は前方光照射用に配置された光電陰極プレートであり、前記光電陰極(211)はその周囲から照射され得るように露出されるものである、
請求項1乃至19のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。 - 前記電極装置(30)は前記光電陰極(211)を含み、
前記光電陰極(211)は後方光照射用に配置された光電陰極プレートであり、前記電極装置(30)は前記光電陰極(211)の後側への透明光路を形成するものである、
請求項1乃至19のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。 - 前記光偏向器装置(60)は、前記光電陰極(211)に対して前記入力レーザ・ビーム(221)を調整するための開孔部(62)を有するものである、請求項1乃至21のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- さらに、ビーム位置を監視するよう配置された監視装置(70、71、72)を含む、請求項1乃至22のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- さらに、前記高電圧フィードスルー・アセンブリ(100)の電気的、幾何学的および光学的な測定量の中の少なくとも1つの測定量に応じて前記マニピュレータ装置(50)を制御するよう配置された制御ループ(80)を含む、請求項1乃至23のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 前記電極装置(30)は、前記前側電極(31)および補助電極のうちの少なくとも1つに、追加の電位および/または電流を供給するように配置された追加の電源を含むものである、請求項1乃至24のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ。
- 試料の時間分解電子回折または画像化調査用に構成された、電子回折または画像化装置(200)であって、
− 請求項1乃至25のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ(100)と、
− 前記高電圧フィードスルー・アセンブリ(100)の前記前側電極(31)を含む電子源(210)と、
− 前記電子源(210)から放出された電子を加速するよう配置された陽極装置(212)と、
− 前記試料を収容するように配置された試料支持体(230)と、
− 回折像および/または空間像を含む試料像を供給するように配置された電子光学系(240)と、
− 前記試料像を収集するよう配置された検出器装置(250)と
を含む、電子回折または画像化装置。 - 前記電子源(210)から前記検出器装置(250)までの電子光学軸(213)が垂直な方位を有する、請求項26に記載の電子回折または画像化装置。
- さらに、前記電子源(210)に印加される電圧、前記電子源(210)に供給される電流、および前記陽極装置(212)に対する前記電子源(210)の位置の中の少なくとも1つを制御するよう配置された電子源制御装置を含む、請求項26または27に記載の電子回折または画像化装置。
- さらに、電子パルス分析および時間分解測定の中の少なくとも1つのために構成されたストリーク・カメラを含む、請求項28に記載の電子回折または画像化装置。
- さらに、前記電子源(210)を照射するよう配置されたレーザ・パルス源(220)を含む、請求項26乃至29のいずれかに記載の電子回折または画像化装置。
- 前記レーザ・パルス源(220)は、時間分解型ポンプ・プローブ測定に適合化されたパルス状または連続レーザ源である、請求項30に記載の電子回折または画像化装置。
- 前記電子光学系(240)は、実空間および逆格子空間画像化用の強および弱の電子光学レンズ、および開孔、ビーム偏向器、および画像改善用の収差補正器を含むものである、請求項26乃至31のいずれかに記載の電子回折または画像化装置。
- 前記陽極装置(212)は単一の加速段を形成するものである、請求項26乃至32のいずれかに記載の電子回折または画像化装置。
- 前側電極(31)および前記陽極装置(212)は、100kVを超える電位差および/または10MV/mを超える電界勾配用に構成されたものである、請求項26乃至33のいずれかに記載の電子回折または画像化装置。
- さらに、電子源および/または電極を交換するよう配置された部品交換システムを含む、請求項26乃至34のいずれかに記載の電子回折または画像化装置。
- 請求項1乃至25のいずれかに記載の高電圧フィードスルー・アセンブリ(100)を用いて、真空環境において電極装置(30)を操作する方法であって、
− 前記絶縁体チューブ(20)中に通される高電圧ケーブル(214)を、前記電極装置(30)の前記ケーブル・アダプタ(32)に接続する工程と、
− 電極装置(30)が前記真空環境における所定の位置を有するように、前記マニピュレータ装置(50)を用いて、前記フランジ・コネクタ(10)に対する前記絶縁体チューブ(20)の幾何学的配置を調整する工程と、
を含む、方法。 - 前記調整する工程は、前記前側電極(31)が前記真空環境に配置された対電極から所定の距離を有するように、前記電極装置(30)を位置決めすることを含むものである、請求項36に記載の方法。
- 前記調整する工程は、前記前側電極(31)と前記対電極の間の距離をフィードバック制御することを含むものである、請求項37に記載の方法。
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IL104608A0 (en) * | 1992-02-13 | 1993-06-10 | Hughes Aircraft Co | Apparatus for programmed plasma etching tool motion to modify solid layer thickness profiles |
JP3324275B2 (ja) * | 1994-04-11 | 2002-09-17 | 日新ハイボルテージ株式会社 | 電子線照射装置 |
US5929373A (en) | 1997-06-23 | 1999-07-27 | Applied Materials, Inc. | High voltage feed through |
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JP2001143648A (ja) * | 1999-11-17 | 2001-05-25 | Hitachi Ltd | 光励起電子線源および電子線応用装置 |
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JP3720711B2 (ja) * | 2001-01-22 | 2005-11-30 | 株式会社日立製作所 | 電子線光軸補正方法 |
US6570962B1 (en) * | 2002-01-30 | 2003-05-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | X-ray tube envelope with integral corona shield |
DE10227703B3 (de) | 2002-06-21 | 2004-02-12 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Durchführung für elektrische Hochspannung durch eine Wand, die einen Umgebungsbereich von einem Prozessbereich trennt |
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