JP3324275B2 - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子線照射装置特に非
走査型の電子線照射装置に関する。
走査型の電子線照射装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えばエリア型の電子線照射装置は、筒
状の真空チャンバの内部に電子線を放射するフィラメン
ト部を配置して構成されるが、このフィラメント部に加
速用の高電圧を導入するため、従来では内部に絶縁ガス
が充填されてある圧力タンクを絶縁性のスペースコーン
を介して真空チャンバに連結し、このスペースコーンに
中心導体を貫通し、この中心導体を介してフィラメント
部に高電圧を導入するようにしている。
状の真空チャンバの内部に電子線を放射するフィラメン
ト部を配置して構成されるが、このフィラメント部に加
速用の高電圧を導入するため、従来では内部に絶縁ガス
が充填されてある圧力タンクを絶縁性のスペースコーン
を介して真空チャンバに連結し、このスペースコーンに
中心導体を貫通し、この中心導体を介してフィラメント
部に高電圧を導入するようにしている。
【0003】図6はその構成を示し、1は真空チャンバ
で、内部に、フィラメント部2と、このフィラメント部
2をシールドするシールド電極3とよりなる電子線源部
4が配置されている。5は圧力タンクで、内部に絶縁ガ
スが充填されている。6はスペースコーンで樹脂等から
なり、その裾部は真空チャンバ1と圧力タンク5との間
の連結部においてはさまれるようにして取り付けられて
いる。
で、内部に、フィラメント部2と、このフィラメント部
2をシールドするシールド電極3とよりなる電子線源部
4が配置されている。5は圧力タンクで、内部に絶縁ガ
スが充填されている。6はスペースコーンで樹脂等から
なり、その裾部は真空チャンバ1と圧力タンク5との間
の連結部においてはさまれるようにして取り付けられて
いる。
【0004】7は中心導体で、スペースコーン6を貫通
しており、真空チャンバ1側の先端にフィラメント部2
が接続されている。そしてスペースコーン6により、電
子線源部4が機械的に片持ち支持されるとともに、真空
チャンバ1、圧力タンク5に対して電気的に絶縁されて
いる。8は中心導体7に接続される加速用電源、9は真
空チャンバ1の周壁に形成されてある照射窓、10はこ
の照射窓9に設けられてある窓箔である。
しており、真空チャンバ1側の先端にフィラメント部2
が接続されている。そしてスペースコーン6により、電
子線源部4が機械的に片持ち支持されるとともに、真空
チャンバ1、圧力タンク5に対して電気的に絶縁されて
いる。8は中心導体7に接続される加速用電源、9は真
空チャンバ1の周壁に形成されてある照射窓、10はこ
の照射窓9に設けられてある窓箔である。
【0005】この構成から理解されるように、スペーサ
コーン6の裾部は、アース電位である真空チャンバ1あ
るいは圧力タンク5に連結されてあり、中心部は高圧の
中心導体7に連結されてあるため、その裾部と中心部と
の間に高電圧が印加されるようになる。このような構成
は加速電圧が低い場合は特に問題とはならないが、加速
電圧が300kVを超えるようなことになると、スペー
サコーン6の表面に沿う絶縁距離を長くする必要があ
る。
コーン6の裾部は、アース電位である真空チャンバ1あ
るいは圧力タンク5に連結されてあり、中心部は高圧の
中心導体7に連結されてあるため、その裾部と中心部と
の間に高電圧が印加されるようになる。このような構成
は加速電圧が低い場合は特に問題とはならないが、加速
電圧が300kVを超えるようなことになると、スペー
サコーン6の表面に沿う絶縁距離を長くする必要があ
る。
【0006】しかしこのように絶縁距離を長くすれば、
スペーサコーン6が大型化し、その取り扱いが面倒にな
るとともに、製作費が高くつくようになる。またこのよ
うに絶縁距離を長くすると、その表面積が大きくなるた
め、面積効果の影響を受けて放電が発生しやすくなり、
損傷確率が高くなる。
スペーサコーン6が大型化し、その取り扱いが面倒にな
るとともに、製作費が高くつくようになる。またこのよ
うに絶縁距離を長くすると、その表面積が大きくなるた
め、面積効果の影響を受けて放電が発生しやすくなり、
損傷確率が高くなる。
【0007】更にフィラメント部2が発した熱がスペー
サコーン6に伝熱するので、スペーサコーン6自身の絶
縁耐力が、その表面の距離効果からバルクの特性に影響
を受けるため、耐熱特性の良い材料が必要となるが、耐
熱特性が良いとされているセラミックなどは、大型のス
ペースコーンの製作に難がある。のみならず、電子線源
部4が長尺状となると、樹脂製のスペースコーンではそ
の機械的耐力から、片持ち支持が困難となる。
サコーン6に伝熱するので、スペーサコーン6自身の絶
縁耐力が、その表面の距離効果からバルクの特性に影響
を受けるため、耐熱特性の良い材料が必要となるが、耐
熱特性が良いとされているセラミックなどは、大型のス
ペースコーンの製作に難がある。のみならず、電子線源
部4が長尺状となると、樹脂製のスペースコーンではそ
の機械的耐力から、片持ち支持が困難となる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、電子線源部
の機械的支持のための機構と、絶縁のための機構とを分
離し、絶縁のための機構を、表面積が少なく、かつ電界
の変動の影響が少ないようにすることを目的とする。
の機械的支持のための機構と、絶縁のための機構とを分
離し、絶縁のための機構を、表面積が少なく、かつ電界
の変動の影響が少ないようにすることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、フィラメント
部と、フィラメント部をシールドしているシールド電極
とを有し、前記フィラメント部を前記シールド電極に機
械的に連結してなる電子線源部の前記シールド電極を、
前記電子線源部が収納され、アース電位とされてある真
空チャンバの壁に、耐熱性材料からなる絶縁性の碍子に
よって機械的に支持するとともに、前記フィラメント部
に接続される中心導体を高電位の導入端子部に連結し、
前記導入端子部と前記真空チャンバとの間を、絶縁リン
グと、リング状電極とを交互にかつ多段に重ね合わした
絶縁機構によって絶縁し、前記各リング状電極間に、前
記絶縁リングの分担電圧を均等とするための分圧抵抗を
接続してなることを特徴とする。
部と、フィラメント部をシールドしているシールド電極
とを有し、前記フィラメント部を前記シールド電極に機
械的に連結してなる電子線源部の前記シールド電極を、
前記電子線源部が収納され、アース電位とされてある真
空チャンバの壁に、耐熱性材料からなる絶縁性の碍子に
よって機械的に支持するとともに、前記フィラメント部
に接続される中心導体を高電位の導入端子部に連結し、
前記導入端子部と前記真空チャンバとの間を、絶縁リン
グと、リング状電極とを交互にかつ多段に重ね合わした
絶縁機構によって絶縁し、前記各リング状電極間に、前
記絶縁リングの分担電圧を均等とするための分圧抵抗を
接続してなることを特徴とする。
【0010】
【作用】絶縁機構のリング状電極に分圧抵抗が接続され
ていることにより、各絶縁リングには、均等な電界が与
えられることになり、従来のスペースコーンのように一
段で受ける電界に比べて安定で、放電時の電界変動の影
響が少なくなる。絶縁リングの表面積が少ないので、面
積効果が減少する。電子線源部は碍子によって中心導体
に対する絶縁に関係なく支持される。
ていることにより、各絶縁リングには、均等な電界が与
えられることになり、従来のスペースコーンのように一
段で受ける電界に比べて安定で、放電時の電界変動の影
響が少なくなる。絶縁リングの表面積が少ないので、面
積効果が減少する。電子線源部は碍子によって中心導体
に対する絶縁に関係なく支持される。
【0011】
【実施例】本発明の実施例を図1によって説明する。な
お図6と同じ符号を付した部分は同一または対応する部
分を示す。本発明にしたがい電子線源部4は、セラミッ
クのような耐熱性の絶縁材料からなる絶縁性の碍子11
により、アース電位とされている真空チャンバ1の壁1
Aに対して支持される。12は碍子11と壁1Aとの間
の電界を緩和するためのフープである。碍子11と電子
線源部との連結のための具体的な構成は後述する。
お図6と同じ符号を付した部分は同一または対応する部
分を示す。本発明にしたがい電子線源部4は、セラミッ
クのような耐熱性の絶縁材料からなる絶縁性の碍子11
により、アース電位とされている真空チャンバ1の壁1
Aに対して支持される。12は碍子11と壁1Aとの間
の電界を緩和するためのフープである。碍子11と電子
線源部との連結のための具体的な構成は後述する。
【0012】前記のように電子線源部4は、フィラメン
ト部2とシールド電極3とにより主として構成されてい
るが、フィラメント部2がシールド電極3に機械的に連
結されてあるので、シールド電極3を真空チャンバ1の
壁1Aに対して支持することにより、電子線源部4は壁
1Aに機械的に支持されることになる。
ト部2とシールド電極3とにより主として構成されてい
るが、フィラメント部2がシールド電極3に機械的に連
結されてあるので、シールド電極3を真空チャンバ1の
壁1Aに対して支持することにより、電子線源部4は壁
1Aに機械的に支持されることになる。
【0013】一端がフィラメント部2に接続される中心
導体7の他端は、圧力容器5内にある高電位の導入端子
部13に接続される。そして導入端子部13と真空チャ
ンバ1との間に絶縁機構14が設けてある。絶縁機構1
4は、セラミックなどの絶縁材料からなる絶縁リング1
5と、リング状の電極16とを交互にかつ多段に重ね合
わして構成されてある。
導体7の他端は、圧力容器5内にある高電位の導入端子
部13に接続される。そして導入端子部13と真空チャ
ンバ1との間に絶縁機構14が設けてある。絶縁機構1
4は、セラミックなどの絶縁材料からなる絶縁リング1
5と、リング状の電極16とを交互にかつ多段に重ね合
わして構成されてある。
【0014】絶縁機構14の中心を中心導体7が通るよ
うにしてある。絶縁機構14の電極16のうちの最終電
極17は真空チャンバ1のフランジ18に連結されてい
る。各電極16間には分圧抵抗19が接続されてある。
この絶縁機構14は真空チャンバ1と圧力容器5とを区
画する隔壁の役目を果たす。
うにしてある。絶縁機構14の電極16のうちの最終電
極17は真空チャンバ1のフランジ18に連結されてい
る。各電極16間には分圧抵抗19が接続されてある。
この絶縁機構14は真空チャンバ1と圧力容器5とを区
画する隔壁の役目を果たす。
【0015】絶縁機構14の外周と圧力容器5との間の
電界緩和のために、絶縁機構14の外周に複数の電界緩
和用リング20を設ける。電界緩和用リング20は各電
極16に接続される。絶縁リング15の径は、最終電極
17と中心導体7との間の空間電界が許容される範囲内
で最小となるように選択される。
電界緩和のために、絶縁機構14の外周に複数の電界緩
和用リング20を設ける。電界緩和用リング20は各電
極16に接続される。絶縁リング15の径は、最終電極
17と中心導体7との間の空間電界が許容される範囲内
で最小となるように選択される。
【0016】以上の構成において、電子線源部4は碍子
11により真空チャンバ1に対して機械的に支持され
る。碍子11は絶縁性でしかも耐熱性であることによ
り、電子線源部4からの伝熱に対して十分に絶縁特性が
維持される。
11により真空チャンバ1に対して機械的に支持され
る。碍子11は絶縁性でしかも耐熱性であることによ
り、電子線源部4からの伝熱に対して十分に絶縁特性が
維持される。
【0017】中心導体7と真空チャンバ1および圧力容
器5に対する絶縁は、絶縁機構14が司る。絶縁機構1
4を構成している絶縁リング16は、その間の電極16
とこれに接続されている分圧抵抗19によって、中心導
体7と真空容器1との間の電界をほぼ均等に分担する。
したがって電界の分担は安定し、電界が変動するような
ことがあっても、その影響は少なくなる。しかも絶縁機
構14の表面積が少なくてすむので、面積効果を減少す
ることができ、放電の発生を極力回避することができ
る。
器5に対する絶縁は、絶縁機構14が司る。絶縁機構1
4を構成している絶縁リング16は、その間の電極16
とこれに接続されている分圧抵抗19によって、中心導
体7と真空容器1との間の電界をほぼ均等に分担する。
したがって電界の分担は安定し、電界が変動するような
ことがあっても、その影響は少なくなる。しかも絶縁機
構14の表面積が少なくてすむので、面積効果を減少す
ることができ、放電の発生を極力回避することができ
る。
【0018】図1の構成では、碍子11をシールド電極
3のその長さ方向に沿う中央に設けているが、シールド
電極が長尺に及ぶときは、点線で示す碍子11Aのよう
に、2個所またはそれ以上の箇所で支持するようにして
もよい。図1の例は電子線を垂直下方に向けて照射する
構成であるが、これが水平方向に向けて照射する構成の
ものでも本発明は適用される。この場合の碍子11は図
1と同様に、シールド電極の上部に設けるとよい。
3のその長さ方向に沿う中央に設けているが、シールド
電極が長尺に及ぶときは、点線で示す碍子11Aのよう
に、2個所またはそれ以上の箇所で支持するようにして
もよい。図1の例は電子線を垂直下方に向けて照射する
構成であるが、これが水平方向に向けて照射する構成の
ものでも本発明は適用される。この場合の碍子11は図
1と同様に、シールド電極の上部に設けるとよい。
【0019】図2に碍子11の取り付けのための具体的
構成を示す。この例では碍子11の下端面に、ねじ孔を
有する金具21を埋め込んでおき、この金具21にねじ
22を締め込むことによって取付金具23を固定する。
取付金具23はねじ24によりシールド電極3に固定さ
れる。これにより碍子11の下端は、シールド電極3に
連結される。この場合ねじ24として、レベル出しので
きるジヤッキ用のものが望ましい。また金具21はシー
ルド電極3内におさめるようにしてある。
構成を示す。この例では碍子11の下端面に、ねじ孔を
有する金具21を埋め込んでおき、この金具21にねじ
22を締め込むことによって取付金具23を固定する。
取付金具23はねじ24によりシールド電極3に固定さ
れる。これにより碍子11の下端は、シールド電極3に
連結される。この場合ねじ24として、レベル出しので
きるジヤッキ用のものが望ましい。また金具21はシー
ルド電極3内におさめるようにしてある。
【0020】碍子11の上端面にもねじ孔を有する金具
25を埋め込んでおき、この金具25にねじこまれるね
じ26により、フープ12を介して、真空チャンバ1に
固着されてある金具27に碍子11を連結する。このよ
うにしてシールド電極3は真空チャンバ1に取り付けら
れるようになる。なお碍子11としては、その沿面距離
を長くする必要があるときは、図2中の点線で示すよう
に、ひだ28を設けても良い。
25を埋め込んでおき、この金具25にねじこまれるね
じ26により、フープ12を介して、真空チャンバ1に
固着されてある金具27に碍子11を連結する。このよ
うにしてシールド電極3は真空チャンバ1に取り付けら
れるようになる。なお碍子11としては、その沿面距離
を長くする必要があるときは、図2中の点線で示すよう
に、ひだ28を設けても良い。
【0021】前記のように絶縁機構14の電極16及び
アース電位である最終電極17は、中心導体7の高電界
にさらされる。そこでこの電界緩和のために、図3に示
すように、各電極16の内端をわん曲させ、アース電位
側にある絶縁リング15を中心導体7に対して露出しな
いように隠蔽するとよい。特に最終段付近では電極16
を大きくわん曲させるようにして絶縁リング15を覆う
ようにするとよい。これにより中心導体7と絶縁機構1
4との間の電界を緩和することができるようになる。
アース電位である最終電極17は、中心導体7の高電界
にさらされる。そこでこの電界緩和のために、図3に示
すように、各電極16の内端をわん曲させ、アース電位
側にある絶縁リング15を中心導体7に対して露出しな
いように隠蔽するとよい。特に最終段付近では電極16
を大きくわん曲させるようにして絶縁リング15を覆う
ようにするとよい。これにより中心導体7と絶縁機構1
4との間の電界を緩和することができるようになる。
【0022】図1の点線で示したように、複数の碍子1
1Aで電子線源部4を支持した場合、シールド電極3が
熱によりその長さ方向に膨張することによって、碍子1
1Aとの間に応力が作用する恐れがある。これを避ける
ために、図4、図5に示すように、金具23のねじ22
が通る孔を長孔29としておくとよい。これによれば膨
張によるねじ22の逃げが形成されるため、シールド電
極3と碍子11Aとの間に応力が作用するのが回避でき
る。
1Aで電子線源部4を支持した場合、シールド電極3が
熱によりその長さ方向に膨張することによって、碍子1
1Aとの間に応力が作用する恐れがある。これを避ける
ために、図4、図5に示すように、金具23のねじ22
が通る孔を長孔29としておくとよい。これによれば膨
張によるねじ22の逃げが形成されるため、シールド電
極3と碍子11Aとの間に応力が作用するのが回避でき
る。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、電
子線源部のフィラメントに高電圧を給電する中心導体と
真空チャンバとの絶縁を電子線源部の機械的支持に直接
関与しない絶縁機構により絶縁するようにし、この絶縁
機構を絶縁リングとリング状電極とを重ね合わせ、リン
グ状電極に分圧抵抗を接続して構成したので、各絶縁リ
ングは均等な電界を受け、従来のようなスペースコーン
による絶縁構成に比較して安定となり、電界変動の影響
は少なくなるとともに、その表面積を小さくすることが
できるため、面積効果は減少し、放電の発生を極力阻止
することができるようになり、更に電子線源部を耐熱性
の碍子を介して真空チャンバに機械的に支持するように
したので、電子線源部からの伝熱に対して、絶縁特性が
十分に維持されるといった効果を奏する。
子線源部のフィラメントに高電圧を給電する中心導体と
真空チャンバとの絶縁を電子線源部の機械的支持に直接
関与しない絶縁機構により絶縁するようにし、この絶縁
機構を絶縁リングとリング状電極とを重ね合わせ、リン
グ状電極に分圧抵抗を接続して構成したので、各絶縁リ
ングは均等な電界を受け、従来のようなスペースコーン
による絶縁構成に比較して安定となり、電界変動の影響
は少なくなるとともに、その表面積を小さくすることが
できるため、面積効果は減少し、放電の発生を極力阻止
することができるようになり、更に電子線源部を耐熱性
の碍子を介して真空チャンバに機械的に支持するように
したので、電子線源部からの伝熱に対して、絶縁特性が
十分に維持されるといった効果を奏する。
【図1】本発明の実施例を示す断面図である。
【図2】図1の碍子の支持部分を示す拡大断面図であ
る。
る。
【図3】図1の絶縁機構の変形例を示す部分断面図であ
る。
る。
【図4】碍子とシールド電極との連結部分の変形例を示
す部分断面図である。
す部分断面図である。
【図5】図4の底面図である。
【図6】従来例の断面図である。
1 真空チャンバ 2 フィラメント部 3 シールド電極 4 電子線源部 5 圧力容器 7 中心導体 8 加速電源 11 碍子 14 絶縁機構 15 絶縁リング 16 リング状電極 19 分圧抵抗 20 電界緩和用リング
Claims (2)
- 【請求項1】 フィラメント部と、フィラメント部をシ
ールドしているシールド電極とを有し、前記フィラメン
ト部を前記シールド電極に機械的に連結してなる電子線
源部の前記シールド電極を、前記電子線源部が収納さ
れ、アース電位とされてある真空チャンバの壁に、耐熱
性材料からなる絶縁性の碍子によって機械的に支持する
とともに、前記フィラメント部に接続される中心導体を
高電位の導入端子部に連結し、前記導入端子部と前記真
空チャンバとの間を、絶縁リングと、リング状電極とを
交互にかつ多段に重ね合わした絶縁機構によって絶縁
し、前記各リング状電極間に、前記絶縁リングの分担電
圧を均等とするための分圧抵抗を接続してなる電子線照
射装置。 - 【請求項2】 絶縁機構のリング状電極を、前記絶縁機
構の内部において、アース電位側の絶縁リングを中心導
体に対して隠蔽するように、わん曲させてなる請求項1
に記載の電子線照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10889494A JP3324275B2 (ja) | 1994-04-11 | 1994-04-11 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10889494A JP3324275B2 (ja) | 1994-04-11 | 1994-04-11 | 電子線照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07282755A JPH07282755A (ja) | 1995-10-27 |
JP3324275B2 true JP3324275B2 (ja) | 2002-09-17 |
Family
ID=14496316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10889494A Expired - Lifetime JP3324275B2 (ja) | 1994-04-11 | 1994-04-11 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3324275B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100577473B1 (ko) | 2004-03-09 | 2006-05-10 | 한국원자력연구소 | 전계방출팁을 이용한 저에너지 대면적 전자빔 조사장치 |
JP5399299B2 (ja) * | 2010-03-09 | 2014-01-29 | 住友重機械工業株式会社 | ターゲット装置およびこれを備えた中性子捕捉療法装置 |
EP2991095B1 (en) * | 2014-08-25 | 2018-01-31 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | High voltage feedthrough assembly, electron diffraction apparatus and method of electrode manipulation in a vacuum environment |
-
1994
- 1994-04-11 JP JP10889494A patent/JP3324275B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07282755A (ja) | 1995-10-27 |
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