JP6712835B2 - Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の重希土類元素拡散処理方法 - Google Patents
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Description
工程(A)
不活性ガスの保護条件において、厚さが5〜50μmの有機薄膜の片面又は両面に重希土類粉末を均等に接着させて重希土類粉末層を形成し、前記重希土類粉末層が接着された前記有機薄膜を重希土類薄膜拡散源とし、
工程(B)
前記重希土類粉末層が接着された前記有機薄膜を、前記Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の磁化方向に垂直な一方表面及び他方表面に接触させて、前記Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の磁化方向に垂直な両面を前記有機薄膜で挟み込み、両側から押圧して前記Nd−Fe−B系焼結永久磁性体と前記有機薄膜とを密着させ、
工程(C)
真空又はアルゴンガスの保護条件において、前記有機薄膜で挟み込まれた前記Nd−Fe−B系焼結永久磁性体に対して高温拡散処理及び時効処理を行って、前記Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の内部に重希土類元素を拡散させる、
ことを特徴とする。
1.重希土拡散源の重希土類元素含有量の制御性が高く、且つNd−Fe−B系焼結永久磁性体と密着して貼り合わせるだけで良く、拡散処理が容易である。
2.重希土類薄膜拡散源の作成に各種の有機溶剤による成膜工程を必要とせず、不純物の混入が少ないため、Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の損傷が少ない。
3.作業が簡単であり、生産効率は高く、重希土類粉末の利用効率も高く、且つ製造工程における汚染がなく、大量生産に適する。
図3、図4に基づいて、実施例1に係るNd−Fe−B系焼結永久磁性体の製造方法を説明する。
まず、幅20mm、厚さ5μmのPET型両面テープを有機薄膜2として用い、テルビウム粉末を重希土類粉末1として550メッシュ及び500メッシュの篩を用いて、テルビウム粉末を篩に掛ける。500メッシュ篩を通過し、550メッシュ篩を通過しなかったテルビウム粉末を「500メッシュテルビウム粉末」と定義し、当該500メッシュテルビウム粉末をPET型両面テープの両面に均等に接着させ、PET型両面テープの両面に一層の重希土類粉末層を形成し、重希土類薄膜拡散源を作成した。
次に、20mm(W)×20mm(H)×1mm(T)のサイズからなるNd−Fe−B系焼結永久磁性体3の磁化方向に垂直な一方表面を重希土類薄膜拡散源上に置いて接触(被覆)させ、磁化方向に垂直な他方表面も重希土類薄膜拡散源に接触(被覆)させ、Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の磁化方向に垂直な両面を重希土類薄膜拡散源(有機薄膜2)で挟み込んだ状態とし、重希土類薄膜拡散源の上に重し4を置いて両側から押圧して重希土類薄膜拡散源とNd−Fe−B系焼結永久磁性体3とを密着して貼り合わせた。
最後に、重希土類薄膜拡散源で被覆されたNd−Fe−B系焼結永久磁性体3を焼結炉内に載置し、950℃×6時間の拡散処理を行い、その後、磁性体を炉内で冷却し、引き続き温度を上昇させて、500℃×3時間の時効処理を行った。
実施例1で作成したNd−Fe−B系焼結永久磁性体の磁気特性の測定結果を表1に記載する。
表1中の「オリジナルサンプル」とは、拡散処理を行う前のNd−Fe−B系焼結永久磁性体である。
図3、図4に基づいて、実施例2に係るNd−Fe−B系焼結永久磁性体の製造方法を説明する。
まず、幅20mm、厚さ30μmの無基材型両面テープを有機薄膜2として用い、300メッシュ及び250メッシュ篩を用いてジスプロシウム粉末を篩に掛ける。250メッシュ篩を通過し、300メッシュ篩を通過しなかったジスプロシウム粉末を「250メッシュジスプロシウム粉末」と定義し、当該250メッシュジスプロシウム粉末を無基材型両面テープの両面に均等に接着させ、無基材型両面テープの両面に一層の重希土類粉末層を形成して、重希土類薄膜拡散源を作成した。
次に、20mm(W)×20mm(H)×4mm(T)のサイズからなるNd−Fe−B系焼結永久磁性体3の磁化方向に垂直な一方表面を重希土類薄膜拡散源上に置いて接触(被覆)させ、磁化方向に垂直な他方表面も重希土類薄膜拡散源に接触(被覆)させ、Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の磁化方向に垂直な両面を重希土類薄膜拡散源(有機薄膜2)で挟み込んだ状態とし、重希土類薄膜拡散源の上に重し4を置いて両側から押圧して重希土類薄膜拡散源とNd−Fe−B系焼結永久磁性体3とを密着して貼り合わせた。
最後に、重希土類薄膜拡散源で被覆されたNd−Fe−B系焼結永久磁性体3を焼結炉内に載置し、900℃×10時間の拡散処理を行い、その後、磁性体を炉内で冷却し、引き続き温度を上昇させて、450℃×6時間の時効処理を行った。
実施例2で作成したNd−Fe−B系焼結永久磁性体の磁気特性の測定結果を表2に記載する。
表2中の「オリジナルサンプル」とは、拡散処理を行う前のNd−Fe−B系焼結永久磁性体である。
図3、図4に基づいて、実施例2に係るNd−Fe−B系焼結永久磁性体の製造方法を説明する。
まず、幅20mm、厚さ50μmのPVC型両面テープを有機薄膜2として用い、150メッシュ及び100メッシュ篩を用いてテルビウム−銅合金粉末(テルビウムの質量分率は90%)を篩に掛ける。100メッシュ篩を通過し、150メッシュ篩を通過しなかったテルビウム−銅合金粉末を「100メッシュジテルビウム−銅合金粉末」と定義し、当該100メッシュテルビウム−銅合金粉末をPVC型両面テープの両面に均等に接着させ、PVC型両面テープの両面に一層の重希土類粉末層を形成して、重希土類薄膜拡散源を作成した。
次に、20mm(W)×20mm(H)×10mm(T)のサイズからなるNd−Fe−B系焼結永久磁性体3の磁化方向に垂直な一方表面を重希土類薄膜拡散源上に置いて接触(被覆)させ、磁化方向に垂直な他方表面も重希土類薄膜拡散源に接触(被覆)させ、Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の磁化方向に垂直な両面を重希土類薄膜拡散源(有機薄膜2)で挟み込んだ状態とし、重希土類薄膜拡散源の上に重し4を置いて両側から押圧して重希土類薄膜拡散源とNd−Fe−B系焼結永久磁性体3とを密着して貼り合わせた。
最後に、重希土類薄膜拡散源で被覆されたNd−Fe−B系焼結永久磁性体3を焼結炉内に載置し、850℃×72時間の拡散処理を行い、その後、磁性体を炉内で冷却し、引き続き温度を上昇させて、600℃×15時間の時効処理を行った。
実施例3で作成したNd−Fe−B系焼結永久磁性体の磁気特性の測定結果を表3に記載する。
表3中の「オリジナルサンプル」とは、拡散処理を行う前のNd−Fe−B系焼結永久磁性体である。
図1、図2に基づいて、実施例4に係るNd−Fe−B系焼結永久磁性体の製造方法を説明する。
まず、幅20mm、厚さ10μmのPET型片面テープを有機薄膜2として用い、200メッシュ及び150メッシュ篩を用いて、水素化テルビウム粉末を篩に掛けた。150メッシュ篩を通過し、200メッシュ篩を通過しなかった水素化テルビウム粉末を「150メッシュ水素化テルビウム粉末」と定義し、当該150メッシュ水素化テルビウム粉末をPET型片面テープの片面(接着面)に均等に接着させ、PET型片面テープの一方表面に一層の重希土類粉末層を形成して、重希土類薄膜拡散源を作成した。
次に、20mm(W)×20mm(H)×6mm(T)のサイズからなるNd−Fe−B系焼結永久磁性体3の磁化方向に垂直な一方表面を重希土類薄膜拡散源上に置いて接触(被覆)させ、磁化方向に垂直な他方表面も重希土類薄膜拡散源に接触(被覆)させ、Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の磁化方向に垂直な両面を重希土類薄膜拡散源(有機薄膜2)で挟み込んだ状態とし、重希土類薄膜拡散源の上に重し4を置いて両側から押圧して重希土類薄膜拡散源とNd−Fe−B系焼結永久磁性体3とを密着して貼り合わせた。
最後に、重希土類薄膜拡散源で被覆されたNd−Fe−B系焼結永久磁性体3を焼結炉内に載置し、900℃×24時間の拡散処理を行い、その後、磁性体を炉内で冷却し、引き続き温度を上昇させて、650℃×10時間の時効処理を行った。
実施例4で作成したNd−Fe−B系焼結永久磁性体の磁気特性の測定結果を表4に記載する。
表4中の「オリジナルサンプル」とは、拡散処理を行う前のNd−Fe−B系焼結永久磁性体である。
2 有機薄膜
3 Nd−Fe−B系焼結永久磁性体
4 重し
Claims (7)
- Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の重希土類元素拡散処理方法であって、以下の(A)〜(C)の工程を含むものであり、
工程(A)
不活性ガスの保護条件において、厚さが5〜50μmの有機薄膜の片面又は両面に重希土類粉末を均等に接着させて重希土類粉末層を形成し、前記重希土類粉末層が接着された前記有機薄膜を重希土類薄膜拡散源とし、
工程(B)
前記重希土類粉末層が接着された前記有機薄膜を、前記Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の磁化方向に垂直な一方表面及び他方表面に接触させて、前記Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の磁化方向に垂直な両面を前記有機薄膜で挟み込み、両側から押圧して前記Nd−Fe−B系焼結永久磁性体と前記有機薄膜とを密着させ、
工程(C)
真空又はアルゴンガスの保護条件において、前記有機薄膜で挟み込まれた前記Nd−Fe−B系焼結永久磁性体に対して高温拡散処理及び時効処理を行って、前記Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の内部に重希土類元素を拡散させる、
ことを特徴とするNd−Fe−B系焼結永久磁性体の重希土類元素拡散処理方法。 - 前記重希土類粉末はテルビウム、ジスプロシウム、又はジスプロシウム−テルビウム元素を含む化合物或いは合金粉末のうちの少なくとも一つである、
ことを特徴とする請求項1に記載のNd−Fe−B系焼結永久磁性体の重希土類元素拡散処理方法。 - 前記テルビウム、ジスプロシウム、又はジスプロシウム−テルビウム元素を含む化合物或いは合金粉末の粒度は100〜500メッシュである、
ことを特徴とする請求項2に記載のNd−Fe−B系焼結永久磁性体の重希土類元素拡散処理方法。 - 前記有機薄膜は、片面又は両面が接着面である、
ことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のNd−Fe−B系焼結永久磁性体の重希土類元素拡散処理方法。 - 前記有機薄膜は、無基材型両面テープ、PET型片面テープ、PET型両面テープ、PVC型片面テープ、PVC型両面テープである、
ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載のNd−Fe−B系焼結永久磁性体の重希土類元素拡散処理方法。 - 前記重希土類薄膜拡散源は、前記有機薄膜の片面に重希土類粉末を接着した重希土類薄膜拡散源、又は、前記有機薄膜の両面に重希土類粉末を接着した重希土類薄膜拡散源である、
ことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載のNd−Fe−B系焼結永久磁性体の重希土類元素拡散処理方法。 - 前記Nd−Fe−B系焼結永久磁性体の拡散処理温度は850〜950℃、拡散処理時間は6〜72時間、時効処理温度は450〜650℃、時効処理時間は3〜15時間である、
ことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載のNd−Fe−B系焼結永久磁性体の重希土類元素拡散処理方法。
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