JP6689642B2 - 薄膜形成装置 - Google Patents
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Description
2 基材
3 巻出しロール
4 巻取りロール
5 メインロール
6 メインロールチャンバ
7 成膜部
8 膜厚計測手段
9 制御部
31 芯部
41 芯部
51 温度調節手段
51a 温度調節手段
51b 温度調節手段
51c 温度調節手段
51d 温度調節手段
51e 温度調節手段
61 真空ポンプ
62 間仕切り部
71 真空ポンプ
72 プラズマ電極
73 ガス供給部
74 ガス配管
75 ガス供給口
76 流量制御弁
76a 流量制御弁
76b 流量制御弁
76c 流量制御弁
76d 流量制御弁
76e 流量制御弁
100 薄膜形成装置
101 メインロールチャンバ
102 メインロール
103 基材
104 巻出しロール
105 巻取りロール
106 成膜部
107 ガス供給部
107a ガス供給口
108 電極
Claims (2)
- 所定の搬送方向に搬送される基材の被成膜面に蒸着膜を形成する薄膜形成装置であり、
前記蒸着膜の原料となる原料ガスの流量を調節する流量制御弁を前記搬送方向と直交する方向である幅方向に複数有し、当該原料ガスを供給するガス供給部と、
前記ガス供給部よりも前記搬送方向の下流側にあり、前記幅方向の前記蒸着膜の膜厚分布を計測する膜厚計測手段と、
前記流量制御弁および前記膜厚計測手段の動作の制御を行う制御部と、
基材を挟んで前記ガス供給部と反対側にあり、基材の前記被成膜面と反対側の面と接触することにより成膜中の基材を支持するメインロールと、当該メインロールの温度を調節する前記幅方向に複数設けられたロール温度調節手段と、
を備え、
薄膜形成時、前記制御部は、前記膜厚計測手段による計測結果にもとづいて複数の前記流量制御弁を個別に制御するとともに、前記ロール温度調節手段は、前記メインロールの温度分布を前記幅方向にわたって均一にすることを特徴とする、薄膜形成装置。 - 前記基材は帯状であり、両端がロールに巻かれ、片方の当該ロールから送り出され、もう片方の当該ロールが巻き取ることにより、基材が連続的に搬送されることを特徴とする、請求項1に記載の薄膜形成装置。
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