JP6456439B2

JP6456439B2 - スパッタ装置

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Publication number: JP6456439B2
Application number: JP2017148035A
Authority: JP
Inventors: 智剛梨木; 明濱田
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2017-07-31
Filing date: 2017-07-31
Publication date: 2019-01-23
Anticipated expiration: 2033-07-19
Also published as: JP2018009247A

Description

本発明は、成膜ロールの表面に沿って搬送される長尺フィルム基材の表面に薄膜を形成するスパッタ装置に関する。

従来から、長尺フィルム基材を巻いた原反ロールと、長尺フィルム基材を沿わせる成膜ロールと、成膜ロールの表面に沿って搬送される長尺フィルム基材の表面に成膜材料を形成するターゲット材と、成膜ロールとターゲット材との間の成膜空間にガスを供給するガス供給機構と、成膜ロールの表面に沿って搬送された長尺フィルム基材を搬送方向下流側へ搬送する下流側搬送ロールと、下流側搬送ロールから搬送方向下流側へ搬送された長尺フィルム基材を巻き取る巻取りロールと、を真空チャンバー内に配置したスパッタ装置が使用されている（例えば、特許文献１の明細書第００１２段落、明細書第００２３段落、及び図１に示す。）。このスパッタ装置によりスパッタ処理された長尺フィルム基材は、タッチパネルの表面パネル等として使用される。

このスパッタ装置は、例えば、ポリエチレンテレフタレートから成る長尺フィルム基材が成膜ロールに沿って搬送されながら、インジウム・スズ合金をターゲットとして、アルゴンガスから成る不活性ガスとともに酸素ガスからなる反応性ガスが成膜空間に供給され、ターゲット材は長尺フィルム基材の表面に成膜材料を形成する。これにより、インジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）薄膜が、長尺フィルム基材の表面に連続的に成膜されていく。

特開２００３−３２８１２４号公報

ここで、長尺フィルム基材に成膜するためには、成膜ロールは、内蔵されたヒータによって６０°Ｃ〜７０°Ｃに加熱されている必要がある。このため、成膜ロールにおいて成膜された長尺フィルム基材が搬送方向下流側の下流側搬送ロールまで搬送されて長尺フィルム基材が成膜ロールから離脱した時に、下流側搬送ロールに接触している長尺フィルム基材は、下流側搬送ロールの温度近くまで急激に冷却される。例えば、下流側搬送ロールの温度が真空チャンバー内の室温と同一である場合、下流側搬送ロールへ搬送された長尺フィルム基材は、真空チャンバー内の室温近くまで急激に冷却される。

これにより、下流側搬送ロールまで搬送され急激に冷却された長尺フィルム基材が変形し、タッチパネルの表面パネル等として使用できない、又は、外観上好ましくないとう問題が生じることがある。特に、長尺フィルム基材の幅が大きい場合、又は長尺フィルム基材の線膨張係数が大きい場合には、このような問題が顕著に生じる。

本発明は、従来のスパッタ装置に上記のような問題があったことに鑑みて為された発明である。すなわち、本願発明は、成膜ロールから離脱し下流側搬送ロールまで送られる長尺フィルム基材が急激な冷却によって変形することのないスパッタ装置を提供することを目的とする。

成膜ロールの表面に沿って搬送される長尺フィルム基材の表面に薄膜を形成するスパッタ装置であり、
真空チャンバーと、
前記真空チャンバー内に回転可能に配置された前記成膜ロールと、
前記真空チャンバー内に配置され、成膜ロールの表面に沿って搬送される長尺フィルム基材の表面に成膜材料を形成するターゲット材と、
前記成膜ロールと前記ターゲット材との間の成膜空間にガスを供給するガス供給機構と、
前記真空チャンバー内において、前記成膜ロールに対して長尺フィルム基材の搬送方向下流側に配置され、前記成膜ロールの表面に沿って搬送された長尺フィルム基材を該搬送方向下流側へ搬送する複数の下流側搬送ロールと、
前記複数の下流側搬送ロールの中の少なくとも１本の温度を、８０°Ｃ以下で前記真空チャンバー内の最低温度よりも高い範囲で、略一定に維持する温度調節機構と、
を備えたことを特徴とする。

下流側搬送ロールとは、成膜ロールよりも長尺フィルムの搬送方向下流側に配置された搬送ロールであって、駆動手段によって回転する駆動ロール及び自由回転可能なガイドロールを含む。真空チャンバー内の最低温度とは、真空チャンバー内に設置されたロール等の固体の温度又は真空チャンバー内に存する気体の温度の中で最低の温度である。

本発明に係るスパッタ装置は、前記スパッタ装置において、前記温度調節機構は、前記複数の下流側搬送ロールの中の２本以上の温度を略一定の各々の温度に維持することを特徴とする。

本発明に係るスパッタ装置は、前記スパッタ装置において、前記温度調節機構により温度を略一定に維持される２本以上の前記下流側搬送ロールは、前記搬送方向下流側へいくに従って、より低温に維持されることを特徴とする。

本発明に係るスパッタ装置は、前記スパッタ装置において、前記温度調節機構により温度を略一定に維持される前記下流側搬送ロールが中空部を有し、該温度調節機構は、該中空部内へ略一定温度の流体を供給する機構であることを特徴とする。

本発明に係るスパッタ装置は、前記スパッタ装置において、前記温度調節機構が、前記下流側搬送ロールの前記中空部内へ流体を導くロータリージョイント又はスイベルジョイントを有することを特徴とする。

本発明に係るスパッタ装置は、前記スパッタ装置において、前記温度調節機構により温度を略一定に維持される前記下流側搬送ロールが、駆動手段によって回転する駆動ロールであることを特徴とする。

本発明に係るスパッタ装置の場合、成膜ロールを離脱した長尺フィルム基材が、温度調節機構によって温度を略一定に維持される下流側搬送ロールに接触して冷却され、接触したその下流側搬送ロールより搬送方向下流側において更に冷却され、成膜ロールを離脱した長尺フィルム基材が段階的に冷却されていく。このため、成膜ロールを離脱した長尺フィルム基材は、急激に冷却されることはなく、変形することがない。

また、温度調節機構が複数の下流側搬送ロールの中の２個以上の温度を略一定に維持し、温度を略一定に維持される２個以上の下流側搬送ロールが搬送方向下流側へいくに従ってより低温に維持される場合、成膜ロールを離脱した長尺フィルム基材は、温度を略一定に維持される２個以上の下流側搬送ロールに接触することにより、多段階的に冷却されていく。このため、成膜ロールを離脱した長尺フィルム基材は、巻取ロールによって巻き取られるまでに、除除に冷却されるため、急激に冷却されることはなく、変形することがない。また、温度を略一定に維持される２個以上の下流側搬送ロールの温度が制御されることにより、成膜ロールを離脱した長尺フィルム基材の冷却状態は、長尺フィルム基材が変形しないように調節され得る。

また、温度調節機構により温度を略一定に維持される下流側搬送ロールが中空部を有し、温度調節機構が中空部内へ略一定温度の流体を供給する機構である場合、略筒状の下流側搬送ロールの中空部に温水等の流体を供給して下流側搬送ロールの温度を調整する。このため、下流側搬送ロールの中空部に設けたヒータによって下流側搬送ロールの温度を調整する場合に比して、下流側搬送ロールの温度をより正確に調節することが可能となる。これは、低圧の中空部内の気体と下流側搬送ロールの中空部の内壁との熱伝達効率よりも、流体と下流側搬送ロールの中空部の内壁との熱伝達効率が、高いことによる。

また、温度調節機構により温度を略一定に維持される下流側搬送ロールが、駆動手段によって回転する駆動ロールであり、温度調節機構が下流側搬送ロール中空部内へ略一定温度の流体を供給する機構である場合には、温度を略一定に維持される下流側搬送ロールが自由回転するガイドロールである場合と異なり、温度を略一定に維持される下流側搬送ロールが一定の回転数で回転することが不可能になることはない。すなわち、ガイドロールは駆動手段によって強制的に回転されないため、中空部に温水を供給されることにより重量が増加し、一定の回転数で回転することが不可能なことがある。これに対して、駆動ロールは、駆動手段によって強制的に回転させられるため、中空部に温水を供給されても、常に一定の回転数で回転する。

本発明に係るスパッタ装置の概略斜視図である。本発明に係るスパッタ装置のロータリージョイント及び駆動ロールを示す断面図である。本発明に係るスパッタ装置の温度調節機構を示す配管図である。本発明に係るスパッタ装置の他の実施形態における温度調節機構を示す配管図である。本発明に係るスパッタ装置の更に他の実施形態におけるロータリージョイント及び駆動ロールを示す断面図である。

次に、本発明の実施形態について、図面に基づいて詳細に説明する。図１において、符号１０は、本発明に係るスパッタ装置である。

スパッタ装置１０は、成膜ロール１８の表面に沿って搬送される長尺フィルム基材１６の表面に薄膜を形成するスパッタ装置１０であり、真空チャンバー１４と、真空チャンバー１４内に回転可能に配置された前記成膜ロール１８と、真空チャンバー１４内に配置され、成膜ロール１８の表面に沿って搬送される長尺フィルム基材１６の表面に成膜材料を形成するターゲット材２０と、成膜ロール１８とターゲット材２０との間の成膜空間２２にガスを供給するガス供給機構２４と、真空チャンバー１４内において、成膜ロール１８に対して長尺フィルム基材１６の搬送方向下流側に配置され、成膜ロール１８の表面に沿って搬送された長尺フィルム基材１６を搬送方向下流側へ搬送する３個の駆動ロール（下流側搬送ロール）２６（１）、２６（２）、２６（３）と、各駆動ロール２６（１）、２６（２）、２６（３）の温度を略一定に維持する３個の温度調節機構３０（１）、３０（２）、３０（３）と、を備えている。

以下において、駆動ロールの符号は、３個の駆動ロール２６（１）、２６（２）、２６（３）を含めて説明する時は、「２６」と示され、３個の駆動ロール２６（１）、２６（２）、２６（３）を個別に説明する時は、２６（１）、２６（２）、又は２６（３）と示される。また、温度調節機構の符号は、３個の温度調節機構３０（１）、３０（２）、３０（３）を含めて説明する時は、「３０」と示され、３個の温度調節機構３０（１）、３０（２）、３０（３）を個別に説明する時は、３０（１）、３０（２）、又は３０（３）と示される。また、ロータリージョイントの符号は、３個のロータリージョイント３４（１）、３４（２）、３４（３）を含めて説明する時は、「３４」と示され、３個のロータリージョイント３４（１）、３４（２）、３４（３）を個別に説明する時は、３４（１）、３４（２）、又は３４（３）と示される。

真空チャンバー１４内の複数箇所に、真空チャンバー１４内の温度を計測することができる、図示しない温度センサ（例えば、熱電対）又は温度計が備えられている。成膜ロール１８は、成膜ロール１８の表面を６０°Ｃ〜７０°Ｃに維持するヒータが内蔵されている。ターゲット材２０は、インジウム・スズ合金から構成される。ガス供給機構２４は、アルゴンガスから成る不活性ガスとともに酸素ガスからなる反応性ガスを成膜空間２２に供給するように構成されている。駆動ロール２６は、温水（流体）４８が入る中空部３２を有している。駆動ロール２６は、図示しないモータの駆動力により回転する図２に示す駆動ベルト６８によって回転駆動される。なお、ターゲット材２０をマイナス電位に維持するカソードは、平板カソードの他、デュアルカソード又はロータリーカソード等が使用される。

温度調節機構３０は、図１及び図２に示すように、駆動ロール２６に連結した複式且つ内管固定式のロータリージョイント３４を有している。

ロータリージョイント３４は、駆動ロール２６が回転する状態で、入口５４から内管７０を介して駆動ロール２６の中空部３２へ温水４８を送り、且つ、中空部３２内の温水４８を出口５６から排出することができる。ロータリージョイント３４は、真空チャンバー１４内に固定された固定部材５０と、駆動ロール２６に固定され、駆動ロール２６とともに回転する回転部材５２とから構成されている。図２において、真空チャンバー１４内に固定される部材は、右下がり斜線のハッチングを施し、回転する部材は右上がり斜線のハッチングを施している。ロータリージョイント３４は公知のものであるため、その構造の更なる詳細な説明は省略する、

このロータリージョイント３４を有する温度調節機構３０の一例を図３に配管図で示す。３個の温度調節機構３０（１）、３０（２）、３０（３）は、同じ構成である。図３に示す温度調節機構３０は、温度計６０、温度調節器６２、流量計６４、可変絞り弁６６等を備えている。温度計６０は、駆動ロール２６の中空部３２へ供給する温水４８の温度を計測でき、計測した温度を真空チャンバー１４の外部から目視することができるように構成されている。温度調節器６２は、駆動ロール２６の中空部３２へ供給する温水の温度を手動により調節できる。

３個の温度調節機構３０（１）、３０（２）、３０（３）が温度調節器６２を各々備えることにより、３個の温度調節機構３０（１）、３０（２）、３０（３）は、搬送方向下流へいくに従って温水４８の温度を低く調節できる。例えば、成膜ロール１８の表面の温度が６０°Ｃであり、真空チャンバー１４内の最低温度が巻取ロール３６周辺の２０°Ｃの場合、例えば、搬送方向最上流の温度調節機構３０（１）は５０°Ｃの温水４８を、搬送方向中間部の温度調節機構３０（２）は４０°Ｃの温水４８を、搬送方向最下流の温度調節機構３０（３）は３０°Ｃの温水４８を、各々の駆動ロール２６の中空部３２へ供給することができる。

ここで、成膜ロール１８の表面と温度調節機構３０（１）が駆動ロール２６（１）へ供給する温水４８との温度差、温度調節機構３０（１）が駆動ロール２６（１）へ供給する温水４８と温度調節機構３０（２）が駆動ロール２６（２）へ供給する温水４８との温度差、温度調節機構３０（２）が駆動ロール２６（２）へ供給する温水４８と温度調節機構３０（３）が駆動ロール２６（３）へ供給する温水４８との温度差、及び、温度調節機構３０（３）が駆動ロール２６（３）へ供給する温水４８と巻取ロール３６周辺との温度差は、略同一であることが好ましい。これら温度差が略同一であることが好ましいのは、成膜ロール１８を離脱した長尺フィルム基材１６が、巻取ロール３６へ搬送されるまでに、除除に冷却されるためである。また、成膜ロール１８を離脱した長尺フィルム基材１６が、急激な冷却によって変形することを防止するためには、これら温度差は、２０°Ｃ以下、特には１０°Ｃ以下であることが好ましい。

このような構成のスパッタ装置１０の作用及び効果について、以下に説明する。

図１に示すように、原反ロール４０から繰り出された長尺フィルム基材１６が、ガイドロール（上流側搬送ロール）４２、成膜ロール１８、ガイドロール２８、駆動ロール２６、及び巻取ロール３６に掛けられた状態で、駆動ロール２６及び巻取ロール３６が回転駆動されることにより、巻取ロール３６に巻き取られていく。

この時、真空ポンプ４６により、真空チャンバー１４内は真空に維持される。また、ガス供給機構２４が、アルゴンガスから成る不活性ガス、及び酸素ガスからなる反応性ガスを、成膜空間２２へ供給し、成膜ロール１８とターゲット材２０と間に電圧が印加され、ターゲット材２０は、長尺フィルム基材１６の表面に成膜材料を形成する。また、成膜ロール１８の表面は、成膜ロール１８に内蔵されたヒータによって、例えば６０°Ｃに維持される。これにより、長尺フィルム基材１６の表面は、インジウム・スズ酸化物薄膜の成膜が連続的に行われる。

成膜ロール１８の表面の温度は、真空チャンバー１４内の熱電対等によって又は過去の既存データによって認識される。また、巻取ロール３６の表面の温度は、真空チャンバー１４内の熱電対等によって又は過去のデータによって認識される。以下、成膜ロール１８の表面の温度が６０°Ｃであり、巻取ロール３６の表面の温度が２０°Ｃであり、真空チャンバー１４内の最低温度が２０°Ｃであるとして説明する。

長尺フィルム基材１６の表面に成膜が行われる時、温度調節機構３０（１）は、駆動ロール２６（１）の中空部３２に、例えば、５０°Ｃの温水を供給する。また、温度調節機構３０（２）は、駆動ロール２６（２）の中空部３２に、例えば、４０°Ｃの温水を供給する。また、温度調節機構３０（３）は、駆動ロール２６（３）の中空部３２に、例えば、３０°Ｃの温水を供給する。このため、成膜ロール１８の６０°Ｃの表面から熱を吸収し約６０°Ｃに加熱された長尺フィルム基材１６は、５０°Ｃの駆動ロール２６（１）に接触することにより約５０°Ｃに冷却され、４０°Ｃの駆動ロール２６（２）に接触することにより約４０°Ｃに冷却され、３０°Ｃの駆動ロール２６（３）に接触することにより約３０°Ｃに冷却される。

このため、巻取ロール３６の表面の温度が２０°Ｃである場合、約６０°Ｃに加熱された長尺フィルム基材１６は、成膜ロール１８から離脱して巻取ロール３６に巻き取られるまでの間に、４段階で、２０°Ｃまで除除に温度が下がっていく。長尺フィルム基材１６は、段階的に除除に温度が下げられることにより、成膜ロール１８を離脱した長尺フィルム基材１６は、急激に冷却されることはない。このため、成膜ロール１８を離脱した長尺フィルム基材１６が急激に冷却されて変形することはない。

特に、成膜ロール１８から離脱した長尺フィルム基材１６が最初に接触するのは、５０°Ｃに維持された駆動ロール２６（１）であるため、成膜ロール１８を離脱した直後の長尺フィルム基材１６の冷却は、約５０°Ｃへの冷却に規制される。このため、成膜ロール１８を離脱した直後の長尺フィルム基材１６が急激に冷却されて変形することはない。

ここで、温度調節機構３０により温水を供給する下流側搬送ロールは、ガイドロール２８であってもよい。しかし、ガイドロール２８は、駆動手段によって強制的に回転されないため、中空部に温水を供給されることにより、ガイドロール２８の軸受が支持する重量が増加し、一定の回転数で回転することが困難なことがある。このため、ガイドロール２８と長尺フィルム基材１６との間で摩擦が生じ、又は、長尺フィルム基材１６が長手方向に変形するという不具合が生じることも考えられる。これに対して、駆動ロール２６は、駆動ベルト６８によって強制的に回転させるため、一定の回転数で回転し、このような不具合が生じない。このため、温度調節機構３０により温水を供給する下流側搬送ロールは、駆動ロール２６のみであることが好ましい。

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されない。

例えば、本発明のスパッタ装置１０に使用する温度調節機構３０の配管は、上述の配管に限定されない。例えば、図４に示すように、３個の温度調節機構３０（１）、３０（２）、及び３０（３）が別個に構成されるのではなく、３個の温度調節機構３０（１）、３０（２）、及び３０（３）を連結した配管であってもよい。

すなわち、ロータリージョイント３４（３）の出口５６から排出された温水は、タンク７２に一旦溜められる。タンク７２に溜まった温水は、ロータリージョイント３４（２）の入口５４から駆動ロール２６（２）の中空部３２に供給され、ロータリージョイント３４（２）の出口５６から排水される。ロータリージョイント３４（２）の出口５６から排水された温水は、タンク７４に一旦溜められる。タンク７４に溜まった温水は、ロータリージョイント３４（３）の入口５４から駆動ロール２６（３）の中空部３２に供給され、ロータリージョイント３４（３）の出口５６から排水される。

この場合、温度調節機構３０（１）は５０°Ｃの温水４８を駆動ロール２６（１）の中空部３２へ供給し、温度調節機構３０（２）は４０°Ｃの温水４８を駆動ロール２６（２）の中空部３２へ供給し、温度調節機構３０（３）は３０°Ｃの温水４８を、駆動ロール２６（３）の中空部３２へ供給する場合、水を加熱するためのエネルギーを低減できる。すなわち、２０°Ｃの水を使用して温度調節する場合、２０°Ｃの水を温度調節機構３０（３）の温度調節器６２において３０°Ｃまで１０°Ｃの温度差で温度を上げ、温度調節機構３０（２）の温度調節器６２において３０°Ｃの温水を４０°Ｃまで１０°Ｃの温度差で温度を上げ、温度調節機構３０（１）の温度調節器６２において４０°Ｃの温水を５０°Ｃまで１０°Ｃの温度差で温度を上げることができる。これにより、２０°Ｃの水を段階的に加熱して温度調節に利用することにより、温度調節器６２による加熱のためのエネルギーを低減できる。

また、本発明のスパッタ装置１０に使用するロータリージョイントは、図２に示す複式且つ内管固定式のロータリージョイント３４に限定されず、図５に示す単式で且つ内管の無いロータリージョイント８０であってもよい。この場合に使用する駆動ロールは、温水の流れ方向上流側に入口開口部８２を有し、流れ方向下流側に出口開口部８４を有する駆動ロール（下流側搬送ロール）８６である。１個のロータリージョイント８０が入口開口部８２に連結され、他のロータリージョイント８０が出口開口部８４に連結される。このロータリージョイント８０及び駆動ロール８６を使用した場合であっても、駆動ロール８６を回転させながら、入口５４から駆動ロール８６に温水を供給し、出口５６から温水を排出することにより、駆動ロール８６の温度を調節できる。

以上、実施形態について図面に基づいて説明したが、本発明は図示した実施形態に限定されない。例えば、温度調節機構によって温度を略一定に維持する下流側搬送ロールは、３個に限定されず、１個、２個又は４個以上であってもよい。但し、温度を略一定に維持する下流側搬送ロールは、より個数が多く、より多段階に冷却できることが好ましい。また、温度調節機構は、下流側搬送ロールに内蔵された電気式ヒータであってもよい。

本発明に係るスパッタ装置は、例えば、線膨張係数の大きな長尺フィルム基材にスパッタ処理を行う装置として広く利用できる。

１０：スパッタ装置
１４：真空チャンバー
１６：長尺フィルム基材
１８：成膜ロール
２０：ターゲット材
２２：成膜空間
２４：ガス供給機構
２６、８６：駆動ロール（下流側搬送ロール）
２８：ガイドロール（下流側搬送ロール）
３０：温度調節機構
３２：中空部
３４、８０：ロータリージョイント
３６：巻取ロール
４０：原反ロール
４２：ガイドロール（上流側搬送ロール）
４６：真空ポンプ
４８：温水
５０：固定部材
５２：回転部材
５４：入口
５６：出口
６０：温度計
６２：温度調節器
６４：流量計
６６：可変絞り弁
６８：駆動ベルト
７０：内管
７２、７４：タンク
８２：入口開口部
８４：出口開口部

Claims

成膜ロールの表面に沿って搬送される長尺フィルム基材の表面に薄膜を形成するスパッタ装置であり、
真空チャンバーと、
前記真空チャンバー内に回転可能に配置された前記成膜ロールと、
前記真空チャンバー内に配置され、前記成膜ロールの表面に沿って搬送される長尺フィルム基材の表面に成膜材料を形成するターゲット材と、
前記成膜ロールと前記ターゲット材との間の成膜空間にガスを供給するガス供給機構と、
中空部を有し、前記真空チャンバー内において、前記成膜ロールに対して長尺フィルム基材の搬送方向下流側に配置され、前記成膜ロールの表面に沿って搬送された長尺フィルム基材を該搬送方向下流側へ搬送する複数の下流側搬送ロールと、
前記複数の下流側搬送ロールの中の少なくとも、一の下流側搬送ロール及び該一の下流側搬送ロールよりも下流側の他の下流側搬送ロールの二本の下流側搬送ロールに、流体を送り、該一の下流側搬送ロール及び該他の下流側搬送ロールの温度を、８０°Ｃ以下で前記真空チャンバー内の最低温度よりも高い範囲で、略一定に維持する温度調節機構と、を備え
前記温度調節機構は、前記他の下流側搬送ロールの中空部から排出された流体を溜め、前記一の下流側搬送ロールへ送るタンクと、該他の下流側搬送ロールへ送る該流体を加熱する温度調節器と、該タンクから該一の下流側搬送ロールへ送る該流体を加熱する温度調節器と、を備えたスパッタ装置。
前記流体が温水である請求項１に記載するスパッタ装置。
前記温度調節機構により温度を略一定に維持される２本以上の前記下流側搬送ロールは、前記搬送方向下流側へいくに従って、より低温に維持される請求項１又は２に記載するスパッタ装置。
前記温度調節機構が、前記一の下流側搬送ロール及び前記他の下流側搬送ロールの中空部内へ流体を導くロータリージョイント又はスイベルジョイントを有する請求項１〜３のいずれかに記載するスパッタ装置。
前記一の下流側搬送ロール及び前記他の下流側搬送ロールが、駆動手段によって回転する駆動ロールである請求項１〜４のいずれかに記載するスパッタ装置。