JP6651854B2 - シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法 - Google Patents

シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6651854B2
JP6651854B2 JP2015557903A JP2015557903A JP6651854B2 JP 6651854 B2 JP6651854 B2 JP 6651854B2 JP 2015557903 A JP2015557903 A JP 2015557903A JP 2015557903 A JP2015557903 A JP 2015557903A JP 6651854 B2 JP6651854 B2 JP 6651854B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
maleic anhydride
electron
reaction
solvent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015557903A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2015108169A1 (ja
Inventor
淳平 島田
淳平 島田
近藤 光正
光正 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Publication of JPWO2015108169A1 publication Critical patent/JPWO2015108169A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6651854B2 publication Critical patent/JP6651854B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D493/00Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
    • C07D493/02Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D493/04Ortho-condensed systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/12Unsaturated polyimide precursors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)

Description

本発明は、ポリイミド等の原料として有用なシクロブタンテトラカルボン酸誘導体の新規な製造方法に関する。
シクロブタンテトラカルボン酸誘導体は、ポリイミド等の原料として有用な化合物である。当該化合物の製造方法はとしては、無水マレイン酸誘導体の光二量化反応が知られている(特許文献1〜5)。
しかし、特許文献1〜5に開示される無水マレイン酸誘導体の光二量化反応によるシクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法における光反応効率は、たとえ、増感剤を使用しても必ずしも十分ではない。
例えば、特許文献1には、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物(CBDA)の製造方法として、ケトン類などのカルボニル基を有する溶媒中での無水マレイン酸の光二量化反応が開示されている。しかし、特許文献1には、増感剤として用いられるアセトフェノン、ベンゾフェノン、アントラキノン等の使用は効果がなく、むしろ存在しない方が好結果を与えるとの記載がある(特許文献1の(2)頁の下段右欄の末行〜(3)頁の上段左欄の4行)。
上記のように、従来、無水マレイン酸の光二量化反応による1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物(CBDA)の製造方法は、原料の無水マレイン酸が比較的安価であり、かつ製造方法として簡便あり有用ではあるが、光反応効率が十分でなく、目的物の収率で課題を有していた。
また、特許文献2、下記のスキームで表されるように、シトラコン酸無水物(MMAと略す。)の光二量化反応によって、1,3−ジメチルシクロブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物(1,3−DMCBDA)と1,2−ジメチルシクロブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物(1,2−DMCBDA)の混合物が得られることが開示されている。
Figure 0006651854
一方、1,3−DMCBDAと1,2−DMCBDAとの異性体を対比した場合、対称性の高い構造を有する前者の1,3−DMCBDAが、後者の1,2−DMCBDAよりも分子量の高いポリイミドが製造でき、より有用性が高いことが知られている。
しかし、特許文献2には、1,3−DMCBDAと1,2−DMCBDAとの混合物が得られることは記載されているが、有用性の高い前者の1,3−DMCBDAを選択的に、かつ高収率で製造することについての記載はない。
日本特開昭59−212495号公報 日本特開平4−106127号公報 日本特開2003−192685号公報 日本特開2006−347931号公報 日本特開2008−69081号公報
本発明の目的は、下記式(1)で表される無水マレイン酸化合物を光二量化反応させ、高光反応効率で、かつ高収率で、目的とする1,3−ジアルキル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物(以下、1,3−DACBDAともいう。)誘導体を製造できる方法を提供することにある。
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意研究を進めた結果、特定の溶媒を使用した場合、特許文献1などによる従来の開示とは異なり、増感剤の存在下で無水マレイン酸化合物を光二量化反応させることにより、無水マレイン酸化合物の光反応率が向上し、かつ、対称性の高い構造を有する異性体である、1,3−DACBDA誘導体の選択性が向上し、高収率で製造できることを見出した。
本発明は、上記の新規な知見に基づきものであり、下記に記載する要旨を有する。
1.下記式(1)で表される無水マレイン酸化合物を、炭素数1〜4の脂肪酸エステルを含む溶媒中、増感剤の存在下で光二量化反応させることを特徴とする、式(2)で表される1,3−ジアルキル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物誘導体の製造方法。
Figure 0006651854
(式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基を表す。)
2.Rが炭素数1〜6のアルキル基である、上記1に記載の製造方法。
3.溶媒の使用量が、無水マレイン酸化合物に対し3〜300質量倍である、上記1又は2に記載の製造方法。
4.炭素数1〜4の脂肪酸エステルが、式:RCOOR(但し、Rは水素、又は炭素数が好ましくは1〜4のアルキル基であり、Rは炭素数が1〜4のアルキル基である。)で表される脂肪酸アルキルエステルである、上記1〜3のいずれかに記載の製造方法。
5.溶媒が、炭酸ジエステルの副溶媒を含む、上記1〜4のいずれかに記載の製造方法。
6.増感剤が、ベンゾフェノン、アセトフェノン、又はベンズアルデヒドである、上記1〜5のいずれかに記載の製造方法。
7.増感剤が、電子求引性基が置換したベンゾフェノン、電子求引性基が置換したアセトフェノン、又は電子求引性基が置換したベンズアルデヒドである、上記1〜6のいずれかに記載の製造方法。
8.前記電子求引性基が、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ニトロ基、シアノ基、及びトリフルオロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも1種である、上記7に記載の製造方法。
9.電子求引性基の数が1〜5である、上記7又は8に記載の製造方法。
10.増感剤の使用量が、無水マレイン酸化合物に対し0.1〜20モル%である、上記1〜9のいずれかに記載の製造方法。
11.反応温度が、0〜20℃である、上記1〜10のいずれかに記載の製造方法。
本発明によれば、安価な無水マレイン酸化合物原料にし、これを光反応率で光二量化反応させることにより、特許文献1などによる従来の開示とは異なり、増感剤の存在下で無水マレイン酸化合物を光二量化反応させることにより、無水マレイン酸化合物の光反応率が向上し、かつ、対称性の高い構造を有する異性体である、1,3−DACBDA誘導体の選択性が向上し、これを高収率で製造することができる。
本発明の実施例1、比較例1、2における、光照射時間とシトラコン酸無水物残存量の相関を示すグラフである。
式(1)で表される無水マレイン酸化合物の光二量化反応による、式(2)で表される1,3−ジアルキル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物誘導体の製造方法は、下記の反応スキームで表される。
Figure 0006651854
式中、Rは炭素数1〜20、好ましくは1〜12、より好ましくは1〜6のアルキル基を表し、特にメチルが好ましい。
炭素数1〜20のアルキル基としては、直鎖状若しくは分岐状の飽和アルキル基、又は直鎖状若しくは分岐状の不飽和アルキル基のいずれでもよい。
その具体例としては、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、1−メチル−n−ブチル、2−メチル−n−ブチル、3−メチル−n−ブチル、1,1−ジメチル−n−プロピル、n−ヘキシル、1−メチル−n−ペンチル、2−メチル−n−ペンチル、1,1−ジメチル−n−ブチル、1−エチル−n−ブチル、1,1,2−トリメチル−n−プロピル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル、n−ドデシル、n−エイコシル、1−メチルビニル、2−アリル、1−エチルビニル、2−メチルアリル、2−ブテニル、2−メチル−2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、3−メチル−3−ブテニル、2−ヘキセニル、4−メチル−3−ペンテニル、4−メチル−4−ペンテニル、2,3−ジメチル−2−ブテニル、1−エチル−2−ペンテニル、3−ドデセニル、プロパルギル、3−ブチニル、3−メチル−2−プロピニル、9−デシニル等が挙げられる。
なお、nはノルマルを、iはイソを、sはセカンダリーを、tはターシャリーを、それぞれ表す。
式(1)で表される無水マレイン酸化合物の一例としては、無水シトラコン酸、2−エチル無水マレイン酸、2−イソプロピル無水マレイン酸、2−n−ブチル無水マレイン酸、2−t−ブチル無水マレイン酸、2−n−ペンチル無水マレイン酸、2−n−ヘキシル無水マレイン酸、2−n−ヘプチル無水マレイン酸、2−n−オクチル無水マレイン酸、2−n−ノニル無水マレイン酸、2−n−デシル無水マレイン酸、2−n−ドデシル無水マレイン酸、2−n−エイコシル無水マレイン酸、2−(1−メチルビニル)無水マレイン酸、2−(2−アリル)無水マレイン酸、2−(1−エチルビニル)無水マレイン酸、2−(2−メチルアリル)無水マレイン酸、2−(2−ブテニル)無水マレイン酸、2−(2−ヘキセニル)無水マレイン酸、2−(1−エチル−2−ペンテニル)無水マレイン酸、2−(3−ドデセニル)無水マレイン酸、2−プロパルギル無水マレイン酸、2−(3−ブチニル)無水マレイン酸、2−(3−メチル−2−プロピニル)無水マレイン酸、2−(9−デシニル)無水マレイン酸等が挙げられる。光反応が効率よく進行することから、なかでも、無水シトラコン酸、2−エチル無水マレイン酸、2−イソプロピル無水マレイン酸、2−n−ブチル無水マレイン酸、2−t−ブチル無水マレイン酸、2−n−ペンチル無水マレイン酸、2−n−ヘキシル無水マレイン酸、2−n−ヘプチル無水マレイン酸、2−n−オクチル無水マレイン酸、2−n−ノニル無水マレイン酸、2−n−デシル無水マレイン酸、又は2−n−ドデシル無水マレイン酸等が好ましく、無水シトラコン酸、2−エチル無水マレイン酸、2−イソプロピル無水マレイン酸、2−n−ブチル無水マレイン酸、2−t−ブチル無水マレイン酸、2−n−ペンチル無水マレイン酸、又は2−n−ヘキシル無水マレイン酸がより好ましい。
本発明の光反応は、(光)増感剤を反応系内に添加し、増感剤の存在下で行われる。増感剤としては、光増感作用のあるものでるならばいずれでもよいが、ベンゾフェノン、ベンズアルデヒド、アントラキノンなどが挙げられる。
増感剤として、なかでも、電子求引性基が置換したベンゾフェノン、電子求引性基が置換したアセトフェノン、又は電子求引性基が置換したベンズアルデヒドの使用が特に好ましい。この場合の電子求引性基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ニトロ基、シアノ基、及びトリフルオロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも1種が挙げられ、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基、又はトリフルオロメチル基が好ましい。特に好ましい電子求引性基としては、フルオロ基又はクロロ基である。電子求引性基の数は、1〜10個であるが、1〜5個が好ましく、1〜3個が特に好ましい。
増感剤である、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンズアルデヒド、又はベンズアルデヒドにおける、電子求引性基の置換位置としては、カルボニル基に対してオルト位、メタ位、パラ位が挙げられるが、オルト位又はパラ位が好ましい。電子求引性基の数が2以上の場合は、電子求引性基は同一でも、それぞれ異なるものであってもよい。また、オルト位で電子求引性の効果があるカルボニル基が架橋する場合(アントラキノン)でもよい。
ベンゾフェノン、又は電子求引性基が置換したベンゾフェノンの具体例としては、ベンゾフェノン、2−フルオロベンゾフェノン、3−フルオロベンゾフェノン、4−フルオロベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、3−クロロベンゾフェノン、4−クロロベンゾフェノン、2−シアノベンゾフェノン、3−シアノベンゾフェノン、4−シアノベンゾフェノン、2−ニトロベンゾフェノン、3−ニトロベンゾフェノン、4−ニトロベンゾフェノン、2,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ジフルオロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ジブロモベンゾフェノン、3,3’−ビス(トリフルオロメチル)ベンゾフェノン、3,4’−ジニトロベンゾフェノン、3,3’−ジニトロベンゾフェノン、4,4’−ジニトロベンゾフェノン、2−クロロ−5−ニトロベンゾフェノン、1,3−ビス(4−フルオロベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−クロロベンゾイル)ベンゼン、2,6−ジベンゾイルベンゾニトリル、1,3−ジベンゾイル−4,6−ジニトロベンゼン、アントラキノン等が挙げられる。なかでも、4,4’−ジフルオロベンゾフェノン、又は4,4’−ジクロロベンゾフェノンが好ましい。
アセトフェノン、又は電子求引性基が置換したアセトフェノンの具体例としては、アセトフェノン、2’−フルオロアセトフェノン、3’−フルオロアセトフェノン、4’−フルオロアセトフェノン、2’−クロロアセトフェノン、3’−クロロアセトフェノン、4’−クロロアセトフェノン、2’−シアノアセトフェノン、3’−シアノアセトフェノン、4’−シアノアセトフェノン、2’−ニトロアセトフェノン、3’−ニトロアセトフェノン、4’−ニトロアセトフェノン、2’,4’−ジフルオロアセトフェノン、3’,4’−ジフルオロアセトフェノン、2’,4’−ジクロロアセトフェノン、3’,4’−ジクロロアセトフェノン、4’−クロロ−3’−ニトロアセトフェノン、4’−ブロモ−3’−ニトロアセトフェノン、4’−フルオロ−3’−ニトロアセトフェノン等が挙げられる。なかでも、4’−フルオロアセトフェノン、4’−クロロアセトフェノン、2’,4’−ジフルオロアセトフェノン、3’,4’−ジフルオロアセトフェノン、2’,4’−ジクロロアセトフェノン、又は3’,4’−ジクロロアセトフェノンが好ましい。
ベンズアルデヒド、又は電子求引性基が置換したベンズアルデヒドとしては、ベンズアルデヒド、2−フルオロベンズアルデヒド、3−フルオロベンズアルデヒド、4−フルオロベンズアルデヒド、2−クロロベンズアルデヒド、3−クロロベンズアルデヒド、4−クロロベンズアルデヒド、2−シアノベンズアルデヒド、3−シアノベンズアルデヒド、4−シアノベンズアルデヒド、2−ニトロベンズアルデヒド、3−ニトロベンズアルデヒド、4−ニトロベンズアルデヒド、2,4−ジフルオロベンズアルデヒド、3,4−ジフルオロベンズアルデヒド、2,4−ジクロロベンズアルデヒド、3,4−ジクロロベンズアルデヒド、2−クロロ−5−ニトロベンズアルデヒド、4−クロロ−2−ニトロベンズアルデヒド、4−クロロ−3−ニトロベンズアルデヒド、5−クロロ−2−ニトロベンズアルデヒド、2−フルオロ−5−ニトロベンズアルデヒド、4−フルオロ−3−ニトロベンズアルデヒド、5−フルオロ−2−ニトロベンズアルデヒド等が挙げられる。なかでも4−フルオロベンズアルデヒド、4−クロロベンズアルデヒド、2,4−ジフルオロベンズアルデヒド、3,4−ジフルオロベンズアルデヒド、2,4−ジクロロベンズアルデヒド、又は3,4−ジクロロベンズアルデヒドが好ましい。
使用する増感剤の量は、光反応速度が加速する量であればよいが、好ましくは、無水マレイン酸化合物に対し0.1〜20モル%、より好ましくは0.1〜5モル%である。増感剤の使用は、1種の増感剤単独でもよいが、2種以上を共存させて使用してもよい。反応後の処理のし易さからは、単独での使用が好ましい。
本発明の光反応では、反応溶媒として、光反応速度が加速することから、炭素数1〜4の脂肪酸エステルを使用することが必須である。炭素数1〜4、好ましくは1〜2の脂肪酸エステルは、式:RCOOR(但し、Rは水素、又は炭素数が好ましくは1〜4、より好ましくは1又は2のアルキル基であり、Rは炭素数が1〜4、より好ましくは1〜3のアルキル基である。)で表される脂肪酸アルキルエステルが好適である。好ましい具体例としては、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸n−プロピル、ギ酸i−プロピル、ギ酸n−ブチル、ギ酸i−ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n−プロピル、プロピオン酸i−プロピル、プロピオン酸n−ブチル、又はプロピオン酸i−ブチルが挙げられる。特に、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n−プロピル、又はプロピオン酸i−プロピルが好ましい。これらの1種又は2種以上が使用できる。
なお、反応溶媒として、炭素数1〜4の脂肪酸エステルを単独で用いることもできるが、それ以外の副溶媒を用いることができる。この場合に用いられる副溶媒としては、(1)高い光増感効果を有するカルボニル化合物であること、(2)原料の無水マレイン酸化合物の溶解度が高く、生成したCBDA誘導体化合物の分解反応を抑制するためにCBDA誘導体化合物の溶解度が低い、(3)副生物の溶解度が高く、同一溶媒の洗浄のみでCBDA誘導体化合物を精製できること、(4)引火性の危険があるような低沸点でなく、且つCBDA誘導体化合物製品に残余させないために沸点が100℃前後の化合物である、(5)環境に安全であること、(6)光反応中も安定である、(7)安価である、等を満足するのが好ましい。
これらの観点から、副溶媒の具体例としては、炭酸ジエステルが好ましく、特に、アルキルの炭素数が好ましくは1〜3、より好ましくは1又は2の炭酸ジアルキルエステルが好適である。その好ましい例は、炭酸ジメチル、又は炭酸ジエチルであり、特に好ましいのは炭酸ジエチル又は炭酸ジメチルである。副溶媒としては、エチレングリコールジホルメート、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジプロピオネート、プロピレングリコールジホルメート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジプロピオネート、ブチレングリコールジアセテート等のグリコールジエステルも使用できる。
本発明で炭素数1〜4の脂肪酸エステルを反応溶媒として使用する製造方法の優れた特長の1つは、原料の無水マレイン酸化合物の溶解度が高いにも拘わらず、生成したCBDA誘導体化合物の溶解度が低く、目的化合物が結晶として反応中に析出し易い。このため、CBDA誘導体化合物からの無水マレイン酸化合物への逆反応やオリゴマー生成等の副反応を抑制することができる点である。
反応溶媒の使用量は、無水マレイン酸化合物に対し3〜300質量倍、より好ましくは4〜250質量倍である。上記溶媒は、それぞれの溶媒を単独で、又は2種以上を併用してもよいが、反応後の処理のしやすさから、単独で使用することが好ましい。副溶媒を使用する場合、副溶媒は、炭素数1〜4の脂肪酸エステルルに対して、質量基準で、好ましくは0.1〜100質量倍、より好ましくは0.1〜10質量倍である。副溶媒の使用量が多すぎると、目的化合物が反応液中に溶解してしまい、回収率が低下するので好ましくない。
なお、反応溶媒の使用量は少ない方が好ましく、例えば、無水マレイン酸化合物の濃度が高く、反応が速くなり、時間あたりの生成物の収量が多くなる。従って、反応速度を高くしたい場合や、生成物の収量を多くしたい場合は、溶媒の使用量は無水マレイン酸化合物に対して3〜10質量倍が好ましい。
本光反応では、光の波長が200〜400nm、より好ましく250〜350nm、特に好ましくは280〜330nmである。光源は、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、無電極ランプ、発光ダイオード等が使用される。なかでも、高収率でCBDA誘導体化合物を与えることから、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、又は発光ダイオードが好ましく用いられる。
更に、光化学反応装置として、光源冷却管を石英ガラスからパイレックス(登録商標)ガラスに変えることにより、光源冷却管への着色ポリマー付着や不純物が減少し、CBDA誘導体化合物の収率改善が見られる。
反応温度は、高温になると重合物が副生し、又低温になると無水マレイン酸化合物の溶解度が低下し生産効率が減少することから、−20〜80℃で行うことが好ましく、更に好ましくは−10〜50℃である。特に0〜20℃の温度範囲では、副生物の生成が大幅に抑制され、高い選択率及び収率でCBDA誘導体化合物が得られる。
反応時間は、光源の種類、照射量等によっても変わるが、未反応の無水マレイン酸化合物が0〜40%、好ましくは0〜10%に達するまでの時間で行なうことができる。反応時間は、通常、1〜200時間であるが、場合により1〜60時間時間にすることができる。
反応時間が長くなり、無水マレイン酸化合物の転化率が上がり、CBDA誘導体化合物の析出量が多くなると、生成したCBDA誘導体化合物が、光源冷却管の外壁(反応液側)に付着し始め、分解反応の併発による結晶の着色化、光効率(単位電力x時間当たりの収率)の低下がみられる。従って、無水マレイン酸化合物の転化率を上げるために、1バッチで長時間かけることは、実用上、生産効率の低下を伴い好ましくない。
反応はバッチ式又は流通式で行うことが可能であるが、バッチ式が好ましく用いられる。また、反応時の圧力は、常圧でも加圧でもよいが、好ましくは、常圧である。
目的化合物であるCBDA誘導体化合物は、光反応後、反応液中の析出物をろ過し、ろ取物を有機溶媒にて洗浄した後、減圧乾燥することにより得られる。
ろ取物の洗浄に使用する有機溶媒の量は、反応槽内に残存した析出物をろ過器へ移送できる量であればよいが、有機溶媒の量が多い場合には、目的化合物がろ液へ移行してしまい回収率が低下する。このため、ろ取物の洗浄に使用する有機溶媒の量は、反応に使用した無水マレイン酸化合物に対し、0.5〜10重量倍が好ましく、より好ましくは1〜2重量倍である。
ろ取物の洗浄に使用する有機溶媒としては、特に限定されないが、生成物の溶解度の高い溶媒の使用は、目的化合物がろ液へ移行してしまい回収率が低下するため好ましくない。このため、ろ取物の洗浄に使用する有機溶媒としては、光二量化反応に使用する反応溶媒である、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸n−プロピル、ギ酸i−プロピル、ギ酸n−ブチル、ギ酸i−ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n−プロピル、プロピオン酸i−プロピル、プロピオン酸n−ブチル、プロピオン酸i−ブチル、エチレングリコールジホルメート、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジプロピオネート、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等や、生成物を溶解せず、生成物と反応しない溶媒、例えば、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、アセトニトリル、アセトン、クロロホルム、無水酢酸、これらの混合溶媒などが挙げられる。なかでも、酢酸エチル、炭酸ジメチル、無水酢酸などが好ましく、より好ましくは酢酸エチル又は炭酸ジメチルである。
以下に実施例を挙げ、本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、実施例で用いた分析法は以下の通りである。
<GCサンプリング方法>
反応液を少量採取し、固体が析出していない場合はGC分析する。固体が析出している場合は、ろ過で固体を除去した後、ろ液をGC分析する。
<GC分析方法>
ガスクロマトグラフィーでの定量分析により、無水シトラコン酸及び乳酸ブチルのそれぞれの面積値から面積比(無水シトラコン酸の面積値/乳酸ブチルの面積値)を算出する。光照射前の反応液から得られた面積比を100%とし、各照射時間における反応液の面積比から無水シトラコン酸の残存率(各照射時間における面積比/光照射前の面積比×100)を算出する。
<GC分析条件>
装置 :GC−2010 Plus(SHIMADZU社製)、
カラム :DB−1(アジレント・テクノロジー社製) 0.25 mm×30 m、膜厚0.25 um、
キャリアガス:He 、検出器:FID 、試料注入量:1 um 、注入口温度:160℃ 、検出器温度:220℃ 、カラム温度:70℃(20min)−40℃/min−220℃(15min) 、スプリット比:1:50 、内部標準物質:乳酸ブチル。
1H NMRサンプリング方法>
光照射後に取り出した結晶は、減圧乾燥後に測定する。また、ろ液及び洗浄液は、減圧乾燥で溶媒留去した後、残渣を測定する。
1H NMR分析方法>
1,3−DM−CBDAの3.89 ppmの積分値を基準にして、1,2−DM−CBDAの3.72 ppmの積分値と比較し、選択率は算出する。具体的には、1,3−DM−CBDA及び1,2−DM−CBDA の積分値の和を100%として、各割合([1,3−DM−CBDAの積分値]又は[1,2−DM−CBDAの積分値]/[1,3−DM−CBDA及び1,2−DM−CBDA の積分値の和]×100)を算出する。
1H NMR分析条件>
装置 :フーリエ変感型超伝導核磁気共鳴装置(FT−NMR)INOVA−400(Varian社製) 400 MHz、
溶媒:DMSO−d6 、内標準物質:テトラメチルシラン(TMS)。
比較例1
Figure 0006651854
窒素雰囲気下、300 mLパイレックス(登録商標)ガラス製5口フラスコに、無水シトラコン酸(CA)35.0 g (312 mmol)、及び酢酸エチル152 g(1720 mmol、無水シトラコン酸(CA)に対して4.33 wt倍)を仕込み、マグネチックスターラーで攪拌させて溶解させた。その後、5−10℃で撹拌しながら、100W高圧水銀灯を照射した。
上記の分析方法により、各照射時間における反応液中の無水シトラコン酸の残存率を算出した。
実施例1
Figure 0006651854
窒素雰囲気下、300 mLパイレックス(登録商標)ガラス製5口フラスコに、無水シトラコン酸(CA)35.0 g (312 mmol)、ベンゾフェノン(BP)0.290 g (1.59 mmol、無水シトラコン酸(CA)に対して0.5 mol%)、及び酢酸エチル152 g(1720 mmol、無水シトラコン酸(CA)に対して4.33 wt倍)を仕込み、マグネチックスターラーで攪拌させて溶解させた。その後、5−10℃で撹拌しながら、100W高圧水銀灯を照射した。
上記の分析方法により、各照射時間における反応液中の無水シトラコン酸の残存率を算出した。
実施例2
Figure 0006651854
窒素雰囲気下、300 mLパイレックス(登録商標)ガラス製5口フラスコに、シトラコン酸無水物(CA)35.0 g (312 mmol)、4,4’−ジクロロベンゾフェノン(DClBP)0.392 g (1.56 mmol、シトラコン酸無水物(CA)に対して0.5 mol%)、及び酢酸エチル152 g(1720 mmol、シトラコン酸無水物(CA)に対して4.33 wt倍)を仕込み、マグネチックスターラーで攪拌させて溶解させた。その後、5−10℃で撹拌しながら、100W高圧水銀灯を照射した。
上記の分析方法により、各照射時間における反応液中のシトラコン酸無水物の残存率を算出した。比較例1及び実施例1〜2で得られた結果を、表1及び図1のグラフに示す。
Figure 0006651854
比較例2
比較例1と同様に光二量化反応を実施した。析出した白色結晶を5〜10℃にてろ過により取り出した。この結晶を、酢酸エチル43.8 g(497 mmol、無水シトラコン酸(CA)に対して1.25 wt倍)で2回洗浄した。次いで、減圧乾燥して、白色結晶5.8 g(収率16.6%)を得た。この結晶は、1H NMR解析により、1,3−DM−CBDAと1,2−DM−CBDAを含む混合物(1,3−DM−CBDA:1,2−DM−CBDA = 92.4:7.6)であることを確認した。また、得られた結晶、ろ液、及び洗浄液を、それぞれ1H NMR解析及びガスクロマトグラフィーで定量分析した結果、仕込量に対するマスバランスは93.1%であった。
1H NMR ( DMSO−d6, δ ppm ) ( 1,3−DM−CBDA ): 1.38 ( s, 6H ), 3.89 ( s, 2H ).
1H NMR ( DMSO−d6, δ ppm ) ( 1,2−DM−CBDA ): 1.37 ( s, 6H ), 3.72 ( s, 2H ).
実施例3
実施例1と同様に光二量化反応を実施した。析出した白色結晶を5−10℃にてろ過により取り出した。この結晶を、酢酸エチル43.8 g(497 mmol、無水シトラコン酸(CA)に対して1.25 wt倍)で2回洗浄した。次いで、減圧乾燥して、白色結晶8.8 g(収率25.2%)を得た。この結晶は、1H NMR解析により、1,3−DM−CBDAと1,2−DM−CBDAを含む混合物(1,3−DM−CBDA:1,2−DM−CBDA = 85.0:15.0)であることを確認した。また、得られた結晶、ろ液、及び洗浄液を、それぞれ1H NMR解析及びガスクロマトグラフィーで定量分析した結果、仕込量に対するマスバランスは88.0%であった。
1H NMR ( DMSO−d6, δ ppm ) ( 1,3−DM−CBDA ): 1.38 ( s, 6H ), 3.89 ( s, 2H ).
1H NMR ( DMSO−d6, δ ppm ) ( 1,2−DM−CBDA ): 1.37 ( s, 6H ), 3.72 ( s, 2H ).
実施例4
実施例2と同様に光二量化反応を実施した。析出した白色結晶を5−10℃にてろ過により取り出した。この結晶を、酢酸エチル43.8 g(497 mmol、シトラコン酸無水物(CA)に対して1.25 wt倍)で2回洗浄した。次いで、減圧乾燥して、白色結晶8.0 g(収率22.8%)を得た。この結晶は、1H NMR解析により、1,3−DM−CBDAと1,2−DM−CBDAを含む混合物(1,3−DM−CBDA:1,2−DM−CBDA = 86.5:13.5)であることを確認した。また、得られた結晶、ろ液、及び洗浄液を、それぞれ1H NMR解析及びガスクロマトグラフィーで定量分析した結果、仕込量に対するマスバランスは95.7%であった。
1H NMR ( DMSO−d6, δ ppm ) ( 1,3−DM−CBDA ): 1.38 ( s, 6H ), 3.89 ( s, 2H ).
1H NMR ( DMSO−d6, δ ppm ) ( 1,2−DM−CBDA ): 1.37 ( s, 6H ), 3.72 ( s, 2H ).
本発明で得られるシクロブタンテトラカルボン酸誘導体は、ポリアミック酸、ポリイミド等の原料として有用な化合物であり、該ポリイミド等は液晶パネルを用いたテレビ等のディスプレイの分野や、半導体分野において用いられる樹脂組成物として産業上、利用される。
なお、2014年1月17日に出願された日本特許出願2014−007187号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (11)

  1. 下記式(1)で表される無水マレイン酸化合物を、式:R COOR (但し、R は炭素数1のアルキル基であり、R は炭素数1〜4のアルキル基である。)で表される脂肪酸アルキルエステルを含む溶媒中、増感剤の存在下で光二量化反応させることを特徴とする、式(2)で表される1,3−ジアルキル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物誘導体の製造方法。
    Figure 0006651854
    (式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基を表す。)
  2. Rが炭素数1〜6のアルキル基である、請求項1に記載の製造方法。
  3. 溶媒の使用量が、無水マレイン酸化合物に対し3〜300質量倍である、請求項1又は2に記載の製造方法。
  4. 脂肪酸アルキルエステルが酢酸エチルである、請求項請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
  5. 溶媒が、炭酸ジエステルの副溶媒を含む、請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
  6. 増感剤が、ベンゾフェノン、アセトフェノン、又はベンズアルデヒドである、請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。
  7. 増感剤が、電子求引性基が置換したベンゾフェノン、電子求引性基が置換したアセトフェノン、又は電子求引性基が置換したベンズアルデヒドである、請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法。
  8. 前記電子求引性基が、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ニトロ基、シアノ基、及びトリフルオロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項7に記載の製造方法。
  9. 電子求引性基の数が1〜5である、請求項7又は8に記載の製造方法。
  10. 増感剤の使用量が、無水マレイン酸化合物に対し0.1〜20モル%である、請求項1〜9のいずれかに記載の製造方法。
  11. 反応温度が、0〜20℃である、請求項1〜10のいずれかに記載の製造方法。
JP2015557903A 2014-01-17 2015-01-16 シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法 Active JP6651854B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014007187 2014-01-17
JP2014007187 2014-01-17
PCT/JP2015/051148 WO2015108169A1 (ja) 2014-01-17 2015-01-16 シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2015108169A1 JPWO2015108169A1 (ja) 2017-03-23
JP6651854B2 true JP6651854B2 (ja) 2020-02-19

Family

ID=53543052

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015557903A Active JP6651854B2 (ja) 2014-01-17 2015-01-16 シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6651854B2 (ja)
KR (2) KR20210149881A (ja)
CN (2) CN105916865B (ja)
TW (1) TWI649323B (ja)
WO (1) WO2015108169A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105916866B (zh) * 2014-01-17 2018-08-28 日产化学工业株式会社 环丁烷四羧酸衍生物的制造方法
JP6939263B2 (ja) * 2017-08-29 2021-09-22 Jsr株式会社 シクロブタン誘導体の製造方法
JP7209808B2 (ja) * 2019-03-27 2023-01-20 富士フイルム株式会社 環状ブタン化合物の製造方法、光増感剤、及びピラゾール化合物
CN118164995B (zh) * 2024-02-29 2024-09-13 广东聚石科技研究院有限公司 一种高纯度1,3-二甲基-1,2,3,4-环丁烷四甲酸二酐的制备方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4017313A (en) * 1974-09-30 1977-04-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive composition containing a leuco dye, a photosensitizer, an aromatic aldehyde and a secondary or tertiary amine and the use thereof in a direct-print process
JPS59212495A (ja) 1983-05-19 1984-12-01 Nissan Chem Ind Ltd 1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2「い」3,4−ジ無水物の製造方法
JPS606726A (ja) * 1983-06-25 1985-01-14 Nissan Chem Ind Ltd 新規ポリイミド樹脂及びその製造法
JP2923007B2 (ja) 1990-08-28 1999-07-26 チッソ株式会社 溶媒可溶性ポリイミド、その製造法及びカラーフィルター用材料
JP4852206B2 (ja) 2001-12-26 2012-01-11 日産化学工業株式会社 シクロブタンテトラカルボン酸二無水物化合物の製造法
TW200527081A (en) * 2003-11-26 2005-08-16 Nissan Chemical Ind Ltd Liquid crystal alignment treating agent for vertical alignment and liquid crystal display
JP4788108B2 (ja) * 2004-05-25 2011-10-05 日産化学工業株式会社 低誘電率、低線熱膨張係数、高透明性、高ガラス転移温度を併せ持つポリイミドとその前駆体
JP2006328027A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Nof Corp シクロブタンテトラカルボン酸二無水物類の製造方法
JP2006347931A (ja) 2005-06-15 2006-12-28 Nissan Chem Ind Ltd ジアルキルシクロブタン酸二無水物及びその製造法
JP4998686B2 (ja) 2006-09-12 2012-08-15 Jsr株式会社 環状化合物の製造法
KR100902159B1 (ko) * 2007-06-13 2009-06-10 한국화학연구원 저온공정용 치환체를 가지는 지방족 고리계 가용성폴리이미드 광배향막 및 이를 이용한 액정 셀
CN101463120B (zh) * 2009-01-13 2010-10-06 北京市射线应用研究中心 一种制备聚氨酯酰亚胺泡沫材料的方法
CN102934012B (zh) * 2010-03-31 2016-05-25 日产化学工业株式会社 液晶取向剂、液晶取向膜和液晶显示元件
CN105916864B (zh) * 2014-01-17 2018-07-06 日产化学工业株式会社 环丁烷四羧酸衍生物的制造方法
CN105916866B (zh) * 2014-01-17 2018-08-28 日产化学工业株式会社 环丁烷四羧酸衍生物的制造方法
CN110590798A (zh) * 2014-01-17 2019-12-20 日产化学工业株式会社 环丁烷四羧酸衍生物的制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015108169A1 (ja) 2015-07-23
TW201542561A (zh) 2015-11-16
TWI649323B (zh) 2019-02-01
JPWO2015108169A1 (ja) 2017-03-23
KR20160107175A (ko) 2016-09-13
KR20210149881A (ko) 2021-12-09
CN110105367A (zh) 2019-08-09
CN105916865B (zh) 2019-06-25
CN105916865A (zh) 2016-08-31
KR102492874B1 (ko) 2023-01-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6651854B2 (ja) シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法
JP6565685B2 (ja) シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法
JP6565687B2 (ja) シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法
JP6884767B2 (ja) N−メチル−n−ニトロソ化合物を使用したオレフィンのシクロプロパン化のためのプロセス
JP6565686B2 (ja) シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法
JP6919745B2 (ja) 高純度の1,3−ジアルキルシクロブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物の製造方法
JP6427787B2 (ja) デヒドロリナリルアセテートの製造方法(ii)
Mehrabi Ultrasound-assisted synthesis of aromatic 1, 2-diketones from oximinoketones under neutral conditions in aqueous media
JP2018123127A (ja) アルケニル化合物の合成方法及び製造方法
RU2309937C1 (ru) Способ получения 3-бромадамантил-1-алкил(арил)кетонов
JP6350910B2 (ja) アジドアミン誘導体の製造方法
JP2014031352A (ja) 2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン類の製造方法
JP2011184327A (ja) アシルシランの製造方法
JP2013043840A (ja) ビニル酢酸の製造方法、ビニル酢酸誘導体及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160722

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20171227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190122

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20190322

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190806

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190918

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20191224

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200106

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6651854

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151