JP7209808B2 - 環状ブタン化合物の製造方法、光増感剤、及びピラゾール化合物 - Google Patents
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Description
本開示の一実施形態によれば、環状ブタン化合物を高収率で製造できる環状ブタン化合物の製造方法が提供される。
本開示の他の実施形態によれば、光環化反応の効率を高め、環状ブタン化合物を高収率で製造できる光増感剤が提供される。
本開示の他の実施形態によれば、新規のピラゾール化合物が提供される。
<1> 下記の式1a又は式1bで表される化合物の存在下、不飽和化合物の[2+2]光環化反応を行うことを含む、環状ブタン化合物の製造方法である。
<2> [2+2]光環化反応が、不飽和化合物として下記式2で表されるマレイン酸無水物を二量化し、下記の式3a又は式3bで表される化合物群から選ばれる1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体を生成する反応である、<1>に記載の製造方法である。
<3> R4及びR5が、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す<2>に記載の製造方法である。
<4> R4及びR5が、水素原子である<2>又は<3>に記載の製造方法である。
<5> 式1a又は式1bで表される化合物が、下記の式4a、式4b、式5a、式5b、式5c、式5d、式6a、又は式6bで表される化合物群から選ばれる少なくとも1つの化合物である、<1>~<4>のいずれか1つに記載の製造方法である。
<7> R1は、電子求引性基が置換したフェニル基、又はピラゾール基を表す、<6>に記載の製造方法である。
<8> 式1a又は式1bで表される化合物が、下記の式8a、式8b、式9a、又は式9bで表される化合物群から選ばれる少なくとも一つの化合物である<1>~<7>のいずれか1つに記載の製造方法である。
<9> 式1a又は式1bで表される化合物が、式8a又は式9aで表される化合物である、<8>に記載の製造方法である。
<10> 式1a又は式1bで表される化合物が、下記の式9c又は式10で表される化合物である、<1>~<9>のいずれか1つに記載の製造方法である。
<11> 電子求引性基が、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、及びアシル基からなる群より選ばれる少なくとも1種である、<7>~<10>のいずれか1つに記載の製造方法である。
<12> 式1a又は式1bで表される化合物の合計の使用量は、不飽和化合物に対して0.05モル%~40モル%の範囲である、<1>~<11>のいずれか1つに記載の製造方法である。
<13> 反応溶媒中で[2+2]光環化反応を行う<1>~<12>のいずれか1つに記載の製造方法である。
<14> 反応溶媒が、有機カルボン酸エステル、有機カルボン酸無水物、又は炭酸エステルである<13>に記載の製造方法である。
<15> 反応溶媒が、酢酸エチル、炭酸ジメチル、又は炭酸エチルである<13>又は<14>に記載の製造方法である。
<16> 反応温度が、-10℃~30℃である<1>~<15>のいずれか1つに記載の製造方法である。
<17> 上記[2+2]光環化反応を行い、[2+2]光環化反応により生成された環状ブタン化合物を、[2+2]光環化反応後の反応液の濾過により除去し、濾液中に含まれる未反応の不飽和化合物と別に用意した不飽和化合物とを混合して不飽和化合物の[2+2]光環化反応に供することを繰り返す、<1>~<16>のいずれか1つに記載の製造方法である。
本開示の他の実施形態によれば、光環化反応の効率を高め、環状ブタン化合物を高収率で製造できる光増感剤が提供される。
本開示の他の実施形態によれば、新規のピラゾール化合物が提供される。
以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
本開示において段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示の環状ブタン化合物の製造方法は、式1a又は式1bで表される化合物の存在下、不飽和化合物の[2+2]光環化反応を行うことを含む。
環状ブタン化合物の製造過程で特定の複素5員環構造を有する化合物が用いられることで、不飽和化合物の[2+2]光環化反応(以下、単に「光環化反応」ということもある。)が促進され、反応生成物である環状ブタン化合物の収率が高くなる。
本明細書では、シクロブタン化合物の製造を中心に説明する。
本開示では、特定の複素5員環構造を有する化合物の存在下で光二量化反応を行うため、不飽和化合物の光環化反応が効率良く進行し、目的とする反応生成物の収率が高い。
即ち、反応機構としては、励起された不飽和化合物と基底状態にある不飽和化合物とが反応して環状ブタン化合物が形成されているものと推測される。
以下、不飽和化合物として無水マレイン酸を、増感剤としてピラゾール化合物の存在下で反応させた場合を例に、反応機構について具体的に説明する。
この場合、反応機構として、励起された無水マレイン酸と基底状態にある無水マレイン酸とが反応([2+2]光環化反応)することで、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物が形成されているものと考えられる。増感剤が励起状態の無水マレイン酸と相互作用を起こすと、励起された無水マレイン酸と基底状態の無水マレイン酸との反応性が低下しやすい。これに対して、本開示では、式1a又は式1bで表される化合物が存在することで、上記相互作用が低減され、結果として、[2+2]光環化反応の反応性が向上するものと推測される。
そして、相互作用の低減には、式1a又は式1bで表される化合物における電子求引性の基が寄与していると推定される。例えばピラゾール化合物の場合には、ピラゾール環上の窒素原子が上記相互作用が小さく抑えられる置換基で置換されると、反応効率がより向上し、反応生成物の収率が効果的に高められるものと推定される。
A1は、C(R2)が好ましい。
A2は、N又はC(R2)が好ましく、Nがより好ましい。
A3は、N(R3)が好ましい。
A4は、N又はC(R2)が好ましく、C(R2)がより好ましい。
ハロゲン原子(例:フッ素原子、臭素原子、及びヨウ素原子)、アルキル基(例:メチル基、エチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、及びトリフェニルメチル基;好ましい炭素数は1~20(より好ましくは1~10)である)、アルケニル基(例:エテニル基、プロペニル基、及びブテニル基;好ましい炭素数は2~20(より好ましくは2~10)である)、フルオロアルキル基(例:フルオロメチル基、フルオロエチル基、パーフルオロメチル基、及びパーフルオロエチル;好ましい炭素数は1~20(より好ましくは1~10)である)、アラルキル基(例:フェニルメチル基、フェニルエチル基、及びトリチル基(トリフェニルメチル基);好ましい炭素数は7~20(より好ましくは7~12)である)、アルコキシ基(例:メトキシ基、エトキシ基、及びプロポキシ基、好ましい炭素数は1~20(より好ましくは1~10)である)、アリール基(例:フェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、トリクロロフェニル基、メチルフェニル基、2,3-ジメチルフェニル基、及びナフチル基;好ましい炭素数は6~20(より好ましくは6~12)である)、ヘテロ環基(例:ピロール基、ピリジル基、ピラゾール基、ピラジニル基、ピペリジル基、フラニル基、チオフェニル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、及びテトラヒドロピラニル基)、
アリールオキシ基(例:フェノキシ基、及びフルオロフェノキシ基;好ましい炭素数は6~20(より好ましくは6~12)である)、アルコキシカルボニル基(例:メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、及びt-ブトキシカルボニル基;好ましい炭素数は1~20(より好ましくは1~10)である)、アリールオキシカルボニル基(例:フェノキシカルボニル基、メチルフェノキシカルボニル基、及びフルオロフェニルカルボニル基;好ましい炭素数は7~20(より好ましくは7~12)である)、ヘテロアリールオキシカルボニル基(例:ピリジルオキシカルボニル基;好ましい炭素数は3~20(より好ましくは3~12)である)、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アシル基(例:アセチル基、プロピオニル基、及びベンゾイル基等、好ましい炭素数は2~20(より好ましくは2~10)である)、アシルアミノ基(例:アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、及びベンゾイルアミノ基;好ましい炭素数は2~20(より好ましくは2~10)である)、アミノカルボニル基、アミノスルホニル基、アルキルスルホニル基(例:メチルスルホニル基;好ましい炭素数は1~20(より好ましくは1~10)である)、アリールスルホニル基(例:フェニルスルホニル基、及びトルエンスルホニル基;好ましい炭素数は6~20(より好ましくは6~12)である)、ヘテロアリールスルホニル基(例:チオフェンスルホニル基;好ましい炭素数は3~20(より好ましくは3~12)である)、アルキルスルホニルアミノ基(例:メチルスルホニルアミノ基;好ましい炭素数は1~20(より好ましくは1~10)である)、アリールスルホニルアミノ基(例:フェニルスルホニルアミノ基、トルエンスルホニルアミノ基;好ましい炭素数は6~20(より好ましくは6~12)である)、ヘテロアリールスルホニルアミノ基(例:チオフェンスルホニルアミノ基;好ましい炭素数は3~20(より好ましくは3~12)である)、アルコキシスルホニル基(例:メトキシスルホニル基;好ましい炭素数は1~20(より好ましくは1~10)である)、アリールオキシスルホニル基(例:フェニルオキシスルホニル基、好ましい炭素数は6~20(より好ましくは6~12)である)、ヘテロアリールオキシスルホニル基(例:ピラジニルオキシスルホニル基;好ましい炭素数は3~20(より好ましくは3~10)である)、アルキルスルホニルオキシ基(例:メチルスルホニルオキシ基;好ましい炭素数は1~20(より好ましくは1~10)である)、アリールスルホニルオキシ基(例:フェニルスルホニルオキシ基;好ましい炭素数は6~20(より好ましくは6~12)である)、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基(例:メチルスルファモイル基;好ましい炭素数は1~20(より好ましくは1~10)である)、及びアルキルカルバモイル基(例:メチルカルバモイル基;好ましい炭素数は2~20(より好ましくは2~10)である)が挙げられる。
ハロゲン原子(例:フッ素原子、臭素原子、及びヨウ素原子)、アルキル基(例:メチル基、エチル基、t-ブチル基、トリフェニルメチル基、フェニルエチル基、及びシクロヘキシル基;好ましい炭素数は1~20(より好ましくは1~10)である)、アラルキル基(例:フェニルメチル基、フェニルエチル基、及びトリチル基(トリフェニルメチル基);好ましい炭素数は7~20(より好ましくは7~12)である)、アルコキシ基(例:メトキシ基、エトキシ基、及びプロポキシ基;好ましい炭素数は1~20(より好ましくは1~10)である)、アリール基(例:フェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、2,6-ジクロロフェニル基、3,5-ジクロロフェニル基、メチルフェニル基、3,5-ジメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、パーフルオロメチルフェニル基、及びニトロフェニル基;好ましい炭素数は6~20(より好ましくは6~12)である)、アリールオキシ基(例:フェノキシ基、及びフルオロフェノキシ基;好ましい炭素数は6~20(より好ましくは6~12)である)、アルコキシカルボニル基(例:メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、t-プロポキシカルボニル基、及びt-ブトキシカルボニル基;好ましい炭素数は2~20(より好ましくは2~10)である)、アシル基(例:アセチル基、プロピオニル基、及びベンゾイル基;好ましい炭素数は2~20(より好ましくは2~10)である)、アシルアミノ基(例:アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、及びベンゾイルアミノ基;好ましい炭素数は2~20(より好ましくは2~10)である)、アミノカルボニル基、アミノスルホニル基、アルキルスルホニル基(例:メチルスルホニル基、及びエチルスルホニル基;好ましい炭素数は1~20(より好ましくは1~10)である)、アリールスルホニル基(例:フェニルスルホニル基、メチルフェニルスルホニル基、トルエンスルホニル基、及びパーフルオロメチルフェニルスルホニル基;好ましい炭素数は6~20(より好ましくは6~12)である)、アルコキシスルホニル基(例:メトキシスルホニル基;好ましい炭素数は6~20(より好ましくは6~12)である)、アリールオキシスルホニル基(例:フェニルオキシスルホニル基;好ましい炭素数は6~20(より好ましくは6~12)である)、及びヘテロアリールオキシスルホニル基(例:ピラジニルオキシスルホニル基;好ましい炭素数は3~20(より好ましくは3~12)である)が挙げられる。
R1におけるアルキル基は、炭素数1~4のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、t-ブチル基、パーフルオロメチル基等が挙げられる。
R1におけるアルケニル基は、例えば、炭素数2~4のアルケニル基が好ましく、例えば、エテニル基、及びプロペニル基が挙げられる。
R1におけるアリール基は、炭素数6~18のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、フルオロフェニル基、パーフルオロメチルフェニル基、3,5-ビス(パーフルオロメチル)フェニル基、及びナフチル基が挙げられる。
R1におけるヘテロ環基は、炭素数3~18のヘテロ環基が好ましく、例えば、ピロール基、ピリジル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピペリジル基、フラニル基、チオフェニル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、及びベンゾイミダゾリル基が挙げられる。
Ra、Rc、Rd、Re、Rf、及びRgにおける各基は、無置換でもよいし、置換基を有していてもよい。置換基を有する場合の置換基は、R2における置換基が挙げられる。
Rbにおける各基は、無置換でもよいし、置換基を有していてもよい。置換基を有する場合の置換基は、R3における置換基が挙げられ、電子求引性基が好ましい。
Rbは、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アシル基、スルファモイル基、カルバモイル基、又はヘテロ環基を表す。
Rbにおける各基は、上記の式4a及び式4bにおけるRbと同義であり、好ましい態様も同様である。
中でも、式7a及び式7bにおけるR1は、反応生成物の収率の点で、電子求引性基が置換したフェニル基、又はピラゾール基であることが好ましい。
電子求引性基については後述する。
Q及びTは、それぞれ独立に、水素原子、アリール基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アシル基、トリチル基、又はテトラヒドロピラニル基を表す。
Q及びTにおける各基は、無置換でもよいし、置換基を有していてもよい。
Raaは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アリール基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、ヘテロアリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、ヘテロアリールスルホニルアミノ基、アシルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、又はヘテロ環基を表す。
なお、電子求引性基については後述する。
Q及びTは、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、又は電子求引性基が置換したフェニル基を表す。A、B及びCは、それぞれ独立に、電子求引性基又は水素原子を表し、A,B及びCのうちの少なくとも一つは、電子求引性基である。
なお、電子求引性基については後述する。
式7a及び式7b中のR1における電子求引性基、式8a及び式8b中のA、B、C、D及びEにおける電子求引性基、式9a及び式10中のQ及びTにおける電子求引性基、並びに、式10中のA、B及びCにおける電子求引性基は、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、及びアシル基からなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
ハロゲン原子、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、及びアシル基は、上記の式1a及び式1b中のR2における場合と同義であり、好ましい態様も同様である。
電子求引性基が上記の基であると、増感剤と励起状態の無水マレイン酸との間の相互作用がより抑制され、不飽和化合物の光環化反応をより効率良く進行させることができ、収率の向上効果が大きい。
但し、本開示においては、以下に示す化合物に制限されるものではない。なお、具体例において、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Phはフェニル基を表す。
式1a又は式1bで表される化合物の使用量が上記範囲内であると、不飽和化合物の光環化反応をより効率良く進行させることができ、収率の向上効果が大きい。
式1a又は式1bで表される化合物の使用量は、上記と同様の理由から、0.1モル%~20モル%の範囲がより好ましく、0.1モル%~10モル%の範囲が更に好ましく、0.1モル%~5モル%の範囲が特に好ましい。
この場合、光環化反応が反応溶媒中で行われることが好ましい。
光環化反応が反応溶媒中で行われる反応系であることで、光環化反応の反応効率がより向上し、収率の向上効果が大きい。
反応溶媒の使用量としては、反応生成物の収量の点で、少ないことが好ましく、不飽和化合物(好ましくはマレイン酸無水物)に対して、2質量倍~30質量倍がより好ましい。
中でも、反応温度は、0℃~20℃の範囲がより好ましく、0℃~10℃の範囲が更に好ましい。
マレイン酸無水物としては、例えば、特開2003-192685号公報の段落番号0020に記載の化合物例、及び国際公開第2015/108166号の段落番号0016に記載の無水マレイン酸化合物の例を挙げることができる。
R4及びR5における炭素数1~20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、t-ブチル基、ヘキシル基、イソプロピル基、デシル基、及びペンタデシル基が挙げられる。中でも、R4及びR5におけるアルキル基は、炭素数1~10のアルキル基が好ましく、炭素数1~5のアルキル基がより好ましい。
本開示の増感剤は、式8c、式8b、式9c又は式9bで表される化合物である。
本開示の増感剤は特定の構造を有するものであるので、[2+2]光環化反応が効果的に促進される。結果として、環状ブタン化合物の収率向上が図られる。
本開示のピラゾール化合物は、式9c又は式10で表される化合物である。
具体的には、所望とする有機溶剤と化合物(a)とを混合し、窒素雰囲気下で冷却して、開始剤(例えば有機リチウム化合物)の存在下、化合物(b)又は化合物(b’)を加えて反応させた後、得られた溶液を中和し有機相を濃縮することで、化合物10又は化合物9cが得られる。
具体的には、所望とする有機溶剤と市販のヒドラジン化合物(d)と化合物(e)とを混合して環化し、有機相を濃縮して化合物(f)を得、更に化合物(g)を経由してグリニャール反応させることで、化合物10(Rh=H)が得られる。
具体的には、市販のアセトフェノン化合物(i)を化合物(j)へと変換し、ヒドラゾン化合物(k)と反応させることで、化合物10が得られる。
具体的には、化合物(l)をヒドラゾン化合物(k)と反応させることで、化合物9cが得られる。
具体的には、化合物(m)をNBS(N-ブロモスクシンイミド)により酸化させることで、化合物9cが得られる。
これらのピラゾール化合物は、環状ブタン化合物の製造に用いる光増感剤として有用である。
2L(リットル)の3つ口フラスコに、テトラヒドロフラン(THF)1000mL、及び化合物(1-1)100gを入れ、窒素雰囲気下で-78℃に冷やした。そこに、ブチルリチウム(n-BuLi)の1.6mol/Lヘキサン溶液160mLを加え、得られた混合液を-78℃で30分攪拌した。その後、化合物(1-2)60gのTHF溶液100mLを滴下し、さらに室温で攪拌した。得られた溶液を塩化アンモニウムで中和し、酢酸エチルで反応生成物を抽出した。有機相を濃縮し、化合物(A-65)の粗体を得た。得られた粗体をフラスコに移し、酢酸エチル200mLを加え、65℃で撹拌した。その後、ヘキサン1800mLを加え、室温で撹拌した。得られた析出物を濾過し、ヘキサンで洗浄してピラゾール化合物(A-65)を収率65%で得た。
1H-NMR(核磁気共鳴法;400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.08(1H,s),8.04(1H,m),8.02-8.00(1H,m),8.01(1H,s),7.82-7.80(1H,m),7.63-7.59(1H,m),7.37-7.33(9H,m),7.18-7.15(6H,m)
1Lの3つ口フラスコに、化合物(A-65)20g、CH2Cl235mL、トリフルオロ酢酸(TFA)19mL、メタノール(MeOH)460mLを入れ、40℃で3時間撹拌した。その後、室温に戻し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でゆっくりと中和し、水を加えた後に酢酸エチルで反応生成物を抽出した。有機相を濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、ピラゾール化合物(A-55)を収率93%で得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=10.9(1H,br),8.14-8.13(3H,m),8.06(1H,d,J=7.7Hz),7.87(1H,m),7.67(1H,t,J=7.8Hz)
50mLのナスフラスコに、化合物(A-55)0.9g、CH2Cl220mLを入れ、氷浴下で撹拌した。そこに、トリエチルアミン(Et3N)780μL、塩化パラトルエンスルホニル(TsCl)0.71gを入れ、室温で2時間撹拌した。その後、水を入れ、酢酸エチルで反応生成物を抽出し、有機相を濃縮して、化合物(A-60)の粗体を得た。得られた粗体をフラスコに移し、酢酸エチル3mLを加え、65℃で撹拌した。その後、ヘキサンを析出物が生じるまで加え、室温で撹拌した。得られた析出物を濾過し、ヘキサンで洗浄して、ピラゾール化合物(A-60)を収率72%で得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.57(1H,d,J=0.6Hz),8.13(1H,d,J=0.6Hz),8.08(1H,m),8.02-7.96(3H,m),7.90-7.88(1H,m),7.70-7.66(1H,m),7.41-7.38(2H,m),2.46(3H,s)
化合物(A-60)合成において、TsClの代わりにメタンスルホニルクロリド(MsCl)290μLを使用したこと以外は、化合物(A-60)合成と同様の操作を行い、ピラゾール化合物(A-71)を収率84%で得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.52(1H,d,J=0.6Hz),8.27(1H,d,J=0.6Hz),8.12(1H,m),8.05-8.03(1H,m),7.92-7.90(1H,m),7.72-7.68(1H,m),3.47(3H,s)
ピラゾール化合物(A-60)合成において、TsClの代わりに4-(トリフルオロメチル)ベンゼンスルホニルクロリド0.92gを使用したこと以外は、ピラゾール化合物(A-60)合成と同様の操作を行い、ピラゾール化合物(A-72)を収率77%で得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.59(1H,d,J=0.6Hz),8.25-8.23(2H,m),8.17(1H,d,J=0.6Hz),8.08(1H,m),8.02-8.00(1H,m),7.91-7.87(3H,m),7.71-7.67(1H,m)
50mLのナスフラスコに、化合物(A-55)5.0g、2-ヨードベンゾトリフルオリド(2-iodobenzotrifluoride)6.5g、炭酸カリウム(K2CO3)5.5g、L-プロリン0.46g,ジメチルスルホキシド(DMSO)25mL及びヨウ化銅(CuI)0.4gを入れ、混合物を窒素雰囲気下にて130℃で撹拌した。その後、室温に戻し、水を入れ、酢酸エチルで反応生成物を抽出した。有機相を濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、ピラゾール化合物(A-151)を収率20%で得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.21-8.20(2H,m),8.16(1H,m),8.10-8.08(1H,m),7.88-7.86(2H,m),7.77-7.73(1H,m),7.69-7.60(3H,m)
ピラゾール化合物(A-151)合成において、2-ヨードベンゾトリフルオリドの代わりに2-ヨードクロロベンゼン(2-iodochlorobenzene)2.38gを使用したこと以外は、ピラゾール化合物(A-151)合成と同様の操作を行い、化合物(A-176)を収率38%で得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.40(1H,d,J=0.8Hz),8.20(1H,d,J=0.8Hz),8.18(1H,m),8.11-8.09(1H,m),7.88-7.86(1H,m),7.70-7.64(2H,m),7.59-7.57(1H,m),7.46-7.43(2H,m)
50mLのナスフラスコに、化合物(A-55)1.0g、1-ヨード-3,5-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(1-iodo-3,5-bis(trifluoromethyl)benzene)2.1g、K2CO3(1.3g)、L-プロリン0.17g,DMSO(17mL)、及びCuI(0.16g)を入れ、混合物を窒素雰囲気下にて100℃で3.5時間撹拌した。その後、25℃に戻し、水を入れ、酢酸エチルで反応生成物を抽出した。有機相を濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物(A-213)の粗体を得た。得られた粗体を、酢酸エチル及びヘキサンを用いて再結晶することにより、ピラゾール化合物(A-213)を収率67%で得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.59(1H,d,J=0.4Hz),8.26(2H,s),8.20(1H,d,J=0.4Hz),8.16(1H,s),8.09(1H,d,J=7.7),7.92-7.90(2H,m),7.72(1H,t,J=7.7)
以下のスキームに従って、ピラゾール化合物(A-145)を合成した。
ピラゾール化合物(A-145)は、環状ブタン化合物の製造に用いる光増感剤として有用である。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.53(1H,s),8.17―8.16(2H,m),8.10-8.07(2H,m),7.96-7.94(1H,m),7.91-7.88(1H,m),7.72-7.70(1H,m),7.67-7.66(2H,m)
以下のスキームに従って、ピラゾール化合物(A-145)合成と同様の操作を行い、ピラゾール化合物(A-147)を収率18%で得た。
ピラゾール化合物(A-147)は、環状ブタン化合物の製造に用いる光増感剤として有用である。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.52(1H,s),8.18(1H,s),8.06(1H,m),8.01-7.99(2H,m),7.97-7.94(1H,m),7.83-7.81(2H,m),7.67-7.66(2H,m)
以下のスキームに従って、ピラゾール化合物(A-149)を合成した。
ピラゾール化合物(A-149)は、環状ブタン化合物の製造に用いる光増感剤として有用である。
500mLのナスフラスコに、市販の化合物(3-1)10.6g、化合物(3-2)9.9g(メチル-3,3-ジメトキシプロピオネートと蟻酸メチルとから公知の方法により調製)、及びメタノール150mLを入れ、50℃で3時間撹拌した。反応液を25℃に戻した後、酢酸エチル及び水を入れた容器に注いで抽出した。有機相を水と飽和食塩水とで順次洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。有機相を濃縮後、カラム精製することにより、化合物(3-3)を収率69%で得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.17(1H,s),8.13(1H,s),7.84(1H,d,J=7.9Hz),7.71(1H,t,J=7.9Hz),7.63(1H,t,J=7.6Hz),7.54(1H,d,J=7.6Hz),3.88(3H,s)
500mLのナスフラスコに、化合物(3-3)9.3g、メタノール45mL、及びTHF45mLを入れた。この溶液に25℃で、水(22.5mL)に水酸化ナトリウム6.88gを溶解した水溶液を滴下し、50℃で2時間撹拌後、減圧にて大半の溶媒を留去した。濃縮残渣に水75mLを加えた後、濃塩酸水19mLを滴下した。析出した結晶を濾過、水洗、風乾することにより、7.5gの淡黄色固体を得た。
次いで、300mLの三つ口フラスコに、得られた淡黄色固体7.0g、ジクロロメタン140mL、及びN,N-ジメチルホルムアミド2.1mLを入れた。この溶液に2℃で、塩化チオニル2.25mLを滴下し、25℃で1時間撹拌した。この溶液に2℃で、N,O-ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩4.0gを加え、更にトリエチルアミン20mLを滴下した。この溶液を25℃にて1時間撹拌した後、酢酸エチル(350mL)及び1mol/Lの塩酸水(200mL)を入れた容器に注いで抽出した。有機相を、1mol/Lの塩酸水200mL、重曹水200mL、及び飽和食塩水200mLで順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。その後、溶媒を減圧にて留去した。得られた残渣を酢酸エチル及びヘキサンを用いて再結晶することにより、化合物(3-4)を収率71%で得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.24(1H,s),8.22(1H,s),7.83(1H,d,J=7.8Hz),7.71(1H,t,J=7.8Hz),7.64-7.58(2H,m),3.75(3H,s),3.37(3H,s)
100mLの三つ口フラスコに、化合物(3-4)1.5g及びTHF10mLを入れ、窒素雰囲気にした。この溶液に、2℃で約0.5mol/Lのグリニヤール試薬(3-5)12mL(エーテル中、1-ヨード-3,5-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン及びマグネシウムより調製)を滴下し、25℃で1時間撹拌した。この溶液を酢酸エチル100mL及び1mol/L塩酸水100mLを入れた容器に注いで抽出した。有機相を重曹水100mL及び飽和食塩水100mLで順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧にて留去した。得られた残渣をカラム精製後、更に酢酸エチル及びヘキサンを用いて再結晶することにより、ピラゾール化合物(A-149)を収率53%で得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.34(2H,s),8.22(1H,s),8.20(1H,s),8.11(1H,s),7.88(1H,dd,J=1.2,7.6Hz),7.76(1H,dt,J=1.2,7.6Hz),7.68(1H,t,J=7.6Hz), 7.63(1H,d,J=7.6Hz)
以下のスキームに従って、ピラゾール化合物(A-153)を合成した。
ピラゾール化合物(A-153)は、環状ブタン化合物の製造に用いる光増感剤として有用である。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.21(2H,s),8.00(2H,d,J=8.0),7.86(1H,dd,J=1.2,7.8Hz),7.79(2H,d,J=8.0),7.74(1H,dt,J=1.2,7.8Hz),7.66(1H,t,J=7.6Hz), 7.60(1H,d,J=7.6Hz)
以下のスキームに従って、ピラゾール化合物(A-179)を合成した。
ピラゾール化合物(A-179)は、環状ブタン化合物の製造に用いる光増感剤として有用である。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.26(1H,d,J=0.4Hz),8.16(1H,s),8.09(1H,d,J=0.4Hz),8.09(1H,d,J=8.0Hz),7.87(1H,d,J=8.0),7.68(1H,t,J=8.0Hz), 7.54(2H,s)
以下のスキームに従って、ピラゾール化合物(A-212)を合成した。
ピラゾール化合物(A-212)は、環状ブタン化合物の製造に用いる光増感剤として有用である。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.45(1H,d,J=0.8Hz),8.15(2H,s),8.07(1H,d,J=7.8Hz),7.89(1H,d,J=7.8Hz),7.70(2H,d,J=1.6Hz),7.69(1H, t, J=7.8Hz),7.38(1H,t,J=1.6Hz)
以下のスキームに従って、ピラゾール化合物(A-214)を合成した。
ピラゾール化合物(A-214)は、環状ブタン化合物の製造に用いる光増感剤として有用である。
100mLのナスフラスコに、市販の化合物(4-1)5.6g、N,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール4.3g及びL-プロリン0.6gを入れ、80℃で3時間撹拌した。反応液を25℃に戻した後、酢酸エチル及び水を入れた容器に注いで抽出した。有機相を水と飽和食塩水とで順次洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。有機相を濃縮後、カラム精製することにより、化合物(4-2)を収率76%で得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.14(1H,s),8.08(1H,d,J=7.6Hz),7.86(1H,d,J=12.4Hz),7.70(1H,d,J=7.6Hz),7.54(1H,t,J=7.6Hz),5.69(1H,d,J=12.4Hz),3.19(3H,s),2.96(3H,s)
500mlの三つ口フラスコに市販の化合物(4-3)、水60ml及び濃塩酸60mlを入れ0℃に冷却した。この溶液に10℃以下の温度を保って亜硝酸ナトリウムの水(60ml)溶液を滴下し、30分間撹拌した。この溶液に10℃以下の温度を保って酢酸ナトリウム45gを加え、更に3-クロロアセチルアセトン12gのメタノール60ml溶液を滴下した。得られた溶液を25℃にて5時間撹拌し、析出した固体を濾過、水洗、乾燥することにより化合物(4-4)の粗体16.8gを得た。この粗体を酢酸エチル及びヘキサンを用いて再結晶することにより化合物(4-4)を73%の収率で得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.94(1H,s),7.74(1H,d,J=8.4Hz),7.61-7.56(2H,m),7.16(1H,t,J=7.6Hz),2.60(3H,s)
100mLの三つ口フラスコに、化合物(4-2)1.1g、化合物(4-4)1.2g及びエタノール25mLを入れ、トリエチルアミン1.3mLを滴下した。この溶液を85℃で3時間撹拌した。この溶液を酢酸エチル100mL及び1mol/L塩酸水100mLを入れた容器に注いで抽出した。有機相を、重曹水100mL及び飽和食塩水100mLで順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧にて留去した。得られた残渣をカラム精製後、更に酢酸エチル及びヘキサンを用いて再結晶することにより、ピラゾール化合物(A-214)を収率43%で得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.10(1H,s),8.02(1H,d,J=8.0Hz),7.96(1H,s),7.90(1H,d,J=7.6Hz),7.84(1H,d,J=8.0Hz),7.79(1H,t,J=7.6Hz),7.71(1H,t,J=7.6Hz),7.66(1H,d,J=8.0Hz),7.61(1H,t,J=7.6Hz),2.61(3H,s)
ピラゾール化合物(A-214)合成において、化合物(4-1)の代わりにパラ-クロロアセトフェノンを使用したこと以外は、ピラゾール化合物(A-214)合成と同様の操作を行い、化合物(A-220)を得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=7.92(1H,s),7.90-7.88(1H,m),7.80-7.76(3H,m),7.72-7.68(1H,m),7.65-7.63(1H,m),7.46-7.42(2H,m),2.60(3H,s)
ピラゾール化合物(A-214)合成において、化合物(4-1)の代わりにパラ-フルオロアセトフェノンを使用したこと以外は、ピラゾール化合物(A-214)合成と同様の操作を行い、化合物(A-221)を得た。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=7.91-7.86(4H,m),7.80-7.76(1H,m),7.72-7.68(1H,m),7.65-7.63(1H,m),7.16-7.12(2H,m),2.60(3H,s)
以下のスキームに従って、ピラゾール化合物(A-224)を合成した。
ピラゾール化合物(A-224)は、環状ブタン化合物の製造に用いる光増感剤として有用である。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.05(2H,s),7.88-7.86(2H,m),7.76-7.74(2H,m),7.69-7.62(4H,m),2.59(6H,s)
以下のスキームに従って、ピラゾール化合物(A-145)合成と同様の操作を行い、ピラゾール化合物(A-146)を収率9%で得た。
ピラゾール化合物(A-146)は、環状ブタン化合物の製造に用いる光増感剤として有用である。
1H-NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.31(1H,s),8.02(1H,s),8.01-8.00(1H,m),7.92-7.88(1H,m),7.84-7.81(1H,m),7.71-7.63(4H,m),7.55-7.52(1H,m)
以下のスキームに従って、ピラゾール化合物(A-237)を合成した。
ピラゾール化合物(A-237)は、環状ブタン化合物の製造に用いる光増感剤として有用である。
300mLフラスコにピラゾール化合物(6-1) (16g,76.9mmol,1.0当量)、N,N-ジメチルホルムアミド(80mL)、トリエチルアミン(12mL,1.1当量)を入れ、40℃に加熱した。そこにトリチルクロリド(21.4g,1.0当量)を添加し、40℃で3時間撹拌した。その後、水浴につけ、水(50mL)を滴下した。得られた溶液を濾過した。残渣を水洗し、ヘキサンで洗浄した後、乾燥させ、未精製のトリチル保護化合物を29g得た。
次に、2Lフラスコに、未精製のトリチル保護化合物75g、THF500mL、エタノール300mL、NaOH(16.6g,2.5当量)、及び水(80mL)を添加し、2時間還流させた。その後、有機溶媒を留去し、水300mLを加え、12N-HCl(3.0当量)を滴下した。得られた溶液を濾過した。残渣を水洗し、ヘキサンで洗浄した後、乾燥させ、未精製のカルボン酸化合物を70g得た。
次に、2Lフラスコに、未精製のカルボン酸化合物50g、2-メチル-6-ニトロ安息香酸無水物(MNBA;48.9g,1.2当量)、ジクロロメタン(500mL)、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン(1.5g,0.1当量)、トリエチルアミン(119mL,7.2当量)を入れ、室温で30分撹拌した。その後、N,O-ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩(13.9g,1.2当量)を添加し、室温で撹拌した。原料消失後、溶液を水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物を酢酸エチルとヘキサンで晶析することで化合物(6-2)を収率55%で得た。
1H-NMR(核磁気共鳴法;400MHz,溶媒:CDCl3,内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=7.76(1H,d,J=0.7 Hz),7.36-7.31(9H,m),7.14-7.11(6H,m),3.44(3H,s),3.28(3H,s)
100mLのフラスコに4-ブロモ-3-(トリフルオロメチル)-1H-ピラゾール(5g,0.02mol)、N,N-ジメチルホルムアミド(50mL) 、トリエチルアミン(3.6mL,1.1当量)を入れ、40℃に加熱した。そこにトリチルクロリド(6.5g,1.0当量)を添加し、40℃で3時間撹拌した。その後、水浴につけ、水(25mL)を滴下した。得られた溶液を濾過した。残渣を水洗し、ヘキサンで洗浄した後、乾燥させ、未精製のトリチル保護化合物(6-3)を11g得た。次に、2Lのフラスコに未精製のトリチル保護化合物 (6-3) (14g)、メチル-tert-ブチルエーテル(420mL)を入れ、窒素雰囲気下、-60℃で撹拌した。そこに、n-ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.6モル/リットル、1.0当量)を滴下し、30分間、-60℃で撹拌した。その後、化合物(6-2) (14.3g,1.0当量)のトルエン溶液(420mL)を滴下し、室温で撹拌した。さらに、アンモニウムクロリド水溶液を添加し、酢酸エチルで抽出した。得られた溶液を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物を酢酸エチルとヘキサンで晶析することで化合物(6-4)を収率28%で得た。
1H-NMR(核磁気共鳴法;400MHz,溶媒:CDCl3,内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=7.54(1H,d,J=0.7Hz),7.34-7.28(18H,m),7.04-7.01(12H,m)
500mLフラスコに化合物(6-4)(13.4g,17mmol)、トリフルオロ酢酸(200mL)、水(13mL)を発熱に注意しながら添加し、40℃で撹拌した。その後、氷水下の飽和NaHCO3水溶液に反応液を滴下して中和した。中和後、得られた溶液を濾過した。残渣を水洗し、ヘキサンで洗浄した後、乾燥させ、粗生成物を得た。得られた粗生成物を2-プロパノールとヘキサンで晶析することでピラゾール化合物(A-237)を収率55%で得た。
1H-NMR(核磁気共鳴法;400MHz,溶媒:DMSO-d6,内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=14.2(2H,br),8.65(2H,d,J=0.7Hz)
以下のスキームに従って、ピラゾール化合物(A-238)を合成した。
ピラゾール化合物(A-238)は、環状ブタン化合物の製造に用いる光増感剤として有用である。
化合物(7-1)(25g,0.3mol)、37%ホルマリン水溶液(11.9g,0.146mol)及び濃塩酸(2.8mL)のエタノール(450mL)溶液を40時間、撹拌しながら還流した。エタノールを減圧にて留去した。その後、メタノール(200mL)及び48%臭化水素酸(50.5g)を加え、減圧にて揮発成分を留去した。得られた残渣にアセトニトリル(300ml)を加え、室温にて30分間撹拌した。アセトニトリル溶液を濾過し、残渣を乾燥させることで、化合物(7-2)(44.5g,0.13mol)を得た。
1H-NMR(核磁気共鳴法;400MHz,溶媒:CDCl3, 内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=7.81(2H,s),3.56(2H,s)
化合物7-2(5.0g,14.7mmol)、3-トリフルオロメチルヨードベンゼン(12.0g,44.1mmol)、リン酸三カリウム(18.7g,88.1mmol)、ヨウ化銅(I)(0.6g,3.2mmol)及びプロリン(0.7g,6.1mmol)のN,N-ジメチルホルムアミド(100mL)溶液を、窒素雰囲気下で7時間撹拌し、室温まで冷却した。反応液を酢酸エチル(300mL)と水(300mL)の混合溶液に注ぎ、抽出した。有機相を1規定の塩酸水(200mL)、炭酸水素ナトリウム水溶液(200mL)及び飽和食塩水(200mL)で順次洗浄した。得られた有機相に硫酸ナトリウム(30g)及び活性炭(10g)を添加し、室温にて20分撹拌後、セライトろ過をした。ろ液を減圧にて濃縮し、酢酸エチル(25mL)とヘキサン(50mL)の混合溶液でリスラリー洗浄することにより化合物(7-3)(3.0g,6.4mmol)を得た。
1H-NMR(核磁気共鳴法;400MHz,溶媒:CDCl3,内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.17(2H,s),7.93(2H,s),7.89(2H,d,J=8.0Hz),7.59(2H,t,J=8.0Hz),7.40(2H,d,J=8.0Hz),5.19(4H,s),3.45(2H,s)
窒素雰囲気下、亜硝酸イソアミル(1.3g,11.1mmol)及び臭化銅(II)(2.3g,10.3mmol)のアセトニトリル(25mL)溶液に、化合物(7-3)(2.0g,4.3mmol)を30分かけて室温にて添加した。反応液を60℃に昇温し、1時間撹拌した後、室温まで冷却して酢酸エチル(200mL)と1規定の塩酸水(200mL)の混合溶液に注ぎ、抽出した。有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液(200mL)及び飽和食塩水(200mL)で順次洗浄し、硫酸ナトリウムにて乾燥した。減圧濃縮後、残渣をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサンと酢酸エチルの混合溶液)を用いて精製することにより、化合物(7-4)(1.15g,1.94mmol)を得た。
1H-NMR(核磁気共鳴法;400MHz,溶媒:CDCl3,内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=8.62(2H,s),8.16-8.11(4H,m),7.77-7.68(4H,m),3.66(2H,s)
化合物(7-4)(2.0g,3.4mmol)のクロロホルム(63mL)溶液にN-ブロモスクシンイミド(13.75g,77.3mmol)を添加し、2時間還流した。この溶液にクロロホルム(30mL)及び水(8mL)を加え、さらに2.5時間還流した。反応液を室温まで冷却後、酢酸エチル(300mL)と炭酸水素ナトリウム水溶液(300mL)の混合溶液に注ぎ、抽出した。有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液(300mL)、水(300mL)及び飽和食塩水(300mL)で順次洗浄し、硫酸ナトリウムにて乾燥した。減圧濃縮後、残渣を酢酸エチル/ヘキサン=1/2でリスラリー洗浄することによりピラゾール化合物(A-238)(1.7g,2.8mmol)を得た。
1H-NMR(核磁気共鳴法;400MHz,溶媒:CDCl3,内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS))による化学シフトσ(ppm)=9.46(2H,s),8.30-8.25(4H,m),7.86-7.80(4H,m)
光増感剤として下記表1に記載のピラゾール化合物の存在下、無水マレイン酸を原料として以下のスキームにしたがい、環状ブタン化合物である1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物を製造した。
なお、光増感剤として用いたピラゾール化合物の添加量は、無水マレイン酸に対して1mol%である。
各実施例における収率は、下記表1に示す。
無水マレイン酸を原料として以下のスキームにしたがい、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物を製造した。
1H-NMR(DMSO-d6):δ3.87ppm(s、4H)
また、収率は、15%であった。
実施例101において、光増感剤を、同モル量のベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、又は3-トリフルオロメチルベンゾフェノンにそれぞれ代えたこと以外は、実施例101と同様にして、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物を製造した。
得られた析出物はいずれも、1H-NMRによって1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物であることを確認した。
各々の収率は、下記表1に示す。
Claims (13)
- 下記の式7aで表される化合物の存在下、不飽和化合物の[2+2]光環化反応を行うことを含む、環状ブタン化合物の製造方法。
式中、R aa は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アリール基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、ヘテロアリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、ヘテロアリールスルホニルアミノ基、アシルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、又はヘテロ環基を表し、R b は、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アシル基、スルファモイル基、カルバモイル基、又はヘテロ環基を表し、R 1 は、電子求引性基が置換したフェニル基、又はピラゾール基を表し、前記電子求引性基は、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、及びアシル基からなる群より選ばれる少なくとも1種である。 - R4及びR5が、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す請求項2に記載の製造方法。
- R4及びR5が、水素原子である請求項2又は請求項3に記載の製造方法。
- 前記式7aで表される化合物が、下記の式8a又は式9aで表される化合物群から選ばれる少なくとも一つの化合物である請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の製造方法。
式中、A、B、C、D及びEは、それぞれ独立に、前記電子求引性基又は水素原子を表し、A、B、C、D及びEのうちの少なくとも一つは、前記電子求引性基である。Q及びTは、それぞれ独立に、水素原子、アリール基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アシル基、トリチル基、又はテトラヒドロピラニル基を表し、Raaは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アリール基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、ヘテロアリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、ヘテロアリールスルホニルアミノ基、アシルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、又はヘテロ環基を表す。 - 前記式7aで表される化合物の合計の使用量は、不飽和化合物に対して0.05モル%~40モル%の範囲である、請求項1~請求項6のいずれか1項に記載の製造方法。
- 反応溶媒中で前記[2+2]光環化反応を行う請求項1~請求項7のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記反応溶媒が、有機カルボン酸エステル、有機カルボン酸無水物、又は炭酸エステルである請求項8に記載の製造方法。
- 前記反応溶媒が、酢酸エチル、炭酸ジメチル、又は炭酸エチルである請求項8又は請求項9に記載の製造方法。
- 反応温度が、-10℃~30℃である請求項1~請求項10のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記[2+2]光環化反応を行い、前記[2+2]光環化反応により生成された前記環状ブタン化合物を、[2+2]光環化反応後の反応液の濾過により除去し、濾液中に含まれる未反応の不飽和化合物と別に用意した不飽和化合物とを混合して不飽和化合物の[2+2]光環化反応に供することを繰り返す、請求項1~請求項11のいずれか1項に記載の製造方法。
- 下記の式8c、式8b、式9c又は式9bで表される光増感剤。
式中、A、B、C、D及びEは、それぞれ独立に、電子求引性基又は水素原子を表し、A、B、C、D及びEのうちの少なくとも一つは電子求引性基である。Q及びTは、それぞれ独立に、水素原子、アリール基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アシル基、トリチル基、又はテトラヒドロピラニル基を表し、Rhは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子又はアセチル基を表す。前記電子求引性基は、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、及びアシル基からなる群より選ばれる少なくとも1種である。
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Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
AI-BOGAMI, A. S. et al.,Journal of Molecular Structure,2016年,Vol. 1121,pp. 167-179 |
ALTHAGAFI, I. I. et al.,Journal of Molecular Structure,2017年,Vol. 1142,pp. 122-129 |
DU, J. et al.,Science,2014年,Vol. 344,pp. 392-396 |
TYSON, E. L. et al.,Organic Letters,2012年,Vol. 14, No. 4,pp. 1110-1113 |
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