JP6627605B2 - 電子写真感光体ならびにこれを用いた画像形成装置および画像形成方法 - Google Patents
電子写真感光体ならびにこれを用いた画像形成装置および画像形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6627605B2 JP6627605B2 JP2016061573A JP2016061573A JP6627605B2 JP 6627605 B2 JP6627605 B2 JP 6627605B2 JP 2016061573 A JP2016061573 A JP 2016061573A JP 2016061573 A JP2016061573 A JP 2016061573A JP 6627605 B2 JP6627605 B2 JP 6627605B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- unsubstituted
- substituted
- fine particles
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
- G03G5/0644—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings
- G03G5/0646—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings in the same ring system
- G03G5/0648—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings in the same ring system containing two relevant rings
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/75—Details relating to xerographic drum, band or plate, e.g. replacing, testing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0503—Inert supplements
- G03G5/051—Organic non-macromolecular compounds
- G03G5/0517—Organic non-macromolecular compounds comprising one or more cyclic groups consisting of carbon-atoms only
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0532—Macromolecular bonding materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0542—Polyvinylalcohol, polyallylalcohol; Derivatives thereof, e.g. polyvinylesters, polyvinylethers, polyvinylamines
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/056—Polyesters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0592—Macromolecular compounds characterised by their structure or by their chemical properties, e.g. block polymers, reticulated polymers, molecular weight, acidity
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
- G03G5/0618—Acyclic or carbocyclic compounds containing oxygen and nitrogen
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
- G03G5/0624—Heterocyclic compounds containing one hetero ring
- G03G5/0627—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being five-membered
- G03G5/0629—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being five-membered containing one hetero atom
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
- G03G5/0624—Heterocyclic compounds containing one hetero ring
- G03G5/0635—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being six-membered
- G03G5/064—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being six-membered containing three hetero atoms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
- G03G5/0644—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings
- G03G5/0661—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings in different ring systems, each system containing at least one hetero ring
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0664—Dyes
- G03G5/0696—Phthalocyanines
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/087—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and being incorporated in an organic bonding material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G2215/00—Apparatus for electrophotographic processes
- G03G2215/00953—Electrographic recording members
- G03G2215/00957—Compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
前記保護層が、p型半導体微粒子、n型有機半導体および重合性化合物を含む硬化性組成物の硬化物を含有する、電子写真感光体。
Xaは、下記の化学式(1−1)〜(1−5)のいずれかで表される4価の基であり、置換または非置換のC1〜C8アルキル基、置換または非置換のC1〜C8アルコキシ基、ハロゲン原子、置換または非置換のC6〜C18アリール基、シアノ基、ニトロ基およびヒドロキシル基からなる群より選択される少なくとも1つの置換基を有していてもよく、
Xbは、置換または非置換のC6〜C18アリーレン基であり、
A1およびA2は、それぞれ独立して、オキサジアゾリレン基であり、
R21およびR22は、それぞれ独立して、置換または非置換のC6〜C18アリール基であり、その置換基は、水素原子、置換または非置換のC1〜C8アルキル基、置換または非置換のC3〜C12シクロアルキル基、置換または非置換のC1〜C8アルコキシ基、ハロゲン原子、置換または非置換のC6〜C18アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基および置換または非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基からなる群より選択される;
R301〜R304は、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換のC1〜C8アルキル基、置換または非置換のC3〜C12シクロアルキル基、置換または非置換のC1〜C8アルコキシ基、ハロゲン原子、置換または非置換のC6〜C18アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基および置換または非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基からなる群より選択される基であり、互いに連結して環構造を形成してもよく、この際、前記環構造は、芳香環または非芳香環のいずれでもよく、硫黄(S)、窒素(N)および酸素(O)からなる群より選択されるヘテロ原子を少なくとも1つ有してもよい;
R305〜R312は、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換のC1〜C8アルキル基、置換または非置換のC3〜C12シクロアルキル基、置換または非置換のC1〜C8アルコキシ基、ハロゲン原子、置換または非置換のC6〜C18アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基および置換または非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基からなる群より選択される基であり、互いに連結して環構造を形成してもよく、この際、前記環構造は、芳香環または非芳香環のいずれでもよく、硫黄(S)、窒素(N)および酸素(O)からなる群より選択されるヘテロ原子を少なくとも1つ有してもよい;
Q1〜Q6は、それぞれ独立して、炭素原子または窒素原子であり、
R41およびR42は、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C8アルキル基、置換または非置換のC3〜C12シクロアルキル基、置換または非置換のC1〜C8アルコキシ基、置換または非置換のC6〜C18アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基および置換または非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基からなる群より選択される基であり、互いに連結して環構造を形成してもよく、
R43およびR44は、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C8アルキル基、置換または非置換のC3〜C12シクロアルキル基、置換または非置換のC1〜C8アルコキシ基、置換または非置換のC6〜C18アリール基、シアノ基、ニトロ基、置換または非置換のC2〜C24ヘテロアリール基、カルボキシル基および置換または非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基からなる群より選択される基である;
Zは、炭素原子または窒素原子であり、
R51およびR52の少なくとも一方は、ニトリル基または置換もしくは非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基であり、
R53〜R60は、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C8アルキル基、置換または非置換のC6〜C18アリール基および置換または非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基からなる群より選択される基である。
図1は、本発明の一実施形態による電子写真感光体の断面概略図である。本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性支持体101上に、中間層102、電荷発生層103および電荷輸送層104からなる感光層105、保護層106の順に積層されている。すなわち、本発明に係る電子写真感光体は、導電性支持体上に、少なくとも感光層および保護層を順次積層してなる。
(保護層の構成材料)
本発明に係る電子写真感光体の保護層は、p型半導体微粒子、n型有機半導体および重合性化合物を含む硬化性組成物の硬化物を含有する。以下、各成分について説明する。
p型半導体微粒子とは、電荷を輸送するキャリアとして正孔(ホール)が用いられる半導体微粒子のことを指す。
反応性有機基を有する表面処理剤としては、p型半導体微粒子の表面に存在するヒドロキシ基等との反応性を有する表面処理剤が用いられる。このような表面処理剤としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。反応性有機基としては、エポキシ基、オキセタン基等のイオン重合性官能基またはラジカル重合性官能基が好ましく、ラジカル重合性官能基がより好ましい。ラジカル重合性官能基は、重合性不飽和基を有する重合性化合物とも反応して、強固な保護層を形成することができる。ラジカル重合性官能基としては、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基等のエチレン性不飽和基が挙げられ、表面処理剤としては、これらのラジカル重合性官能基を有するシランカップリング剤が好ましい。上記のような表面処理剤としては、例えば、下記化学式S−1〜S−36で表される化合物等が挙げられる。
p型半導体微粒子の表面処理方法としては、特に制限されないが、p型半導体微粒子、表面処理剤および溶媒を含むスラリーを調製した後、湿式メディア分散型装置を用いて湿式粉砕および表面処理を行った後、溶媒を除去する方法が挙げられる。
n型有機半導体とは、電荷を輸送するキャリアとして自由電子が用いられる有機半導体のことを指す。
本発明に係る保護層に使用可能な重合性化合物としては、紫外線や電子線等の活性エネルギー線照射により重合(硬化)して、ポリスチレン、ポリ(メタ)アクリレート等、一般に感光体のバインダー樹脂として用いられる樹脂となるモノマーが好適である。特には、スチレン系モノマー、アクリル系モノマー、メタクリル系モノマー、ビニルトルエン系モノマー、酢酸ビニル系モノマー、N−ビニルピロリドン系モノマーが好ましい。
本発明では、硬化性組成物を硬化させることで保護層が形成されるが、硬化性組成物を硬化させる際には、電子線開裂で反応させる方法、ラジカル重合開始剤を添加して、光や熱で反応させる方法等が用いられる。重合開始剤は、光重合開始剤、熱重合開始剤のいずれも使用することができ、光重合開始剤および熱重合開始剤の両方を併用することもできる。
本発明に係る保護層には、上記成分以外に、必要に応じて、n型半導体微粒子、滑剤粒子、レベリング剤(例えば、シリコーンオイル等)、酸化防止剤等の添加剤が含まれてもよい。当該成分は本発明に係る硬化性組成物に添加されてもよい。すなわち、本発明に係る硬化物には、当該成分または/および当該成分の反応物が含まれてもよい。
本発明に係る保護層は、p型半導体微粒子、n型有機半導体、重合性化合物、および必要に応じて添加剤(重合開始剤、p型半導体微粒子以外の無機微粒子、滑剤粒子等)を溶媒中で混合した硬化性組成物(保護層形成用塗布液)を作製し、該硬化性組成物を後述の感光層の上に塗布した後、乾燥および硬化させることにより形成することができる。
本発明で用いられる導電性支持体は、導電性を有するものであればいずれのものでもよく、例えば、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛およびステンレス等の金属をドラムまたはシート状に成形したもの、アルミニウムや銅等の金属箔をプラスチックフィルムにラミネートしたもの、アルミニウム、酸化インジウムおよび酸化スズ等をプラスチックフィルムに蒸着したもの、導電性物質を単独またはバインダー樹脂と共に塗布して導電層を設けた金属、プラスチックフィルムおよび紙等が挙げられる。
本発明に係る感光層は、電荷発生機能と電荷輸送機能を1つの層に付与した単層構造でもよいが、これらの機能を電荷発生層と電荷輸送層とに分離させた複層構造がより好ましい。このような構造とすることで、繰り返し使用に伴う残留電位の上昇を抑制することができる。負帯電性感光体の場合、電荷発生層の上に電荷輸送層が積層されている。正帯電性感光体の場合、電荷輸送層の上に電荷発生層が積層されている。
本発明の感光体に用いられる電荷発生層は、電荷発生物質とバインダー樹脂とを含有することが好ましく、電荷発生物質をバインダー樹脂溶液中に分散させ、塗布し乾燥して形成されることが好ましい。
本発明の感光体に用いられる電荷輸送層は、電荷輸送物質とバインダー樹脂とを含有することが好ましく、電荷輸送物質をバインダー樹脂溶液中に溶解させ、塗布し乾燥して形成されることが好ましい。
本発明においては、導電性支持体上に、感光層および保護層以外の層を有していてもよい。特に、故障防止等の観点から、導電性支持体と感光層との間に、バリア機能と接着機能とを有する中間層を設けることが好ましい。
本発明は、上記の電子写真感光体を具備する画像形成装置についても提供する。
〔製造例1−1〕p型半導体微粒子1の調製
Al2O3およびCu2Oを1:1のモル比で混合し、Ar雰囲気中で1100℃の温度で4日間仮焼結した後、ペレット状に成型し、さらに1100℃で2日間焼結することで焼結体を得た。その後、数100μmまで粗粉砕した後、得られた粗粒子と溶媒とを用い、湿式メディア分散型装置を使用して粉砕し、数平均一次粒子径が20nmのCuAlO2微粒子を得た。なお、数平均一次粒子径は、走査型電子顕微鏡(日本電子株式会社製、JSM−7500F)により10万倍の拡大写真を撮影し、ランダムに300個の粒子をスキャナーにより取り込んだ写真画像(凝集粒子は除いた)を自動画像処理解析装置(株式会社ニレコ製、「LUZEX AP」ソフトウェア ver.1.32)で解析することにより算出した。なお、以下の製造例で得られたp型半導体微粒子についても、同様の方法により数平均一次粒子径を測定した。
In2O3およびCu2Oを1:1のモル比で混合し、Ar雰囲気中で1100℃の温度で4日間仮焼結した後、ペレット状に成型し、さらに1100℃で2日間焼結することで焼結体を得た。その後、数100μmまで粗粉砕した後、得られた粗粒子と溶媒とを用い、湿式メディア分散型装置を使用して粉砕し、数平均一次粒子径20nmのCuInO2微粒子を得た。得られたCuInO2微粒子について、製造例1−1と同様の方法により表面処理を行い、p型半導体微粒子2を調製した。
特開2014−170006号公報および特開2003−286096号公報を参考に、SrCu2O2微粒子を作製した。具体的には、酸化ストロンチウム(SrO)および酸化銅(CuO)を3:7のモル比で混合して、窒素中に酸素が5%以下混入されている雰囲気下、1000℃以上で加熱融解したのち、1000℃以上に保ったまま、一般式SrCu2O2で表される種結晶を接触させ、溶液ひきあげ法によって、SrCu2O2単結晶を得た。その単結晶を、粉砕し、篩がけ(分級)することで、数平均一次粒子径が20nmのSrCu2O2微粒子を得た。得られたSrCu2O2微粒子について、製造例1−1と同様の方法により表面処理を行い、p型半導体微粒子3を調製した。
製造例1−3の酸化ストロンチウム(SrO)を酸化バリウム(BaO)に変更したこと以外は、製造例1−3と同様にして、数平均一次粒子径が20nmのBaCu2O2微粒子を得た。得られたBaCu2O2微粒子について、製造例1−1と同様の方法により表面処理を行い、p型半導体微粒子4を調製した。
特開2015−129765号公報および特開2011−174167号公報を参考に、CuNbO微粒子を作製した。具体的には、酸化銅(Cu2O)および五酸化二ニオブ(Nb2O5)を1:1のモル比でよく混合し、次いで、この混合物の粉末を、錠剤成形機を用いて35MPaに圧縮成形して酸化物の成形物を得た。さらに、この成形物を、アルミナ板上に載せた上述の混合物の粉末上に置いた状態で、950℃に加熱したマッフル炉を用いて、窒素雰囲気下で4時間焼結して焼結体を得た。次いで、得られた焼結体をターゲットとして用い、パルスレーザー蒸着装置を用いてホウケイ酸ガラス基板上に酸化物膜を析出、成長させ、アニール工程を経ることにより、NbとCuとの複合酸化物による酸化物膜を得た。その後、この酸化物膜をホウケイ酸ガラス基板から分離し、粉砕、分級することによって、数平均一次粒子径30nmのCu・Nb複合酸化物(CuNbO)微粒子を得た。得られたCuNbO微粒子について、製造例1−1と同様の方法により表面処理を行い、p型半導体微粒子5を調製した。
製造例1−5の五酸化二ニオブ(Nb2O5)を五酸化二タンタル(Ta2O5)に変更したこと以外は、製造例1−5と同様にして、数平均一次粒子径30nmのCu・Ta複合酸化物(CuTaO)微粒子を得た。得られたCuTaO微粒子について、製造例1−1と同様の方法により表面処理を行い、p型半導体微粒子6を調製した。
製造例1−1において、表面処理剤KBM−503を3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン「KBM−5103」(信越化学工業株式会社製)に変更したこと以外は、製造例1−1と同様にして、p型半導体微粒子7を調製した。
数平均一次粒子径20nmの酸化スズ(SnO2)微粒子(CIKナノテック株式会社製)について、製造例1−1と同様の方法により表面処理を行い、n型半導体微粒子1を調製した。
〔製造例2−1〕ETM01の合成
四つ口フラスコに、ピロメリット酸二無水物300質量部、2−(トリフルオロメチル)アニリン560質量部、およびジメチルホルムアミドを添加し、3時間還流下で加熱した。冷却後、反応混合物を濾過し、沈殿をジメチルホルムアミドで洗浄し、更にエーテルで洗浄し、乾燥した。この生成物をシリカゲルカラムにより精製して、下記化学式の化合物(ETM01)を得た。NMR、IR、MS、元素分析を行い、目的物が得られていることを確認した。
製造例2−1において、2−(トリフルオロメチル)アニリン560質量部を1,2−ジメチルプロピルアミン300質量部に変更したこと以外は、製造例2−1と同様にして、下記化学式の化合物(ETM02)を合成した。
製造例2−1において、ピロメリット酸二無水物300質量部を3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物300質量部に変更し、かつ2−(トリフルオロメチル)アニリン560質量部を2,6−ジメチルアニリン310質量部に変更したこと以外は、製造例2−1と同様にして、下記化学式の化合物ETM03を合成した。
製造例2−1において、ピロメリット酸二無水物300質量部をナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物300質量部に変更し、かつ2−(トリフルオロメチル)アニリン560質量部を4−アミノシクロヘキサンカルボン酸ペンチル600質量部に変更したこと以外は、製造例2−1と同様にして、下記化学式の化合物ETM04を合成した。
製造例2−1において、ピロメリット酸二無水物300質量部をペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水物300質量部に変更し、かつ2−(トリフルオロメチル)アニリン560質量部を1−ヘキシルヘプチルアミン390質量部に変更したこと以外は、製造例2−1と同様にして、下記化学式の化合物ETM05を合成した。
(ETM06aの合成)
四つ口フラスコに、1,5−ベンゾイルナフタレン60質量部およびジエチレングリコールを添加して溶解させ、ヒドラジン一水和物(80%)37.1質量部を加えて加熱した。160℃で4時間還流後、100℃まで冷却し、水酸化ナトリウム24質量部を加えて、加熱した。更に4時間、160℃〜200℃で還流させ、放冷し、結晶を析出させた。析出した針状結晶を濾別し、メタノールで洗浄し、更にヘキサン/ジクロロメタン=4/1(体積比)混合溶媒で再結晶してETM06aを得た。
四つ口フラスコに、無水マレイン酸150質量部およびニトロベンゼンを添加し、加熱還流下で脱水した。ETM06a 31質量部、ヨウ素0.5質量部を加え、200℃で5時間、加熱した。その後、ニトロベンゼンを約2/3まで減圧蒸留で回収、放冷した。酢酸を加えて、結晶を析出させ、濾別した。濾別した粗結晶は、酢酸とアセトンとで洗浄し、乾燥させ、昇華精製により、ETM06bを得た。
製造例2−1において、ピロメリット酸二無水物300質量部を、上記のETM06b 300質量部に変更し、かつ、2−(トリフルオロメチル)アニリン560質量部を1,2−ジメチルプロピルアミン132質量部に変更したこと以外は、製造例2−1と同様にして、下記化学式の化合物ETM06を合成した。
ETM201は、以下に示すスキームにより合成した。
四つ口フラスコに、[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジカルボン酸ジクロライド10質量部、4−エトキシベンゾヒドラジド13.9質量部、および無水ピリジンを加え反応させた。反応混合物を純水に投入して、沈澱を濾過した。沈澱を希塩酸、純水で洗った後、メタノール/エタノール混合溶媒で再結晶することによりETM201aを針状結晶として得た。
ETM201a 15質量部をオキシ塩化リン812質量部中で還流反応させた。オキシ塩化リンを留去させた後、反応生成物を水、メタノールでよく洗った。次いでこれをエタノール/トルエン混合溶媒で再結晶することにより、ETM201を得た。
ETM401は、以下に示すスキームにより合成した。
参照文献(J.Org.Chem.,2002,VOL.67,9392−9396)に従い合成した3−(2−ブロモフェニル)ピリジン23.4質量部を酢酸に溶解し、30%過酸化水素113.4質量部を加え、95℃で5時間加熱撹拌した。反応液を減圧下で90%程度濃縮し、残渣に1%重曹水を加え、酢酸エチルで有機層を抽出した。飽和食塩水で有機層を3回洗浄し、有機層を減圧下で濃縮した。残渣にクロロホルムを加え、オキシ臭化リン43.0質量部を加え、加熱還流を3時間行った。溶媒及び過剰のオキシ臭化リンを減圧下で留去し、残渣をトルエンにて再結晶し、ETM401aを得た。
四つ口フラスコ中で、ETM401a 25.0質量部を脱水エーテルに溶解させ、内温を−75℃に冷却した。次に1.6Mのn−ブチルリチウム/ヘキサン溶液75.1質量部を、内温を−70℃以下に保ちながらゆっくりと加えた。添加後、2時間同温度下で撹拌したのち、ジクロロジフェニルシラン21.2質量部を脱水エーテルに溶解した溶液を、内温−65℃以下を保ちながらゆっくりと加えた。同温度で3時間撹拌したのち、放置して室温まで加温し、さらに2時間撹拌を行った。反応終了後、溶媒を減圧下で留去し、残渣をメチレンクロリド−エタノール混合溶媒で再結晶し、ETM401bを得た。
四つ口フラスコ中で、ETM401b 20.0質量部を酢酸に溶解させ、30%過酸化水素67.6質量部を加え、95℃で5時間加熱撹拌した。反応液を減圧下で90%程度濃縮し、残渣に1%重曹水を加え、酢酸エチルで有機層を抽出した。飽和食塩水で有機層を3回洗浄し、有機層を減圧下で濃縮した。残さにクロロホルムを加え、オキシ臭化リン25.6質量部を加え、加熱還流を3時間行った。溶媒及び過剰のオキシ臭化リンを減圧下で留去し、残渣をトルエンにて再結晶し、ETM401cを得た。
四つ口フラスコ中で、ETM401c 23.0質量部をDMAcに溶解し、カルバゾール34.1質量部、ヨウ化銅23.3質量部、炭酸カリウム16.9質量部、およびL−プロリン1.3質量部を加え、窒素気流下、内温150℃で6時間加熱撹拌を行った。反応終了後、溶媒を減圧下で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒=ヘプタン:メチレンクロリド=9:1(体積比))にて精製し、ETM401の白色粉末を得た。構造は、核磁気共鳴法(1H−NMR、13C−NMR等)およびMASSスペクトル(質量分析法)にて同定した。
ETM501は、以下に示すスキームにより合成した。
四つ口フラスコ中で、ニンヒドリン100質量部、および1,3−ジフェニル−2−プロパノン118質量部をエタノールに添加し、還流するまで加熱した。還流している反応液に、水酸化カリウム9.5質量部を溶解させたメタノール溶液を1時間かけて滴下した。滴下後、還流撹拌を1時間行い、放冷して結晶を析出させ、結晶を濾別してメタノールで洗浄した。アセトニトリルで再結晶して、ETM501aを得た。
ETM501a 130質量部、アセチレンジカルボン酸ジメチル82.9質量部をフラスコに入れ、外温を160℃に設定し、反応液を加熱した。内温が130℃以上になってから2時間加熱撹拌した後、放冷し析出した結晶を濾別した。粗結晶にエタノールとトルエンとを加えて、再結晶にて、ETM501bを得た。
四つ口フラスコ中で、ETM501b 155質量部、マロノニトリル45.7質量部をTHFに加え、外温−10℃で冷却した。内温0℃±5℃で、四塩化炭素に溶解させた四塩化チタン328質量部を滴下した。そのままの温度で30分撹拌した後、ピリジン274質量部を添加した。室温までゆっくり戻し、更に加熱して還流させた。還流状態で8時間反応後、室温に戻してから純水に反応液を添加し、更にトルエンを加えて、分液にてトルエン層を抽出した。トルエン層を希塩酸で洗浄後、水層のpHが中性になるまで水洗を行った。減圧蒸留にて、トルエン層を濃縮し、トルエン−エタノール混合溶液を加え再結晶した。結晶を濾別し、再度再結晶を行って、ETM501を得た。
〔実施例1〕
[導電性支持体]
直径80mmのアルミニウム製の円筒体の表面を切削加工し、表面を細かく粗面化した導電性支持体を用意した。以下に示す方法により、当該導電性支持体上に、中間層、感光層および保護層を順次積層し、電子写真感光体を作製した。
(金属酸化物微粒子〔1〕の調製)
数平均一次粒径が35nmであるルチル型酸化チタン「MT−500SA」(テイカ株式会社製)500質量部、表面処理剤:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン「KBM−503」(信越化学工業株式会社製)65質量部、トルエン1500質量部を撹拌混合した後、ビーズミルにより、ミル滞留時間25分間、温度35℃で湿式解砕処理を行い、得られたスラリーから、減圧蒸留によりトルエンを分離除去した。得られた乾燥物を120℃で2時間加熱することにより、表面処理剤の焼き付けを行った。その後、ピンミルにより粉砕し、有機処理されたルチル型酸化チタンよりなる金属酸化物微粒子〔1〕を得た。
上記の金属酸化物微粒子〔1〕の調製において、表面処理剤として3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの代わりに、メチルハイドロジェンポリシロキサン(MHPS):1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン(信越化学工業株式会社製)を用いたこと以外は同様にして、有機処理されたルチル型酸化チタンよりなる金属酸化物微粒子〔2〕を得た。
(電荷発生層の作製)
≪顔料(CG−1)の合成≫
(1)無定形チタニルフタロシアニンの合成
1,3−ジイミノイソインドリンとチタニウムテトラ−n−ブトキシドとから粗チタニルフタロシアニンを合成し、得られた粗チタニルフタロシアニンを硫酸に溶解させた溶液を、水に注入して結晶を析出させた。この溶液を濾過した後、得られた結晶を水で十分に洗浄して、ウエットペースト品を得た。次いで、ウエットペースト品を冷凍庫にて凍結させ、再度解凍した後、濾過および乾燥することにより、無定型チタニルフタロシアニンを得た。
得られた無定型チタニルフタロシアニンと、(2R,3R)−2,3−ブタンジオールとを、無定型チタニルフタロシアニンに対する(2R,3R)−2,3−ブタンジオールの当量比が0.6となるように、オルトジクロロベンゼン(ODB)中にて混合した。得られた混合物を、60〜70℃で6時間加熱撹拌し、得られた溶液を一夜静置した後、メタノールをさらに添加して結晶を析出させた。この溶液を濾過した後、得られた結晶をメタノールで洗浄することにより、(2R,3R)−2,3−ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを含有する顔料よりなる電荷発生物質(CG−1)を得た。
下記の成分を混合し、循環式超音波ホモジナイザー「RUS−600TCVP」(株式会社日本精機製作所製、19.5kHz、600W)を用いて循環流量40L/Hで0.5時間分散し、電荷発生層形成用塗布液を調製した:
・電荷発生物質(CG−1) 24質量部
・ポリビニルブチラール樹脂 エスレック(登録商標)BL−1(積水化学工業株式会社製)
12質量部
・溶媒:メチルエチルケトン/シクロヘキサノン=4/1(V/V) 400質量部。
電荷輸送物質:4,4’−ジメチル−4’’−(β−フェニルスチリル)トリフェニルアミン225質量部、バインダー樹脂:ポリカーボネート樹脂「Z300」(三菱ガス化学株式会社製)300質量部、酸化防止剤:「Irganox(登録商標)1010」(BASFジャパン株式会社製)6質量部、溶媒:THF(テトラヒドロフラン)1600質量部、溶媒:トルエン400質量部、シリコーンオイル「KF−50」(信越化学工業株式会社製)1質量部を混合し、溶解して電荷輸送層形成用塗布液を調製した。この電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に浸漬コーティング法で塗布し、乾燥膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。
下記の成分を混合撹拌して十分に溶解・分散し、保護層形成用塗布液(硬化性組成物)を調製した:
・p型半導体微粒子1 100質量部
・ETM01 10質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート(サートマー社製) 100質量部
・Irgacure(登録商標)819(BASFジャパン株式会社製)
15質量部
・2−ブタノール 500質量部
この保護層形成用塗布液を、円形スライドホッパー塗布装置を用いて、上記の電荷輸送層上に、塗布して塗布膜を形成した。この塗布膜を室温で20分間乾燥した後、窒素流量が13.5L/minの窒素気流下において、光源としてキセノンランプを用い、当該光源と塗布膜の表面との離間距離を5mmとして、ランプ出力4kWで波長365nmの光(強度:4000mW/cm2、塗布膜における光の照射強度:1800mW/cm2)を1分間照射することにより、層厚2.0μmの保護層を形成し、感光体1を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液のETM01をETM02に変更したこと以外は同様にして、感光体2を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液のETM01をETM03に変更したこと以外は同様にして、感光体3を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液のETM01をETM04に変更したこと以外は同様にして、感光体4を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液のp型半導体微粒子1をp型半導体微粒子3に変更したこと以外は同様にして、感光体5を作製した。
実施例5において、保護層形成用塗布液のETM01をETM05に変更したこと以外は同様にして、感光体6を作製した。
実施例2において、保護層形成用塗布液のp型半導体微粒子1をp型半導体微粒子2に変更したこと以外は同様にして、感光体7を作製した。
実施例2において、保護層形成用塗布液のp型半導体微粒子1をp型半導体微粒子4に変更したこと以外は同様にして、感光体8を作製した。
実施例2において、保護層形成用塗布液のp型半導体微粒子1をp型半導体微粒子5に変更したこと以外は同様にして、感光体9を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液のp型半導体微粒子1をp型半導体微粒子6に変更したこと以外は同様にして、感光体10を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液のETM01をETM06に変更したこと以外は同様にして、感光体11を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液のETM01をETM201に変更したこと以外は同様にして、感光体12を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液のETM01をSigma−Aldrich社製の3,3’,5,5’−テトラ−tert−ブチル−4,4’−ジフェノキノン(ETM311)に変更した以外は同様にして、感光体13を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液のETM01をETM401に変更したこと以外は同様にして、感光体14を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液のETM01をETM501に変更したこと以外は同様にして、感光体15を作製した。
実施例2において、保護層形成用塗布液のp型半導体微粒子1をp型半導体微粒子7に変更したこと以外は同様にして、感光体16を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液を調製する際、ETM01の添加量を5質量部に変更し、代わりにETM02を5質量部添加したこと以外は同様にして、感光体17を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液を調製する際、p型半導体微粒子1の添加量を50質量部に変更し、代わりにp型半導体微粒子3を50質量部添加したこと以外は同様にして、感光体18を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液を調製する際、p型半導体微粒子1の添加量を50質量部に変更し、代わりにn型半導体微粒子1を50質量部添加したこと以外は同様にして、感光体19を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液を調製する際、ETM01を添加しなかったこと以外は同様にして、感光体20を作製した。
実施例1において、保護層形成用塗布液を調製する際、p型半導体微粒子1を添加しなかったこと以外は同様にして、感光体21を作製した。
実施例19において、保護層形成用塗布液を調製する際、ETM01を添加しなかったこと以外は同様にして、感光体22を作製した。
実施例および比較例で得られた各感光体について、以下の評価を行った。
超微小硬度計HM−2000(フィッシャー・インストルメンツ社製)を用いて、各感光体の表面硬度(ユニバーサル硬さ値)を測定した。具体的には、感光体表面に2mNの荷重を10秒間かけ、5秒のクリープ時間後に、再度2mNの荷重を10秒間かけ、初期状態に戻した。膜硬度の値が150N/mm2以上であれば、感光体の耐久性として問題はない。
評価機として、基本的に図1の構成を有するコニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社製「bizhub PRO(登録商標)C8000」のプリント速度を120枚/分に改造したものを用いた。該評価機に各感光体を搭載し、画像性能(残留電位・画像メモリ・ドット再現性・カブリ)を評価した。
上記評価機に、感光体1〜22をそれぞれ搭載し、まず、温度10℃、相対湿度20%RHの低温低湿環境下で、ブラックの位置において内部搭載パターンNo.53/Dot1(規則性を有するドット状に形成された露光パターンの代表的なもの)を転写材「PODグロスコート」(A3サイズ、100g/m2 )(王子製紙株式会社製)上に濃度指示値255にて100枚連続で印字した。この1枚目の露光後電位と100枚目の露光後電位の差ΔVi1を算出した。次いで、同条件の画像を50万枚連続で印字する耐刷試験を行った後、さらに、同条件の画像を100枚連続で印字した。この1枚目の露光後電位と100枚目の露光後電位の差ΔVi2を算出した。ΔVi1およびΔVi2から、下記の評価基準に従って評価した。結果を表1に示す。
B:耐刷前は20V以下、耐刷後は20V超45V以下(合格)
C:耐刷前は20V超40V以下、または、耐刷前は20V以下かつ耐刷後は45V超(不合格)
D:耐刷前から40V超(不合格)。
上記評価機に、感光体1〜22をそれぞれ搭載し、まず、温度10℃、相対湿度20%RHの低温低湿環境下で、ブラックの位置において内部搭載パターンNo.53/Dot1(規則性を有するドット状に形成された露光パターンの代表的なもの)を転写材「PODグロスコート」(A3サイズ、100g/m2 )(王子製紙株式会社製)上に濃度指示値255にて1000枚連続で印字した。
4 :軽微な画像メモリが稀に発生する(実用上問題なし)
3 :軽微な画像メモリが視認できる(実用上問題なし)
2 :軽微でない画像メモリが稀に発生する(実用上問題あり)
1 :軽微でない画像メモリが発生する(実用上問題あり)。
30℃/80%RH環境で、A3/PODグロスコート紙(100g/m2、王子製紙株式会社製)に対し、内部搭載パターンNo.53/Dot1(規則性を有するドット状に形成された露光パターンの代表的なもの)を濃度指示値100にて、1000枚連続で両面印刷した後、ドットの形成状態を倍率100倍の拡大鏡を用いて観察した。次に、耐久試験として、同一パターンを50万枚連続で両面印刷した後、上記と同様にドットの形成状態を評価した。なお、ドット再現性の判定基準は以下のとおりである。
4 :ドットが多少細っている(実用上問題なし)
3 :ドットが細っている(実用上問題なし)
2 :ドットがほとんど形成されていない(実用上問題あり)
1 :ドットが形成されていない(実用上問題あり)。
上記評価機に、感光体1〜22をそれぞれ搭載し、まず、温度10℃、相対湿度20%RHの低温低湿環境下で、ブラックの位置において内部搭載パターンNo.53/Dot1(規則性を有するドット状に形成された露光パターンの代表的なもの)を転写材「PODグロスコート」(A3サイズ、100g/m2 )(王子製紙株式会社製)上に濃度指示値255にて1000枚連続で印字した。
4 :白ベタ画像、黄色ベタ画像のいずれか一方について、拡大すると僅かにカブリが観察される(実用上問題なし)
3 :白ベタ画像、黄色ベタ画像の両方について、拡大するとカブリが観察される(実用上問題なし)
2 :白ベタ画像、黄色ベタ画像のいずれか一方について、目視で僅かにカブリが観察される(実用上問題あり)
1 :白ベタ画像、黄色ベタ画像のいずれか一方について、目立ってカブリが観察される(実用上問題あり)。
2Y,2M,2C,2Bk 帯電手段
3Y,3M,3C,3Bk 露光手段
4Y,4M,4C,4Bk 現像手段
5Y,5M,5C,5Bk 一次転写ローラ
5b 二次転写ローラ
6Y,6M,6C,6Bk,6b クリーニング手段
10Y,10M,10C,10Bk 画像形成ユニット
20 給紙カセット
21 給紙手段
22A,22B,22C,22D 中間ローラ
23 レジストローラ
24 定着手段
25 排紙ローラ
26 排紙トレイ
70 中間転写体ユニット
71,72,73,74 ローラ
77 中間転写体
80 筐体
82L,82R 支持レール
101 導電性支持体
102 中間層
103 電荷発生層
104 電荷輸送層
105 感光層
106 保護層
A 本体
SC 原稿画像読み取り装置
P 転写材
Claims (7)
- 導電性支持体上に、少なくとも感光層および保護層を順次積層してなる電子写真感光体において、
前記保護層が、p型半導体微粒子、n型有機半導体および重合性化合物を含む硬化性組成物の硬化物を含有する、電子写真感光体。 - 前記n型有機半導体が、下記一般式(1)、(2a)、(2b)、(3a)、(3b)、(4)および(5)で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含む、請求項1に記載の電子写真感光体:
Xaは、下記の化学式(1−1)〜(1−5)のいずれかで表される4価の基であり、置換または非置換のC1〜C8アルキル基、置換または非置換のC1〜C8アルコキシ基、ハロゲン原子、置換または非置換のC6〜C18アリール基、シアノ基、ニトロ基およびヒドロキシル基からなる群より選択される少なくとも1つの置換基を有していてもよく、
Xbは、置換または非置換のC6〜C18アリーレン基であり、
A1およびA2は、それぞれ独立して、オキサジアゾリレン基であり、
R21およびR22は、それぞれ独立して、置換または非置換のC6〜C18アリール基であり、その置換基は、水素原子、置換または非置換のC1〜C8アルキル基、置換または非置換のC3〜C12シクロアルキル基、置換または非置換のC1〜C8アルコキシ基、ハロゲン原子、置換または非置換のC6〜C18アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基および置換または非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基からなる群より選択される;
R301〜R304は、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換のC1〜C8アルキル基、置換または非置換のC3〜C12シクロアルキル基、置換または非置換のC1〜C8アルコキシ基、ハロゲン原子、置換または非置換のC6〜C18アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基および置換または非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基からなる群より選択される基であり、互いに連結して環構造を形成してもよく、この際、前記環構造は、芳香環または非芳香環のいずれでもよく、硫黄(S)、窒素(N)および酸素(O)からなる群より選択されるヘテロ原子を少なくとも1つ有してもよい;
R305〜R312は、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換のC1〜C8アルキル基、置換または非置換のC3〜C12シクロアルキル基、置換または非置換のC1〜C8アルコキシ基、ハロゲン原子、置換または非置換のC6〜C18アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基および置換または非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基からなる群より選択される基であり、互いに連結して環構造を形成してもよく、この際、前記環構造は、芳香環または非芳香環のいずれでもよく、硫黄(S)、窒素(N)および酸素(O)からなる群より選択されるヘテロ原子を少なくとも1つ有してもよい;
Q1〜Q6は、それぞれ独立して、炭素原子または窒素原子であり、
R41およびR42は、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C8アルキル基、置換または非置換のC3〜C12シクロアルキル基、置換または非置換のC1〜C8アルコキシ基、置換または非置換のC6〜C18アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基および置換または非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基からなる群より選択される基であり、互いに連結して環構造を形成してもよく、
R43およびR44は、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C8アルキル基、置換または非置換のC3〜C12シクロアルキル基、置換または非置換のC1〜C8アルコキシ基、置換または非置換のC6〜C18アリール基、シアノ基、ニトロ基、置換または非置換のC2〜C24ヘテロアリール基、カルボキシル基および置換または非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基からなる群より選択される基である;
Zは、炭素原子または窒素原子であり、
R51およびR52の少なくとも一方は、ニトリル基または置換もしくは非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基であり、
R53〜R60は、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C8アルキル基、置換または非置換のC6〜C18アリール基および置換または非置換のC1〜C8アルコキシカルボニル基からなる群より選択される基である。 - 前記p型半導体微粒子が、下記化学式(6)〜(8)で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物である、請求項1または2に記載の電子写真感光体:
- 前記p型半導体微粒子が、表面に反応性有機基を有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記重合性化合物が、(メタ)アクリロイル基を有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の電子写真感光体を具備する、画像形成装置。
- 請求項6に記載の画像形成装置を用いて電子写真画像を形成する、画像形成方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016061573A JP6627605B2 (ja) | 2016-03-25 | 2016-03-25 | 電子写真感光体ならびにこれを用いた画像形成装置および画像形成方法 |
US15/448,841 US9964870B2 (en) | 2016-03-25 | 2017-03-03 | Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus and image forming method using the same |
CN201710167456.0A CN107229195B (zh) | 2016-03-25 | 2017-03-21 | 电子照相感光体、使用其的图像形成装置及图像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016061573A JP6627605B2 (ja) | 2016-03-25 | 2016-03-25 | 電子写真感光体ならびにこれを用いた画像形成装置および画像形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017173684A JP2017173684A (ja) | 2017-09-28 |
JP6627605B2 true JP6627605B2 (ja) | 2020-01-08 |
Family
ID=59898596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016061573A Active JP6627605B2 (ja) | 2016-03-25 | 2016-03-25 | 電子写真感光体ならびにこれを用いた画像形成装置および画像形成方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9964870B2 (ja) |
JP (1) | JP6627605B2 (ja) |
CN (1) | CN107229195B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102564613B1 (ko) * | 2016-11-08 | 2023-08-07 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 전자 소자용 화합물 |
JP6885469B2 (ja) * | 2017-09-19 | 2021-06-16 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 電子写真感光体 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0519520A (ja) * | 1991-07-15 | 1993-01-29 | Mita Ind Co Ltd | 電子写真感光体 |
CN1869824A (zh) * | 2005-05-25 | 2006-11-29 | 柯尼卡美能达商用科技株式会社 | 有机感光体、处理盒、图像形成方法及图像形成装置 |
US7390601B2 (en) * | 2005-06-16 | 2008-06-24 | Xerox Corporation | Imaging member comprising modified binder |
JP4741412B2 (ja) * | 2005-09-15 | 2011-08-03 | 株式会社リコー | 画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
JP5495035B2 (ja) * | 2010-03-15 | 2014-05-21 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ |
JP5660460B2 (ja) * | 2011-03-08 | 2015-01-28 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ |
JP5664538B2 (ja) * | 2011-12-20 | 2015-02-04 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体 |
JP6024689B2 (ja) * | 2014-03-14 | 2016-11-16 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体 |
JP6405783B2 (ja) * | 2014-08-11 | 2018-10-17 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体、電子写真画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
JP6048461B2 (ja) * | 2014-08-25 | 2016-12-21 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体、電子写真画像形成方法及び電子写真画像形成装置 |
-
2016
- 2016-03-25 JP JP2016061573A patent/JP6627605B2/ja active Active
-
2017
- 2017-03-03 US US15/448,841 patent/US9964870B2/en active Active
- 2017-03-21 CN CN201710167456.0A patent/CN107229195B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107229195B (zh) | 2020-08-18 |
CN107229195A (zh) | 2017-10-03 |
US20170277050A1 (en) | 2017-09-28 |
US9964870B2 (en) | 2018-05-08 |
JP2017173684A (ja) | 2017-09-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5835065B2 (ja) | 有機感光体及び画像形成装置、画像形成方法 | |
JP6024689B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
US9958796B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor, image forming method, and image forming apparatus | |
JPH04227975A (ja) | フタロシアニンの製造方法 | |
JP6627605B2 (ja) | 電子写真感光体ならびにこれを用いた画像形成装置および画像形成方法 | |
JP2012198278A (ja) | 有機感光体及び画像形成装置、画像形成方法 | |
JP5838625B2 (ja) | 画像形成装置 | |
JP2015169870A (ja) | 電子写真感光体 | |
US7544453B2 (en) | Photoreceptor with improved electron transport | |
JP2001265033A (ja) | 電子写真感光体、並びにそれを用いたプロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP5776366B2 (ja) | 有機感光体及び画像形成装置、画像形成方法 | |
JP6384111B2 (ja) | 電子写真感光体及び電子写真画像形成装置 | |
JP2018013676A (ja) | 電子写真感光体、その製造方法及び電子写真画像形成装置 | |
JP6176268B2 (ja) | 電子写真感光体及び画像形成装置 | |
JP6540149B2 (ja) | 画像形成装置 | |
JP6922679B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、電子写真画像形成方法及び電子写真画像形成装置 | |
JP2001265035A (ja) | 電子写真感光体、並びにそれを用いたプロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP2013254136A (ja) | 電子写真感光体、電子写真画像形成方法及び電子写真画像形成装置 | |
JP6946845B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法及び画像形成装置 | |
JP2018097278A (ja) | 画像形成装置及びプロセスカートリッジ | |
JP6648623B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2018025707A (ja) | 電子写真感光体、電子写真画像形成装置及びプロセスカートリッジ | |
JP2017090609A (ja) | 電子写真感光体およびその製造方法 | |
JP2017111273A (ja) | 電子写真感光体およびその製造方法 | |
JP2019184775A (ja) | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、電子写真画像形成装置、電子写真画像形成方法及びプロセスカートリッジ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190117 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191025 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191105 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191118 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6627605 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |