JP6619698B2 - 半導体装置、及び通信回路 - Google Patents

半導体装置、及び通信回路

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Description

本発明は半導体装置、及び通信回路に関する。
特許文献1には、2つのスパイラルインダクタを備える電圧制御発振器が開示されている。特許文献1の電圧制御発振器では、スパイラルインダクタが基板の表面に設けられている。具体的には、スパイラルインダクタは、最上層配線の上に配置されている。
特開2005−6153号公報
しかしながら、特許文献1に開示された電圧制御発振器では、インダクタの直下に可変キャパシタ及びCMOSで形成された負性抵抗部が配置されている。したがって、インダクタから発生する逆起電流が、負性抵抗部のノイズとなってしまうおそれがある。特に、高速、高周波数で動作している回路では、容量性のインピーダンスが小さくなってしまう。よって、簡単にノイズが伝搬してしまうことが課題となる。このように、特許文献1の回路構成では、インダクタで発生するノイズの影響を受けやすいという問題点がある。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
一実施の形態によれば、半導体装置は、第1のインダクタと、第2のインダクタと、平面視において、第1のインダクタとずれて配置され、第2のインダクタと接続された第2の回路と、を備えたものである。
前記一実施の形態によれば、インダクタで発生するノイズの影響を抑制することができる。
実施の形態1にかかる半導体装置の構成を示す平面図である。 実施の形態1にかかる半導体装置の構成を示す断面図である。 本実施の形態にかかる半導体装置を搭載した通信回路の構成を示す図である。 半導体装置を備えたLNAの一例を示す回路図である。 半導体装置を備えたPAの一例を示す回路図である。 実施の形態2にかかる半導体装置の構成を示す平面図である。 実施の形態2にかかる半導体装置の構成を示す断面図である。 実施の形態3にかかる半導体装置の構成を示す断面図である。 半導体装置のシールドパターンの一例を示す平面図である。 半導体装置のシールドパターンの一例を示す平面図である。 実施の形態4にかかる通信回路の回路構成図である。 図11に示す通信回路の送信モードの動作を説明するための図である。 図11に示す通信回路の受信モードの動作を説明するための図である。 実施の形態5にかかる通信回路の構成を模式的に示す図である。 第1の発振器の回路構成の一例を示す図である。 第2の発振器の回路構成の一例を示す図である。 実施の形態6にかかる半導体装置の構成を示す平面図である。 実施の形態6にかかる半導体装置を搭載した通信回路の一例を示す図である。 変形例にかかる通信回路の構成を示すブロック図である。
説明の明確化のため、以下の記載及び図面は、適宜、省略、及び簡略化がなされている。また、様々な処理を行う機能ブロックとして図面に記載される各要素は、ハードウェア的には、CPU、メモリ、その他の回路で構成することができ、ソフトウェア的には、メモリにロードされたプログラムなどによって実現される。したがって、これらの機能ブロックがハードウェアのみ、ソフトウェアのみ、又はそれらの組合せによっていろいろな形で実現できることは当業者には理解されるところであり、いずれかに限定されるものではない。なお、各図面において、同一の要素には同一の符号が付されており、必要に応じて重複説明は省略されている。
また、上述したプログラムは、様々なタイプの非一時的なコンピュータ可読媒体(non−transitory computer readable medium)を用いて格納され、コンピュータに供給することができる。非一時的なコンピュータ可読媒体は、様々なタイプの実体のある記録媒体(tangible storage medium)を含む。非一時的なコンピュータ可読媒体の例は、磁気記録媒体(例えばフレキシブルディスク、磁気テープ、ハードディスクドライブ)、光磁気記録媒体(例えば光磁気ディスク)、CD−ROM(Read Only Memory)CD−R、CD−R/W、半導体メモリ(例えば、マスクROM、PROM(Programmable ROM)、EPROM(Erasable PROM)、フラッシュROM、RAM(Random Access Memory))を含む。また、プログラムは、様々なタイプの一時的なコンピュータ可読媒体(transitory computer readable medium)によってコンピュータに供給されてもよい。一時的なコンピュータ可読媒体の例は、電気信号、光信号、及び電磁波を含む。一時的なコンピュータ可読媒体は、電線及び光ファイバ等の有線通信路、又は無線通信路を介して、プログラムをコンピュータに供給できる。
実施の形態1.
(半導体装置の構成)
本実施の形態に係る半導体装置の構成について、図1、及び図2を用いて説明する。図1は半導体装置100の構成を示す平面図である。図2は、図1のII−II断面図である。図1、図2に示すように、半導体装置100は、基板101と、第1のインダクタ113と、第2のインダクタ123と、端子141とを備えている。なお、図2では、基板101と垂直な方向をZ方向としている。半導体装置100は、複数のインダクタを有する半導体チップである。図1に示すように、基板101と平行な平面をXY平面としている。X方向、Y方向、及びZ方向は、互いに直交する方向である。
図1に示すように、基板101はX方向、及びY方向に沿った端辺を有する矩形となっている。基板101は、Si基板などの半導体基板である。基板101は、第1の領域110と第2の領域120とを有している。第1の領域110と第2の領域120とは、トランジスタなどの半導体回路が形成される回路形成領域となる。
XY平面視において、第1の領域110と第2の領域120とは、ずれて配置されている。すなわち、XY平面視において、第1の領域110は第2の領域120と重なっていない。第1の領域110と第2の領域120はそれぞれ矩形状となっているが、第1の領域110と第2の領域120の平面形状は特に限定されるものではない。第1の領域110と第2の領域120とは、X方向に隣接して配置されている。
第1の領域110には、第2のインダクタ123が配置されている。第2のインダクタ123は、第2の領域120に設けられた第2の回路132に接続されている。すなわち、第2の領域120に設けられた第2の回路132を介して、第2のインダクタ123に電流が供給される。これにより、第2のインダクタ123が動作する。第2の領域120には、第1のインダクタ113が配置されている。第1のインダクタ113は、第1の領域110に設けられた第1の回路131に接続されている。すなわち、第1の領域110に設けられた第1の回路131を介して、第1のインダクタ113に電流が供給される。これにより、第1のインダクタ113が動作する。第1のインダクタ113、及び第2のインダクタ123は、それぞれ、XY平面視において、渦巻き状に巻かれた配線パターンにより形成されている。
基板101の−Y方向の端部には、端子141が設けられている。図1では、6個の端子がX方向に並んで配列されている。端子141は、第1及び第2の回路に信号を入出力するための入出力端子である。さらに、端子141には、第1のインダクタ113と第2のインダクタ123に流れる電流が供給されていてもよい。
基板101上には、第1の回路131と第2の回路132とが設けられている。第1の回路131は、第1の領域110内に形成されている。第2の回路132は、第1の領域110内に形成されている。第1の回路131、及び第2の回路132は、それぞれのCMOSトランジスタ102やキャパシタ(図2では不図示)などを有する半導体回路である。
さらに、CMOSトランジスタ102の上には、複数の配線層103〜107が形成されている。第1の回路131の各素子を接続する。同様に、複数の配線層103〜107は、第2の回路132の各素子を接続する。
図2では、5層の配線層103〜107が、CMOSトランジスタ102の上に配置されているが、配線層の層数は特に限定されるものではない。配線層103〜107は、配線と、配線を覆うように形成された層間絶縁膜とを備えている。例えば、配線層103は、配線103cと層間絶縁膜103dとを備えている。そして、層間絶縁膜103dが配線103cを覆っている。同様に、配線層104〜107は、それぞれ配線104c〜107cと、層間絶縁膜104d〜107dとを備えている、さらに、異なる配線層の配線103c〜107cは、ビア109を介して接続されている。すなわち、半導体装置100は、異なる層の配線103c〜107cを接続するためのビア109を有している。
第2のインダクタ123、及び第1のインダクタ113は、主に、最上層の配線層である配線層107によって形成されている。さらに、第2のインダクタ123は、第1の領域110から第2の領域120に渡って設けられた配線105cを介して、第2の回路132と接続されている。第1のインダクタ113は、第2の領域120から第1の領域110に渡って設けられた配線106cを介して、第1の回路131に接続されている。なお、第1の領域110から第2の領域120まで延びる配線105c、106cは、配線層105、又は配線層106で設けられているが、配線層103〜107のいずれの層で設けられていてもよい。さらには、第1の領域110と第2の領域120と配線は、2層以上の配線層で設けられていてもよい。
このように、XY平面視において、第1の回路131と第2のインダクタ123とが重複し、第2の回路132と第1のインダクタ113とが重複している。換言すると、XY平面視において、第2のインダクタ123と第2の回路132は重複しておらず、第1のインダクタ113と第1の回路131とは重複していない。
ここで、第1の回路131と第2の回路132とは選択的に動作する。第1の回路131が動作していないときに、第2の回路132が動作する。また、第2の回路132が動作していないときに第1の回路131が動作する。換言すると、第1の回路131と第2の回路132とは同時に動作をしない。
第1の回路131は第1のインダクタ113と接続されている。第2の回路132は第2のインダクタ123と接続されている。したがって、第1の回路131の動作中に、第1のインダクタ113に電流が供給される。第2の回路132の動作中に第1のインダクタ113に電流が供給される。換言すると、第1の回路131の動作中には、第2のインダクタ123には電流が供給されない。第2の回路132の動作中には、第1のインダクタ113には電流が供給されない。
第1の回路131は、第2のインダクタ123の直下に配置されており、XY平面視において、第1のインダクタ113とはずれて配置されている。第2のインダクタ123は、第1のインダクタ113よりも第1の回路131に近接している。ここで、第1の回路131の動作中において、第1のインダクタ113には電流が供給されており、第2のインダクタ123には電流が供給されていない。
上記半導体装置によれば、第1の回路131の動作中には、第2のインダクタ123で逆起電流が発生しないため、第2のインダクタ123は第1の回路131に対するノイズを発生しない。第1の回路131の動作中には、第2のインダクタ123で逆起電流が発生するが、XY平面視において、第1の回路131は第1のインダクタ113とはずれて配置されている。よって、第1のインダクタ113がノイズを発生したとしても、第1の回路131に対する影響はほとんどない。よって、インダクタに起因するノイズの影響を低減することができる。
同様に、上記半導体装置によれば、第2の回路132は、第1のインダクタ113の直下に配置されており、XY平面視において、第2のインダクタ123とはずれて配置されている。第1のインダクタ113は、第2のインダクタ123よりも第2の回路132に近接している。ここで、第2の回路132の動作中において、第2のインダクタ123には電流が供給されており、第1のインダクタ113には電流が供給されていない。
第2の回路132の動作中には、第1のインダクタ113で逆起電流が発生しないため、第1のインダクタ113は第2の回路132に対するノイズを発生しない。第2の回路132の動作中には、第1のインダクタ113で逆起電流が発生するが、XY平面視において、第2の回路132は第2のインダクタ123とはずれて配置されている。よって、第2のインダクタ123がノイズを発生したとしても、第2の回路132に対する影響はほとんどない。よって、インダクタに起因するノイズの影響を低減することができる。
このように、同時に動作する第1の回路131と第1のインダクタ113とが、XY平面視において、重複していない。このため、第1のインダクタ113に起因するノイズが第1の回路131に与える影響を低減することができる。同様に、同時に動作する第2の回路132と第2のインダクタ123とが、XY平面視において、重複していない。このため、第2のインダクタ123に起因するノイズが第2の回路132に与える影響を低減することができる。
また、XY平面視において、同時に動作しない第1の回路131と第2のインダクタ123とが重複している。さらに、XY平面視において、同時に動作しない第2の回路132と第1のインダクタ113とが重複している。したがって、回路面積の増大を抑制することができる。すなわち、第1のインダクタ113、及び第2のインダクタ123は小型化が困難であるため、半導体回路において、第1のインダクタ113、及び第2のインダクタ123が占有する面積が大きくなる。しかしながら、第1のインダクタ113に第2の回路132を重複させ、第2のインダクタ123に第1の回路131を重複させることができる。
このため、上記半導体装置によれば、第1のインダクタ113、第2のインダクタ123の直下の領域を有効に活用することができ、回路面積の増大を抑制することができる。第1のインダクタ113、第2のインダクタ123の直下に、その他の回路が配置できるため、チップサイズを小さくすることが可能である。
また、半導体装置100cは、基板101と、基板101上に形成された第1のインダクタ113と、基板101上に形成され、平面視において第1のインダクタ113とずれて配置された第2のインダクタ123とを備えている。さらに、半導体装置100は、平面視において第2のインダクタ123と重複するように配置され、第2のインダクタ123の非動作時に動作する第1の回路131を備えている。半導体装置100は、平面視において第1のインダクタ113と重複するように配置され、第1のインダクタ113の非動作時に動作する第2の回路132と、を備えている。
この構成により、上記半導体装置によれば、インダクタから発生する逆起電流によるノイズの影響を低減することができる。よって、半導体チップ上の第1のインダクタ113、第2のインダクタ123の下に、その他の回路(第1の回路131、第2の回路132)が配置できチップサイズが小さくできる。
(半導体装置100の適用例)
次に、半導体装置100が適用される通信回路について、図3を用いて説明する。図3は、半導体装置100を搭載した通信回路10の構成を示す図である。通信回路10は、他の機器と無線通信を行うための回路である。そのため、通信回路10は、受信処理を行うための受信回路RXと、送信処理を行うための送信回路TXとを備えている。より具体的には、通信回路10は、アンテナ11と、スイッチ12と、LNA(Low Noise Amplifier)13と、フィルタ14と、ミキサ15と、I/Fフィルタ16と、ベースバンド回路17と、発振器18と、ミキサ19と、フィルタ20と、PA(Power Amplifier)21と、を備えている。
受信回路RXは、アンテナ11と、スイッチ12と、LNA(Low Noise Amplifier)13と、フィルタ14と、ミキサ15と、I/Fフィルタ16と、ベースバンド回路17と、発振器18と、を備えている。送信回路TXは、発振器18と、ミキサ19と、フィルタ20と、PA(Power Amplifier)21と、スイッチ12と、アンテナ11と、を備えている。なお、アンテナ11、スイッチ12、ベースバンド回路17、及び発振器18は、送信回路TXと受信回路RXとで共用されている。
アンテナ11は、空間からの電波を高周波信号として受信し、高周波信号を電波として空間に送信する。スイッチ12は、送信か受信に応じて、高周波信号のパスを切り替える。すなわち、受信時には、スイッチ12は、アンテナ11とLNA13とを接続し、送信時にはアンテナ11とPA21とを接続される。
まず、受信回路RXについて説明する。LNA13にはアンテナ11からスイッチ12を介して高周波信号が受信信号として入力される。LNA13は、受信信号を増幅する受信用アンプ回路である。LNA13は、受信信号をフィルタ14に出力する。フィルタ14は、受信信号に含まれる不要な帯域成分を除去する。そして、フィルタ14からの受信信号は、ミキサ15に入力される。
発振器18は、所定の周波数を有するローカル信号を発生している。発振器18は、ローカル信号をミキサ15に出力する。ミキサ15は、ローカル信号を用いて、受信信号を復調する。ミキサ15により復調された受信信号は、I/Fフィルタ16を介して、ベースバンド回路17に入力される。ベースバンド回路17は、A/D変換器やベースバンドプロセッサ等を有している。ベースバンド回路17は、受信信号に基づいて受信データを生成する。例えば、ベースバンド回路17は、受信信号に対してベースバンド処理を行うことで、受信データを生成する。このようにして、受信回路RXは、受信処理を行う。
次に、送信回路TXについて、説明する。ベースバンド回路17は、D/A変換器などを有しており、送信データに基づいて、ベースバンド信号である送信信号を生成する。ベースバンド回路17は送信信号をミキサ19に出力する。また、発振器18は、ローカル信号をミキサ19に出力する。ミキサ19は、ローカル信号を用いて、送信信号を変調する。ミキサ19は、変調後の送信信号をフィルタ20に出力する。フィルタ20は、送信信号に含まれる不要な帯域成分を除去する。フィルタ20は、送信信号をPA21に出力する。PA21は、送信信号を増幅する送信用アンプ回路である。PA21は、スイッチ12を介して、送信信号をアンテナ11に出力する。このようにして、送信回路TXが送信処理を行う。
通信回路10において、送信処理と受信処理は、択一的に実行される。すなわち、送信処理と受信処理は同時には実行されない。そのため、スイッチ12がアンテナ11の接続先を切り替えている。送信処理が実行されている時には、スイッチ12が信号パスを送信回路側に切り替える。受信処理が実行されている時には、スイッチ12が信号パスを受信回路RX側に切り替える。
そのため、受信回路RXのLNA13と、送信回路TXのPA21とは、選択的に動作する回路となる。したがって、図1、及び図2に示した半導体装置100において、LNA13が、第1の回路131と第1のインダクタ113とを備え、PA21が第2の回路132と第2のインダクタ123とを備えるようにすればよい。これにより、ノイズの影響を抑制することができる。さらに、第1のインダクタ113の直下に送信回路TXの回路素子を配置することでき、第2のインダクタ123の直下に受信回路RXの回路素子を配置することができる。よって、回路面積の増大を抑制することができ、チップを小型化することができる。なお、第1のインダクタ113、第2のインダクタ123と重複する回路素子は、例えば、MOSトランジスタやキャパシタ等である。
図4に、LNA13の回路構成の一例について説明する。図4は、LNA13の構成を簡素化して示す回路図である。図4に示すように、LNA13は、抵抗31、出力端子32、入力端子33、トランジスタ34、インピーダンスマッチング回路35、及びインピーダンスマッチング回路36、を備えている。なお、図4は、説明の明確化のため、適宜LNA13の構成を簡素化した図である。よって、図4に示す以外の構成要素がLNA13に追加されていてもよい。
電源電圧VDDとグランド(GND)との間に、抵抗31とトランジスタ34とインピーダンスマッチング回路35とが直列接続されている。ここでは、電源電圧VDD側に抵抗31が配置され、グランド側にインピーダンスマッチング回路35が配置されている。トランジスタ34は、インピーダンスマッチング回路35と抵抗31との間に配置されている。
トランジスタ34と抵抗31との間のノードが出力端子32に接続されている。出力端子32は、図3で示したフィルタ14に接続されている。トランジスタ34のゲート端子は、インピーダンスマッチング回路36を介して入力端子33に接続されている。入力端子33は、スイッチ12に接続されている。
インピーダンスマッチング回路35、及びインピーダンスマッチング回路36は、インピーダンスを整合するためのインダクタやキャパシタ等を備えた回路である。インピーダンスマッチング回路35又はインピーダンスマッチング回路36に含まれるインダクタが第1のインダクタ113となる。
次に、PA21の回路構成の一例について、図5を用いて説明する。図5は、PA21の回路構成の一例を示す回路図である。PA21は、抵抗41、入力端子42、出力端子43、トランジスタ44、インピーダンスマッチング回路45、インピーダンスマッチング回路46を有している。なお、図5は、説明の明確化のため、適宜PA21の構成を簡素化した図である。よって、図5に示す以外の構成要素がPA21に追加されていてもよい。
電源電圧VDDとグランドとの間に、抵抗41とトランジスタ44とが直列接続されている。抵抗41が電源電圧VDD側に配置され、トランジスタ44がグランド側に配置されている。トランジスタ44のゲートには、インピーダンスマッチング回路45を介して、入力端子42が接続されている。入力端子42は、図3のフィルタ20に接続されている。抵抗41とトランジスタ44との間のノードには、インピーダンスマッチング回路46を介して、出力端子43が接続されている。出力端子43は図3のスイッチ12に接続されている。
インピーダンスマッチング回路45、及びインピーダンスマッチング回路46は、インピーダンスを整合するためのインダクタやキャパシタを備えた回路である。インピーダンスマッチング回路45又はインピーダンスマッチング回路46に含まれるインダクタが第2のインダクタ123となる。
したがって、インピーダンスマッチング回路45又はインピーダンスマッチング回路46に含まれる第2のインダクタ123は、第1の回路131であるLNA13と重複するように配置される。具体的には、インピーダンスマッチング回路45又はインピーダンスマッチング回路46に含まれる第2のインダクタ123は、トランジスタ34又は抵抗31と重複するように配置される。
同様に、第1のインダクタ113は、第2の回路132であるPA21と重複するように配置される。具体的には、インピーダンスマッチング回路35又はインピーダンスマッチング回路36に含まれる第1のインダクタ113は、トランジスタ44又は抵抗41と重複するように配置される。
第1のインダクタ113と重複する第2の回路132は、PA21に限られるものではない。すなわち、第1のインダクタ113と重複する第2の回路132は、送信回路TXの一部又は全部の回路であればよい。例えば、ミキサ19、フィルタ20、PA21の一部の回路を第2の回路132とすることができる。
同様に、インピーダンスマッチング回路45又はインピーダンスマッチング回路46に含まれる第2のインダクタ123と重複する第1の回路131は、LNA13に限られるものではない。すなわち、第2のインダクタ123と重複する第1の回路131は、送信回路TXの一部又は全部の回路であればよい。例えば、LNA13、フィルタ14、ミキサ15、及びI/Fフィルタ16の一部の回路を第1の回路131とすることができる。
また、第1のインダクタ113は、LNA13に含まれるものに限らず、フィルタ14、ミキサ15、又はI/Fフィルタ16に含まれるものであってもよい。同様に、第2のインダクタ123はPA21に含まれるものに限らず、ミキサ19、フィルタ20に含まれるものであってもよい。
このように、本実施の形態にかかる半導体装置は、通信回路10は、選択的に動作する送信回路TXと受信回路RXとを備えている。したがって、受信回路RXに含まれる第1のインダクタ113が送信回路TXの一部に回路(CMOSトランジスタやキャパシタ等)と重複し、送信回路TXに含まれる第2のインダクタ123が受信回路RXに含まれる回路(CMOSトランジスタやキャパシタ等)と重複するような回路配置とする。よって、インダクタに起因するノイズの影響を抑制することができる。
例えば、受信回路RXが動作している時は、第1のインダクタ113と重複する送信回路TXが動作しない。よって、第1のインダクタ113から逆起電流が発生したとしても、送信回路TXには影響がない。また、受信回路RXの第1のインダクタ113以外の回路は、第1のインダクタ113から離れて配置されている。よって、受信回路RXに対して、第1のインダクタ113の逆起電流に起因するノイズの影響はほとんど及ばない。
また、送信回路TXが動作している時は、第2のインダクタ123と重複する送信回路RXが動作しない。よって、第2のインダクタ123から逆起電流が発生したとしても、送信回路TXには影響がない。また、受信回路RXの第2のインダクタ123以外の回路は、第2のインダクタ123から離れて配置されている。よって、受信回路TXに対して、第2のインダクタ123の逆起電流によるノイズの影響はほとんど及ばない。よって、送信処理時、受信処理時の両方において、ノイズの影響を抑制することができる。
実施の形態2.
本実施の形態2にかかる半導体装置100aの構成について、図6、及び図7を用いて説明する。図6は、半導体装置100aの構成を示す平面図であり、図7は、図6のVII−VII断面図である。本実施の形態にかかる半導体装置100aは、実施の形態1の半導体装置100に対して、第1のガードリング116と第2のガードリング126とが追加された構成を有している。なお、第1のガードリング116と第2のガードリング126以外の構成は、半導体装置100と同様であるため、説明を適宜省略する。
第1のガードリング116は、第2のインダクタ123の外側に配置されている。第1のガードリング116は、第2のインダクタ123を囲むように形成されている。第2のガードリング126は、第1のインダクタ113の外側に配置されている。第2のガードリング126は、第1のインダクタ113を囲むように形成されている。第1のガードリング116、及び第2のガードリング126は、配線層103、104によって形成されている。なお、第1のガードリング116、及び第2のガードリング126を形成する配線層は特に限定されるものではない。
第1のガードリング116は、第1の回路131を囲むように、第1の領域110の外側に配置されている。第2のガードリング126は、第2の回路132を囲むように、第2の領域120の外側に配置されている。第1のインダクタ113の一端は第1の第1の回路131に接続され、他端は端子141に接続されている。第2のインダクタ123の一端は、第2の回路132に接続され、他端は端子141に接続されている。端子141を介して第1のガードリング116、及び第2のガードリング126に固定電位を供給する。よって、本実施の形態にかかる半導体装置は、基板101の電位を固定することができる。
また、第1のガードリング116、及び第2のガードリング126の電位は、グランド電位又は電源電位等の固定電位で固定されている。第1のインダクタ113の直下にある第2の回路132の電源ライン又はグランドラインとして、第2のガードリング126が使用される。第2のインダクタ123の直下にある第1の回路131の電源ライン又はグランドラインとして、第1のガードリング116が使用される。第1のガードリング116、及び第2のガードリング126を固定電位とすることで、インダクタの特性の変動を抑制することができる。よって、本実施の形態にかかる半導体装置は、第1のガードリング116、及び第2のガードリング126によって、ノイズの伝搬を削減することができる。
また、第1のガードリング116、及び第2のガードリング126がグランドラインの場合、第1のガードリング116、及び第2のガードリング126がP型拡散層に接続される。第1のガードリング116、及び第2のガードリング126が電源ラインの場合、第1のガードリング116、及び第2のガードリング126がN型拡散層に接続される。こうすることで、基板101へのリークパスが生じにくくなる。さらに、第1のガードリング116、及び第2のガードリング126をN型拡散層に接続すると、基板101とPウェルとで形成される空乏層により、ノイズの伝搬を防ぐことができる。第1の領域110、第2の領域120は、それぞれ、第2のインダクタ123、第1のインダクタ113の完全に内側でなくてよい。すなわち、第1の回路131、第2の回路132の一部が第2のインダクタ123、第1のインダクタ113の外側に配置されていてもよい。
また、本実施の形態にかかる半導体装置100aは、半導体装置100と同様に、通信回路10に搭載されていてもよい。すなわち、第1の回路131と第1のインダクタ113によりLNA13を構成し、第2の回路132と第2のインダクタ123とによりPA21を構成してもよい。
実施の形態3.
本実施の形態にかかる半導体装置100bについて、図8を用いて説明する。半導体装置100bは、半導体装置100aに対して、シールドパターンが追加された構成を有している。なお、半導体装置100bの基本的構成は、半導体装置100、100aと同様であるため、適宜説明を省略する。
第1の回路131、及び第2の回路132は、配線層103〜配線層107を備えている。配線層107は、配線107cと、配線107cを覆うパッシベーション層107eを有している。パッシベーション層107eは、配線層103〜106の各層よりも十分に厚い絶縁膜で形成されている。パッシベーション層107eは、例えば、ポリイミド膜などの樹脂膜で形成されている。配線107cにより、シールドパターン137が形成されている。
配線層107の上には、配線層108が形成されている。配線層108は、最上層配線層になる。最上層の配線層108によって、第1のインダクタ113、第2のインダクタ123が形成されている。よって、Z方向において、第1のインダクタ113と、シールドパターン137の配線107cとの間に他の配線層が配置されていない。Z方向において、第2のインダクタ123と、シールドパターン137の配線107cとの間に他の配線層が配置されていない。
配線層107の配線107cによって、シールドパターン137が形成される。シールドパターン137には、グランド又は電源電位等の固定電位が供給される。パッシベーション層107eは十分に厚いため、最上層の配線層107でシールドパターンを形成しても、容量の影響が小さい。よって、第1のインダクタ113、第2のインダクタ123の自己共振周波数の劣化を伴うことなく、Q値の上昇が見込める。また、シールドパターン137の電位を固定するため、シールドパターン137は周辺回路のグランドライン、電源ラインとして使用できる
XY平面視において、シールドパターン137は、第1のインダクタ113、第2のインダクタ123により生じる渦電流を切るように配置される。よって、本実施の形態にかかる半導体装置は、ノイズの影響をより抑制することができる。図9、図10にシールドパターン137の好適な配置例をそれぞれ示す。図9、図10は、それぞれシールドパターン137の構成を模式的に示す平面図である。
図9では、シールドパターン137は、複数の縦パターン137aと、複数の横パターン137bと、外周パターン137cと、を備えている。縦パターン137aをそれぞれY方向に延びている。横パターン137bはそれぞれX方向に延びている。縦パターン137aと横パターン137bは、渦電流を切るように配置されている。そして、外周パターン137cが複数の縦パターン137aと複数の横パターン137bとを接続している。これにより、シールドパターン137を接地することができる。
図10では、シールドパターン137は、複数のスリットパターン137dと外周パターン137cとを備えている。複数のスリットパターン137dは、Y方向に延びている。スリットパターン137dは、渦電流を横切るように配置されている。複数のスリットパターン137dが外周パターン137cにより接続されている。これにより、シールドパターン137を接地することができる。
実施の形態4.
半導体装置100、半導体装置100a、又は半導体装置100bが適用される通信回路の構成について、図11を用いて説明する。図11は、通信回路50の一部の構成を示す回路図である。具体的には、図11は、図3のアンテナ11とLNA13とフィルタ14とに対応する回路を示している。図11は、受信回路RX1については、アンテナ51から受信側アンプ53までの構成、送信回路TX1については、送信側アンプ54からアンテナ51までの構成を示している。
なお、図11に示す回路は、“13.4 A 6.3mW BLE transceiver embedded RX image-rejection filter and TX harmonic-suppression filter reusing on-chip matching network” 2015 IEEE International Solid-State Circuits Conferenceに基づく回路である。
図11に示す通信回路50では、アンテナの接続先を切り替えるためのスイッチ12が設けられていない。すなわち、通信回路50では、図3に示すスイッチ12を用いずに、受信処理と送信処理とを切り替えている。
通信回路50は、アンテナ51と、端子52と、キャパシタC1〜C3と、インダクタL1、LSと、バラン回路(平衡−不平衡変換器)M1と、受信側アンプ53と、送信側アンプ54と、スイッチ56と、を備えている。
アンテナ51は、端子52と接続されている。端子52は、インダクタLSを介して、受信側アンプ53の入力端子に接続されている。さらに、端子52と受信側アンプ53との間において、スイッチ56がインダクタLSと並列に接続されている。受信側アンプ53は、図3に示したLNA13に相当する回路であり、受信信号を増幅する。スイッチ56は、送信時にONし、受信時にOFFとなる。図11では図示していないが、受信側アンプ53の出力は、例えば、フィルタを介して、ミキサ等に接続される。
また、端子52とグランドとの間には、キャパシタC1とキャパシタC2とが並列に接続されている。また、端子52とキャパシタC2との間には、インダクタL1が配置されている。すなわち、端子52とグランドとの間には、インダクタL1とキャパシタC2が直列に接続されている。
バラン回路M1は2つのインダクタLM1、LM2を有している。インダクタLM1とインダクタLM2とは非接触で磁界結合している。すなわち、バラン回路M1はトランスフォーマ(変圧器)である。バラン回路M1のインダクタLM1は端子52側に配置され、他方のインダクタLM2は送信側アンプ54側に配置される。インダクタLM1の一端は接地され、他端はキャパシタC2及びインダクタL1と接続されている。すなわち、端子52とグランドとの間には、インダクタL1とインダクタLM1が直列に接続されている。また、インダクタL1とグランドとの間には、キャパシタC2とインダクタLM1が並列に接続されている。送信側アンプ54は、インダクタLS、及びバラン回路M1を介して、インダクタL1に結合されている。
インダクタLM2は、送信側アンプ54の2つの出力端子に接続されている。さらに、送信側アンプ54の2つの出力端子には、キャパシタC3が接続されている。すなわち、送信側アンプ54の2つの出力端子の間には、キャパシタC3と、インダクタLM2が並列に接続されている。図11では図示していないが、送信側アンプ54の入力は、例えば、フィルタを介して、ミキサ等に接続される。
送信側アンプ54は、図3に示したPA21に相当する回路であり、送信信号を増幅する。キャパシタC1〜C3は可変キャパシタである。キャパシタC1〜C3の容量を変えることで、インピーダンスを整合させることができる。
まず、通信回路50の送信処理について、図12を用いて説明する。図12は、送信処理時の回路を表している。送信時には、スイッチ56がオンする。したがって、図11に示した受信側アンプ53と、端子52とが導通する。よって、端子52から受信側アンプ53までのパスにおいて、インダクタンス成分が小さくなる。スイッチ56のオン時には、端子52から受信回路RX1を見込んだインピーダンスは、ハイインピーダンスになっている。したがって、送信時には、受信側の信号パスにおいて信号が伝達せずに、送信側の信号パスのみに信号が伝達する。これにより、高周波信号が送信回路TX1の信号パスを伝搬する。
受信側アンプ53は、キャパシタCgsと等価となる。ここで、送信回路TX1において、キャパシタC1、C2、Cgs、インダクタL1がローパスフィルタ(図12の点線枠参照)として機能する。
通信回路50の受信について、図13を用いて説明する。図13は、受信処理時の回路を表している。受信回路RX1がインダクタLSと並列に接続されたスイッチ56とを備えている。受信処理時には、スイッチ56がオフする。スイッチ56のオフ時には、受信回路RX1ではインダクタLSによりインピーダンスがマッチングする。これにより、高周波信号が受信回路RX1の信号パスを伝搬する。この時、キャパシタC1,C3と、インダクタL1と、がノッチフィルタとして機能する(図13の点線枠参照。キャパシタC3’は、バラン回路M1を介して見たキャパシタC3を表す)。
インダクタLM1、LM2の一つ以上を第2のインダクタ123とし、受信回路RX1の受信側アンプ53を第1の回路131とする。すなわち、バラン回路M1と受信側アンプ53は同時に動作しないため、インダクタLM1、LM2の一つ以上を受信側アンプ53と重複するように配置する。また、インダクタLSを第2のインダクタ123とし、送信回路TX1の送信側アンプ54を第2の回路とする。すなわち、インダクタLSと送信側アンプ54は同時に動作しないため、インダクタLSと送信側アンプ54とを重複して配置する。よって、本実施の形態にかかる半導体装置は、ノイズの影響を低減することができる。なお、インダクタLM1、LM2の代わりに、インダクタL1を第2のインダクタ123とすることもできる。
実施の形態5.
実施の形態1〜4では、第1の回路131を受信回路とし、第2の回路132を送信回路としたが、第1の回路131と第2の回路132はこれに限られるものでない。通信回路を、例えば、選択的に用いられる複数の通信方式に対応する回路とすることも可能である。本実施の形態5では、異なる通信方式で通信可能な通信回路に、半導体装置100を適用している。異なる通信方式では、異なる周波数帯の高周波信号を用いて、無線信号を送受信する。なお、通信回路に適用される半導体装置100は、半導体装置100a、又は半導体装置100bであってもよい。
実施の形態5にかかる通信回路200について、図14を用いて説明する。図14は、通信回路200を模式的に示す回路図である。なお、図14は、通信回路を簡略化した図であるため、適宜構成を省略している。例えば、図14では、フィルタやミキサなどは省略されている。
通信回路200は、図1等で示した半導体装置100が搭載されている。本実施の形態では、第1の通信方式で通信を行う回路を第1の回路131とし、第2の通信方式で通信を行う回路を第2の回路132としている。例えば、通信回路200は、WiFi(登録商標)用の通信機器に用いられるものであり、2.4GHz帯を用いた第1の通信方式と、5GHz帯を用いた第2の通信方式により通信を行う。
第1の発振器201と、第2の発振器202と、スイッチ203と、端子204を備えている。第1の発振器201と、第2の発振器202とは、例えば、LC−VCO(Voltage Controlled Oscillator)であり、インダクタとキャパシタなどを有する回路である。第1の発振器201は、2.4GHz帯の高周波を発生する。第2の発振器202は、5GHz帯の高周波を発生する。
スイッチ203は、第1の発振器201と第2の発振器202とを切り替える。スイッチ203は、周波数(通信方式)の切替スイッチとなる。端子204は、アンテナ(不図示)等と接続されている。もちろん、端子204とアンテナとの間には、フィルタやアンプなどが設けられていてもよい。第1の発振器201と第2の発振器202は選択的に動作する。
第1の通信方式による通信と、第2の通信方式による通信とは、選択的に実施される。スイッチ203は、選択された通信方式に応じて信号パスの切替を行う。第1の通信方式で通信を行うときは、端子204を第1の発振器201に接続し、第2の通信方式で通信を行うときは、端子204を第2の第2の発振器202に接続する。スイッチ203は、第1の発振器201と第2の発振器202との間で、信号パスを切り替える。スイッチ203は、第1の通信方式と第2の通信方式とを切り替える。
そして、第1の発振器201に含まれるインダクタを、第1のインダクタ113とし、第2の発振器202に含まれるインダクタを第2のインダクタ123とする。すなわち、第1の発振器201は、図1等に示した第1のインダクタ113と第1の回路131とを有している。第2の発振器202は図1等に示した第2のインダクタ123と第2の回路132とを有している。よって、本実施の形態にかかる半導体装置は、インダクタに起因するノイズを抑制することができる。さらに、回路面積の増大を抑制することもできる。
図15、図16を用いて、第1の発振器201と第2の発振器202の回路構成について説明する。図15は、第1の発振器201の構成を示す回路図である。図16は、第2の発振器202の構成を示す回路図である。なお、図15、及び図16に示す回路図は適宜簡略化されたものである。
図15に示すように、第1の発振器201は、インダクタ部211と、可変キャパシタ部212と、トランジスタ213と、トランジスタ214と、入力端子215と、出力端子216と、トランジスタ217と、を備えている。
入力端子215と、出力端子216との間には、インダクタ部211と可変キャパシタ部212とが並列に接続されている。インダクタ部211の中点に電源電圧VDDが供給される。可変キャパシタ部212は、例えばバラクタにより形成される。
負性抵抗部218は、トランジスタ213、及びトランジスタ214を有している。トランジスタ213と、トランジスタ214は、それぞれNMOSトランジスタである。トランジスタ213のゲートは出力端子216に、ドレインは入力端子215に接続されている。トランジスタ214のドレインは出力端子216に、ゲートは入力端子215に接続されている。
トランジスタ217はNMOSトランジスタである。トランジスタ217のドレインは、トランジスタ213のソースと、トランジスタ214のソースと、に接続されている。トランジスタ217のソースは接地されている。トランジスタ217のゲートは、トランジスタ217のドレインと接続されており、バイアス電圧が印可されるようになっている。
第2の発振器202は、インダクタ部221と、可変キャパシタ部222と、トランジスタ223と、トランジスタ224と、入力端子225と、出力端子226と、トランジスタ227と、を備えている。負性抵抗部228は、トランジスタ223、及びトランジスタ224を有している。第2の発振器202は、第1の発振器201と同様の回路構成となっている。
第2の発振器202のインダクタ部221、可変キャパシタ部222、トランジスタ223、トランジスタ224、入力端子225、出力端子226、トランジスタ227は、それぞれインダクタ部211、可変キャパシタ部212、トランジスタ213、トランジスタ214、入力端子215、出力端子216、トランジスタ217に対応している。したがって、第2の発振器202の詳細な説明は省略する。
インダクタ部211を第1のインダクタ113とし、インダクタ部221を第2のインダクタ123とする。そして、第1の発振器201の第1のインダクタ113以外の回路が、第1の回路131となり、第2の発振器202の第2のインダクタ123以外の回路が、第2の回路132となる。
第1の回路131は、インダクタ部211と、可変キャパシタ部212と、トランジスタ213と、トランジスタ214と、入力端子215と、出力端子216と、トランジスタ217と、の少なくとも一つ以上を有していればよい。例えば、インダクタ部221が負性抵抗部218と重複するように配置される。
第2の回路132は、インダクタ部221と、可変キャパシタ部222と、トランジスタ223と、トランジスタ224と、入力端子225と、出力端子226と、トランジスタ227と、の少なくとも一つ以上を有していればよい。例えば、インダクタ部211が負性抵抗部228と重複するように配置される。
よって、本実施の形態にかかる半導体装置は、インダクタに起因するノイズを抑制することができる。さらに、回路面積の増大を抑制することもできる。
実施の形態6.
本実施の形態に半導体装置において、3つ以上のインダクタを設けることも可能である。以下、3つ以上のインダクタを設けた例について、図17を用いて説明する。図17は、本実施の形態5にかかる半導体装置100cの構成を示す平面図である。なお、インダクタの数は3つ以上であればよいが、説明の明確化のため、以下の説明では、インダクタの数が3つであるとして説明する。また、上記の実施の形態1〜4と共通する内容についても適宜説明を省略する。
半導体装置100cは、第1のインダクタ113と、第2のインダクタ123と、第3のインダクタ153と、を有している。さらに、基板101は、第1の領域110と第2の領域120と第3の領域150とを有している。第1の領域110と第2の領域120と第3の領域150は、X方向に並んでいる。第1の領域110と第2の領域120と第3の領域150は、互いに重なっていない。
第1の領域110には、第1の回路131が配置され、第2の領域120には、第2の回路132が配置され、第3の領域150には、第3の回路135が配置されている。そして、第1の領域110には、第2のインダクタ123が配置され、第2の領域には、第3のインダクタ153が配置され、第3の領域150には第1のインダクタ113が配置されている。
半導体装置100cは、基板101と、基板101上に形成された第1のインダクタ113と、基板101上に形成され、平面視において第1のインダクタ113とずれて配置された第2のインダクタ123とを備えている。さらに、半導体装置100cは、平面視において第2のインダクタ123と重複するように配置され、第2のインダクタ123の非動作時に動作する第1の回路131を備えている。半導体装置100cは、平面視において第1のインダクタ113と重複するように配置され、第1のインダクタ113の非動作時に動作する第3の回路135と、を備えている。
さらに、半導体装置100cは、平面視において第3のインダクタ153と重複するように配置され、第3のインダクタ153の非動作時に動作する第2の回路132を備えている。第1の回路131と第2の回路132と第3の回路135とは選択的に動作する。
このように、3つ以上のインダクタ113、123、153を有する半導体装置100cにおいても、ノイズの影響を低減することができる。平面視において重複するインダクタと回路とが同時に動作しない。換言すると、平面視において、同時に動作する回路とインダクタとがずれて配置される。よって、本実施の形態にかかる半導体装置は、インダクタに起因するノイズの影響を抑制することができる。さらに、インダクタの直下に同時に動作しない回路を配置することができるため、回路面積の増大を抑制することができる。
本実施の形態にかかる半導体装置100cを搭載した通信回路の一例について図18を用いて説明する。図18は、通信回路200aの回路構成を模式的に示す図である。通信回路200aは、図14の通信回路200と同様に、複数の通信方式を切り替えることが可能な回路である。さらに、ここでは、3つの通信方式を切り替える例について説明するが、使用する通信方式の数は、4つ以上であってもよい。
図18に示す通信回路200aは、図14に示す通信回路200に対して、第3の発振器205が追加されている。なお、第3の発振器205以外の構成については、通信回路200と同様であるため、適宜説明を省略する。スイッチ203は、第1の発振器201と、第2の発振器202と、第3の発振器205との間で、信号パスを切り替える。
第1の発振器201は、図15と同様の構成を有している。第1の発振器201は、第1のインダクタ113と第1の回路131とを備えている。すなわち、第1のインダクタ113は、第1の周波数帯の高周波を発生する第1の発振器に201に用いられている。
第2の発振器202は、図16と同様の構成を有している。第2の発振器202は、第2のインダクタ123と第2の回路132とを備えている。すなわち、第2のインダクタ123は、第2の周波数帯の高周波を発生する第2の発振器に202に用いられている。
第3の発振器205は、図15又は図16と同様の構成を有している。第3の発振器205は、第3のインダクタ153と第3の回路135とを備えている。すなわち、第3のインダクタ153は、第3の周波数帯の高周波を発生する第3の発振器に205に用いられている。第3の周波数帯は、第1及び第2の周波数帯と異なる周波数帯である。
そのため、同時に動作するインダクタと回路とが重複して配置されない。よって、本実施の形態にかかる半導体装置は、インダクタに起因するノイズの影響を抑制することができる。さらに、インダクタの直下に同時に動作しない回路を配置することができるため、回路面積の増大を抑制することができる。
変形例
実施の形態6にかかる通信回路の変形例の構成について、図19を用いて説明する。図19は、通信回路300の回路構成を示すブロックである。
説明の明確化のため、図19では、送信回路を適宜省略しており、受信回路のみを示している。通信回路300は、複数の通信規格に準拠した通信を切り替えて実施する。例えば、通信回路300は、LTE(Long Term Evolution)、GSM(登録商標)(global system for mobile communications)、DCS、PCS(pulse code modulation)の通信方式を切り替え可能である。LTE通信では、バンドI,バンドVI,バンドIX、バンドXI,バンドVIIを用いている。それぞれのバンド(周波数帯)が切り替わって用いられる。
LTE通信用の通信回路310は、第1のアンテナ311、スイッチ312、フィルタ313、アンプ314、ミキサ315、フィルタ316、A/Dコンバータ317、及びインターフェース322を備えている。
第1のアンテナ311は、空間からの無線信号を受信する。スイッチ312は、周波数帯に応じて受信信号を切り替えて、フィルタ313に出力する。フィルタ313は、受信信号の不要な周波数帯を除去して、アンプ314に出力する。アンプ314は、受信信号を増幅して、ミキサ315に出力する。ミキサ315は、ローカル信号を用いて、受信信号を復調する。フィルタ316は、復調された受信信号の不要な帯域成分を除去して、A/Dコンバータ337に出力する。A/Dコンバータ337は、アナログの受信信号をデジタル信号に変換する。そしてデジタル信号に変換された受信信号は、デジタルとアナログのインターフェース322から出力される。LTE通信用の通信回路310は、周波数帯に応じて、フィルタ等の回路が切り替わる。バンド毎にフィルタ313とアンプ314とが設けられている。
GSM通信用の通信回路330は、第2のアンテナ331、スイッチプレクサ332、フィルタ333、アンプ334、ミキサ335、フィルタ336、A/Dコンバータ337、及びデジタルとアナログのインターフェース322を備えている。
第2のアンテナ331は、空間からの無線信号を受信する。スイッチプレクサ332は、周波数帯に応じて受信信号を切り替えて、フィルタ333に出力する。フィルタ333は、受信信号の不要な周波数帯を除去して、アンプ334に出力する。アンプ334は、受信信号を増幅して、ミキサ335に出力する。ミキサ335は、ローカル信号を用いて、受信信号を復調する。フィルタ336は、復調された受信信号の不要な帯域成分を除去して、A/Dコンバータ337に出力する。A/Dコンバータ337は、アナログの受信信号をデジタル信号に変換する。そしてデジタル信号に変換された受信信号は、デジタルとアナログのインターフェース322から出力される。
例えば、通信回路310に含まれるインダクタと第1のインダクタ113とし、通信回路330に含まれるインダクタを第2のインダクタ123とする。そして、図1の第1の回路131を通信回路310のインダクタ以外の回路とすればよい。すなわち、第1の回路131は、スイッチ312、フィルタ313、アンプ314、ミキサ315、フィルタ316、及びA/Dコンバータ317の少なくとも一部の回路を備えていればよい
また、図2の第2の回路132を通信回路330のインダクタ以外の回路とすればよい。すなわち、第2の回路132は、スイッチプレクサ332、フィルタ333、アンプ334、ミキサ335、フィルタ336、及びA/Dコンバータ337の少なくとも一部の回路を備えていればよい
そのため、同時に動作するインダクタと回路とが重複して配置されない。よって、本実施の形態にかかる半導体装置は、インダクタに起因するノイズの影響を抑制することができる。さらに、インダクタの直下に同時に動作しない回路を配置することができるため、回路面積の増大を抑制することができる。
さらに、LTE用の通信回路310において、バンドの切替により、回路の動作が切り替えられる場合、本実施の形態にかかる半導体装置100を用いることができる。例えば、バンドIのフィルタやアンプのインダクタを第1のインダクタ113とし、バンドVIのフィルタやアンプのインダクタを第2のインダクタ123とすることもできる。また、送信回路についても同様の切替を行う場合、本実施の形態にかかる半導体装置100を用いることができる。このようにすることで、様々な国の通信規格に対応可能な半導体装置100において、耐ノイズが高く、且つ小型の回路を実現することができる。
なお、上記した実施の形態1〜5は適宜組み合わせることが可能である。例えば、実施の形態3に示したシールドパターンを実施の形態1に用いてもよい。さらに、実施の形態1〜3、5に示した半導体装置100〜100cのいずれも通信回路10、通信回路50、通信回路200、通信回路200a、又は通信回路300に適用することが可能である。
上記実施の形態の一部または全部は、以下の付記のようにも記載され得るが、以下には限られない。
付記
(付記1)
基板と、
前記基板の第1の領域に配置された第1の回路と
前記基板の第2の領域に配置され、前記第1の回路と選択的に動作する第2の回路と、
前記第2の領域に配置され、前記第1の回路に接続された第1のインダクタと、
前記第1の領域に配置され、前記第2の回路に接続された第2のインダクタと、を備えた半導体装置。
(付記2)
平面視において、前記第2のインダクタを囲むように形成された第1のガードリングと、
平面視において、前記第1のインダクタを囲むように形成された第2のガードリングと、をさらに備え
前記第1のガードリングが、前記第1の回路の電源ライン又はグランドラインとなっており、
前記第2のガードリングが、前記第2の回路の電源ライン又はグランドラインとなっている付記1に記載の半導体装置。
(付記3)
前記第1の回路と前記第2の回路に含まれる配線層により形成されたシールドパターンと、
前記配線層が、前記シールドパターンの上に形成されたパッシベーション層、を備え、
前記第1のインダクタと前記第2のインダクタとが前記パッシベーション層の上に配置されている付記1に記載の半導体装置。
(付記4)
前記第1の領域から前記第2の領域に渡って設けられた第1の配線を介して、前記第1の回路と前記第1のインダクタが接続され、
前記第2の領域から前記第1の領域に渡って設けられた第2の配線を介して、前記第2の回路と前記第2のインダクタが接続されている付記1に記載の半導体装置。
(付記5)
前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備えた受信回路と、
前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備えた送信回路と、を備えた付記1に記載の半導体装置。
(付記6)
前記受信回路が受信信号を増幅する受信用アンプ回路を含み、
前記送信回路が送信信号を増幅する送信用アンプ回路を含み、
前記受信用アンプ回路が前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備え、
前記受信用アンプ回路が前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備えている付記5に記載の半導体装置。
(付記7)
付記5に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
無線信号を送受信するアンテナと、
前記受信回路、及び前記送信回路を選択的に前記アンテナへ接続するスイッチと、を備えた通信回路。
(付記8)
付記5に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
前記第1のインダクタと並列に接続されたスイッチと、
前記スイッチ、及び前記第1のインダクタに接続された受信側アンプと、
トランスフォーマを介して、前記第1のインダクタに結合された送信側アンプと、を備え、
受信処理時には前記スイッチがオフし、送信処理時には前記スイッチがオンする付記5に記載の通信回路。
(付記9)
前記第1の回路及び前記第2の回路のそれぞれがキャパシタ及びMOSトランジスタの少なくとも一方を含んでいる付記1に記載の半導体装置。
(付記10)
前記第1の領域と前記第2の領域が隣接して配置されている付記1に記載の半導体装置。
(付記11)
付記1に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
前記第1の回路が第1の周波数帯の高周波信号を用いて通信処理を行い、
前記第2の回路が前記第1の周波数帯と異なる第2の周波数帯の高周波信号を用いて通信処理を行う通信回路。
(付記12)
前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備え、前記第1の周波数帯の高周波信号を発生する第1の発振器を備え、
前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備え、前記第2の周波数帯の高周波信号を発生する第2の発振器と、を有する付記11に記載の通信回路。
(付記13)
前記第1の発振器と前記第2の発振器との間で、信号パスを切り替えるスイッチと、をさらに備えた付記12に記載の通信回路。
(付記14)
基板と、
前記基板上に形成された第1のインダクタと、
前記基板上に形成され、平面視において前記第1のインダクタとずれて配置された第2のインダクタと、
平面視において前記第2のインダクタと重複するように配置され、前記第2のインダクタの非動作時に動作する回路と、
平面視において前記第1のインダクタと重複するように配置され、前記第1のインダクタの非動作時に動作する回路と、を備えた半導体装置。
(付記15)
前記第1のインダクタが第1の周波数帯の高周波信号を発生するための第1の発振器に用いられ、
前記第2のインダクタが前記第2の周波数帯の高周波信号を発生するための第2の発振器に用いられている付記14に記載の半導体装置。
(付記16)
前記基板上に形成され、平面視において第1及び第2のインダクタとずれて配置された第3のインダクタと、
平面視において前記第3のインダクタと重複するように配置され、前記第3のインダクタの非動作時に動作する回路と、を備えた半導体装置。
(付記17)
前記第1のインダクタが第1の周波数帯の高周波信号を発生するための第1の発振器に用いられ、
前記第2のインダクタが前記第1の周波数帯と異なる第2の周波数帯の高周波信号を発生するための第2の発振器に用いられ、
前記第3のインダクタが前記第1及び第2の周波数帯と異なる第3の周波数帯の高周波信号を発生するための第3の発振器に用いられている付記16に記載の半導体装置。
(付記18)
付記15に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
前記第1の周波数帯の高周波信号を用いた第1の通信方式と、前記第2の周波数帯の高周波信号を用いた第2の通信方式とを切り替えるスイッチを備えた通信回路。
(付記19)
基板に設けられた受信回路と送信回路とを備えた通信回路であって、
受信回路は、
前記基板の第1の領域に形成された第1の回路と、
前記基板の第2の領域に形成された第1のインダクタと、を備え、
前記送信回路は、
前記基板の前記第2の領域に形成された第2の回路と、
前記基板の前記第1の領域に形成された第2のインダクタと、を備えた通信回路。
(付記20)
前記第1のインダクタの直下に前記第2の回路が配置され、
前記第2のインダクタの直下に前記第1の回路が配置されている付記19に記載の通信回路。
(付記21)
平面視において、前記第2のインダクタを囲むように形成された第1のガードリングと、
平面視において、前記第1のインダクタを囲むように形成された第2のガードリングと、をさらに備え
前記第1のガードリングが、前記第1の回路の電源ライン又はグランドラインとなっており、
前記第2のガードリングが、前記第2の回路の電源ライン又はグランドラインとなっている付記19に記載の通信回路。
(付記22)
前記第1の回路と前記第2の回路に含まれる配線層により形成されたシールドパターンと、
前記配線層は、前記シールドパターンの上に形成されたパッシベーション層と、を備え、
前記第1のインダクタと前記第2のインダクタとが前記パッシベーション層の上に配置されている付記19に記載の通信回路。
(付記23)
前記受信回路が受信信号を増幅する受信用アンプ回路を含み、
前記送信回路が送信信号を増幅する送信用アンプ回路を含み、
前記受信側アンプが前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備え、
前記送信側アンプが前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備えている付記19に記載の通信回路。
(付記24)
無線信号を送受信するアンテナと、
前記受信回路、及び前記送信回路を選択的に前記アンテナへ接続するスイッチと、を備えた付記19に記載の通信回路。
(付記25)
前記第1のインダクタと並列に接続されたスイッチと、
前記スイッチ、及び前記第1のインダクタに接続された受信側アンプと、
前記送信回路が、トランスフォーマを介して、前記第1のインダクタに結合された送信側アンプと、を備え、
受信処理時には前記スイッチがオフし、送信処理時には前記スイッチがオンする付記19に記載の通信回路。
(付記26)
基板に設けられた第1の通信回路と第2の通信回路とを備えた通信回路であって、
第1の周波数帯の高周波信号を用いて通信処理を行う第1の通信回路は、
第1のインダクタと、
前記基板の第1の領域に形成された1の回路と、を備え、
前記第1の周波数帯と異なる第2の周波数帯の高周波信号を用いて通信処理を行う前記第2の通信回路は、
前記第1の領域に形成された第2のインダクタと、
前記基板の第2の領域に形成された第2の回路と、を備えた通信回路。
(付記27)
前記第1のインダクタが前記第2の領域に形成されている付記26の記載の通信回路。
(付記28)
前記第1のインダクタの直下に前記第2の回路が配置され、
前記第2のインダクタの直下に第1の回路が配置されている付記27に記載の通信回路。
(付記29)
前記第1の通信回路は、前記第1のインダクタを用いて、前記第1の周波数帯の高周波を発生する第1の発振器を備え、
前記第2の通信回路は、前記第2のインダクタを用いて、前記第2の周波数帯の高周波を発生する第2の発振器を備えている付記28に記載の通信回路。
(付記30)
前記第1の発振器と前記第2の発振器との間で、信号パスを切り替えるスイッチをさらに備えた付記29に記載の通信回路。
(付記31)
前記第1の周波数帯と前記第2の周波数帯と異なる第3の周波数帯を用いて通信を行う第3の通信回路を備え、
前記第3の通信回路は、
前記基板の第3の領域に形成された第3の回路と、
前記2の領域に形成された第3のインダクタと、を備えている付記26に記載の通信回路。
(付記32)
前記第1の通信回路は、前記第1のインダクタを用いて、第1の周波数帯の高周波を発生する第1の発振器を備え、
前記第2の通信回路は、前記第2のインダクタを用いて、第2の周波数帯の高周波を発生する第2の発振器を備え、
前記第3の通信回路は、前記第3のインダクタを用いて、第3の周波数帯の高周波を発生する第3の発振器を備えている付記31に記載の通信回路。
(付記33)
前記第1〜第3の発振器の間で、信号パスを切り替えるスイッチをさらに備えた付記32に記載の通信回路。
(付記34)
平面視において、前記第2のインダクタを囲むように形成された第1のガードリングと、
平面視において、前記第1のインダクタを囲むように形成された第2のガードリングと、をさらに備え
前記第1のガードリングが、前記第1のインダクタと重複する前記回路の電源ライン又はグランドラインとなっており、
前記第2のガードリングが、前記第2のインダクタと重複する前記回路の電源ライン又はグランドラインとなっており、付記14に記載の半導体装置。
(付記35)
前記第1及び第2のインダクタよりも下層の配線層により形成されたシールドパターンと、
前記第1及び第2のインダクタより下層に配置され、前記シールドパターンを覆うように設けられたパッシベーション層と、をさらに備える付記14に記載の半導体装置。
(付記36)
前記受信用アンプ回路が、前記第1のインダクタ及び第1の回路を有するインピーダンスマッチング回路を備え、
前記送信用アンプ回路が、前記第2のインダクタ及び第2の回路を有するインピーダンスマッチング回路を備えている付記6に記載の半導体装置。
(付記37)
前記受信用アンプ回路が、前記第1のインダクタ及び第1の回路を有するインピーダンスマッチング回路を備え、
前記送信用アンプ回路が、前記第2のインダクタ及び第2の回路を有するインピーダンスマッチング回路を備えている付記23に記載の通信回路。
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は既に述べた実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能であることはいうまでもない。
10 通信回路
11 アンテナ
12 スイッチ
13 LNA
14 フィルタ
15 ミキサ
16 I/Fフィルタ
17 ベースバンド回路
18 発振器
19 ミキサ
20 フィルタ
21 PA
31 抵抗
32 出力端子
33 入力端子
34 トランジスタ
35 インピーダンスマッチング回路
36 インピーダンスマッチング回路
41 抵抗
42 入力端子
43 出力端子
44 トランジスタ
45 インピーダンスマッチング回路
46 インピーダンスマッチング回路
100 半導体装置
101 基板
102 CMOSトランジスタ
103〜107 配線層
107e パッシベーション層
109 ビア
110 第1の領域
113 第1のインダクタ
116 第1のガードリング
120 第2の領域
123 第2のインダクタ
126 第2のガードリング
131 第1の回路
132 第2の回路
141 端子
RX 受信回路
TX 送信回路

Claims (20)

  1. 基板と、
    前記基板の第1の領域に配置された第1の回路と
    前記基板の第2の領域に配置され、前記第1の回路と選択的に動作する第2の回路と、
    前記第2の領域に配置され、前記第1の回路に接続された第1のインダクタと、
    前記第1の領域に配置され、前記第2の回路に接続された第2のインダクタと、を備えた半導体装置。
  2. 平面視において、前記第2のインダクタを囲むように形成された第1のガードリングと、
    平面視において、前記第1のインダクタを囲むように形成された第2のガードリングと、をさらに備え
    前記第1のガードリングが、前記第1の回路の電源ライン又はグランドラインとなっており、
    前記第2のガードリングが、前記第2の回路の電源ライン又はグランドラインとなっている請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記第1の回路と前記第2の回路に含まれる配線層により形成されたシールドパターンと、
    前記配線層が、前記シールドパターンの上に形成されたパッシベーション層、を備え、
    前記第1のインダクタと前記第2のインダクタとが前記パッシベーション層の上に配置されている請求項1に記載の半導体装置。
  4. 前記第1の領域から前記第2の領域に渡って設けられた第1の配線を介して、前記第1の回路と前記第1のインダクタが接続され、
    前記第2の領域から前記第1の領域に渡って設けられた第2の配線を介して、前記第2の回路と前記第2のインダクタが接続されている請求項1に記載の半導体装置。
  5. 前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備えた受信回路と、
    前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備えた送信回路と、を備えた請求項1に記載の半導体装置。
  6. 前記受信回路が受信信号を増幅する受信用アンプ回路を含み、
    前記送信回路が送信信号を増幅する送信用アンプ回路を含み、
    前記受信用アンプ回路が前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備え、
    前記送信用アンプ回路が前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備えている請求項5に記載の半導体装置。
  7. 請求項5に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
    無線信号を送受信するアンテナと、
    前記受信回路、及び前記送信回路を選択的に前記アンテナへ接続するスイッチと、を備えた通信回路。
  8. 請求項5に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
    前記受信回路が前記第1のインダクタと並列に接続されたスイッチと、
    前記スイッチ、及び前記第1のインダクタに接続された受信側アンプと、
    トランスフォーマを介して、前記第のインダクタに結合された送信側アンプと、を備え、
    受信処理時には、前記スイッチがオフし、送信処理時には前記スイッチがオンする通信回路。
  9. 前記第1の回路及び前記第2の回路のそれぞれがキャパシタ及びMOSトランジスタの少なくとも一方を含んでいる請求項1に記載の半導体装置。
  10. 前記第1の領域と前記第2の領域が隣接して配置されている請求項1に記載の半導体装置。
  11. 請求項1に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
    前記第1の回路が第1の周波数帯の高周波信号を用いて通信処理を行い、
    前記第2の回路が前記第1の周波数帯と異なる第2の周波数帯の高周波信号を用いて通信処理を行う通信回路。
  12. 前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備え、前記第1の周波数帯の高周波信号を発生する第1の発振器を備え、
    前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備え、前記第2の周波数帯の高周波信号を発生する第2の発振器と、を有する請求項11に記載の通信回路。
  13. 前記第1の発振器と前記第1の発振器との間で、信号パスを切り替えるスイッチと、をさらに備えた請求項12に記載の通信回路。
  14. 基板と、
    前記基板上に形成された第1のインダクタと、
    前記基板上に形成され、平面視において前記第1のインダクタとずれて配置された第2のインダクタと、
    平面視において前記第2のインダクタと重複するように配置され、前記第2のインダクタの非動作時に動作する回路と、
    平面視において前記第1のインダクタと重複するように配置され、前記第1のインダクタの非動作時に動作する回路と、を備えた半導体装置。
  15. 前記第1のインダクタが第1の周波数帯の高周波信号を発生するための第1の発振器に用いられ、
    前記第2のインダクタが第2の周波数帯の高周波信号を発生するための第2の発振器に用いられている請求項14に記載の半導体装置。
  16. 前記基板上に形成され、平面視において第1及び第2のインダクタとずれて配置された第3のインダクタと、
    平面視において前記第3のインダクタと重複するように配置され、前記第3のインダクタの非動作時に動作する回路と、を備えた請求項14に記載の半導体装置。
  17. 前記第1のインダクタが第1の周波数帯の高周波信号を発生するための第1の発振器に用いられ、
    前記第2のインダクタが前記第1の周波数帯と異なる第2の周波数帯の高周波信号を発生するための第2の発振器に用いられ、
    前記第3のインダクタが前記第1及び第2の周波数帯と異なる第3の周波数帯の高周波信号を発生するための第3の発振器に用いられている請求項16に記載の半導体装置。
  18. 請求項15に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
    前記第1の周波数帯の高周波信号を用いた第1の通信方式と、前記第2の周波数帯の高周波信号を用いた第2の通信方式とを切り替えるスイッチを備えた通信回路。
  19. 基板に設けられた受信回路と送信回路とを備えた通信回路であって、
    受信回路は、
    前記基板の第1の領域に形成された第1の回路と、
    前記基板の第2の領域に形成された第1のインダクタと、を備え、
    前記送信回路は、
    前記基板の前記第2の領域に形成された第2の回路と、
    前記基板の前記第1の領域に形成された第2のインダクタと、を備えた通信回路。
  20. 前記第1のインダクタの直下に前記第2の回路が配置され、
    前記第2のインダクタの直下に前記第1の回路が配置されている請求項19に記載の通信回路。
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