JP6619698B2 - 半導体装置、及び通信回路 - Google Patents
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- 238000004891 communication Methods 0.000 title claims description 152
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 113
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 78
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 50
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 51
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 19
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0207—Geometrical layout of the components, e.g. computer aided design; custom LSI, semi-custom LSI, standard cell technique
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B1/00—Details of transmission systems, not covered by a single one of groups H04B3/00 - H04B13/00; Details of transmission systems not characterised by the medium used for transmission
- H04B1/38—Transceivers, i.e. devices in which transmitter and receiver form a structural unit and in which at least one part is used for functions of transmitting and receiving
- H04B1/40—Circuits
- H04B1/44—Transmit/receive switching
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/5226—Via connections in a multilevel interconnection structure
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/5227—Inductive arrangements or effects of, or between, wiring layers
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/528—Geometry or layout of the interconnection structure
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/552—Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
- H01L23/585—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries comprising conductive layers or plates or strips or rods or rings
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/06—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
- H01L27/0611—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region
- H01L27/0617—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region comprising components of the field-effect type
- H01L27/0629—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region comprising components of the field-effect type in combination with diodes, or resistors, or capacitors
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- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
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- H01L27/085—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
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- H03B—GENERATION OF OSCILLATIONS, DIRECTLY OR BY FREQUENCY-CHANGING, BY CIRCUITS EMPLOYING ACTIVE ELEMENTS WHICH OPERATE IN A NON-SWITCHING MANNER; GENERATION OF NOISE BY SUCH CIRCUITS
- H03B5/00—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input
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- H03B—GENERATION OF OSCILLATIONS, DIRECTLY OR BY FREQUENCY-CHANGING, BY CIRCUITS EMPLOYING ACTIVE ELEMENTS WHICH OPERATE IN A NON-SWITCHING MANNER; GENERATION OF NOISE BY SUCH CIRCUITS
- H03B5/00—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input
- H03B5/08—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising lumped inductance and capacitance
- H03B5/12—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising lumped inductance and capacitance active element in amplifier being semiconductor device
- H03B5/1228—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising lumped inductance and capacitance active element in amplifier being semiconductor device the amplifier comprising one or more field effect transistors
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- H03B—GENERATION OF OSCILLATIONS, DIRECTLY OR BY FREQUENCY-CHANGING, BY CIRCUITS EMPLOYING ACTIVE ELEMENTS WHICH OPERATE IN A NON-SWITCHING MANNER; GENERATION OF NOISE BY SUCH CIRCUITS
- H03B5/00—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input
- H03B5/08—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising lumped inductance and capacitance
- H03B5/12—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising lumped inductance and capacitance active element in amplifier being semiconductor device
- H03B5/1237—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising lumped inductance and capacitance active element in amplifier being semiconductor device comprising means for varying the frequency of the generator
- H03B5/124—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising lumped inductance and capacitance active element in amplifier being semiconductor device comprising means for varying the frequency of the generator the means comprising a voltage dependent capacitance
- H03B5/1243—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising lumped inductance and capacitance active element in amplifier being semiconductor device comprising means for varying the frequency of the generator the means comprising a voltage dependent capacitance the means comprising voltage variable capacitance diodes
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- H03F3/00—Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
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- H01L27/06—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
- H01L27/0611—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region
- H01L27/0617—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region comprising components of the field-effect type
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- H03B—GENERATION OF OSCILLATIONS, DIRECTLY OR BY FREQUENCY-CHANGING, BY CIRCUITS EMPLOYING ACTIVE ELEMENTS WHICH OPERATE IN A NON-SWITCHING MANNER; GENERATION OF NOISE BY SUCH CIRCUITS
- H03B2200/00—Indexing scheme relating to details of oscillators covered by H03B
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- H03B—GENERATION OF OSCILLATIONS, DIRECTLY OR BY FREQUENCY-CHANGING, BY CIRCUITS EMPLOYING ACTIVE ELEMENTS WHICH OPERATE IN A NON-SWITCHING MANNER; GENERATION OF NOISE BY SUCH CIRCUITS
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- H03B2201/02—Varying the frequency of the oscillations by electronic means
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
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- H03F2200/294—Indexing scheme relating to amplifiers the amplifier being a low noise amplifier [LNA]
-
- H—ELECTRICITY
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- H—ELECTRICITY
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Description
(半導体装置の構成)
本実施の形態に係る半導体装置の構成について、図1、及び図2を用いて説明する。図1は半導体装置100の構成を示す平面図である。図2は、図1のII−II断面図である。図1、図2に示すように、半導体装置100は、基板101と、第1のインダクタ113と、第2のインダクタ123と、端子141とを備えている。なお、図2では、基板101と垂直な方向をZ方向としている。半導体装置100は、複数のインダクタを有する半導体チップである。図1に示すように、基板101と平行な平面をXY平面としている。X方向、Y方向、及びZ方向は、互いに直交する方向である。
次に、半導体装置100が適用される通信回路について、図3を用いて説明する。図3は、半導体装置100を搭載した通信回路10の構成を示す図である。通信回路10は、他の機器と無線通信を行うための回路である。そのため、通信回路10は、受信処理を行うための受信回路RXと、送信処理を行うための送信回路TXとを備えている。より具体的には、通信回路10は、アンテナ11と、スイッチ12と、LNA(Low Noise Amplifier)13と、フィルタ14と、ミキサ15と、I/Fフィルタ16と、ベースバンド回路17と、発振器18と、ミキサ19と、フィルタ20と、PA(Power Amplifier)21と、を備えている。
本実施の形態2にかかる半導体装置100aの構成について、図6、及び図7を用いて説明する。図6は、半導体装置100aの構成を示す平面図であり、図7は、図6のVII−VII断面図である。本実施の形態にかかる半導体装置100aは、実施の形態1の半導体装置100に対して、第1のガードリング116と第2のガードリング126とが追加された構成を有している。なお、第1のガードリング116と第2のガードリング126以外の構成は、半導体装置100と同様であるため、説明を適宜省略する。
本実施の形態にかかる半導体装置100bについて、図8を用いて説明する。半導体装置100bは、半導体装置100aに対して、シールドパターンが追加された構成を有している。なお、半導体装置100bの基本的構成は、半導体装置100、100aと同様であるため、適宜説明を省略する。
半導体装置100、半導体装置100a、又は半導体装置100bが適用される通信回路の構成について、図11を用いて説明する。図11は、通信回路50の一部の構成を示す回路図である。具体的には、図11は、図3のアンテナ11とLNA13とフィルタ14とに対応する回路を示している。図11は、受信回路RX1については、アンテナ51から受信側アンプ53までの構成、送信回路TX1については、送信側アンプ54からアンテナ51までの構成を示している。
実施の形態1〜4では、第1の回路131を受信回路とし、第2の回路132を送信回路としたが、第1の回路131と第2の回路132はこれに限られるものでない。通信回路を、例えば、選択的に用いられる複数の通信方式に対応する回路とすることも可能である。本実施の形態5では、異なる通信方式で通信可能な通信回路に、半導体装置100を適用している。異なる通信方式では、異なる周波数帯の高周波信号を用いて、無線信号を送受信する。なお、通信回路に適用される半導体装置100は、半導体装置100a、又は半導体装置100bであってもよい。
本実施の形態に半導体装置において、3つ以上のインダクタを設けることも可能である。以下、3つ以上のインダクタを設けた例について、図17を用いて説明する。図17は、本実施の形態5にかかる半導体装置100cの構成を示す平面図である。なお、インダクタの数は3つ以上であればよいが、説明の明確化のため、以下の説明では、インダクタの数が3つであるとして説明する。また、上記の実施の形態1〜4と共通する内容についても適宜説明を省略する。
実施の形態6にかかる通信回路の変形例の構成について、図19を用いて説明する。図19は、通信回路300の回路構成を示すブロックである。
付記
(付記1)
基板と、
前記基板の第1の領域に配置された第1の回路と
前記基板の第2の領域に配置され、前記第1の回路と選択的に動作する第2の回路と、
前記第2の領域に配置され、前記第1の回路に接続された第1のインダクタと、
前記第1の領域に配置され、前記第2の回路に接続された第2のインダクタと、を備えた半導体装置。
(付記2)
平面視において、前記第2のインダクタを囲むように形成された第1のガードリングと、
平面視において、前記第1のインダクタを囲むように形成された第2のガードリングと、をさらに備え
前記第1のガードリングが、前記第1の回路の電源ライン又はグランドラインとなっており、
前記第2のガードリングが、前記第2の回路の電源ライン又はグランドラインとなっている付記1に記載の半導体装置。
(付記3)
前記第1の回路と前記第2の回路に含まれる配線層により形成されたシールドパターンと、
前記配線層が、前記シールドパターンの上に形成されたパッシベーション層、を備え、
前記第1のインダクタと前記第2のインダクタとが前記パッシベーション層の上に配置されている付記1に記載の半導体装置。
(付記4)
前記第1の領域から前記第2の領域に渡って設けられた第1の配線を介して、前記第1の回路と前記第1のインダクタが接続され、
前記第2の領域から前記第1の領域に渡って設けられた第2の配線を介して、前記第2の回路と前記第2のインダクタが接続されている付記1に記載の半導体装置。
(付記5)
前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備えた受信回路と、
前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備えた送信回路と、を備えた付記1に記載の半導体装置。
(付記6)
前記受信回路が受信信号を増幅する受信用アンプ回路を含み、
前記送信回路が送信信号を増幅する送信用アンプ回路を含み、
前記受信用アンプ回路が前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備え、
前記受信用アンプ回路が前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備えている付記5に記載の半導体装置。
(付記7)
付記5に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
無線信号を送受信するアンテナと、
前記受信回路、及び前記送信回路を選択的に前記アンテナへ接続するスイッチと、を備えた通信回路。
(付記8)
付記5に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
前記第1のインダクタと並列に接続されたスイッチと、
前記スイッチ、及び前記第1のインダクタに接続された受信側アンプと、
トランスフォーマを介して、前記第1のインダクタに結合された送信側アンプと、を備え、
受信処理時には前記スイッチがオフし、送信処理時には前記スイッチがオンする付記5に記載の通信回路。
(付記9)
前記第1の回路及び前記第2の回路のそれぞれがキャパシタ及びMOSトランジスタの少なくとも一方を含んでいる付記1に記載の半導体装置。
(付記10)
前記第1の領域と前記第2の領域が隣接して配置されている付記1に記載の半導体装置。
(付記11)
付記1に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
前記第1の回路が第1の周波数帯の高周波信号を用いて通信処理を行い、
前記第2の回路が前記第1の周波数帯と異なる第2の周波数帯の高周波信号を用いて通信処理を行う通信回路。
(付記12)
前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備え、前記第1の周波数帯の高周波信号を発生する第1の発振器を備え、
前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備え、前記第2の周波数帯の高周波信号を発生する第2の発振器と、を有する付記11に記載の通信回路。
(付記13)
前記第1の発振器と前記第2の発振器との間で、信号パスを切り替えるスイッチと、をさらに備えた付記12に記載の通信回路。
(付記14)
基板と、
前記基板上に形成された第1のインダクタと、
前記基板上に形成され、平面視において前記第1のインダクタとずれて配置された第2のインダクタと、
平面視において前記第2のインダクタと重複するように配置され、前記第2のインダクタの非動作時に動作する回路と、
平面視において前記第1のインダクタと重複するように配置され、前記第1のインダクタの非動作時に動作する回路と、を備えた半導体装置。
(付記15)
前記第1のインダクタが第1の周波数帯の高周波信号を発生するための第1の発振器に用いられ、
前記第2のインダクタが前記第2の周波数帯の高周波信号を発生するための第2の発振器に用いられている付記14に記載の半導体装置。
(付記16)
前記基板上に形成され、平面視において第1及び第2のインダクタとずれて配置された第3のインダクタと、
平面視において前記第3のインダクタと重複するように配置され、前記第3のインダクタの非動作時に動作する回路と、を備えた半導体装置。
(付記17)
前記第1のインダクタが第1の周波数帯の高周波信号を発生するための第1の発振器に用いられ、
前記第2のインダクタが前記第1の周波数帯と異なる第2の周波数帯の高周波信号を発生するための第2の発振器に用いられ、
前記第3のインダクタが前記第1及び第2の周波数帯と異なる第3の周波数帯の高周波信号を発生するための第3の発振器に用いられている付記16に記載の半導体装置。
(付記18)
付記15に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
前記第1の周波数帯の高周波信号を用いた第1の通信方式と、前記第2の周波数帯の高周波信号を用いた第2の通信方式とを切り替えるスイッチを備えた通信回路。
(付記19)
基板に設けられた受信回路と送信回路とを備えた通信回路であって、
受信回路は、
前記基板の第1の領域に形成された第1の回路と、
前記基板の第2の領域に形成された第1のインダクタと、を備え、
前記送信回路は、
前記基板の前記第2の領域に形成された第2の回路と、
前記基板の前記第1の領域に形成された第2のインダクタと、を備えた通信回路。
(付記20)
前記第1のインダクタの直下に前記第2の回路が配置され、
前記第2のインダクタの直下に前記第1の回路が配置されている付記19に記載の通信回路。
(付記21)
平面視において、前記第2のインダクタを囲むように形成された第1のガードリングと、
平面視において、前記第1のインダクタを囲むように形成された第2のガードリングと、をさらに備え
前記第1のガードリングが、前記第1の回路の電源ライン又はグランドラインとなっており、
前記第2のガードリングが、前記第2の回路の電源ライン又はグランドラインとなっている付記19に記載の通信回路。
(付記22)
前記第1の回路と前記第2の回路に含まれる配線層により形成されたシールドパターンと、
前記配線層は、前記シールドパターンの上に形成されたパッシベーション層と、を備え、
前記第1のインダクタと前記第2のインダクタとが前記パッシベーション層の上に配置されている付記19に記載の通信回路。
(付記23)
前記受信回路が受信信号を増幅する受信用アンプ回路を含み、
前記送信回路が送信信号を増幅する送信用アンプ回路を含み、
前記受信側アンプが前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備え、
前記送信側アンプが前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備えている付記19に記載の通信回路。
(付記24)
無線信号を送受信するアンテナと、
前記受信回路、及び前記送信回路を選択的に前記アンテナへ接続するスイッチと、を備えた付記19に記載の通信回路。
(付記25)
前記第1のインダクタと並列に接続されたスイッチと、
前記スイッチ、及び前記第1のインダクタに接続された受信側アンプと、
前記送信回路が、トランスフォーマを介して、前記第1のインダクタに結合された送信側アンプと、を備え、
受信処理時には前記スイッチがオフし、送信処理時には前記スイッチがオンする付記19に記載の通信回路。
(付記26)
基板に設けられた第1の通信回路と第2の通信回路とを備えた通信回路であって、
第1の周波数帯の高周波信号を用いて通信処理を行う第1の通信回路は、
第1のインダクタと、
前記基板の第1の領域に形成された1の回路と、を備え、
前記第1の周波数帯と異なる第2の周波数帯の高周波信号を用いて通信処理を行う前記第2の通信回路は、
前記第1の領域に形成された第2のインダクタと、
前記基板の第2の領域に形成された第2の回路と、を備えた通信回路。
(付記27)
前記第1のインダクタが前記第2の領域に形成されている付記26の記載の通信回路。
(付記28)
前記第1のインダクタの直下に前記第2の回路が配置され、
前記第2のインダクタの直下に第1の回路が配置されている付記27に記載の通信回路。
(付記29)
前記第1の通信回路は、前記第1のインダクタを用いて、前記第1の周波数帯の高周波を発生する第1の発振器を備え、
前記第2の通信回路は、前記第2のインダクタを用いて、前記第2の周波数帯の高周波を発生する第2の発振器を備えている付記28に記載の通信回路。
(付記30)
前記第1の発振器と前記第2の発振器との間で、信号パスを切り替えるスイッチをさらに備えた付記29に記載の通信回路。
(付記31)
前記第1の周波数帯と前記第2の周波数帯と異なる第3の周波数帯を用いて通信を行う第3の通信回路を備え、
前記第3の通信回路は、
前記基板の第3の領域に形成された第3の回路と、
前記2の領域に形成された第3のインダクタと、を備えている付記26に記載の通信回路。
(付記32)
前記第1の通信回路は、前記第1のインダクタを用いて、第1の周波数帯の高周波を発生する第1の発振器を備え、
前記第2の通信回路は、前記第2のインダクタを用いて、第2の周波数帯の高周波を発生する第2の発振器を備え、
前記第3の通信回路は、前記第3のインダクタを用いて、第3の周波数帯の高周波を発生する第3の発振器を備えている付記31に記載の通信回路。
(付記33)
前記第1〜第3の発振器の間で、信号パスを切り替えるスイッチをさらに備えた付記32に記載の通信回路。
(付記34)
平面視において、前記第2のインダクタを囲むように形成された第1のガードリングと、
平面視において、前記第1のインダクタを囲むように形成された第2のガードリングと、をさらに備え
前記第1のガードリングが、前記第1のインダクタと重複する前記回路の電源ライン又はグランドラインとなっており、
前記第2のガードリングが、前記第2のインダクタと重複する前記回路の電源ライン又はグランドラインとなっており、付記14に記載の半導体装置。
(付記35)
前記第1及び第2のインダクタよりも下層の配線層により形成されたシールドパターンと、
前記第1及び第2のインダクタより下層に配置され、前記シールドパターンを覆うように設けられたパッシベーション層と、をさらに備える付記14に記載の半導体装置。
(付記36)
前記受信用アンプ回路が、前記第1のインダクタ及び第1の回路を有するインピーダンスマッチング回路を備え、
前記送信用アンプ回路が、前記第2のインダクタ及び第2の回路を有するインピーダンスマッチング回路を備えている付記6に記載の半導体装置。
(付記37)
前記受信用アンプ回路が、前記第1のインダクタ及び第1の回路を有するインピーダンスマッチング回路を備え、
前記送信用アンプ回路が、前記第2のインダクタ及び第2の回路を有するインピーダンスマッチング回路を備えている付記23に記載の通信回路。
11 アンテナ
12 スイッチ
13 LNA
14 フィルタ
15 ミキサ
16 I/Fフィルタ
17 ベースバンド回路
18 発振器
19 ミキサ
20 フィルタ
21 PA
31 抵抗
32 出力端子
33 入力端子
34 トランジスタ
35 インピーダンスマッチング回路
36 インピーダンスマッチング回路
41 抵抗
42 入力端子
43 出力端子
44 トランジスタ
45 インピーダンスマッチング回路
46 インピーダンスマッチング回路
100 半導体装置
101 基板
102 CMOSトランジスタ
103〜107 配線層
107e パッシベーション層
109 ビア
110 第1の領域
113 第1のインダクタ
116 第1のガードリング
120 第2の領域
123 第2のインダクタ
126 第2のガードリング
131 第1の回路
132 第2の回路
141 端子
RX 受信回路
TX 送信回路
Claims (20)
- 基板と、
前記基板の第1の領域に配置された第1の回路と
前記基板の第2の領域に配置され、前記第1の回路と選択的に動作する第2の回路と、
前記第2の領域に配置され、前記第1の回路に接続された第1のインダクタと、
前記第1の領域に配置され、前記第2の回路に接続された第2のインダクタと、を備えた半導体装置。 - 平面視において、前記第2のインダクタを囲むように形成された第1のガードリングと、
平面視において、前記第1のインダクタを囲むように形成された第2のガードリングと、をさらに備え
前記第1のガードリングが、前記第1の回路の電源ライン又はグランドラインとなっており、
前記第2のガードリングが、前記第2の回路の電源ライン又はグランドラインとなっている請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1の回路と前記第2の回路に含まれる配線層により形成されたシールドパターンと、
前記配線層が、前記シールドパターンの上に形成されたパッシベーション層、を備え、
前記第1のインダクタと前記第2のインダクタとが前記パッシベーション層の上に配置されている請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1の領域から前記第2の領域に渡って設けられた第1の配線を介して、前記第1の回路と前記第1のインダクタが接続され、
前記第2の領域から前記第1の領域に渡って設けられた第2の配線を介して、前記第2の回路と前記第2のインダクタが接続されている請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備えた受信回路と、
前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備えた送信回路と、を備えた請求項1に記載の半導体装置。 - 前記受信回路が受信信号を増幅する受信用アンプ回路を含み、
前記送信回路が送信信号を増幅する送信用アンプ回路を含み、
前記受信用アンプ回路が前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備え、
前記送信用アンプ回路が前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備えている請求項5に記載の半導体装置。 - 請求項5に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
無線信号を送受信するアンテナと、
前記受信回路、及び前記送信回路を選択的に前記アンテナへ接続するスイッチと、を備えた通信回路。 - 請求項5に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
前記受信回路が前記第1のインダクタと並列に接続されたスイッチと、
前記スイッチ、及び前記第1のインダクタに接続された受信側アンプと、
トランスフォーマを介して、前記第2のインダクタに結合された送信側アンプと、を備え、
受信処理時には、前記スイッチがオフし、送信処理時には前記スイッチがオンする通信回路。 - 前記第1の回路及び前記第2の回路のそれぞれがキャパシタ及びMOSトランジスタの少なくとも一方を含んでいる請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第1の領域と前記第2の領域が隣接して配置されている請求項1に記載の半導体装置。
- 請求項1に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
前記第1の回路が第1の周波数帯の高周波信号を用いて通信処理を行い、
前記第2の回路が前記第1の周波数帯と異なる第2の周波数帯の高周波信号を用いて通信処理を行う通信回路。 - 前記第1の回路と前記第1のインダクタとを備え、前記第1の周波数帯の高周波信号を発生する第1の発振器を備え、
前記第2の回路と前記第2のインダクタとを備え、前記第2の周波数帯の高周波信号を発生する第2の発振器と、を有する請求項11に記載の通信回路。 - 前記第1の発振器と前記第1の発振器との間で、信号パスを切り替えるスイッチと、をさらに備えた請求項12に記載の通信回路。
- 基板と、
前記基板上に形成された第1のインダクタと、
前記基板上に形成され、平面視において前記第1のインダクタとずれて配置された第2のインダクタと、
平面視において前記第2のインダクタと重複するように配置され、前記第2のインダクタの非動作時に動作する回路と、
平面視において前記第1のインダクタと重複するように配置され、前記第1のインダクタの非動作時に動作する回路と、を備えた半導体装置。 - 前記第1のインダクタが第1の周波数帯の高周波信号を発生するための第1の発振器に用いられ、
前記第2のインダクタが第2の周波数帯の高周波信号を発生するための第2の発振器に用いられている請求項14に記載の半導体装置。 - 前記基板上に形成され、平面視において第1及び第2のインダクタとずれて配置された第3のインダクタと、
平面視において前記第3のインダクタと重複するように配置され、前記第3のインダクタの非動作時に動作する回路と、を備えた請求項14に記載の半導体装置。 - 前記第1のインダクタが第1の周波数帯の高周波信号を発生するための第1の発振器に用いられ、
前記第2のインダクタが前記第1の周波数帯と異なる第2の周波数帯の高周波信号を発生するための第2の発振器に用いられ、
前記第3のインダクタが前記第1及び第2の周波数帯と異なる第3の周波数帯の高周波信号を発生するための第3の発振器に用いられている請求項16に記載の半導体装置。 - 請求項15に記載の半導体装置を備えた通信回路であって、
前記第1の周波数帯の高周波信号を用いた第1の通信方式と、前記第2の周波数帯の高周波信号を用いた第2の通信方式とを切り替えるスイッチを備えた通信回路。 - 基板に設けられた受信回路と送信回路とを備えた通信回路であって、
受信回路は、
前記基板の第1の領域に形成された第1の回路と、
前記基板の第2の領域に形成された第1のインダクタと、を備え、
前記送信回路は、
前記基板の前記第2の領域に形成された第2の回路と、
前記基板の前記第1の領域に形成された第2のインダクタと、を備えた通信回路。 - 前記第1のインダクタの直下に前記第2の回路が配置され、
前記第2のインダクタの直下に前記第1の回路が配置されている請求項19に記載の通信回路。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016115317A JP6619698B2 (ja) | 2016-06-09 | 2016-06-09 | 半導体装置、及び通信回路 |
CN201710422664.0A CN107492547B (zh) | 2016-06-09 | 2017-06-07 | 半导体器件和通信电路 |
US15/617,738 US10103773B2 (en) | 2016-06-09 | 2017-06-08 | Semiconductor device and communication circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016115317A JP6619698B2 (ja) | 2016-06-09 | 2016-06-09 | 半導体装置、及び通信回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017220607A JP2017220607A (ja) | 2017-12-14 |
JP6619698B2 true JP6619698B2 (ja) | 2019-12-11 |
Family
ID=60574151
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016115317A Active JP6619698B2 (ja) | 2016-06-09 | 2016-06-09 | 半導体装置、及び通信回路 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10103773B2 (ja) |
JP (1) | JP6619698B2 (ja) |
CN (1) | CN107492547B (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6808565B2 (ja) * | 2017-04-07 | 2021-01-06 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置、それを備えた電子回路、及び、半導体装置の形成方法 |
US10277170B1 (en) * | 2017-12-19 | 2019-04-30 | National Chung Shan Institute Of Science And Technology | Radio frequency amplifier and integrated circuit using the radio frequency amplifier |
US10742026B2 (en) * | 2018-02-07 | 2020-08-11 | International Business Machines Corporation | Electrostatic protection device |
US11004589B2 (en) * | 2018-04-27 | 2021-05-11 | Realtek Semiconductor Corp. | High-Q integrated inductor and method thereof |
CN112753102A (zh) * | 2018-09-21 | 2021-05-04 | 华为技术有限公司 | 一种平面电感器及半导体芯片 |
JP2020120185A (ja) * | 2019-01-21 | 2020-08-06 | 株式会社村田製作所 | フロントエンドモジュール及び通信装置 |
JP7101627B2 (ja) * | 2019-01-29 | 2022-07-15 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体モジュールおよびその製造方法 |
JP2021072570A (ja) * | 2019-10-31 | 2021-05-06 | 株式会社村田製作所 | 高周波モジュールおよび通信装置 |
JPWO2021106363A1 (ja) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 | ||
JP7476530B2 (ja) * | 2019-12-10 | 2024-05-01 | 株式会社村田製作所 | 増幅回路及び通信装置 |
EP4068337A4 (en) * | 2019-12-18 | 2023-01-25 | Huawei Technologies Co., Ltd. | CHIP STRUCTURE AND WIRELESS COMMUNICATION DEVICE |
JP2021150339A (ja) * | 2020-03-16 | 2021-09-27 | キオクシア株式会社 | 半導体集積回路装置および発振回路装置 |
US11367697B2 (en) | 2020-05-15 | 2022-06-21 | Qualcomm Incorporated | High-density flip chip package for wireless transceivers |
TWI763188B (zh) * | 2020-12-16 | 2022-05-01 | 瑞昱半導體股份有限公司 | 收發電路 |
JPWO2023074137A1 (ja) * | 2021-10-25 | 2023-05-04 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005006153A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Nec Electronics Corp | 電圧制御発振器 |
JP2005079397A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
JP4541800B2 (ja) * | 2004-08-20 | 2010-09-08 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | インダクタを備えた半導体装置 |
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JP5214525B2 (ja) * | 2009-04-20 | 2013-06-19 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
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JP2011171415A (ja) * | 2010-02-17 | 2011-09-01 | Seiko Epson Corp | 半導体集積回路 |
JP5675504B2 (ja) * | 2010-08-06 | 2015-02-25 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置、電子装置、及び半導体装置の製造方法 |
JP2014053529A (ja) * | 2012-09-10 | 2014-03-20 | Toshiba Corp | 電子装置 |
CN103794592B (zh) * | 2012-10-30 | 2016-10-05 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 具有接地屏蔽结构的半导体器件 |
WO2014155478A1 (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
KR102173470B1 (ko) * | 2014-01-29 | 2020-11-03 | 르네사스 일렉트로닉스 가부시키가이샤 | 반도체 장치 |
WO2016060151A1 (ja) * | 2014-10-16 | 2016-04-21 | 株式会社村田製作所 | 高周波モジュール |
-
2016
- 2016-06-09 JP JP2016115317A patent/JP6619698B2/ja active Active
-
2017
- 2017-06-07 CN CN201710422664.0A patent/CN107492547B/zh active Active
- 2017-06-08 US US15/617,738 patent/US10103773B2/en active Active
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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