JP6597476B2 - 配線基体の製造方法並びに配線基体及びそれを用いた発光装置。 - Google Patents
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Description
また、銅箔を用いたPWBの製造工程においては、エッチングにより配線パターンを形成するので、製造時にレジスト廃液やエッチング廃液が排出され、また、湿式メッキにより配線パターンを形成する方法は、メッキ廃液が排出される。このような廃液処理が従来のPWBコスト高の一因となっている。
を有する。
また、本発明の一実施形態に係る配線基体は、絶縁性を有する隔壁と、前記隔壁によって区画された複数の領域のうち、少なくとも2つの隣接する領域にそれぞれ配置された導電部材と、を有し、前記隣接する領域に配置された2つの前記導電部材が、前記隔壁に形成された開口部で接合されて配線の一部となる。
本実施形態に係る配線基体の製造方法は、隔壁12によって区画された複数の領域14を備え、隔壁12に開口部16を有することで隣接する前記領域が連結されてなる絶縁部材20を準備する絶縁部材準備工程と、複数の領域14それぞれに、導電部材17を配置する導電部材配置工程と、隔壁12を介して隣接する導電部材17同士を、開口部16で接合する接合工程と、を備える。導電部材17が隔壁12に設けられた開口部16にて接続されることで、配線パターンが形成されて配線基体となる。
本実施形態の製造方法において、絶縁部材準備工程では、図1に示すように、隔壁12によって区画された複数の領域14を備える絶縁部材20を準備する。複数の領域14は、隔壁12に開口部16を有することで隣接する領域14が連結されてなる部分と、開口部16を有さない隔壁12のみによって区画された部分を有する。隔壁12により形成される領域の上面形状は、図1に示すような六角形のほか、図1に示されるハニカム構造体を長手方向に引っ張り六角形が四角形となるとき上面形状が長方形となることからもわかるが、三角形、四角形、八角形等であってもよい。
絶縁部材準備工程の後、図3に示すように配線経路となる予定の領域14のそれぞれに、導電部材17を配置する。さらに、配線基体の軽量化を図るために、導電部材17を配置しない領域14それぞれにスペーサ部材27を配置することができる。
接合工程は、絶縁部材20の隔壁12に設けた開口部16において隣接する領域14に配置された導電部材17同士を電気的及び機械的に接続する工程である。圧接、融着、半田付け、導電性接着剤による接着などの接続方法を適宜用いることが出来る。接続方法に応じて、加圧、加熱、乾燥など適宜接続条件を選べばよい。例えば、半田ペーストや銀ペースト等の導電性接合材を、開口部を含む導電部材17同士の間に配置した後に、加熱あるいは乾燥して導電部材17同士を電気的に接続することもできるし、あるいは、プレス機により上方及び/又は下方から圧力をかけて導電部材17を変形させ、導電部材17を隔壁12と接触させるとともに開口部16越しに隣接する導電部材17と圧接することや圧接した後に加熱し導電部材17の表面近傍領域を溶融させて導電部材17同志を融着させることもできる。導電部材17同士が開口部16で接合されることにより、図4に示すように、配線基体の配線の一部を形成する。
配線基体の半導体素子載置側の面(上面)あるいはその裏面(下面)の所定の領域に、導電部材17の電気接続性や光反射性等を向上させるために、メッキやスパッタ等、又は金属箔の貼り付け等によって、図5に示すような金属膜18を形成してもよい。
配線基体の半導体素子載置側の面(上面)及び/又はその裏面(下面)の半導体素子を載置する若しくは外部接続端子と接続する予定の導電部材17若しくは所定の金属膜18以外の領域に、配線基体として必要な絶縁距離(沿面距離および空間距離)等を確保するため、例えば塗布又は貼り付け等によって図6に示すように絶縁性の保護膜38を形成することが好ましい。
上記の工程を経て形成された配線基体に例えば半導体素子として発光素子200を搭載する。本実施形態においては、正負一対の電極を一つの面に備える表面実装型の発光素子200を、図7に示すように配線基体の上面に実装する。この時、導電部材17若しくはその上に形成される一つの金属膜18と一つの発光素子200の正又は負の電極がそれぞれ電気的に接続される。発光素子載置用の配線基体と発光素子との間の導電接続手段としては、半田や異方性導電ペースト等を用いることができる。
そして、発光素子200を搭載した配線基体100を所定の切断線に沿って切断/分割し、個片化して、図8に示すように発光装置300とする。切断/分割線がとおる領域に、スペーサ部材27を多く配置もしくはスペーサ部材27のみを配置すると、例えば、金型で打抜く方法又はダイサーで切断する方法などでは、刃物の消耗が金属の場合より遅くなるため、生産性を高くすることができる。
本実施形態に係る配線基体の製造方法は、絶縁部材準備工程、導電部材配置工程、接合工程、金属膜形成工程(図9)、及び保護膜形成工程(図11、図12、及び図13)までは、実施形態1と同様である。本実施形態では、図11乃至図13に示されるように半導体素子及び外部端子接続箇所を除き、絶縁性の保護膜37又は光反射性を有する保護膜38で配線基体の表面が覆われており、配線基体の表面ではなく内部で開口部にて接続された導電部材が配線となる。
配線基体を切断する工程を設けてもよいが、絶縁部材準備工程で所望の配線基体形状にすることが廃棄部材を減らすことができるため好ましい。
光反射性を有する保護膜38と保護膜37の形成順序は、逆順でもよいし、同時でもよい。
14 (隔壁により区画された)領域
16 開口部
17 導電部材
18 金属膜
20 絶縁部材
22 貫通孔
27 スペーサ部材
37 保護膜
38 保護膜
100 配線基体
200 発光素子
300 発光装置
Claims (8)
- 隔壁によって区画された複数の領域を備え、前記隔壁に開口部を有することで隣接する前記領域が連結されてなる絶縁部材を準備する絶縁部材準備工程と、
前記複数の領域のそれぞれに、導電部材を配置する導電部材配置工程と、
前記隔壁を介して隣接する前記導電部材同士を水素含有窒素雰囲気において熱融着し、前記開口部で接合する接合工程と、を有する配線基体の製造方法。 - 隔壁によって区画された複数の領域を備え、前記隔壁に開口部を有することで隣接する前記領域が連結されてなる絶縁部材を準備する絶縁部材準備工程と、
前記複数の領域のそれぞれに、導電部材を配置する導電部材配置工程と、
前記隔壁を介して隣接する前記導電部材同士を、前記導電部材に上方及び/又は下方から圧力をかけて前記導電部材と前記隔壁を接触させ前記開口部で接合する接合工程と、を有する配線基体の製造方法。 - 前記配線基体の上面及び/又は下面に、前記導電部材の少なくとも一部が露出するように絶縁性の保護膜を形成する保護膜形成工程を有する請求項1または2に記載の配線基体の製造方法。
- 絶縁性を有し、ハニカム構造体を構成する隔壁と、
前記隔壁によって区画された複数の領域のうち、少なくとも2つの隣接する領域にそれぞれ配置された導電部材と、を有し、
前記隣接する領域に配置された2つの前記導電部材が、前記隔壁に形成された開口部で接合されて配線の一部となる配線基体。 - 絶縁性を有する隔壁と、
前記隔壁によって区画された複数の領域のうち、少なくとも2つの隣接する領域にそれぞれ配置された導電部材と、
前記複数の領域のうち前記導電部材が配置されない領域に配置されたスペーサ部材と、を有し、
前記隣接する領域に配置された2つの前記導電部材が、前記隔壁に形成された開口部で接合されて配線の一部となる配線基体。 - 前記スペーサ部材が配置される領域を区画する前記隔壁には、前記開口部が形成されていない請求項5に記載の配線基体。
- 前記導電部材の少なくとも一部を露出して前記配線基体の表面を被覆する絶縁性の保護膜を有する請求項4〜6のいずれか1項に記載の配線基体。
- 請求項4〜7のいずれか1項に記載の配線基体と、
前記配線基体上に載置され、前記導電部材と電気的に接続された発光素子と、を有する発光装置。
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