JP6557779B2 - ディスプレイ用電子基板の製造方法、ディスプレイ用電子基板の研磨方法および研磨装置 - Google Patents
ディスプレイ用電子基板の製造方法、ディスプレイ用電子基板の研磨方法および研磨装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6557779B2 JP6557779B2 JP2018516095A JP2018516095A JP6557779B2 JP 6557779 B2 JP6557779 B2 JP 6557779B2 JP 2018516095 A JP2018516095 A JP 2018516095A JP 2018516095 A JP2018516095 A JP 2018516095A JP 6557779 B2 JP6557779 B2 JP 6557779B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- polishing
- display
- chemical polishing
- electronic substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
1.電子素子を透光性基板で挟む位置に、透光性基板とは厚みの異なる他の透光性基板を積層固定した上で、一対の透光性基板の何れかが溶融消滅するまで化学研磨処理を行う構成としたため、一方の基板の溶融時間を基準として、他方の基板を溶融することが可能となり、極薄になるまで透光性基板を溶融研磨することが可能となる。
2.透光性基板より厚みのある他の透光性基板を積層固定する構成としたため、透光性基板積層工程において、透光性基板を溶融消滅させて他方の透光性基板のみを残存させることが可能となる。
4.電子素子を透光性基板で挟む位置に、樹脂フィルムを貼付固定するため、樹脂フィルムを貼付した面の化学研磨を抑制することが可能となり、電子基板を研磨処理から保護したり、透光性基板の研磨を抑制して研磨厚の調整を行うことが可能となる。
6.UVテープを介して樹脂フィルムを電子素子を透光性基板で挟む位置に貼付固定することとしたため、UV照射によってUVテープの粘着性を低下させて容易に樹脂フィルムを剥離することが可能となる。
8.電子素子を有機EL素子または液晶パネル用電子素子としたため、有機ELディスプレイおよび液晶ディスプレイの透光性基板を極薄に形成することが可能となる。また、液晶ディスプレイ用の透光性基板の研磨技術をそのまま有機ELディスプレイの透光性基板の研磨に利用することが可能となる。
10.ディスプレイ用電子基板を吊下して、化学研磨液を複数の噴射ノズルから両側面に継続的に噴射塗布するとともに、積層体の一方の面にのみ化学研磨液に代えて水からなるリンス液を供給して噴射塗布する構成としたため、積層体の一方の面の研磨量を他方の面の研磨量より大きくしたディスプレイ用電子基板を構成することが可能となる。
12.ディスプレイ用電子基板を設置手段によって吊下して、化学研磨液を複数の噴射ノズルから両側面に継続的に噴射塗布することでディスプレイ用電子基板を研磨する構成としたため、ムラのない研磨処理を行うことが可能となるとともに、各面ごとに化学研磨液の噴射塗布量を設定する噴射塗布量調整手段を装備したため、ディスプレイ用電子基板の一方の面の研磨量を他方の面の研磨量より大きくすることが可能となる。
14.ディスプレイ用電子基板を吊下して、化学研磨液を複数の噴射ノズルから両側面に継続的に噴射塗布することでディスプレイ用電子基板を研磨する構成としたため、ムラのない研磨処理を行うことが可能となるとともに、各面ごとに化学研磨液の噴射塗布量を設定することとしたため、ディスプレイ用電子基板の一方の面の研磨量を他方の面の研磨量より大きくすることが可能となる。
図1aから図1cは、本発明に係るディスプレイ用電子基板の製造方法のフロー図である。図2aは、電子素子を積層した透光性基板の断面図であり、図2bは、電子素子を透光性基板で挟んだ積層体の断面図である。図2cは、化学研磨処理を施した積層体の断面図であり、図2dは、個片化した積層体の断面図である。
12a・12b 透光性基板
13 UVテープ
14 電子素子
14a 有機樹脂
14b 有機材料
14c 樹脂製封止部材
14e 樹脂素材
14f TFT回路パターン
15a・15b・15c・15d 積層体
16a・16b・16c・16d・16e 積層体
17a・17b・17c・17d・17e・17f 積層体
18 樹脂フィルム
19a 第一樹脂フィルム
19b 第二樹脂フィルム
20 化学研磨液
22 リンス液
100 ディスプレイ用電子基板の製造方法
110 固定載置工程
120 透光性基板積層工程
130 化学研磨工程
140 洗浄工程
200 ディスプレイ用電子基板の製造方法
210 固定載置工程
220 樹脂フィルム貼付工程
230 化学研磨工程
240 洗浄工程
250 樹脂フィルム除去工程
300 ディスプレイ用電子基板の製造方法
310 樹脂フィルム貼付工程
320 固定載置工程
330 樹脂素材積層工程
340 樹脂フィルム積層工程
350 化学研磨工程
360 洗浄工程
370 個片処理工程
380 樹脂フィルム除去工程
410 設置工程
420 噴射塗布工程
500 ディスプレイ用電子基板の研磨装置
510 設置手段
520 噴射ノズル
530 化学研磨液供給手段
532 噴射塗布量調整手段
534 噴射液切換手段
540 洗浄手段
550 枠体
600 ディスプレイ用電子基板の研磨方法
610 設置工程
620 化学研磨工程
Claims (10)
- 映像の投影領域を構成する電子素子と、ガラスまたはプラスチックからなる基材となる透光性基板と、を積層してなるディスプレイ用電子基板の製造方法が、
有機化合物層を第1の電極および第2の電極で挟持する有機EL素子、または、対向する配向膜間の空隙に液晶層を備えた上で更にそれらを一対の電極で挟持する液晶パネル用の電子素子を透光性基板に載置固定する固定載置工程と、
電子素子を透光性基板で挟む位置に、前記透光性基板より厚みのある又は厚みの薄い、ガラスまたはプラスチックからなる他の透光性基板を積層固定する透光性基板積層工程と、
前記透光性基板積層工程で得られた積層体をディップ方式または噴射塗布方式により溶融研磨を行うとともに積層体の透光性基板の既存のまたは研磨中に生じた潜傷を塞閉するために硫酸からなる溶融研磨成分を含有する化学研磨液を用いて化学研磨処理を行う化学研磨工程と、
前記化学研磨工程の後に溶融研磨された前記積層体を洗浄する洗浄工程と、からなり、
前記透光性基板積層工程は、更に、化学研磨液が積層体の層間に浸入することを防止するために積層処理後の積層体の端部に樹脂製封止部材を貼付する工程を含むとともに、
前記透光性基板積層工程で積層固定した一方の透光性基板の溶融時間を基準として、他方の透光性基板を極薄になるまで溶融研磨するため、前記化学研磨工程は、厚みの異なる一対の透光性基板のうちの何れかが溶融消滅するまで一対の透光性基板に対して同量の化学研磨処理を行い他方の透光性基板のみを残存させることを特徴とするディスプレイ用電子基板の製造方法。 - 映像の投影領域を構成する電子素子と、ガラスまたはプラスチックからなる基材となる透光性基板と、を積層してなるディスプレイ用電子基板の製造方法が、
有機化合物層を第1の電極および第2の電極で挟持する有機EL素子、または、対向する配向膜間の空隙に液晶層を備えた上で更にそれらを一対の電極で挟持する液晶パネル用の電子素子を透光性基板に載置固定する固定載置工程と、
電子素子を透光性基板で挟む位置に、化学研磨液による溶融研磨に耐性を有するとともにUV照射によって粘着性が低下するUVテープを介して樹脂フィルムを電子素子に貼付固定する樹脂フィルム貼付工程と、
前記樹脂フィルム貼付工程で得られた積層体に、化学研磨液が積層体の層間に浸入することを防止するため、積層処理後の積層体の両端部に樹脂製封止部材を貼付する樹脂製封止部材貼付工程と、
前記樹脂製封止部材貼付工程で得られた積層体をディップ方式または噴射塗布方式により溶融研磨を行うとともに積層体の透光性基板の既存のまたは研磨中に生じた潜傷を塞閉するために硫酸からなる溶融研磨成分を含有する化学研磨液を用いて化学研磨処理を行う化学研磨工程と、
前記化学研磨工程の後に溶融研磨された前記積層体を洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程で得られた積層体に貼付固定された樹脂フィルムをUV照射によってUVテープの粘着性を低下させたうえで積層体からUVテープを剥離することによって剥離除去する樹脂フィルム除去工程と、
からなることを特徴とするディスプレイ用電子基板の製造方法。 - 前記化学研磨工程は、透光性基板が溶融消滅するまで化学研磨処理を行うことを特徴とする請求項2記載のディスプレイ用電子基板の製造方法。
- 映像の投影領域を構成する電子素子と、ガラスまたはプラスチックからなる基材としての透光性基板と、を積層して形成されるディスプレイ用電子基板の製造方法が、
透光性基板に化学研磨液による溶融研磨に耐性を有するとともにUV照射によって粘着性が低下するUVテープを介して第一樹脂フィルムを貼付固定する樹脂フィルム貼付工程と、
透光性基板の樹脂フィルムを貼付した面に有機化合物層を第1の電極および第2の電極で挟持する有機EL素子、または、対向する配向膜間の空隙に液晶層を備えた上で更にそれらを一対の電極で挟持する液晶パネル用の電子素子を載置固定する固定載置工程と、
前記固定載置工程による積層体に電子素子を保護する為の樹脂素材を積層する樹脂素材積層工程と、
前記樹脂素材積層工程で得られた樹脂素材の積層された積層体に、更に化学研磨液による溶融研磨に耐性を有するとともにUV照射によって粘着性が低下するUVテープを介して第二樹脂フィルムを積層固定する樹脂フィルム積層工程と、
前記樹脂フィルム貼付工程で得られた積層体に、化学研磨液が積層体の層間に浸入することを防止するため、積層処理後の積層体の両端部に樹脂製封止部材を貼付する樹脂製封止部材貼付工程と、
前記樹脂製封止部材貼付工程で得られた更なる積層体をディップ方式または噴射塗布方式により溶融研磨を行うとともに積層体の透光性基板の既存のまたは研磨中に生じた潜傷を塞閉するために硫酸からなる溶融研磨成分を含有する化学研磨液を用いて化学研磨処理を行う化学研磨工程と、
前記化学研磨工程の後に溶融研磨された前記積層体を洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程で得られた洗浄された積層体を切断して個片処理を行う個片処理工程と、
前記個片処理工程で得られた各積層体に積層固定されていた透光性基板を積層体にUV照射することによってUVテープの粘着性を低下させて剥離除去する透光性基板除去工程と、
からなることを特徴とするディスプレイ用電子基板の製造方法。 - 前記化学研磨工程は、
前記積層体を垂直に吊下して設置固定する設置工程と、
前記積層体を溶融研磨するための化学研磨液を複数の噴射ノズルから前記積層体の両側面に継続的に噴射塗布する噴射塗布工程と、からなるとともに、
前記噴射塗布工程は、前記積層体の一方の面の研磨量が他方の面の研磨量より大きくなるように、前記積層体の各面ごとに個別に設定された化学研磨液の噴射塗布量を噴射塗布することを特徴とする請求項2または請求項4に記載のディスプレイ用電子基板の製造方法。 - 前記化学研磨工程は、
前記積層体を垂直に吊下して設置固定する設置工程と、
前記積層体を溶融研磨するための化学研磨液を複数の噴射ノズルから前記積層体の両側面に継続的に噴射塗布する噴射塗布工程と、からなるとともに、
前記噴射塗布工程は、前記積層体の一方の面の研磨量が他方の面の研磨量より大きくなるように、前記積層体の一方の面にのみ化学研磨液に代えて水からなるリンス液を供給し、前記積層体の各面ごとに化学研磨液またはリンス液を噴射塗布することを特徴とする請求項2または請求項4に記載のディスプレイ用電子基板の製造方法。 - ディスプレイ用電子基板の表面および/または裏面を構成するガラスまたはプラスチックからなる透光性基板を均質に研磨するためのディスプレイ用電子基板の研磨装置が、
ディスプレイ用電子基板の研磨装置の筐体となる枠体と、前記枠体に設けられるディスプレイ用電子基板を垂直に吊下して設置固定する設置手段と、前記ディスプレイ用電子基板の透光性基板を溶融研磨するための透光性基板の潜傷を塞閉する硫酸からなる溶融研磨成分を含有する化学研磨液を前記ディスプレイ用電子基板の表裏両面から垂直に継続的に噴射塗布するために前記枠体の前記ディスプレイ用電子基板と平行となる位置に設けられた複数の配管上に複数設けられる噴射ノズルと、前記噴射ノズルに対する化学研磨液を供給するための装置および配管からなる化学研磨液供給手段と、前記噴射ノズルから噴射塗布された化学研磨液による溶融研磨の後に透光性基板が溶融研磨された前記ディスプレイ用電子基板を洗浄する洗浄手段と、からなり、
前記化学研磨液供給手段は、前記ディスプレイ用電子基板の一方の面の化学研磨液の噴射塗布量が他方の面の噴射塗布量より大きくなるようにするとともに、前記ディスプレイ用電子基板の表面の研磨ムラを防止するため、前記ディスプレイ用電子基板の各面ごとに化学研磨液の噴射塗布量を個別の設定量に制御する流量調整バルブからなる噴射塗布量調整手段を装備したことを特徴とするディスプレイ用電子基板の研磨装置。 - ディスプレイ用電子基板の表面および/または裏面を構成するガラスまたはプラスチックからなる透光性基板を均質に研磨するためのディスプレイ用電子基板の研磨装置が、
ディスプレイ用電子基板の研磨装置の筐体となる枠体と、前記枠体に設けられるディスプレイ用電子基板を垂直に吊下して設置固定する設置手段と、前記ディスプレイ用電子基板の透光性基板を溶融研磨するための透光性基板の潜傷を塞閉する硫酸からなる溶融研磨成分を含有する化学研磨液を前記ディスプレイ用電子基板の表裏両面から垂直に継続的に噴射塗布するために前記枠体の前記ディスプレイ用電子基板と平行となる位置に設けられた複数の配管上に複数設けられる噴射ノズルと、前記噴射ノズルに対する化学研磨液を供給するための装置および配管からなる化学研磨液供給手段と、前記噴射ノズルから噴射塗布された化学研磨液による溶融研磨の後に透光性基板が溶融研磨された前記ディスプレイ用電子基板を洗浄する洗浄手段と、からなり、
前記化学研磨液供給手段は、ディスプレイ用電子基板の一方の面の研磨量を他方の面の研磨量より大きくするため、前記ディスプレイ用電子基板の一方の面にのみ化学研磨液に代えて水からなるリンス液を供給するように、前記ディスプレイ用電子基板の各面ごとに化学研磨液とリンス液の各噴液を切り換えるためのリンス液配管が接続された三方バルブからなる噴射液切換手段を装備したことを特徴とするディスプレイ用電子基板の研磨装置。 - ディスプレイ用電子基板の表面および/または裏面を構成するガラスまたはプラスチックからなる透光性基板を均質に研磨するためのディスプレイ用電子基板の研磨方法が、
前記ディスプレイ用電子基板を垂直に吊下して設置固定する設置工程と、
前記ディスプレイ用電子基板を溶融研磨するための透光性基板の潜傷を塞閉する硫酸からなる溶融研磨成分を含有する化学研磨液を複数の噴射ノズルから前記ディスプレイ用電子基板の両側面に垂直に継続的に噴射塗布する化学研磨工程と、からなるとともに、
前記化学研磨工程は、前記ディスプレイ用電子基板の一方の面の透光性基板の研磨量が他方の面の透光性基板の研磨量より大きくなるようにするとともに、前記ディスプレイ用電子基板の表面の研磨ムラを防止するため、前記ディスプレイ用電子基板の各面ごとに個別に設定された化学研磨液の噴射塗布量を流量調整バルブの調整により噴射塗布することを特徴とする請求項7記載のディスプレイ用電子基板の研磨装置を用いたディスプレイ用電子基板の研磨方法。 - ディスプレイ用電子基板の表面および/または裏面を構成するガラスまたはプラスチックからなる透光性基板を均質に研磨するためのディスプレイ用電子基板の研磨方法が、
前記ディスプレイ用電子基板を垂直に吊下して設置固定する設置工程と、
前記ディスプレイ用電子基板を溶融研磨するための透光性基板の潜傷を塞閉する硫酸からなる溶融研磨成分を含有する化学研磨液を複数の噴射ノズルから前記ディスプレイ用電子基板の両側面に垂直に継続的に噴射塗布する化学研磨工程と、からなるとともに、
前記化学研磨工程は、前記ディスプレイ用電子基板の一方の面の透光性基板の研磨量が他方の面の透光性基板の研磨量より大きくなるように、前記ディスプレイ用電子基板の一方の面にのみ化学研磨液に代えて水からなるリンス液を供給し、化学研磨液とリンス液の各噴液を切り換えるための三方バルブの調整により前記ディスプレイ用電子基板の各面ごとに化学研磨液またはリンス液を噴射塗布することを特徴とする請求項8記載のディスプレイ用電子基板の研磨装置を用いたディスプレイ用電子基板の研磨方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2017/002761 WO2018138836A1 (ja) | 2017-01-26 | 2017-01-26 | ディスプレイ用電子基板の製造方法、ディスプレイ用電子基板の研磨方法および研磨装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018138836A1 JPWO2018138836A1 (ja) | 2019-02-07 |
JP6557779B2 true JP6557779B2 (ja) | 2019-08-07 |
Family
ID=62978143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018516095A Active JP6557779B2 (ja) | 2017-01-26 | 2017-01-26 | ディスプレイ用電子基板の製造方法、ディスプレイ用電子基板の研磨方法および研磨装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6557779B2 (ja) |
TW (1) | TW201828352A (ja) |
WO (1) | WO2018138836A1 (ja) |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000045082A (ja) * | 1998-07-27 | 2000-02-15 | Canon Inc | エッチング装置 |
JP2002072905A (ja) * | 2000-09-05 | 2002-03-12 | Sharp Corp | 薄膜積層デバイスの製造方法および液晶表示素子の製造方法 |
JP4912835B2 (ja) * | 2002-11-01 | 2012-04-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
JP4092192B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2008-05-28 | シャープ株式会社 | 表示パネルの製造方法 |
KR100562724B1 (ko) * | 2004-03-16 | 2006-03-20 | 태화일렉트론(주) | 화면표시장치용 글라스의 배면 식각장치 |
JP4378314B2 (ja) * | 2005-04-26 | 2009-12-02 | シャープ株式会社 | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
KR101353490B1 (ko) * | 2006-07-20 | 2014-01-27 | 에프엔에스테크 주식회사 | 기판 처리장치 |
KR101387711B1 (ko) * | 2007-04-10 | 2014-04-23 | 에프엔에스테크 주식회사 | 평판디스플레이 유리기판 에칭장치 |
JP5345303B2 (ja) * | 2007-08-13 | 2013-11-20 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置とその製造方法 |
JP5175118B2 (ja) * | 2008-02-26 | 2013-04-03 | 株式会社ジャパンディスプレイウェスト | 電気光学装置の製造方法 |
JP5290078B2 (ja) * | 2009-07-22 | 2013-09-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | フレキシブル表示装置 |
JP2011197194A (ja) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Tekurabo:Kk | フラットパネルディスプレイの製造方法 |
WO2013057917A1 (ja) * | 2011-10-20 | 2013-04-25 | シャープ株式会社 | 薄型基板の製造方法 |
CN104246989B (zh) * | 2012-06-14 | 2016-08-17 | 夏普株式会社 | 药液处理装置 |
CN107409455B (zh) * | 2015-03-10 | 2019-04-12 | 夏普株式会社 | 薄膜元件装置的制造方法及其所使用的光照射装置 |
-
2017
- 2017-01-26 WO PCT/JP2017/002761 patent/WO2018138836A1/ja active Application Filing
- 2017-01-26 JP JP2018516095A patent/JP6557779B2/ja active Active
-
2018
- 2018-01-23 TW TW107102295A patent/TW201828352A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201828352A (zh) | 2018-08-01 |
JPWO2018138836A1 (ja) | 2019-02-07 |
WO2018138836A1 (ja) | 2018-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10504766B2 (en) | Carrier substrate assembly, and fabrication method of flexible display substrate | |
US8168511B2 (en) | Display device manufacturing method and laminated structure | |
WO2016065802A1 (zh) | 将第一面板与第二面板相贴合的方法和显示装置 | |
TW202105539A (zh) | 製造可撓式電子元件之方法及系統 | |
JP2010286664A (ja) | フィルム貼付け方法およびフィルム貼付け装置 | |
JP5358847B2 (ja) | 板状部材の貼り合せ方法及び貼り合せ装置 | |
CN109449114B (zh) | 一种显示面板及显示装置的制备方法 | |
JP2015108735A (ja) | 電子デバイスの製造方法 | |
JP5399805B2 (ja) | 表示装置 | |
JP2017024368A (ja) | 積層体及びその製造方法並びに電子デバイス及びその製造方法 | |
JP6557779B2 (ja) | ディスプレイ用電子基板の製造方法、ディスプレイ用電子基板の研磨方法および研磨装置 | |
JP2009047875A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
JP2004091291A5 (ja) | ||
JP2009300735A (ja) | 表示素子の製造方法 | |
CN104898316A (zh) | 薄型液晶面板的制作方法 | |
JP2004077640A (ja) | 液晶表示素子の製造方法およびその装置 | |
KR101734224B1 (ko) | 평판디스플레이 패널 제조방법 | |
JP4712454B2 (ja) | ガラス表面の研磨方法 | |
JP2019178018A (ja) | 薄型ガラス基板製造方法 | |
JP5389694B2 (ja) | 表示装置の製造方法 | |
JP2018026260A (ja) | 表示装置製造方法 | |
KR101473174B1 (ko) | 액정보호필름 제조방법 | |
TW201723616A (zh) | 矽基液晶之單元級液晶組裝製造方法 | |
JP2002072905A (ja) | 薄膜積層デバイスの製造方法および液晶表示素子の製造方法 | |
JP2008275651A (ja) | 表示装置及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180322 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180322 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190308 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190611 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190712 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6557779 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |