JP6548365B2 - 面発光レーザ及び光干渉断層計 - Google Patents
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Description
波長可変レーザの一種として、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術により垂直共振器型面発光レーザ(VCSEL)のレーザ発振波長を制御する、いわゆるMEMS−VCSELという構造が知られている。
MEMS−VCSELにおいて、反射鏡の位置の変化量に対するレーザ発振波長の変化量を波長チューニング効率と呼ぶことがある。波長チューニング効率の大きさは、共振器長や表面コーティングの種類によって影響を受けることが知られている(非特許文献1)。
本発明は、上記課題に鑑み、波長チューニング効率を向上させることが可能となる波長可変型面発光レーザの提供を目的とする。
上部反射鏡と、活性層を含む半導体共振器と、下部反射鏡と、をこの順に備え、上部反射鏡と半導体層との間に空隙部が形成されており、共振器長が可変である面発光レーザであって、
前記空隙部と前記半導体共振器の間に高反射率構造を備え、
前記半導体共振器の上部および下部の界面での光反射時の位相変化が無い場合に換算した前記半導体共振器の光学厚さLが、
λ/2×m+λ/8 < L < λ/2×m+3λ/8 (mは1以上の整数、λはレーザ発振の中心波長)
であることを特徴とする面発光レーザが提供される。
以下に、本発明の実施形態における波長可変型の垂直共振器型面発光レーザ(VCSEL)について説明する。
はじめに、本明細書中で使用する用語等について定義しておく。
本明細書中ではレーザ素子の基板側を下側、基板と反対側を上側と定義する。
本明細書中では、中心波長とは、面発光レーザから出射可能なレーザ光の波長範囲の中心の波長という意味で使用する。つまり、中心波長とは、レーザ発振可能な最短波長と最長波長の中心の波長を意味する。レーザ発振可能な波長は共振器長の変動幅、反射鏡の反射帯域、活性層の利得帯域などによって決まる。設計時は、基本的には中心波長を設定して、それに合わせて各要素の構成を決める。
本明細書中では、上部反射鏡と下部反射鏡で構成された共振器中の、空隙部と下部反射鏡との間に位置する半導体層を半導体共振器と呼び、その光学厚さを半導体共振器長と呼ぶ。空隙部と半導体共振器の間に反射防止膜や高反射率構造を設ける場合は、その反射防止膜や高反射率構造は半導体共振器には含めず、半導体共振器長はその反射防止膜や高反射率構造を含めない部分の光学厚さを指すこととする。
図5(a)のMEMS−VCSELは、GaAsをベースとした化合物半導体で構成されており、中心波長を1065nmに設定し、その付近で波長可変となるように設計されている。上部反射鏡600と下部反射鏡610の間に活性層620が配置された共振器構造が基板640上に配置されている。この共振器構造内、具体的には、上部反射鏡600と活性層620の間に、上部反射鏡600が駆動できるように空隙部630がある。上部および下部反射鏡には、多層膜で形成した分布ブラッグ反射鏡(DBR)を使用している。
上部反射鏡600と下部反射鏡610の間の光学厚さを共振器長と呼ぶ。上部反射鏡600を光軸方向に動かすことで空隙部630の長さを変え、共振器長を変えることができる。それに伴ってレーザ発振波長が変化する。なお、ここでいう光軸方向とは、上部反射鏡と下部反射鏡を結ぶ方向であり、基板の主面に垂直な方向である。図中では上下方向に相当する。
下部反射鏡610と空隙部630の間の活性層620を含む半導体層650を半導体共振器と呼び、その光学厚さを半導体共振器長と呼ぶこととする。つまり、半導体共振器長は、下部反射鏡610と半導体層650との界面と、空隙部630と半導体層650との界面と、の間の光学的距離のことである。なお、共振器全体の共振器長は、半導体共振器長に空隙部の光学厚さを加えた長さとなる。
この計算結果から、半導体共振器長が長くなるほどグラフの傾きが小さくなることがわかる。グラフの傾きは、空隙部の長さ(dair)の変化に対するレーザ発振波長(λ)の変化(∂λ/∂dair)を表しており、これを波長チューニング効率と呼ぶ。
波長チューニング効率が大きいほど、同程度の発振波長変化をさせるのに必要な反射鏡の変位量を小さくすることができるので、反射鏡の機械的駆動のために必要な電圧などを下げることが可能になる。あるいは同程度の電圧で反射鏡を駆動する場合でも、ばね定数が大きく共振周波数が大きい構造を採用することが可能となるので、高速波長掃引に有利となる。
図7(a)と(b)は、共振器構造の異なる2種類のMEMS−VCSEL構造についての計算結果である。どちらも中心波長1065nm付近で波長可変となるように設計したMEMS−VCSELであるが、共振器構造の違いにより波長チューニング効率が異なっている。
図7(a)の中心波長付近での波長チューニング効率は約0.015であり、隣の次数の縦モードとの波長間隔は約25nmとなっている。一方、図7(b)の中心波長付近での波長チューニング効率は約0.12であり、隣の次数の縦モードとの波長間隔は約60nmとなっている。
このように、波長チューニング効率が大きい方が縦モード間隔も広がる傾向にあることが確認できる。
特に、電流注入によってレーザ発振する構造の場合は電流の拡散や狭窄のための層を設ける必要があるため、光励起によってレーザ発振する構造に比べて半導体共振器長を長くする必要があり、波長チューニング効率を大きくすることが難しい。
図5(a)〜(c)に、GaAsをベースとして波長1065nm付近で波長可変となるように構成したMEMS−VCSEL構造の断面模式図を示す。
図5(a)に示した構造は基本構造であり、空隙部630と半導体共振器650の界面に何も設けていない構造である。
図5(b)に示した構造は、図5(a)に示した構造の空隙部630と半導体共振器650の界面に反射防止(AR)膜660として酸化AlAs層を光学厚さ1/4波長だけ付加した構造である。
図5(c)に示した構造は、図5(a)に示した構造の空隙部630と半導体共振器650の界面にGaAs層と酸化AlAs層を光学厚さ1/4波長ずつ積層したDBR670を1ペア付加した構造である。
図5(a)〜(c)に示した構造全て、反射防止膜やDBRを除いた半導体共振器長は、中心波長1065nmを1.00λとした時に3.00λとなるように設計した。
基本構造(図5(a)に相当)に対して、AR膜を付加した構造(図5(b)に相当)は波長チューニング効率が大きくなっており、DBRを付加した構造(図5(c)に相当)は逆に波長チューニング効率が小さくなっていることが確認される。
しかしながら、より高速かつ広帯域に波長を変えられるMEMS−VCSELを実現するためには、さらなる波長チューニング効率の向上が望まれている。
具体的には、半導体共振器長がλ/2×m+λ/4近傍となるように構成し、空隙部と半導体共振器の界面に高反射率構造を設けることで、上記の効果を得ることができる。(mは1以上の整数、λは中心波長。以下同じ。)
ここで言う高反射率構造とは、半導体共振器を構成する主成分である半導体材料の屈折率と空隙部の屈折率の差によって界面で生じる光反射よりも反射率を大きくするように構成された構造のことである。例を挙げると、相対的に高屈折率の材料からなる高屈折率層と相対的に低屈折率の材料からなる低屈折率層が少なくとも1ペア積層された構造である。より好ましくは、DBRのように相対的に高屈折率の材料と低屈折率の材料が中心波長をλとした時に光学厚さλ/4の奇数倍となる厚さで交互に積層された多層膜構造である。
また、半導体共振器は、高反射率構造と下部反射鏡との間に配置された全ての半導体層の積層体である。
上から順に上部反射鏡100、空隙部130、高反射率構造170、活性層120を含む半導体共振器150、下部反射鏡110、基板140が配置されている。半導体共振器150の光学厚さを半導体共振器長と呼ぶ。つまり、半導体共振器長は、高反射率構造170と半導体共振器150との界面と、半導体共振器150と下部反射鏡110との界面と、の間の光学的距離のことである。
本発明を適用した構成において、中心波長をλとした場合に半導体共振器長はλ/2×m+λ/4となるように構成されている。
本発明において、MEMS−VCSELは、不図示の電極により活性層120に電流が注入されて発光する電流注入型であってもよいし、不図示の外部光源により活性層120に励起光が照射される光励起型であってもよい。
また、上部反射鏡100は、不図示の電極の間に電圧が印加されることで静電気力によりMEMS−VCSELの厚さ方向に駆動される。
反射時の位相変化がある場合は、それに応じて実効的な光路長が伸び縮みすることとなり、実際の半導体共振器長を調整する必要がある。例えば、反射時の位相変化がπである固定端反射の場合、自由端反射の場合に比べてλ/2分だけ実効的な光路長がずれる。共振器の往復でλ/2分の光路長差を付けるためにはλ/4分だけ共振器長を変える必要がある。
例えば半導体共振器の上部または下部の界面のどちらか一方が固定端反射となる場合には、本発明に適した半導体共振器長はλ/2×m+λ/4からλ/4を引いた値(またはλ/4を足した値)であり、λ/2×mとなる。
本明細書中では、特に言及しないかぎり半導体共振器の上部および下部の界面での光反射は自由端反射となるような構成になっているものとする。
また、多層膜の場合は各界面からの反射光が合波されたものとなるため、明確な自由端や固定端とはならない場合がある。DBRの場合、基本的にはDBRの活性層に最も近い層の屈折率がその層と接する入射側の層の媒質に比べて屈折率が大きい場合には、固定端反射になる。一方、DBRの活性層に最も近い層の屈折率がその層と接する入射側の層の媒質に比べて屈折率が小さい場合には、自由端反射になる。しかし、DBRの各層の光学厚さがλ/4からずれるにつれて少しずつ固定端反射や自由端反射と言えなくなる。また、膜厚変調DBRのような、高屈折率層がλ/4より厚く低屈折率層がλ/4より薄いDBRなどでは、中心波長でも自由端反射や固定端反射にならない。
この点を踏まえて、本発明のMEMS−VCSELでは、自由端反射の場合に換算して、中心波長をλとした場合に半導体共振器長がλ/2×m+λ/4となるように構成されている。
図5や図8を用いて説明した時と同様、基本構造は空隙部と半導体共振器の界面に何も設けていない構造である。AR膜付加は空隙部と半導体共振器の界面にAR膜を形成した構造である。DBR付加は空隙部と半導体共振器の界面に高反射率構造としてDBRを形成した構造である。DBR付加が本発明を適用した構成であり、基本構造とAR膜付加が比較用の構成である。
なお、AR膜やDBRを除いた半導体共振器長は、中心波長1065nmを1.00λとした時に3.25λとなるように設計した。
その違いを明瞭にするために、図2と図8に示した計算結果から各構造の波長チューニング効率を読み取って、大きい順に並べた表を表1に示す。
まず、半導体共振器長を3.00λから3.25λにすることで、共振器長が長くなるにも関わらず基本構造の波長チューニング効率が向上する。
基本構造にAR膜を付加した構造について、従来の半導体共振器長3.00λの場合は波長チューニング効率が大きくなるが、本発明を適用した半導体共振器長3.25λの構造の場合では逆に波長チューニング効率が小さくなる結果が得られた。
一方、基本構造にDBRを付加した構造について、従来の半導体共振器長3.00λの場合は波長チューニング効率が小さくなるが、本発明を適用した半導体共振器長3.25λの構造の場合では逆に波長チューニング効率が大きくなる結果が得られた。
この結果は、半導体共振器長によって波長チューニング効率が変化し、空隙部と半導体共振器の界面の反射率によってその変化量が拡大されたり縮小されたりするということであると理解できる。
図3に、様々な構造のMEMS−VCSELについて、中心波長1065nmにおける波長チューニング効率と半導体共振器長の関係を計算した結果を示す。
空隙部と半導体共振器の界面に何も設けない基本構造と、界面にDBRを1ペア、3ペア、5ペア設けた構造と、界面にAR膜を設けた構造の、中心波長1065nm付近における波長チューニング効率の半導体共振器長依存性を計算したものである。
図3を見ると、半導体共振器長がλ/4変わるごとに波長チューニング効率が増減を繰り返すことがわかる。また、細かい増減を繰り返しながら、全体的な傾向としては半導体共振器長が長くなるほど波長チューニング効率が下がることも見て取れる。
ここで、AR膜を設けた構造では半導体共振器長の変化に対する波長チューニング効率の増減の幅が小さくなっている。
一方、DBRを設けた構造では半導体共振器長の変化に対する波長チューニング効率の増減の幅が大きくなっている。また、DBRのペア数が増えるにつれてさらに波長チューニング効率の増減の幅が大きくなる。
図3を用いて説明したように、λ/2×m+λ/4の半導体共振器長にAR膜を付加すると、逆に波長チューニング効率が悪化してしまうということが本発明者らの検討により判明した。
この結果について定性的な考察を試みる。
AR膜などの反射率を低減する構造は、半導体共振器長の違いに対して鈍感にさせる効果を持つと理解できる。それにより、どのような半導体共振器長であっても、AR膜を形成しない場合の波長チューニング効率の大きい半導体共振器長と小さい半導体共振器長の中間的な特性が得られる。
つまり、もともと波長チューニング効率の小さい半導体共振器長(λ/2×m)の場合にはAR膜を付加することで波長チューニング効率を大きくすることができる。一方、もともと波長チューニング効率の大きい半導体共振器長(λ/2×m+λ/4)の場合はAR膜を付加することで波長チューニング効率が小さくなってしまう。
逆に、DBRなどの反射率を増大させる構造は半導体共振器長の違いに対して敏感にさせる効果を持つと理解できる。つまり、もともと波長チューニング効率の小さい半導体共振器長(λ/2×m)の場合にはDBRを付加することで波長チューニング効率がさらに小さくなる。一方、もともと波長チューニング効率の大きい半導体共振器長(λ/2×m+λ/4)の場合はDBRを付加することで波長チューニング効率がさらに大きくなる。
結果として、波長チューニング効率を大きくするという観点では、λ/2×m+λ/4の半導体共振器長にDBRなどの高反射率構造を付加した構造が最適となる。
λ/2×m+λ/8 < L < λ/2×m+3λ/8(mは1以上の整数、λはレーザ発振の中心波長)
を満たす範囲であれば本発明の効果が得られる。
さらに、
λ/2×m+7λ/40 ≦ L ≦ λ/2×m+13λ/40
を満たす範囲であれば、基本構造よりも波長チューニング効率が向上するため好ましい。
さらに、
λ/2×m+3λ/16 ≦ L ≦ λ/2×m+5λ/16
を満たす範囲であれば、よりλ/2×m+λ/4に近い範囲であり、好適である。
この中でも、半導体多層膜で構成されたDBR(いわゆる半導体DBR)を使用する場合は、次のような理由から、特に好ましい。すなわち、結晶成長により半導体共振器の後に続けて一括で形成できるという製造上の利点や、導電性を持っているため電流を拡散させることができ電流注入の均一化に役立つといった利点が挙げられる。
また、誘電体多層膜で構成されたDBR(いわゆる誘電体DBR)を使用する場合は、導電性を持たせることができないという点で半導体DBRに劣るが、半導体多層膜より大きな屈折率差を得ることができ、容易に高い反射率を得やすいという点で優れている。そのため、用途によっては半導体DBRより誘電体DBRを用いる方が好ましい場合もある。
本実施形態では、実施形態1で示した面発光レーザを備えた光源装置の応用例について説明する。波長可変型の光源装置は、光通信用光源や光計測用光源として利用することができる。また、この光源装置は、非侵襲、非破壊で測定対象物の内部の情報を取得する情報取得装置の光源装置として利用することができる。以下では、本実施形態の光源装置を用いた情報取得装置の一例として、光干渉断層計(以下、OCT装置という)について図4を用いて説明する。
図4は、本実施形態に係るOCT装置8を示す模式図である。OCT装置8は、光源装置801、干渉光学系802、光検出部803、測定対象物の内部情報を取得する情報取得部804、を少なくとも有する。光源装置801として、実施形態1の面発光レーザを用いることができる。また、図示していないが、情報取得部804はフーリエ変換器を有する。ここで、情報取得部804がフーリエ変換器を有するとは、情報取得部804が入力されたデータに対してフーリエ変換する機能を有していれば形態は特に限定されない。一例は、情報取得部804が演算部を有し、この演算部がフーリエ変換する機能を有する場合である。具体的には、演算部がCPUを有するコンピュータであり、このコンピュータが、フーリエ変換機能を有するアプリケーションを実行する場合である。他の例は、情報取得部804がフーリエ変換機能を有するフーリエ変換回路を有する場合である。
以下、光源装置801から光が照射されてから、測定対象の物体の内部の情報を得るまでについて詳細に説明する。光源装置801から出た光は、ファイバ805を通って、カップラ806に入り、照射光用のファイバ807を通る照射光と、参照光用のファイバ808を通る参照光とに分岐される。カップラ806は、光源の波長帯域でシングルモード動作のもので構成し、各種ファイバカップラは3dBカップラで構成することができる。照射光はコリメーター809を通って平行光になり、ミラー810で反射される。ミラー810で反射された光はレンズ811を通って物体812に照射され、物体812の奥行き方向の各層から反射される。
以下の実施例では、レーザ発振波長として1060nm付近のものを示したが、適切な材料・構造の選択により、任意の波長での動作も可能である。
実施例1として、本発明を適用したVCSELについて、図1を用いて説明する。図1は、本実施例におけるVCSELの層構造を示す断面模式図である。
本実施例におけるVCSELは、GaAsをベースとした化合物半導体で構成されており、中心波長1060nm付近で波長掃引できるように設計されたものである。
上から順に上部反射鏡100、空隙部130、高反射率構造170、活性層120を含む半導体共振器150、下部反射鏡110、GaAs基板140が配置されている。
上部反射鏡100は、Al0.4Ga0.6AsとAl0.9Ga0.1Asを交互に36.5ペア積層したDBRで構成されている。
上部反射鏡100は電圧印加による静電力で上下方向の位置を変えることができるようになっている。図中では電圧印加用の電極は省略している。
空隙部130には空気が充填されており、空隙部130の長さ(エアギャップ長)は1600nm付近で可変となっている。高反射率構造170は、上部反射鏡100と同様にAl0.4Ga0.6AsとAl0.9Ga0.1Asを交互に5ペア積層したDBRで構成されている。
活性層120はGaInAsからなる量子井戸層とGaAsPからなる障壁層を3周期積層した多重量子井戸構造で構成されている。
活性層120は電流注入により発光する。なお、図中では電流注入のための電極は省略している。
半導体共振器長は、中心波長1060nmを1.00λとしたときに1.75λ付近に相当するように構成されている。
下部反射鏡110はGaAsとAlAsを交互に30ペア積層した上にAl0.4Ga0.6AsとAl0.9Ga0.1Asを交互に5ペア積層したDBRで構成されている。
エピタキシャル成長を行う際、空隙部に相当する部分をGaAsの犠牲層として成膜しておく。
水とクエン酸と過酸化水素水との混合液をエッチャントとして用いることで、AlGaAsのAl組成に応じた選択エッチングが可能である。本実施例では、水およびクエン酸(重量比1:1)を混ぜ合わせたクエン酸溶液と、濃度30%の過酸化水素水とを4:1の割合(体積比)で混ぜたものをエッチャントとして用いた。このエッチャントでGaAsとAl0.7Ga0.3Asの選択エッチングが可能であり、GaAs犠牲層だけを除去することで空隙部を形成することができる。
計算によると、高反射率構造170を設けない場合の波長チューニング効率は0.246であるが、本実施例のように高反射率構造170を設けることで波長チューニング効率を0.262に改善できる。
このように、本発明を適用した構成では、従来よりも優れた波長チューニング効率を有する波長可変型の面発光レーザが得られる。
110:下部反射鏡
120:活性層
130:空隙部
140:基板
150:半導体共振器
170:高反射率構造
Claims (11)
- 上部反射鏡と、活性層を含む半導体共振器と、下部反射鏡と、をこの順に備え、上部反射鏡と半導体層との間に空隙部が形成されており、共振器長が可変である面発光レーザであって、
前記空隙部と前記半導体共振器の間に高反射率構造を備え、
前記高反射率構造と前記半導体共振器との界面と前記半導体共振器と前記下部反射鏡との界面との間の光学的距離である前記半導体共振器の光学厚さLが、前記半導体共振器の該上部および下部の界面での光反射時の位相変化が無い場合に換算して、
λ/2×m+λ/8 < L < λ/2×m+3λ/8 (mは1以上の整数、λはレーザ発振の中心波長)
であり、
前記高反射率構造が、相対的に高屈折率の材料からなる高屈折率層と相対的に低屈折率の材料からなる低屈折率層が少なくとも1ペア積層された構造であることを特徴とする面発光レーザ。 - 上部反射鏡と、活性層を含む半導体共振器と、下部反射鏡と、をこの順に備え、上部反射鏡と半導体層との間に空隙部が形成されており、共振器長が可変である面発光レーザであって、
前記空隙部と前記半導体共振器の間に高反射率構造を備え、
前記高反射率構造と前記半導体共振器との界面または前記半導体共振器と前記下部反射鏡との界面のどちらか一方が固定端反射となり、
前記半導体共振器の該上部の界面と該下部の界面との間の光学的距離である前記半導体共振器の光学厚さLが、
λ/2×m−λ/8 < L < λ/2×m+λ/8 (mは1以上の整数、λはレーザ発振の中心波長)
であり、
前記高反射率構造が、相対的に高屈折率の材料からなる高屈折率層と相対的に低屈折率の材料からなる低屈折率層が少なくとも1ペア積層された構造であることを特徴とする面発光レーザ。 - 前記高反射率構造がDBRで構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の面発光レーザ。
- 前記高反射率構造が半導体DBRで構成されていることを特徴とする請求項3に記載の面発光レーザ。
- 前記高反射率構造が誘電体DBRで構成されていることを特徴とする請求項3に記載の面発光レーザ。
- 前記半導体共振器の光学厚さLが
λ/2×m+7λ/40 ≦ L ≦ λ/2×m+13λ/40
であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の面発光レーザ。 - 前記半導体共振器の光学厚さLが
λ/2×m+3λ/16 ≦ L ≦ λ/2×m+5λ/16
であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の面発光レーザ。 - 前記半導体共振器は、前記高反射率構造と前記下部反射鏡との間に配置された全ての半導体層の積層体であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の面発光レーザ。
- 前記高反射率構造は、レーザ発振の中心波長において50%以上の反射率を有することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の面発光レーザ。
- 請求項1乃至9のいずれか1項に記載の面発光レーザと、
測定対象物の内部情報を取得する情報取得部と、を有することを特徴とする情報取得装置。 - 請求項1乃至9のいずれか1項に記載の面発光レーザと、
光源装置からの光を測定対象物へ照射する照射光と参照光とに分岐させ、前記測定対象物に照射された光の反射光と前記参照光による干渉光を発生させる干渉光学系と、
前記干渉光を受光する光検出部と、
前記光検出部からの信号に基づき、前記測定対象物の情報を取得する情報取得部と、を有することを特徴とする光干渉断層計。
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