JP2015233127A - 面発光レーザ、レーザアレイ、光源装置、情報取得装置及び光干渉断層計 - Google Patents
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Abstract
【課題】 発光位置が規定された、外部光源により励起する面発光レーザを提供する。【解決手段】 一対の反射鏡(11、15)と、一対の反射鏡(11、15)の間に配置された活性層(13)と、を有し、発振波長が変化する面発光レーザであって、一対の反射鏡の一方の反射鏡(15)と活性層との間に間隙が形成されており、活性層(13)は、外部光源から照射された光によって励起され、一対の反射鏡(11、15)の間と一対の反射鏡(11、15)のうち少なくとも一方の反射鏡のうち、少なくとも一方に、活性層13の発光領域を規定する規定構造(20)が配置されている。【選択図】 図1
Description
本発明は、面発光レーザ、それを備えたレーザアレイ、光源装置、情報取得装置及び光干渉断層計に関する。
発振波長を変えることのできる波長可変レーザは、通信やセンシング、イメージングなどの様々な分野への応用が期待できることから、近年盛んに研究開発が行われている。波長可変レーザとしては、Micro Electro Mechanical Systems(以下、MEMSという)技術により垂直共振器型面発光レーザ(以下、VCSELという)の発振波長を制御する、いわゆるMEMS−VCSELが知られている。MEMS−VCSELでは、具体的には、一対の反射鏡の一方を機械的に動かすことで共振器長を変動させ、レーザ発振波長を変化させている。非特許文献1には、外部光源を用いて活性層を励起するMEMS−VCSELについて開示されている。
また、波長可変レーザは、断層画像撮像装置の一つである光干渉断層計(以下OCTという)の光源として注目されている。OCT装置では、波長(発振周波数)を変化させ(掃引し)、干渉光の検出信号をフーリエ変換して検体の深さ方向の反射光強度分布を得ている。波長を掃引する際には、光源から発せられる光をOCT装置を構成するファイバへ結合させる必要がある。
D.Vakhschoori、他6名、「2mW CW singlemode operation of a tunable 1550nm vertical cavity surface emitting laser with 50nm tuning rannge」、ELECTORONICS LETTERS 27th May 1999 Vol.35 No.11 p.900−901
非特許文献1のような、活性層の励起手段が外部励起光であるMEMS−VCSELの場合には、活性層において面内方向の発光領域が規定されていない。そのため、活性層の面内方向に発光領域の揺らぎが生じ、ファイバとの相対的な位置決めが困難になる。
本発明は、上記課題に鑑み、発光領域が規定された、外部光源により励起する面発光レーザの提供を目的とする。
本発明は、上記課題に鑑み、発光領域が規定された、外部光源により励起する面発光レーザの提供を目的とする。
本発明は、一対の反射鏡と、前記一対の反射鏡の間に配置された活性層と、を有し、発振波長が変化する面発光レーザであって、前記一対の反射鏡の一方と前記活性層との間に間隙が形成されており、前記活性層は、外部光源から照射された光によって励起され、前記一対の反射鏡の間と前記一対の反射鏡のうち少なくとも一方の反射鏡のうち、少なくとも一方に、前記活性層の発光領域を規定する規定構造が配置されていることを特徴とする。
本発明によれば、発光位置が規定された、外部光源により励起する面発光レーザを提供することができる。
以下に、本発明に係る外部光源により励起される波長可変型の面発光レーザ及びそれを備える光源装置、情報取得装置、撮像装置について説明する。なお、「一対の反射鏡の間の距離が変えられる」とは、面発光レーザの発光時に一対の反射鏡の間の距離が変えられることを意味している。より具体的には、一対の反射鏡のうち少なくとも一方が面発光レーザを構成する活性層の厚さ方向に動くことで、一対の反射鏡の間の距離が変えられる。
(実施形態1)
図1(a)は本実施形態に係る面発光レーザの断面模式図である。この面発光レーザは、基板10の上に、第1反射鏡11と、第1スペーサ層12と、活性層13と、第2スペーサ層14と、第2反射鏡15を有する。第2反射鏡15は、第2スペーサ層14とは犠牲層(支持層)16によって離間されている。そして、第2反射鏡15と第2スペーサ層14の間には犠牲層16の一部が除去されて間隙部が形成されている。間隙は、活性層13と一対の反射鏡の一方である第2反射鏡15と間に形成されている。また、第2反射鏡15は犠牲層16に形成された梁17によって支持されている。
図1(a)は本実施形態に係る面発光レーザの断面模式図である。この面発光レーザは、基板10の上に、第1反射鏡11と、第1スペーサ層12と、活性層13と、第2スペーサ層14と、第2反射鏡15を有する。第2反射鏡15は、第2スペーサ層14とは犠牲層(支持層)16によって離間されている。そして、第2反射鏡15と第2スペーサ層14の間には犠牲層16の一部が除去されて間隙部が形成されている。間隙は、活性層13と一対の反射鏡の一方である第2反射鏡15と間に形成されている。また、第2反射鏡15は犠牲層16に形成された梁17によって支持されている。
この面発光レーザの活性層13は、外部光源により励起されて発光し、発生した光は第1反射鏡11と第2反射鏡15とで形成される共振器内を往復し、活性層13内で誘導放出を引き起こす。誘導放出され、共振器の共振器長に応じた特定の波長の光は、第1反射鏡11あるいは第2反射鏡15を透過して、レーザ光として出射される。
第2反射鏡15及び梁17は、導電性を有している。そして、第2スペーサ層14に設けられた第1電極18と梁17に設けられた第2電極19との間に電圧を印加することにより、第2反射鏡15は、MEMS駆動されて活性層13の厚さ方向に動く。この構成により、第1反射鏡11と第2反射鏡15との間の距離、つまり共振器長を変えることができるため、面発光レーザの発振波長を変えることができる。
そして、本実施形態の面発光レーザは、第1スペーサ層12内に、活性層13の発光領域を規定する規定構造20が配置されている。この構成により、面発光レーザにおいて活性層13の面内方向の発光領域の揺らぎを低減することが可能となる。
規定構造20としては、活性層13の発光領域に対応する第1領域21の方が、活性層13の発光領域以外に対応する第2領域22よりも屈折率が大きい屈折率を持つ層を用いることができる。この構成により、屈折率差に起因した光閉じ込め効果により、発光領域が規定される。この結果、この面発光レーザからのレーザ光とファイバとの結合が容易になったり、結合効率を向上させることが可能となる。
より具体的には、この規定構造20は、一対の反射鏡(第1反射鏡11と第2反射鏡15)の間に配置された半導体層を選択酸化することにより形成することができる。つまり、図1(a)のメサ構造の側面から適切な条件下で水蒸気酸化することによって、第1スペーサ層12内に設けられた規定構造20の母材となる半導体層の第2領域22のみを酸化させることで、上述した規定構造20を形成することができる。この結果、規定構造20は、発光領域に対応する領域以外が酸化された層となり、第1領域21は非酸化領域、第2領域22は酸化領域となる。例えば円柱状のメサ構造の側面から酸化すると円形の非酸化領域(第1領域21)が形成され、楕円状のメサ構造の側面から酸化すると楕円状の非酸化領域(第1領域21)が形成される。楕円状の非酸化領域を有した面発光レーザにおいては、特定の偏波で発振するように制御することが可能となる。
規定構造20は、図1(a)のように第1スペーサ層12内に配置されていてもよいし、第2スペーサ層14内に配置されてもよい。また、規定構造20は、第1スペーサ層12と第2スペーサ層14の両方に配置されてもよい。また、規定構造20は、活性層13の近傍に配置されていてもよいし、そうでなくてもよい。活性層13近傍に規定構造20を配置する場合は、共振器内の定在波の節となる位置に規定構造20を配置するのが好ましい。
また、規定構造20の第2領域22の大きさは、面発光レーザの発振波長帯域とその中心波長に応じて決定される。例えば、中心波長が1040nm以上1080nm以下、波長帯域が±50nmの場合では、規定構造20の第2領域22の最も長い径が1μm以上5μm以下であることが好ましい。なお、この波長帯域は、活性層13の材料、第1反射鏡11の反射帯域、第2反射鏡15の反射帯域、第2反射鏡15の厚さ方向への可動幅によって決定される。
規定構造20の中心軸は、面発光レーザの厚さ方向に平行で、第1領域21の重心または第2領域22の重心を通る軸とする。この規定構造20の中心軸は、外部光源から射出される活性層13を励起するための励起光の中心軸と一致していることが好ましい。規定構造20の中心軸と励起光の中心軸とは平行であることが好ましい。
また、図1(a)では、規定構造20は、一つである場合を例示したが、面発光レーザが、面発光レーザの厚さ方向において複数の規定構造20を有する構成であってもよい。複数の規定構造20は一対の反射鏡の間に形成されていてもよいし、後述する実施形態2のように、複数の規定構造20のうち一部の規定構造が一対の反射鏡のうち少なくとも一方に形成されていてもよい。なお、複数の規定構造20を有する構成の場合には、複数の規定構造20の中心軸それぞれは一致していることが好ましい。
図4は、図1(a)の面発光レーザの上面模式図である。この図4のA−A’の断面図が図1(a)に対応する。また図4では、規定構造20内の第1領域21が網掛けの領域で示されている。このように発光領域に対応する第1領域21の大きさは、出力鏡である第2反射鏡15の大きさよりも小さい。なお、第1電極18は第2スペーサ層14の外周の一部に設けられているが、第2スペーサ層14の外周に沿って一周設けられる構成でもよい。さらに、第1電極18は、第2スペーサ層14上に複数設けられていてもよい。また、第2電極19も同様に、第2反射鏡15の犠牲層16に対応する領域の上に複数設けられていてもよい。
基板10は、GaAsやGaNなどの半導体基板を用いることができる。また、第1反射鏡11と、第1スペーサ層12と、活性層13と、第2スペーサ層14と、第2反射鏡15を構成する材料は、発振波長帯域により適宜選択することができる。
第1反射鏡11は、図1(a)のような多層膜を用いることができる。より具体的には、分布ブラッグ反射鏡(Distributed Bragg Reflector、以下DBRという)を用いることができる。DBRは、相対的に高い屈折率を有する高屈折率層と、相対的に低い屈折率を有する低屈折率層とが交互に積層された構成である。高屈折率層と低屈折率層はともに例えば、Al、Ga、In、N、Pなどの元素のうち少なくとも1つを含む半導体層で構成されている。ただし、高屈折率層と低屈折率層は、それぞれに含まれる元素が少なくとも1つ異なっていたり、その組成の比率が異なっている。また、高屈折率層と低屈折率層それぞれの光学的厚さは、中心波長をλとすると、λ/4の奇数倍であることが好ましい。
また、DBRは、半導体多層膜で構成されていてよいし、誘電体多層膜で構成されていてもよい。さらに、DBRは、半導体層と絶縁層との交互積層体で構成されていてもよい。より具体的には、その反射鏡を構成する複数の半導体層を酸化することにより得られる酸化物層を多層膜反射鏡の低屈折率層とする構成を採ることができる。この構成を採ることにより、半導体層のみで構成した多層膜反射鏡と比べて、低屈折率層と高屈折率層の屈折率差がより大きくとることが可能となるため、同じ反射率を得るための交互積層の繰返し層数を少なくすることが可能となる。また、高反射率の得られる波長帯域幅も広くすることも可能となる。従って、半導体層のみで構成した多層膜反射鏡と比べて、低コストに同等以上の性能を有した反射鏡を得ることが可能となる。例えば、GaAs層(高屈折率層)とAlAs層(低屈折率層)の交互積層で構成される半導体多層膜反射鏡において、適切な条件下で水蒸気酸化することによって、上述した多層膜反射鏡が得られる。つまり、AlAs層のみが選択的に酸化が進行して酸化アルミに変化し、半導体(GaAs)層と酸化物(酸化アルミ)層からなる多層膜反射鏡が形成される。
また、第1反射鏡11はDBRでなくてもよい。例えば、回折格子、例えば高屈折率差サブ波長回折格子(High index Contrast Grating、以下HCGという)ミラーであってもよい。HCGミラーは、高屈折率の材料と低屈折率の材料とが面内方向に交互に周期的に並んだ構成である。例えば、高屈折率の材料(例えば、Al0.7Ga0.3As)の一部を除去してスリット(開口部)を周期的に形成することで、高屈折領域(Al0.7Ga0.3As)と低屈折領域(空気)を面内方向に交互に周期的に並んだ構成を得ることができる。第1反射鏡11としてHCGミラーを用いる場合には、1次元あるいは2次元の周期構造を有するHCGミラーを用いることができる。
第2反射鏡15は、図1(a)で示したHCGミラーを用いることができる。より具体的には、第2反射鏡15は、半導体層を加工して第2反射鏡15の面内方向に周期的な開口部を設けた、高屈折率領域と低屈折領域(開口部:空気)の周期構造体である。例えば、高屈折率の材料(例えば、Al0.7Ga0.3As)の一部を除去してスリットを周期的に形成することで、高屈折領域(Al0.7Ga0.3As)と低屈折領域(空気)を面内方向に交互に周期的に並んだ構成を得ることができる。なお、第2反射鏡15としてHCGミラーをも用いる場合には、1次元の周期構造体を有するHCGミラーを用いることが好ましい。また、第2反射鏡15を支持する梁17は、図1(a)のように両持ち梁を用いてもよいし、片持ち梁を用いてもよい。
第2反射鏡15としては、HCGミラーの代わりに、図1(b)のようなDBR25を用いることができる。このDBR25は、第1反射鏡11のDBRと同じ材料で構成されていてもよい。この構成では、例えば、梁17の上に誘電体からなるDBR25が形成され、梁17は半導体層で形成される。そして、第1電極18と第2電極19との間の印加電圧に応じて梁17とともにDBR25が厚さ方向に変動する。図1(b)のように、DBR25は梁17上の少なくとも活性層13の発光領域に対応する部分に設けられていればよく、それ以外の部分に設けられていてもよい。なお、DBR25は半導体で構成されていてもよい。
また、第2反射鏡15としては、図1(c)のように、梁を兼ねた半導体からなるDBR27を用いることができる。この構成でも、第1電極18と第2電極19との間の印加電圧に応じてDBR27が厚さ方向に変動する。
第1反射鏡11と第2反射鏡15のうち光を取り出す側の反射鏡としては、反射率の値が99.0%以上99.5%以下の間であることが好ましい。また、光を取り出す側の反射鏡とは異なる反射鏡の反射率の値は、99.5%以上が好ましい。図1(a)では、光を取り出す側の反射鏡は第2反射鏡15とする。第1反射鏡11を光を取り出す側の反射鏡とする場合は、レーザ光の吸収を抑制する目的で、基板10の発光領域に対応する部分を除去することが好ましい。
第1スペーサ層12と第2スペーサ層14は、光やキャリアを閉じ込めるためのクラッド層の役割と共振器長を調整するための役割とを担っている。第1スペーサ層12は活性層13よりも第1反射鏡11側にある層で、それに対して第2スペーサ層14は活性層13よりも第2反射鏡15側にある層である。第1スペーサ層12と第2スペーサ層14は、半導体材料を用いることができる。第1スペーサ層12と第2スペーサ層14の厚さは、同じにする必要はなく、共振器長に応じてそれぞれを適宜設定すればよい。第1スペーサ層12と第2スペーサ層14は、Al、Ga、In、N、Pなどの元素のうち少なくとも1つを含む半導体層で構成されている。
活性層13は、外部光源により光を発生する材料であれば特に限定されない。例えば、活性層13は、Al、Ga、In、N、Pなどの元素のうち少なくとも1つを含む半導体層で構成されている。また、活性層13は、広波長帯域の利得を有するものであることが好ましく、具体的には第1反射鏡11と第2反射鏡15の反射帯域より広い波長領域において、十分な利得を有することが好ましい。そのような活性層13としては、例えば、少なくとも2つ以上の異なるエネルギー準位で発光が可能な量子井戸構造を有する活性層が挙げられる。また、量子井戸構造は、単量子井戸構造でもよいし多重量子井戸構造であってもよい。また、多重量子井戸構造の場合は、活性層13は、井戸ポテンシャルの深さや井戸の幅が同じ複数の量子井戸を有していてもよいし、井戸ポテンシャルの深さや井戸の幅が異なる複数の量子井戸を有していてもよい。
犠牲層16は、上述したように第2スペーサ層14と第2反射鏡15との間に第2反射鏡15を可動とするための間隙部を規定している。犠牲層16は半導体材料を用いることができる。なお、間隙部は、真空であってもよいし、空気、不活性ガスが存在してもよい。なお、間隙部の長さは、波長可変帯域幅や第2反射鏡15がプルインしないように決定される。
梁17は、第1電極18と第2電極19との間に電圧を印加することで生じる静電気力で撓むために、半導体で構成されている。好ましくは、第2反射鏡15を構成する部材の一部と同じ材料であることが好ましい。
第1電極18と第2電極19は、金属を用いて構成されている。第1電極18と第2電極19は、不図示の制御部により電圧が供給される。
一対の反射鏡11、15の間に配置された半導体層(第1スペーサ層12、活性層13、第2スペーサ層14)は、ドーパントを含まないノンドープ半導体層でもドーパントを含むドーピング半導体層でもどちらの構成でもよい。ただし、それらの層がノンドープ半導体層である場合には、光吸収ロスが抑えられ、発光効率の高い面発光レーザを得ることが可能となる。さらには、一対の反射鏡11、15が半導体を含む場合、それらの半導体層がノンドープ半導体層である場合には、さらに、光吸収が抑制され、発光効率のより高い面発光レーザが得られる。
また、本発明によれば、規定構造20を備えているため、横モードの抑制も可能である。このため、外部光源としてマルチ横モード動作する半導体レーザやスーパールミネッセントダイオードを選択することが可能となる。もちろん、外部光源としては、単一横モード動作する半導体レーザを用いることも可能である。
外部光源は、面発光レーザに対して、規定構造20の、活性層13の発光領域に対応する部分に励起光を照射するように配置されている。さらには、上述したように、外部光源から射出される励起光の中心軸が、規定構造20の中心軸と一致するように外部光源が配置されていることが好ましい。また励起光は、面発光レーザの発振波長帯域のうち最も短い波長以下の波長成分を含んでいる。
本実施形態では、1つの面発光レーザについて説明したが、複数の面発光レーザをアレイ状に備えたレーザアレイの形態であっても、同様に適用できる。なお、複数の面発光レーザにおいて、メサ構造部分よりも基板10側にある部分、具体的には、基板10、第1反射鏡11が共有されていてもよい。
(実施形態2)
図2は本実施形態に係る面発光レーザの断面模式図である。この面発光レーザは、実施形態1の面発光レーザとは、規定構造の配置位置が異なっている。具体的には、実施形態1の規定構造20は第1反射鏡11と第2反射鏡15の間に配置されているが、本実施形態の規定構造30は、第1反射鏡41内に形成されている。また、メサ構造も第1反射鏡41の側面が露出されるまで形成されている。それ以外は、実施形態1と同じ構成である。
図2は本実施形態に係る面発光レーザの断面模式図である。この面発光レーザは、実施形態1の面発光レーザとは、規定構造の配置位置が異なっている。具体的には、実施形態1の規定構造20は第1反射鏡11と第2反射鏡15の間に配置されているが、本実施形態の規定構造30は、第1反射鏡41内に形成されている。また、メサ構造も第1反射鏡41の側面が露出されるまで形成されている。それ以外は、実施形態1と同じ構成である。
規定構造30は、実施形態1の規定構造20と同様に、活性層13の発光領域に対応する第1領域31と、活性層13の発光領域以外に対応する第2領域32と、を有している。そして、第1領域31の屈折率の方が第2領域32の屈折率も大きい。このため、屈折率差による光閉じ込め効果により、発光領域が規定される。
このような構成を得るために、以下の方法が考えられる。例えば、第1反射鏡41として酸化層からなる低屈折率層と半導体からなる高屈折率層との交互積層体を用いる。その低屈折率層を選択酸化によって形成する際に、酸化物層に変える半導体層の一層(あるいは複数層)の組成を、他の酸化物層に変える半導体層の組成と異ならせることで酸化の進行を制御し、規定構造30を第1反射鏡41内に形成することができる。より具体的には、まず、第1反射鏡41の母体となる多層膜の中に、低屈折率層となる半導体層のAl含有率よりも1%以上8%以下の範囲でAl含有率が小さい半導体層を一層(あるいは複数層)設ける。そして、その多層膜を酸化することにより、Alの濃度に応じて酸化の速度が異なることを利用して、Al含有率が相対的に小さい半導体層の酸化を遅らせる。その結果、その半導体層は、非酸化領域である第1領域31と、酸化領域である第2領域32と、を有する構成となり、上述した規定構造30となる。
また、第1反射鏡41内において、規定構造30となる層とそれ以外の低屈折率層は別の組成で構成されているが、この低屈折率層の一部ないしは全てを規定構造30と同じ組成で構成してもよい。後者の場合には、複数の規定構造30が第1反射鏡41の内部に形成される。また、低屈折率層のAl含有率は全て同じでなくてもよく、規定構造30のAl含有率との関係が上述した範囲を満たしていればよい。
また、規定構造30は、第1反射鏡41を構成する低屈折率層の中で最も活性層13に近い位置に配置されているが、これに限定されない。規定構造30は、第1反射鏡41の中央部分に配置されていてもよいし、低屈折率層の中で最も基板10に近い位置(最も活性層13から遠い位置)に配置されていてもよい。
また、第1反射鏡41の複数の低屈折率層の全てが酸化層で構成されている必要はなく、その活性層13に近い低屈折率層が酸化層で構成され、それよりも基板10側にある低屈折率層は酸化されていなくてもよい。この場合、メサ構造は酸化層からなる低屈折率層の側面が露出するように形成されていればよい。
また、規定構造30を含む第1反射鏡41を構成する低屈折率層のうち、規定構造30を構成する低屈折率層を除く低屈折率層の少なくとも一部の層は、層全体に渡って酸化されていることが好ましい。さらに、規定構造30を構成する低屈折率層を除く低屈折率層の全てが、層全体に渡って酸化されていることが好ましい。この構成の場合、第1反射鏡41の高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が大きくなるため、第1反射鏡41の反射率、反射波長帯域を大きくすることが可能となる。
これまでは、規定構造30が第1反射鏡41内に形成される例を述べたが、第2反射鏡15がDBRで構成される場合には、第2反射鏡15内に規定構造30が形成されていてもよい。規定構造30が第2反射鏡15内に形成される場合には、梁17は両持ち梁で構成されていることが好ましい。
(実施形態3)
本実施形態では、実施形態1又は2の面発光レーザと、その活性層を励起するための外部光源とを備えた光源装置の応用例について説明する。波長可変型の光源装置は、光通信用光源や光計測用光源として利用することができる。また、この光源装置は、非侵襲、非破壊で測定対象物の内部の情報を取得する情報取得装置の光源装置として利用することができる。以下では、本実施形態の光源装置を用いた情報取得装置の一例として、光干渉断層計(以下、OCT装置という)について図3を用いて説明する。
本実施形態では、実施形態1又は2の面発光レーザと、その活性層を励起するための外部光源とを備えた光源装置の応用例について説明する。波長可変型の光源装置は、光通信用光源や光計測用光源として利用することができる。また、この光源装置は、非侵襲、非破壊で測定対象物の内部の情報を取得する情報取得装置の光源装置として利用することができる。以下では、本実施形態の光源装置を用いた情報取得装置の一例として、光干渉断層計(以下、OCT装置という)について図3を用いて説明する。
図3は、本実施形態に係るOCT装置8を示す模式図である。OCT装置8は、光源装置801、干渉光学系802、光検出部803、測定対象物の内部情報を取得する情報取得部804、を少なくとも有する。光源装置801として、実施形態1又は2の面発光レーザを用いることができる。また、図示していないが、情報取得部804はフーリエ変換器を有する。ここで、情報取得部804がフーリエ変換器を有するとは、情報取得部804が入力されたデータに対してフーリエ変換する機能を有していれば形態は特に限定されない。一例は、情報取得部804が演算部を有し、この演算部がフーリエ変換する機能を有する場合である。具体的には、演算部がCPUを有するコンピュータであり、このコンピュータが、フーリエ変換機能を有するアプリケーションを実行する場合である。他の例は、情報取得部804がフーリエ変換機能を有するフーリエ変換回路を有する場合である。
光源装置801から出た光は干渉光学系802を経て測定対象の物体812の情報を有する干渉光となって出力される。干渉光は光検出部803において受光される。なお光検出部803は差動検出型でも良いし単純な強度モニタ型でも良い。受光された干渉光の強度の時間波形の情報は光検出部803から情報取得部804に送られる。情報取得部804では、受光された干渉光の強度の時間波形のピーク値を取得してフーリエ変換をし、物体812の情報(例えば断層像の情報)を取得する。なお、ここで挙げた光源装置801、干渉光学系802、光検出部803、情報取得部804を任意に設けることができる。
以下、光源装置801から光が照射されてから、測定対象の物体の内部の情報を得るまでについて詳細に説明する。光源装置801から出た光は、ファイバ805を通って、カップラ806に入り、照射光用のファイバ807を通る照射光と、参照光用のファイバ808を通る参照光とに分岐される。カップラ806は、光源の波長帯域でシングルモード動作のもので構成し、各種ファイバカップラは3dBカップラで構成することができる。照射光はコリメーター809を通って平行光になり、ミラー810で反射される。ミラー810で反射された光はレンズ811を通って物体812に照射され、物体812の奥行き方向の各層から反射される。
一方、参照光はコリメーター813を通ってミラー814で反射される。カップラ806では、物体812からの反射光とミラー814からの反射光による干渉光が発生する。干渉した光はファイバ815を通り、コリメーター816を通って集光され、光検出部803で受光される。光検出部803で受光された干渉光の強度の情報は電圧などの電気的な情報に変換されて、情報取得部804に送られる。情報取得部804では、干渉光の強度のデータを処理、具体的にはフーリエ変換し断層像の情報を得る。このフーリエ変換する干渉光の強度のデータは通常、等波数間隔にサンプリングされたデータであるが、等波長間隔にサンプリングされたデータを用いることも可能である。
得られた断層像の情報は、情報取得部804から画像表示部817に送って画像として表示させてもよい。なお、ミラー810を照射光の入射する方向と垂直な平面内で走査することで、測定対象の物体812の3次元の断層像を得ることができる。また、光源装置801の制御は、情報取得部804が電気回路818を介して行ってもよい。また図示しないが、光源装置801から出る光の強度を逐次モニタリングし、そのデータを干渉光の強度の信号の振幅補正に用いてもよい。
本発明の実施形態による面発光レーザは、屈折率差に起因した光閉じ込め効果により発光領域が規定される。そのため、OCT装置に用いた場合、光源装置801(面発光レーザ)からのレーザ光とファイバ805との結合が容易となり、結合効率を向上させつつ、広帯域にわたるレーザ光を発振できるため、深さ分解能の高い断層像を取得できる。
OCT装置は、眼科、歯科、皮膚科等の分野において、動物や人のような生体内の断層像を取得する際に有用である。生体の断層像に関する情報とは、生体の断層像のみならず、断層像を得るために必要な数値データをも含む。特に、測定対象を人体の眼底や歯、血管とし、それらの断層像に関する情報を取得することに用いられることが好適である。
以下に本発明の実施例について説明する。
[実施例1]
本実施例は、実施形態1に対応する面発光レーザである(図1(a)参照)。以下に、本実施例の面発光レーザの製造方法を説明する。まず、n型のGaAs半導体基板10の上に、バッファー層(不図示)を介して、Al0.5Ga0.5As層(高屈折率層)とAl0.9Ga0.1As層(低屈折率層)の交互積層からなる60ペアの半導体多層膜からなる第1反射鏡11を成長させる。この成膜方法は、MOCVD結晶成長技術を用いる。
本実施例は、実施形態1に対応する面発光レーザである(図1(a)参照)。以下に、本実施例の面発光レーザの製造方法を説明する。まず、n型のGaAs半導体基板10の上に、バッファー層(不図示)を介して、Al0.5Ga0.5As層(高屈折率層)とAl0.9Ga0.1As層(低屈折率層)の交互積層からなる60ペアの半導体多層膜からなる第1反射鏡11を成長させる。この成膜方法は、MOCVD結晶成長技術を用いる。
その上にAl0.3Ga0.7Asの第1スペーサ層12の一部、Al0.98Ga0.02As層、Al0.3Ga0.7Asの第1スペーサ層12の一部を成長させる。そして、その上に、活性層13(GaAs層とAl0.3Ga0.7As層の3重量子井戸構造)、Al0.3Ga0.7Asの第2スペーサ層14を成長させる。
次に、Al0.7Ga0.3As層(不図示)、GaAsからなる犠牲層16、梁17と第2反射鏡15となるAl0.7Ga0.3As層を形成する。
次に、リソグラフィー技術とドライエッチング技術により、面発光レーザの円柱メサ構造を形成する。この際、Al0.98Ga0.02As層の側面が確実に露出する深さまでドライエッチングを行う。更に、リソグラフィー技術とドライエッチング技術により、第2反射鏡15、梁17に対応する領域を形成して、第2スペーサ層14の上部を一部露出させる。そして、リソグラフィー技術とドライエッチング技術により、第2反射鏡15となる領域にスリットを形成し、HCGミラーからなる第2反射鏡15を形成する。
次に、水蒸気雰囲気下でAl0.98Ga0.02As層を選択的に酸化し、規定構造20(酸化領域である第2領域22、非酸化領域である第1領域21)を形成する。
次に、第2スペーサ層14の露出部分と梁17の上それぞれに、第1電極18、第2電極19を形成する。
続いて、ウエットエッチング技術により、HCGミラーのスリットを介して犠牲層16を一部除去して、間隙部を形成する。このようにして、第2反射鏡15が可動ミラーとして機能する面発光レーザを形成する。
なお、上記工程の順番を入れ替えて面発光レーザを作製することも可能である。
[実施例2]
本実施例は、実施形態2に対応する面発光レーザである(図2参照)。以下に本実施例の面発光レーザの製造方法を、実施例1と異なる点を中心に説明する。
本実施例は、実施形態2に対応する面発光レーザである(図2参照)。以下に本実施例の面発光レーザの製造方法を、実施例1と異なる点を中心に説明する。
本実施例は、実施例1とは、第1反射鏡41をAl0.5Ga0.5As層(高屈折率層)と酸化アルミ層(低屈折率層)からなる9ペアの交互積層により構成した点が異なる。また、第1反射鏡41の最上部の酸化アルミ層が規定構造30となっている点も異なる。それ以外は、実施例1と同じである。
まず、n型のGaAs半導体基板10の上に、MOCVD結晶成長技術を用いて、Al0.5Ga0.5As層とAlAs層からなる8ペアの交互積層と、その上にAl0.5Ga0.5As層とAl0.98Ga0.02As層の1ペアの積層層とを形成する。
その後、第1スペーサ層12、活性層13、第2スペーサ層14、Al0.7Ga0.3As層(不図示)、犠牲層16、梁17と第2反射鏡15となる層を形成し、円柱メサ構造の形成までは実施例1と同じである。なお、本実施例では、実施例1と異なり、メサ構造形成の際、GaAs半導体基板10が露出するまでエッチングしている。
メサ構造を形成した後、AlAs層とAl0.98Ga0.02As層とを酸化する。この酸化工程において、Al0.98Ga0.02As層の酸化レートは、AlAs層の酸化レートに比べ遅くなるので、Al0.98Ga0.02As層は、面内方向の一部に非酸化領域(第1領域31)が発生し、規定構造30が形成される。なお、AlAs層は面内方向で全て酸化アルミニウム層となる。また、Al0.98Ga0.02As層の酸化は、円柱状のメサ構造の側壁より等速に進行するため、メサ構造の中心部に非酸化領域(第1領域31)が形成される。
その後の工程は、実施例1と同様に行い、第2反射鏡15が可動ミラーとして機能する面発光レーザを形成する。
なお、本実施例は実施例1よりも、第1反射鏡41を構成する高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が大きいため、少ないペア数で高反射率のミラーを得ることができる。この結果、低コスト化に有効である。
11、41 第1反射鏡
15、25、27 第2反射鏡
20、30 規定構造
15、25、27 第2反射鏡
20、30 規定構造
Claims (20)
- 一対の反射鏡と、前記一対の反射鏡の間に配置された活性層と、を有し、発振波長が変化する面発光レーザであって、
前記一対の反射鏡の一方の反射鏡と前記活性層との間に間隙が形成されており、
前記活性層は、外部光源から照射された光によって励起され、
前記一対の反射鏡の間と前記一対の反射鏡のうち少なくとも一方の反射鏡のうち、少なくとも一方に、前記活性層の発光領域を規定する規定構造が配置されていることを特徴とする面発光レーザ。 - 前記規定構造は、前記発光領域に対応する領域以外が酸化された層であることを特徴とする請求項1に記載の面発光レーザ。
- 前記規定構造は、前記一対の反射鏡の間に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の面発光レーザ。
- 前記一対の反射鏡の一方と前記活性層との間に少なくとも一層の半導体層を有し、
前記規定構造は、前記少なくとも一層の半導体層の発光領域に対応する領域以外が酸化された構成であることを特徴とする請求項3に記載の面発光レーザ。 - 前記規定構造は、前記一対の反射鏡のうち少なくとも一方に含まれていることを特徴する請求項1乃至4のいずれか1項に記載の面発光レーザ。
- 前記規定構造を含む反射鏡は、多層膜を有することを特徴とする請求項5に記載の面発光レーザ。
- 前記多層膜は、半導体多層膜であることを特徴とする請求項6に記載の面発光レーザ。
- 前記規定構造は、前記多層膜の一部が酸化されて構成され、かつ前記発光領域に対応する領域以外が酸化された構成であることを特徴とする請求項6に記載の面発光レーザ。
- 前記規定構造を含む反射鏡は、相対的に高い屈折率を有する高屈折率層と相対的に低い屈折率を有する低屈折率層とが交互に積層されて構成され、
前記規定構造は、前記低屈折率層の一部が酸化されて構成され、かつ前記発光領域に対応する領域以外が酸化された構成であることを特徴とする請求項8に記載の面発光レーザ。 - 前記規定構造を含む反射鏡を構成する低屈折率層のうち、前記規定構造を構成する低屈折率層を除く低屈折率層の少なくとも一部の層は、層全体に渡って酸化されていることを特徴とする請求項9に記載の面発光レーザ。
- 前記規定構造を含む反射鏡を構成する低屈折率層のうち、前記規定構造を構成する低屈折率層を除く低屈折率層の全ての層は、層全体に渡って酸化されていることを特徴とする請求項10に記載の面発光レーザ。
- 前記規定構造は、前記一対の反射鏡の間と前記一対の反射鏡の少なくとも一方の反射鏡の両方に配置されていることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の面発光レーザ。
- 前記規定構造の中心軸は、前記外部光源から射出される励起光の中心軸と一致していることを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の面発光レーザ。
- 複数の規定構造を厚さ方向に有し、前記複数の規定構造の中心軸のうち少なくとも2つが一致していることを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の面発光レーザ。
- 前記一対の反射鏡の間に配置された半導体層の全てが、ノンドープ半導体層であることを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の面発光レーザ。
- 前記一対の反射鏡が半導体層を有し、
前記一対の反射鏡が有する半導体層の全てが、ノンドープの半導体層であることを特徴とする請求項1乃至15のいずれか1項に記載の面発光レーザ。 - 複数の面発光レーザを有するレーザアレイであって、
前記複数の面発光レーザのうち少なくとも1つは、請求項1乃至16のいずれか1項に記載の面発光レーザであることを特徴とするレーザアレイ。 - 請求項1乃至16のいずれか1項に記載の面発光レーザと、
前記活性層を励起するための外部光源と、を有することを特徴とする光源装置。 - 請求項18に記載の光源装置と、
測定対象物の内部情報を取得する情報取得部と、を有することを特徴とする情報取得装置。 - 請求項18に記載の光源装置と、
前記光源装置からの光を測定対象物へ照射する照射光と参照光とに分岐させ、前記測定対象物に照射された光の反射光と前記参照光による干渉光を発生させる干渉光学系と、
前記干渉光を受光する光検出部と、
前記光検出部からの信号に基づき、前記測定対象物の情報を取得する情報取得部と、を有することを特徴とする光干渉断層計。
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2015
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