JP6548030B2 - 光硬化性樹脂組成物を用いた凹凸膜付き基材の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、光硬化性樹脂組成物を用いた凹凸膜付き基材の製造方法に関する。
近年、ディスプレイ表面への反射による像の映りこみ防止のためのアンチグレアとしてや、バックライト光を効率的に使うための拡散フィルムなどにおいて、光拡散の技術開発が進んでいる。
特許文献１には、平均粒子径が異なる２種類以上の微粒子を混合して作成される光拡散フィルム用組成物を用いた光拡散フィルムであって、光拡散フィルム用組成物に含まれる最も大きな平均粒子径を示す微粒子がコアシェル粒子である光拡散フィルムが提案されている。
特許文献２には、感光性組成物の塗膜を介して、少なくとも一方に凹凸を有するパターンをその表面に有する２枚のプレートを押し付ける工程、及び、２枚のプレートを前記感光性組成物の塗膜を介して、押し付けた状態で、感光性組成物の塗膜を露光する工程を含む、パターンを有する硬化物の製造方法が提案されている。
しかしながら、特許文献１で提案された方法では、特殊な微粒子の製造が必要でコストが上がることも多い。また、特許文献２で提案された方法では、凹凸を含むパターンを有するプレート（原版）を用意する必要がある。よって、従来技術で提案された製造工程は、さらなる工程が必要であった。
本発明の課題は、凹凸構造を簡素化した工程で形成することができる光硬化性樹脂組成物を用いた凹凸膜付き基材の製造方法を提供することである。
本発明者は上記課題を解決するために鋭意検討した結果、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）を特定量で含む（メタ）アクリレート成分、及び、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノン構造を分子中に２つ以上もつ光開始剤（Ｂ）を含むことを特徴とする、光硬化性樹脂組成物を基材に塗布し、ＵＶ照射して硬化させることによりμｍオーダーの凹凸が出来ることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明の要旨は、以下の通りである。
［１］（１）基材上に光硬化性樹脂組成物を塗布して、前記基材と、前記基材上に光硬化性樹脂組成物層を有する、光硬化性樹脂組成物層付き基材を得る工程、及び（２）光硬化性樹脂組成物層付き基材の光硬化性樹脂組成物層に光を照射して、凹凸膜を形成する工程を含む凹凸膜付き基材の製造方法であって、光硬化性樹脂組成物は、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）を含む（メタ）アクリレート成分、及び、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノン構造を分子中に２つ以上有する光開始剤（Ｂ）を含み、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が（メタ）アクリレート成分中５０重量％以上である、凹凸膜付き基材の製造方法。
［２］ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）が、フルオレン構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ１）及びビフェニル構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）からなる群より選択される１以上である、［１］の凹凸膜付き基材の製造方法。
［３］ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）が下記式（１）で表される（メタ）アクリレート化合物及び下式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される１以上である、［１］又は［２］の凹凸膜付き基材の製造方法。
（式（１）中、
Ｒ１は、互いに独立して、炭素数１〜５の炭化水素基であり、
Ｒ２は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基であり、
Ｒ３は、互いに独立して、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、脂環式基、又は、芳香環基であり、
ｍ及びｎは、互いに独立して、０又は１〜５の整数であり、
式（２）中、
Ｒ４は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、
ｐは、０又は１〜５の整数である）
［１］（１）基材上に光硬化性樹脂組成物を塗布して、前記基材と、前記基材上に光硬化性樹脂組成物層を有する、光硬化性樹脂組成物層付き基材を得る工程、及び（２）光硬化性樹脂組成物層付き基材の光硬化性樹脂組成物層に光を照射して、凹凸膜を形成する工程を含む凹凸膜付き基材の製造方法であって、光硬化性樹脂組成物は、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）を含む（メタ）アクリレート成分、及び、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノン構造を分子中に２つ以上有する光開始剤（Ｂ）を含み、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が（メタ）アクリレート成分中５０重量％以上である、凹凸膜付き基材の製造方法。
［２］ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）が、フルオレン構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ１）及びビフェニル構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）からなる群より選択される１以上である、［１］の凹凸膜付き基材の製造方法。
［３］ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）が下記式（１）で表される（メタ）アクリレート化合物及び下式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される１以上である、［１］又は［２］の凹凸膜付き基材の製造方法。
（式（１）中、
Ｒ１は、互いに独立して、炭素数１〜５の炭化水素基であり、
Ｒ２は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基であり、
Ｒ３は、互いに独立して、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、脂環式基、又は、芳香環基であり、
ｍ及びｎは、互いに独立して、０又は１〜５の整数であり、
式（２）中、
Ｒ４は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、
ｐは、０又は１〜５の整数である）
本発明により、凹凸構造を簡素化した工程で形成することができる光硬化性樹脂組成物を用いた凹凸膜付き基材の製造方法を提供できる。
［用語の定義］
本発明書において「（メタ）アクリロイル基」とはメタアクリロイル基及びアクリロイル基の少なくとも一方を表し、「（メタ）アクリレート」とはメタクリレート及びアクリレートの少なくとも一方を表す。
本発明書において「（メタ）アクリロイル基」とはメタアクリロイル基及びアクリロイル基の少なくとも一方を表し、「（メタ）アクリレート」とはメタクリレート及びアクリレートの少なくとも一方を表す。
［凹凸膜付き基材の製造方法］
凹凸膜付き基材の製造方法は、下記工程：
（１）基材上に光硬化性樹脂組成物を塗布して、前記基材と、前記基材上に光硬化性樹脂組成物層を有する、光硬化性樹脂組成物層付き基材を得る工程、及び
（２）光硬化性樹脂組成物層付き基材の光硬化性樹脂組成物層に光を照射して、凹凸膜を形成する工程を含み、
光硬化性樹脂組成物は、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）を含む（メタ）アクリレート成分、及び、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノン構造を分子中に２つ以上有する光開始剤（Ｂ）を含み、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が（メタ）アクリレート中５０重量％以上である。
凹凸膜付き基材の製造方法は、下記工程：
（１）基材上に光硬化性樹脂組成物を塗布して、前記基材と、前記基材上に光硬化性樹脂組成物層を有する、光硬化性樹脂組成物層付き基材を得る工程、及び
（２）光硬化性樹脂組成物層付き基材の光硬化性樹脂組成物層に光を照射して、凹凸膜を形成する工程を含み、
光硬化性樹脂組成物は、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）を含む（メタ）アクリレート成分、及び、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノン構造を分子中に２つ以上有する光開始剤（Ｂ）を含み、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が（メタ）アクリレート中５０重量％以上である。
光硬化性樹脂組成物は、重合性化合物である（メタ）アクリレート成分を含んでおり、光の照射により、（メタ）アクリレート成分が重合し、光硬化性樹脂組成物層が硬化する。光硬化性樹脂組成物層は、液状であり高い柔軟性（流動性）を有しているため、光硬化性樹脂組成物層が硬化する際に硬化収縮が起こる。この硬化収縮は、凹凸構造の形成に何らかの寄与をしているものと考えられる。
本発明によれば、特許文献１に記載されたような微粒子を用いることなく、また特許文献２に記載されたナノインプリント等の方法は採用不要で、基材上に形成された光硬化性樹脂組成物層に光を照射することで、光硬化性樹脂組成物層における光硬化性樹脂組成物が硬化し、容易に１ステップで凹凸構造を形成することができる。また、凹凸膜付き基材の製造方法で得られる凹凸膜付き基材は、光拡散効果を発現できる部材である。
（工程（１））
工程（１）は、基材上に光硬化性樹脂組成物を塗布して、基材と、基材の上に光硬化性樹脂組成物層を有する、光硬化性樹脂組成物層付き基材を得る工程である。工程（１）によって、基材上に液状の薄膜である、光硬化性樹脂組成物層が形成される。工程（１）において、基材上に塗布する際の環境、代表的には大気圧下において、その流動性が塗布するのに不十分である場合には、例えば溶媒を添加して組成物の粘度を下げてもよい。
工程（１）は、基材上に光硬化性樹脂組成物を塗布して、基材と、基材の上に光硬化性樹脂組成物層を有する、光硬化性樹脂組成物層付き基材を得る工程である。工程（１）によって、基材上に液状の薄膜である、光硬化性樹脂組成物層が形成される。工程（１）において、基材上に塗布する際の環境、代表的には大気圧下において、その流動性が塗布するのに不十分である場合には、例えば溶媒を添加して組成物の粘度を下げてもよい。
＜基材＞
基材は特に制限されるものではなく、その例としては、ガラス基板；ポリジメチルシロキサン、ジフェニルシロキサンなどのポリシロキサン系ポリマー、シリコーン樹脂／シリコーンゴム、ポリ（メタ）アクリレート、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、シクロオレフィンポリマー、ポリウレタン、ポリスチレン、フッ素化ポリマー（ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＶＤＦ（ポリビニリデンジフルオリド）など）、ポリ塩化ビニル、ポリメチルハイドロジェンシロキサン、及びジメチルシロキサンとメチルハイドロジェンシロキサン単位のコポリマーなどで形成された基板；有機若しくは無機の発光体素子；並びに有機若しくは無機の半導体基板が挙げられる。
基材は特に制限されるものではなく、その例としては、ガラス基板；ポリジメチルシロキサン、ジフェニルシロキサンなどのポリシロキサン系ポリマー、シリコーン樹脂／シリコーンゴム、ポリ（メタ）アクリレート、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、シクロオレフィンポリマー、ポリウレタン、ポリスチレン、フッ素化ポリマー（ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＶＤＦ（ポリビニリデンジフルオリド）など）、ポリ塩化ビニル、ポリメチルハイドロジェンシロキサン、及びジメチルシロキサンとメチルハイドロジェンシロキサン単位のコポリマーなどで形成された基板；有機若しくは無機の発光体素子；並びに有機若しくは無機の半導体基板が挙げられる。
基材の形状は、特に限定されず、固体基板（例えば、平板の形状の基板）やフレキシブル基板（例えば、３次元的な形状を有し得る基板）のいずれであってもよい。このような各種の性質、形状の基材上に凹凸構造を形成することができる。基材は、シラン処理、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理又はＵＶオゾン処理等の表面処理が行われてもよい。
＜塗布の方法＞
塗布の方法としては、任意であり、従来公知の各種の塗布の方法が採用可能である。塗布の方法の具体例としては、スピンコーター及びスリットコーターにより光硬化性樹脂組成物を塗布することが挙げられる。
塗布の方法としては、任意であり、従来公知の各種の塗布の方法が採用可能である。塗布の方法の具体例としては、スピンコーター及びスリットコーターにより光硬化性樹脂組成物を塗布することが挙げられる。
基材上に形成される光硬化性樹脂組成物層の厚みは、任意であり、０．０５〜３００μｍが好ましく、１〜１００μｍがより好ましく、３〜５０μｍであることが特に好ましい。
（工程（２））
工程（２）は、光硬化性樹脂組成物層付き基材の光硬化性樹脂組成物層に光を照射して、凹凸膜を形成する工程である。基材が光透過性である場合は、工程（２）は、工程（１）で得られる光硬化性樹脂組成物層付き基材に対して、光硬化性樹脂組成物層側から及び基材側の少なくとも一方から光を照射することができ、光硬化性樹脂組成物層側から光を照射するのが好ましい。また、基材が光透過性でない場合は、工程（２）は、工程（１）で得られる光硬化性樹脂組成物層付き基材に対して、光硬化性樹脂組成物層側から光を照射することができる。
工程（２）は、光硬化性樹脂組成物層付き基材の光硬化性樹脂組成物層に光を照射して、凹凸膜を形成する工程である。基材が光透過性である場合は、工程（２）は、工程（１）で得られる光硬化性樹脂組成物層付き基材に対して、光硬化性樹脂組成物層側から及び基材側の少なくとも一方から光を照射することができ、光硬化性樹脂組成物層側から光を照射するのが好ましい。また、基材が光透過性でない場合は、工程（２）は、工程（１）で得られる光硬化性樹脂組成物層付き基材に対して、光硬化性樹脂組成物層側から光を照射することができる。
工程（２）では、工程（１）において、光硬化性樹脂組成物層を形成した後、更なる基材を積層しないで、光硬化性樹脂組成物層に光を照射する。即ち、工程（２）における被照射物は、基材上の光硬化性樹脂組成物層の該基材とは反対側に、更なる基材を有さない。即ち、工程（２）は、特開２０１３−２４１５５４号公報に記載されているような、２つの基材が、光硬化性樹脂組成物層を介して押し付けられている、貼り合わせ体に対して、即ち、光硬化性樹脂組成物層付き基材の光硬化性樹脂組成物層の上に、更なる基材が積層されている、貼り合わせ体に対して、光を照射する工程ではない。
工程（２）は、真空下、空気雰囲気下、窒素雰囲気下、アルゴン雰囲気下等の、光硬化性樹脂組成物が硬化する時に、硬化収縮による形状を変化を妨げない状態で行うことができる。
工程（２）は、真空下、空気雰囲気下、窒素雰囲気下、アルゴン雰囲気下等の、光硬化性樹脂組成物が硬化する時に、硬化収縮による形状を変化を妨げない状態で行うことができる。
光は、特に限定されず、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線等の活性エネルギー線を使用することができる。光は、紫外線であるのが好ましい。紫外線の光源としては、紫外線（ＵＶ）が発せられる光源を使用することができる。紫外線の光源としては、例えば、メタルハライドランプ、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ、ハロゲンランプ、パルスキセノンランプ、ＬＥＤ等が挙げられる。
エネルギー線の照射は、エネルギー線の積算光量が１００〜１５，０００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射することができる。積算光量は、５００〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ２であるのが好ましく、１，０００〜６，０００ｍＪ／ｃｍ２であるのがより好ましい。
凹凸膜付き基材の製造方法は、工程（２）を経た後、工程（２）で形成された凹凸膜の形状を損なわない範囲で、更なる層を形成する工程及び更なる基材を積層する工程の少なくとも一方を含んでいてもよい。
＜凹凸膜＞
凹凸膜の形成方法において、形成される凹凸構造の凹部及び凸部の幅を、微細な範囲、好ましくは０．５〜３００μｍの幅とすることが可能である。
凹凸膜の形成方法において、形成される凹凸構造の凹部及び凸部の幅を、微細な範囲、好ましくは０．５〜３００μｍの幅とすることが可能である。
＜用途＞
凹凸膜付き基材の製造方法により製造される凹凸膜付き基材は、光拡散フィルム、光取り入れ用フィルムまたは光学フィルタ等の光学機能フィルム；及び低透湿性フィルム等に用いることができる。
凹凸膜付き基材の製造方法により製造される凹凸膜付き基材は、光拡散フィルム、光取り入れ用フィルムまたは光学フィルタ等の光学機能フィルム；及び低透湿性フィルム等に用いることができる。
［光硬化性樹脂組成物］
光硬化性樹脂組成物は、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）を含む（メタ）アクリレート成分、及び、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノン構造を分子中に２つ以上有する光開始剤（Ｂ）を含み、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が（メタ）アクリレート成分中５０重量％以上である。ここで、（メタ）アクリレート成分とは、組成物中に存在する１以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（モノマー及びオリゴマーを含む）を言う。組成物は（メタ）アクリレート成分以外の重合性成分（例えば、（メタ）アクリレート（Ａ）及び後述する（メタ）アクリレート（Ｃ）以外の（メタ）アクリレート化合物）は含まないのが好ましい。
光硬化性樹脂組成物は、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）を含む（メタ）アクリレート成分、及び、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノン構造を分子中に２つ以上有する光開始剤（Ｂ）を含み、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が（メタ）アクリレート成分中５０重量％以上である。ここで、（メタ）アクリレート成分とは、組成物中に存在する１以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（モノマー及びオリゴマーを含む）を言う。組成物は（メタ）アクリレート成分以外の重合性成分（例えば、（メタ）アクリレート（Ａ）及び後述する（メタ）アクリレート（Ｃ）以外の（メタ）アクリレート化合物）は含まないのが好ましい。
（ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ））
ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）（以下、「（メタ）アクリレート（Ａ）」ともいう。）を含む（メタ）アクリレート成分の重合（硬化）に伴う硬化収縮が、凹凸構造の形成に寄与しているものと考えられる。（メタ）アクリレート（Ａ）としては、フルオレン構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ１）及びビフェニル構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）からなる群より選択される１以上が挙げられる。
ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）（以下、「（メタ）アクリレート（Ａ）」ともいう。）を含む（メタ）アクリレート成分の重合（硬化）に伴う硬化収縮が、凹凸構造の形成に寄与しているものと考えられる。（メタ）アクリレート（Ａ）としては、フルオレン構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ１）及びビフェニル構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）からなる群より選択される１以上が挙げられる。
＜フルオレン構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ１）＞
フルオレン構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ１）（以下、「（メタ）アクリレート（Ａ１）」ともいう。）としては、水酸基を有するフルオレン化合物の（メタ）アクリレートが挙げられる。ここで、水酸基を有するフルオレン化合物の（メタ）アクリレートとは、水酸基を有するフルオレン化合物の１以上の水酸基が、（メタ）アクリロイルオキシ基に置き換えられた化合物をいう。
フルオレン構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ１）（以下、「（メタ）アクリレート（Ａ１）」ともいう。）としては、水酸基を有するフルオレン化合物の（メタ）アクリレートが挙げられる。ここで、水酸基を有するフルオレン化合物の（メタ）アクリレートとは、水酸基を有するフルオレン化合物の１以上の水酸基が、（メタ）アクリロイルオキシ基に置き換えられた化合物をいう。
水酸基を有するフルオレン化合物としては、フェノール性水酸基を有するフルオレン化合物、フェノール性水酸基を有するフルオレン化合物のアルコール付加体、及び、フェノール性水酸基を有するフルオレン化合物のポリアルキレンオキサイドの付加体からなる群より選択される１以上が挙げられる。
フェノール性水酸基を有するフルオレン化合物としては、ビスフェノールフルオレン及びビスクレゾールフルオレン等からなる群より選択される１以上のフルオレン化合物が挙げられる。
アルコールは、炭素原子数１〜５の直鎖又は分岐状のアルコール基であり、メタノール、エタノール、（ｎ−又はｉ−）プロパノール、（ｎ−、ｉ−又はtert−）ブタノール等が挙げられ、エタノールが好ましい。
アルキレンオキシ基は、炭素原子数１〜５の直鎖又は分岐状のアルキレンオキシ基であり、メチレンオキシ、エチレンオキシ、トリメチレンオキシ、プロピレンオキシ、テトラメチレンオキシ等が挙げられ、エチレンオキシが好ましい。
アルキレンオキシ基は、炭素原子数１〜５の直鎖又は分岐状のアルキレンオキシ基であり、メチレンオキシ、エチレンオキシ、トリメチレンオキシ、プロピレンオキシ、テトラメチレンオキシ等が挙げられ、エチレンオキシが好ましい。
（メタ）アクリレート（Ａ１）としては、下記式（１）で表される（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
（式（１）中、
Ｒ１は、互いに独立して、炭素数１〜５の炭化水素基（例えば、炭素数１〜５のアルキレン基）であり、
Ｒ２は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基（例えば、炭素数１〜４のアルキル基）であり、
Ｒ３は、互いに独立して、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基（例えば、炭素数１〜１０のアルキル基）、ヒドロキシ基、カルボキシル基、脂環式基（例えば、炭素数３〜２０のシクロアルキル基）、又は、芳香環基（例えば、炭素数６〜２０のアリール基）であり、
ｍ及びｎは、互いに独立して、０又は１〜５の整数である）
（式（１）中、
Ｒ１は、互いに独立して、炭素数１〜５の炭化水素基（例えば、炭素数１〜５のアルキレン基）であり、
Ｒ２は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基（例えば、炭素数１〜４のアルキル基）であり、
Ｒ３は、互いに独立して、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基（例えば、炭素数１〜１０のアルキル基）、ヒドロキシ基、カルボキシル基、脂環式基（例えば、炭素数３〜２０のシクロアルキル基）、又は、芳香環基（例えば、炭素数６〜２０のアリール基）であり、
ｍ及びｎは、互いに独立して、０又は１〜５の整数である）
炭素数１〜５のアルキレン基は、直鎖又は分岐状であり、メチレン、エチレン、プロピレン（プロパン−１，２−ジイル）、トリメチレン等が挙げられ、エチレン及びプロピレンが好ましく、エチレンが特に好ましい。
炭素数１〜４のアルキル基は、直鎖又は分岐状であり、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｉ−ブチル及びｔ−ブチルが挙げられ、メチルが好ましい。
炭素数１〜１０のアルキル基は、直鎖又は分岐状であり、前記炭素数１〜４のアルキル基の他に、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル等が挙げられる。
炭素数３〜２０のシクロアルキル基は、単環又は多環の脂環式基であり、シクロプロピル、シクロヘキシル、アダマンチル、イソボルニル、ジシクロペンタニル、ジシクロペンテニル等が挙げられる。
炭素数６〜２０のアリール基は、単環又は多環の芳香族基であり、フェニル、ナフチル、ビフェニル等が挙げられる。
炭素数１〜４のアルキル基は、直鎖又は分岐状であり、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｉ−ブチル及びｔ−ブチルが挙げられ、メチルが好ましい。
炭素数１〜１０のアルキル基は、直鎖又は分岐状であり、前記炭素数１〜４のアルキル基の他に、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル等が挙げられる。
炭素数３〜２０のシクロアルキル基は、単環又は多環の脂環式基であり、シクロプロピル、シクロヘキシル、アダマンチル、イソボルニル、ジシクロペンタニル、ジシクロペンテニル等が挙げられる。
炭素数６〜２０のアリール基は、単環又は多環の芳香族基であり、フェニル、ナフチル、ビフェニル等が挙げられる。
フルオレン構造を有する（メタ）アクリレートとしては、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシジエトキシ）フェニル］フルオレンが特に好ましい。
＜ビフェニル構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）＞
ビフェニル構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）（以下、「（メタ）アクリレート（Ａ２）」ともいう。）としては、水酸基を有するビフェニル化合物の（メタ）アクリレートが挙げられる。ここで、水酸基を有するビフェニル化合物の（メタ）アクリレートとは、水酸基を有するビフェニル化合物の１以上の水酸基が、（メタ）アクリロイルオキシ基に置き換えられた化合物をいう。
ビフェニル構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）（以下、「（メタ）アクリレート（Ａ２）」ともいう。）としては、水酸基を有するビフェニル化合物の（メタ）アクリレートが挙げられる。ここで、水酸基を有するビフェニル化合物の（メタ）アクリレートとは、水酸基を有するビフェニル化合物の１以上の水酸基が、（メタ）アクリロイルオキシ基に置き換えられた化合物をいう。
水酸基を有するビフェニル化合物としては、フェノール性水酸基を有するビフェニル化合物、フェノール性水酸基を有するビフェニル化合物のアルコール付加体、及び、フェノール性水酸基を有するビフェニル化合物のポリアルキレンオキサイドの付加体からなる群より選択される１以上が挙げられる。アルコール及びポリオキシアルキレンオキサイドについては、好ましいものを含め、前記したとおりである。
フェノール性水酸基を有するビフェニル化合物としては、ｏ−フェニルフェノール、ｍ−フェニルフェノール、ｐ−フェニルフェノール等からなる群より選択される１以上のビフェニル化合物が挙げられる。
（メタ）アクリレート（Ａ２）としては、下記式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
（式（２）中、
Ｒ４は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、
ｐは、０又は１〜５の整数である）
（式（２）中、
Ｒ４は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、
ｐは、０又は１〜５の整数である）
（メタ）アクリレート（Ａ２）の具体例としては、ｏ−フェニルフェノールアクリレート（式（２）中、ｐが０であり、Ｒ４が水素である化合物）、エトキシ化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（式（２）中、ｐが１であり、Ｒ４が水素である化合物）、ジエトキシ化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（式（２）中、ｐが２であり、Ｒ４が水素である化合物）等からなる群より選択される１以上の化合物が挙げられ、エトキシ化ｏ−フェニルフェノールアクリレートが好ましい。
（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノン構造を分子中に２つ以上有する光開始剤（Ｂ））
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノン構造を分子中に２つ以上有する光開始剤（Ｂ）（以下、「光開始剤（Ｂ）」ともいう。）としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノンダイマー（Ｉ−１２７：ＢＡＳＦ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノンオリゴマー（ＫＩＰ−１５０：Ｌａｍｂｅｒｔｉ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノールオリゴマー（ＥＳＡＣＵＲＥ−ＯＮＥ：Ｌａｍｂｅｒｔｉ製）等からなる群より選択される１以上の光開始剤が挙げられる。
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノン構造を分子中に２つ以上有する光開始剤（Ｂ）（以下、「光開始剤（Ｂ）」ともいう。）としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノンダイマー（Ｉ−１２７：ＢＡＳＦ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノンオリゴマー（ＫＩＰ−１５０：Ｌａｍｂｅｒｔｉ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノールオリゴマー（ＥＳＡＣＵＲＥ−ＯＮＥ：Ｌａｍｂｅｒｔｉ製）等からなる群より選択される１以上の光開始剤が挙げられる。
光開始剤（Ｂ）は、１種単独又は２種以上であってもよい。
（更なる成分）
光硬化性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内で、更なる成分を含むことができる。更なる成分として、更なる（メタ）アクリレート（Ｃ）（但し、（メタ）アクリレート（Ａ）ではない。）及びその他の成分からなる群より選択される１以上が挙げられる。
光硬化性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内で、更なる成分を含むことができる。更なる成分として、更なる（メタ）アクリレート（Ｃ）（但し、（メタ）アクリレート（Ａ）ではない。）及びその他の成分からなる群より選択される１以上が挙げられる。
＜更なる（メタ）アクリレート（Ｃ）＞
凹凸構造形成用組成物は、（メタ）アクリレート（Ａ）以外の更なる（メタ）アクリレート（Ｃ）（但し、（メタ）アクリレート（Ａ）ではない）（以下、「（メタ）アクリレート（Ｃ）」ともいう。）を含んでいてもよい。組成物が（メタ）アクリレート（Ｃ）を含むと、組成物の粘度を適切な範囲に調整しやすく、作業性が向上しやすい傾向があり、光照射により、良好な凹凸構造を形成できる傾向がある。また、製造した凹凸膜の硬さのコントロール性や、基材への密着性を向上させることができる。
凹凸構造形成用組成物は、（メタ）アクリレート（Ａ）以外の更なる（メタ）アクリレート（Ｃ）（但し、（メタ）アクリレート（Ａ）ではない）（以下、「（メタ）アクリレート（Ｃ）」ともいう。）を含んでいてもよい。組成物が（メタ）アクリレート（Ｃ）を含むと、組成物の粘度を適切な範囲に調整しやすく、作業性が向上しやすい傾向があり、光照射により、良好な凹凸構造を形成できる傾向がある。また、製造した凹凸膜の硬さのコントロール性や、基材への密着性を向上させることができる。
（メタ）アクリレート（Ｃ）は、（メタ）アクリレート（Ａ）ではない。即ち、更なる（メタ）アクリレート（Ｃ）は、ビフェニル構造及びフルオレン構造を含まない。
（メタ）アクリレート（Ｃ）は、（メタ）アクリロイル基を１以上有する化合物であれば、特に限定されない。
（メタ）アクリレート（Ｃ）としては、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート及びイソステアリル（メタ）アクリレート等からなる群より選択される１以上のアルキル（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート及び４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等からなる群より選択される１以上のヒドロキシ置換アルキル（メタ）アクリレート；ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ノルボルネン（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート及びイソボルニル（メタ）アクリレート等からなる群より選択される１以上の脂環式（メタ）アクリレート；２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート及びシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート等からなる群より選択される１以上のヒドロキシ置換アルキル（メタ）アクリレート以外の水酸基含有（メタ）アクリレート；メトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシ置換アルキル（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート等からなる群より選択される１以上の芳香族（メタ）アクリレート；（水素添加）ポリイソプレンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー、（水素添加）ポリブタジエンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー及びポリウレタンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマーからなる群より選択される１以上の（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。
（メタ）アクリレート（Ｃ）としては、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート及びイソステアリル（メタ）アクリレート等からなる群より選択される１以上のアルキル（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート及び４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等からなる群より選択される１以上のヒドロキシ置換アルキル（メタ）アクリレート；ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ノルボルネン（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート及びイソボルニル（メタ）アクリレート等からなる群より選択される１以上の脂環式（メタ）アクリレート；２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート及びシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート等からなる群より選択される１以上のヒドロキシ置換アルキル（メタ）アクリレート以外の水酸基含有（メタ）アクリレート；メトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシ置換アルキル（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート等からなる群より選択される１以上の芳香族（メタ）アクリレート；（水素添加）ポリイソプレンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー、（水素添加）ポリブタジエンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー及びポリウレタンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマーからなる群より選択される１以上の（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。
ここで、（水素添加）ポリイソプレンは、ポリイソプレン及び／又は水素添加ポリイソプレンを包含し、（水素添加）ポリブタジエンは、ポリブタジエン及び／又は水素添加ポリブタジエンを包含する。また、ポリウレタンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマーは、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとも呼ばれ、ポリエーテル系、ポリカーボネート系、ポリエステル系、（水素添加）ポリブタジエン系、（水素添加）ポリイソプレン系又はこれらの組合せのウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。
（メタ）アクリレートオリゴマーは市販品を用いることができる。（水素添加）ポリブタジエンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマーの市販品は、日本曹達株式会社製の「ＴＥ−２０００」（分子量２，５００）が挙げられる。（水素添加）ポリイソプレンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマーの市販品は、クラレ社製の「ＵＣ−２０３」（分子量３５，０００）及び「ＵＣ−１０２」（分子量１７，０００）が挙げられる。ポリウレタンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマーの市販品は、ライトケミカル社製の「ＵＡ−１」、ダイセル・オルネクス株式会社製の「ＥＢＥＣＲＹＬ−２３０」（分子量５，０００）、日本合成化学工業社製の「ＵＶ７５５０Ｂ」（分子量２，４００）日本合成化学工業社製の「ＵＶ３６３０ＩＤ８０」（分子量３５，０００）、日本合成化学工業社製の「ＵＶ３７００Ｂ」（分子量３８，０００）が挙げられる。
（メタ）アクリレートオリゴマーの分子量は、特に限定されないが、１，０００〜７０，０００であるのが好ましく、２，０００〜５０，０００であるのがより好ましい。本明細書において、分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算した重量平均分子量である。
（メタ）アクリレート（Ｃ）は、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー等の（メタ）アクリレートオリゴマー；ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ノルボルネン（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の脂環構造含有（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート等の芳香族基含有（メタ）アクリレート化合物；からなる群より選択される１以上の（メタ）アクリレートが好ましい。
（メタ）アクリレート（Ｃ）は、１種単独でも２種以上を組み合わせて使用してもよい。
＜その他の成分＞
組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、種々の添加剤からなる群より選択される１以上のその他の成分を配合することが出来る。添加剤としては、凹凸構造の用途、求められる性質に応じて、あるいは組成物の性状（粘度や、基材との密着性など）を改質するなどの目的で、溶媒；カルボニル化合物などに代表される電子線による硬化速度や感度を上昇させる増感剤；シランカップリング剤やエチレンオキシドに代表される接着促進剤；透明保護フィルムとの濡れ性を向上させるための添加剤；炭化水素系樹脂（天然、合成樹脂）などに代表され、機械的強度や加工性などを向上させる添加剤；紫外線吸収剤；老化防止剤；染料；加工助剤；イオントラップ剤；酸化防止剤；粘着付与剤；充填剤；可塑剤；レベリング剤；発泡抑制剤；及び帯電防止剤等が挙げられる。なお、組成物は、チオエーテル化合物を含まないのが好ましい。また、組成物は、コアシェル粒子を含まないのが好ましい。
組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、種々の添加剤からなる群より選択される１以上のその他の成分を配合することが出来る。添加剤としては、凹凸構造の用途、求められる性質に応じて、あるいは組成物の性状（粘度や、基材との密着性など）を改質するなどの目的で、溶媒；カルボニル化合物などに代表される電子線による硬化速度や感度を上昇させる増感剤；シランカップリング剤やエチレンオキシドに代表される接着促進剤；透明保護フィルムとの濡れ性を向上させるための添加剤；炭化水素系樹脂（天然、合成樹脂）などに代表され、機械的強度や加工性などを向上させる添加剤；紫外線吸収剤；老化防止剤；染料；加工助剤；イオントラップ剤；酸化防止剤；粘着付与剤；充填剤；可塑剤；レベリング剤；発泡抑制剤；及び帯電防止剤等が挙げられる。なお、組成物は、チオエーテル化合物を含まないのが好ましい。また、組成物は、コアシェル粒子を含まないのが好ましい。
（組成物の組成及び性質）
組成物において、（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量は、（メタ）アクリレート成分中、５０重量％以上である。（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が、（メタ）アクリレート成分中、５０重量％未満であると、凹凸構造を有する膜が得られない。微細な凹凸膜が得られる点から、（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量は、（メタ）アクリレート成分中、６０重量％以上であるのがより好ましく、７０重量％以上であるのが特に好ましい。また、（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量は、（メタ）アクリレート成分中、１００重量％であることもできる。即ち、組成物に含まれる（メタ）アクリレート成分が（メタ）アクリレート（Ａ）からなることもできる。
組成物において、（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量は、（メタ）アクリレート成分中、５０重量％以上である。（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が、（メタ）アクリレート成分中、５０重量％未満であると、凹凸構造を有する膜が得られない。微細な凹凸膜が得られる点から、（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量は、（メタ）アクリレート成分中、６０重量％以上であるのがより好ましく、７０重量％以上であるのが特に好ましい。また、（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量は、（メタ）アクリレート成分中、１００重量％であることもできる。即ち、組成物に含まれる（メタ）アクリレート成分が（メタ）アクリレート（Ａ）からなることもできる。
光開始剤（Ｂ）の含有量は、（メタ）アクリレート成分１００重量部に対して、０．００１〜１０重量部が好ましく、０．１〜７重量がより好ましい。
（メタ）アクリレート（Ａ）中、（メタ）アクリレート（Ａ１）及び（メタ）アクリレート（Ａ２）の含有量は、任意であるが、（メタ）アクリレート（Ａ１）及び（メタ）アクリレート（Ａ２）の合計１００重量部に対して、（メタ）アクリレート（Ａ１）は、１０〜９０重量部が好ましく、１５〜４５重量部がより好ましい。
組成物中の（メタ）アクリレート成分及び光開始剤（Ｂ）の含有率は、６０重量％以上であることが好ましく、７５重量％以上であるのがより好ましく、１００重量％であってもよい。組成物中の（メタ）アクリレート成分及び光開始剤（Ｂ）の含有率は、９９．９重量％以下であることが好ましく、９０重量％以下であるのがより好ましい。なお、残余は、更なる成分であるのが好ましい。この場合、組成物は、（メタ）アクリレート（Ａ）と場合により（メタ）アクリレート（Ｃ）とからなる（メタ）アクリレート成分、光開始剤（Ｂ）及び場合により後述するその他の成分からなる。
光硬化性樹脂組成物は、好ましくは液状である。ここで、液状とは、大気圧下、２５℃で流動性を示すことをいい、例えばコーンプレート型粘度計で１００Ｐａ・ｓ以下の粘度（例えば、０．０１〜１００Ｐａ・ｓの粘度）を示すことが挙げられる。なお、組成物を所定の温度に加温することで、真空下での粘度が前記範囲に入るものも、組成物に含まれる。組成物が、液状であると、基材上への組成物の塗布を容易に行うことができる。
（組成物の製造方法）
組成物は、（メタ）アクリレート（Ａ）、光開始剤（Ｂ）、並びに、場合により存在する（メタ）アクリレート（Ｃ）及びその他の成分を、混合することにより製造することができる。混合の方法は、公知の手段を採用できる。混合の順序は特に限定されず、全ての成分を同時に混合してもよいし、複数の成分について、複数回に分けて逐次混合してもよい。
組成物は、（メタ）アクリレート（Ａ）、光開始剤（Ｂ）、並びに、場合により存在する（メタ）アクリレート（Ｃ）及びその他の成分を、混合することにより製造することができる。混合の方法は、公知の手段を採用できる。混合の順序は特に限定されず、全ての成分を同時に混合してもよいし、複数の成分について、複数回に分けて逐次混合してもよい。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
以下の実施例及び比較例では、重合性化合物及び硬化剤として以下のものを使用した。
（１）（メタ）アクリレート（Ａ）
（Ａ１）９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシジエトキシ）フェニル］フルオレン（ＥＡ−０２００：大阪ガスケミカル社製）
（Ａ２）エトキシ化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（Ａ−ＬＥＮ−１０：新中村化学製）
（２）光開始剤（Ｂ）
（Ｂ１）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノンダイマー（Ｉ−１２７：ＢＡＳＦ製）
（Ｂ２）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノンオリゴマー（ＫＩＰ−１５０：Ｌａｍｂｅｒｔｉ製）
（３）（メタ）アクリレート（Ｃ）
（Ｃ１）ウレタンアクリレートオリゴマー（ＵＶ−７５５０Ｂ：日本合成製）
（Ｃ２）ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（ＦＡ−５１２ＡＳ：日立化成製）
（Ｃ３）ビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物ジアクリレート（ＢＰ−４ＥＡＬ：共栄社化学製）
（４）その他の光開始剤（Ｄ）
（Ｄ１）１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（Ｉ−１８４：ＢＡＳＦ社製）
（Ｄ２）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（ダロキュア１１７３：ＢＡＳＦ社製）
（１）（メタ）アクリレート（Ａ）
（Ａ１）９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシジエトキシ）フェニル］フルオレン（ＥＡ−０２００：大阪ガスケミカル社製）
（Ａ２）エトキシ化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（Ａ−ＬＥＮ−１０：新中村化学製）
（２）光開始剤（Ｂ）
（Ｂ１）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノンダイマー（Ｉ−１２７：ＢＡＳＦ製）
（Ｂ２）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノンオリゴマー（ＫＩＰ−１５０：Ｌａｍｂｅｒｔｉ製）
（３）（メタ）アクリレート（Ｃ）
（Ｃ１）ウレタンアクリレートオリゴマー（ＵＶ−７５５０Ｂ：日本合成製）
（Ｃ２）ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（ＦＡ−５１２ＡＳ：日立化成製）
（Ｃ３）ビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物ジアクリレート（ＢＰ−４ＥＡＬ：共栄社化学製）
（４）その他の光開始剤（Ｄ）
（Ｄ１）１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（Ｉ−１８４：ＢＡＳＦ社製）
（Ｄ２）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（ダロキュア１１７３：ＢＡＳＦ社製）
［実施例１〜７及び比較例１〜４］
＜組成物サンプルの調製＞
表１に示す成分を、表１に示す重量部で常法により混合して、それぞれの光硬化性樹脂組成物を調製した。
＜組成物サンプルの調製＞
表１に示す成分を、表１に示す重量部で常法により混合して、それぞれの光硬化性樹脂組成物を調製した。
＜硬化膜（１）付き基材の製造＞
易接着性ＰＥＴフィルム（東洋紡工業製、コスモシャイン（登録商標）、厚み１００μｍ）に、光硬化性樹脂組成物を滴下して、ワイヤーバー（オーエスジーシステムプロダクツ社製ＯＳＰ-１３）で、厚み１０〜１５μmとなるよう塗布して、光硬化性樹脂組成物層付き基材を得た。空気雰囲気下で、光硬化性樹脂組成物層付き基材の光硬化性樹脂組成物層側から、メタルハライドランプ（アイグラフィックス製ＥＣＳ−３０１）にて３，０００ｍＪ／ｃｍ２の光を照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させて、硬化膜（１）付き基材を製造した。
易接着性ＰＥＴフィルム（東洋紡工業製、コスモシャイン（登録商標）、厚み１００μｍ）に、光硬化性樹脂組成物を滴下して、ワイヤーバー（オーエスジーシステムプロダクツ社製ＯＳＰ-１３）で、厚み１０〜１５μmとなるよう塗布して、光硬化性樹脂組成物層付き基材を得た。空気雰囲気下で、光硬化性樹脂組成物層付き基材の光硬化性樹脂組成物層側から、メタルハライドランプ（アイグラフィックス製ＥＣＳ−３０１）にて３，０００ｍＪ／ｃｍ２の光を照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させて、硬化膜（１）付き基材を製造した。
＜硬化膜（２）付き基材の製造＞
易接着性ＰＥＴフィルム（東洋紡工業製、コスモシャイン（登録商標）、厚み１００μｍ）に光硬化性樹脂組成物を滴下して、ワイヤーバー（オーエスジーシステムプロダクツ社製ＯＳＰ-１３）で、厚み１０〜１５μmとなるよう塗布して、光硬化性樹脂組成物層付き基材を得た。その後、ＰＥＴフィルム（パナック社製ルミラー１００Ｔ６０）を、できるだけ気泡をかまないように、組成物を介して貼り合せて、貼り合わせ体を得た。その後、貼り合わせ体に対して、メタルハライドランプ（アイグラフィックス製ＥＣＳ−３０１）にて３，０００ｍＪ／ｃｍ２の光を照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させた。その後、ＰＥＴフィルムを剥がして、硬化膜（２）付き基材を製造した。
易接着性ＰＥＴフィルム（東洋紡工業製、コスモシャイン（登録商標）、厚み１００μｍ）に光硬化性樹脂組成物を滴下して、ワイヤーバー（オーエスジーシステムプロダクツ社製ＯＳＰ-１３）で、厚み１０〜１５μmとなるよう塗布して、光硬化性樹脂組成物層付き基材を得た。その後、ＰＥＴフィルム（パナック社製ルミラー１００Ｔ６０）を、できるだけ気泡をかまないように、組成物を介して貼り合せて、貼り合わせ体を得た。その後、貼り合わせ体に対して、メタルハライドランプ（アイグラフィックス製ＥＣＳ−３０１）にて３，０００ｍＪ／ｃｍ２の光を照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させた。その後、ＰＥＴフィルムを剥がして、硬化膜（２）付き基材を製造した。
＜微細凹凸形成の確認＞
硬化膜（１）付き基材及び硬化膜（２）付き基材について、ＰＥＴ上の硬化皮膜に蛍光灯の像を反射させ、その像がどのように見えるかを目視にて確認し、以下の通りに評価した。
×：蛍光灯の像が明確に見える
○：蛍光灯の像がぼやけて見える
◎：蛍光灯の形状が全くわからないほど像が完全にぼやけて見える
硬化膜（１）付き基材及び硬化膜（２）付き基材について、ＰＥＴ上の硬化皮膜に蛍光灯の像を反射させ、その像がどのように見えるかを目視にて確認し、以下の通りに評価した。
×：蛍光灯の像が明確に見える
○：蛍光灯の像がぼやけて見える
◎：蛍光灯の形状が全くわからないほど像が完全にぼやけて見える
以上の試験の結果を下記表１及び表２に示す。
硬化膜（１）付き基材は、光硬化性樹脂組成物層付き基材に対して、光を照射して、製造される。一方、硬化膜（２）付き基材は、２つの基材が光硬化性樹脂組成物層を介して押し付けられている、貼り合わせ体に対して、光を照射して、製造される。
実施例１〜７において、硬化膜（１）付き基材における硬化膜は、いずれも微細凹凸が観察された。実施例３と実施例７との比較により、光硬化性樹脂組成物が、（メタ）アクリレート成分中に（メタ）アクリレート（Ａ１）を含む場合、より微細な凹凸が観察された。一方、実施例１〜７の組成物であっても、光硬化性樹脂組成物層付き基材に光硬化性樹脂組成物層を介して更なる基材が積層された貼り合わせ体、即ち、光硬化性樹脂組成物層付き基材ではない被照射物に光照射した場合は、微細凹凸が観察されなかった。
比較例１及び２は、光開始剤（Ｂ）を含まないため、微細凹凸が観察されなかった。比較例３は、（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が（メタ）アクリレート成分中５０重量％以上ではないため、微細凹凸が観察されなかった。比較例４は、（メタ）アクリレート（Ａ）を含まないため、微細凹凸が観察されなかった。
比較例１及び２は、光開始剤（Ｂ）を含まないため、微細凹凸が観察されなかった。比較例３は、（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が（メタ）アクリレート成分中５０重量％以上ではないため、微細凹凸が観察されなかった。比較例４は、（メタ）アクリレート（Ａ）を含まないため、微細凹凸が観察されなかった。
Claims (3)
- （１）基材上に光硬化性樹脂組成物を塗布して、前記基材と、前記基材上に光硬化性樹脂組成物層を有する、光硬化性樹脂組成物層付き基材を得る工程、及び
（２）工程（１）で得られる光硬化性樹脂組成物層付き基材の光硬化性樹脂組成物層に、該基材上の光硬化性樹脂組成物層の上に、更なる基材を積層しないで、光を照射して、凹凸膜を形成する工程
を含む凹凸膜付き基材の製造方法であって、
光硬化性樹脂組成物は、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）を含む（メタ）アクリレート成分、及び、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノン構造を分子中に２つ以上有する光開始剤（Ｂ）を含み、ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が（メタ）アクリレート成分中５０重量％以上である、凹凸膜付き基材の製造方法。 - ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）が、フルオレン構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ１）及びビフェニル構造を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）からなる群より選択される１以上である、請求項１に記載の凹凸膜付き基材の製造方法。
- ベンゼン環が２つ以上連続して直接結合している構造を持つ（メタ）アクリレート（Ａ）が、下記式（１）で表される（メタ）アクリレート化合物及び下式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される１以上である、請求項１又は２に記載の凹凸膜付き基材の製造方法。
（式（１）中、
Ｒ１は、互いに独立して、炭素数１〜５の炭化水素基であり、
Ｒ２は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基であり、
Ｒ３は、互いに独立して、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、脂環式基、又は、芳香環基であり、
ｍ及びｎは、互いに独立して、０又は１〜５の整数であり、
式（２）中、
Ｒ４は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、
ｐは、０又は１〜５の整数である）
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