JP6540232B2 - 球体研磨装置及び球体研磨方法 - Google Patents

Description

本発明は、球体研磨装置及び球体研磨方法に関するものである。

特許文献１に記載の球体研磨装置は、対向する固定盤と回転盤とを備え、固定盤の環状溝と回転盤の環状溝との間に球体を配置し、回転盤を回転することにより球体を研磨する。さらに、この球体研磨装置は、回転盤に切削工具を取り付けた状態で回転盤を回転させて切削工具により固定盤の環状溝を成形する。そして、盤ならし加工によって、回転盤の環状溝を成形するとされている。特許文献２には、対向する２つの回転盤を同軸回転させて、球体を研磨する球体研磨装置が記載されている。

特開２００６−４３８８１号公報 特開昭６１−１９２４７２号公報

特許文献１に記載されているように、対向する研磨盤に環状溝が形成される場合には、両方の環状溝の中心軸線と回転盤の回転軸線との同軸度が、球体の真球度にとって重要である。特許文献１のように、一方の研磨盤を固定盤とする場合には、盤ならし加工によって、両方の環状溝を同軸上に形成することにより解決できる。

しかし、対向する両方の研磨盤を回転させながら球体を研磨する場合には、両方の環状溝の同軸度だけでは十分ではなく、両方の研磨盤の回転軸線の同軸度が、球体の真球度にとって重要である。

本発明は、第一、第二研磨盤を回転させる場合に、第一、第二研磨盤の中心軸線を同軸上に配置することにより、球体の真球度を向上できる球体研磨装置及び球体研磨方法を提供することを目的とする。

（１．球体研磨装置）
球体研磨装置は、基台と、中心軸線回りに回転可能に前記基台に設けられ、一方の面に前記中心軸線回りに環状に形成される第一研磨溝を有する第一研磨盤と、前記第一研磨盤の中心軸線と同軸上の中心軸線回りに回転可能に前記基台に設けられ、前記第一研磨盤の前記一方の面に対向する面に、前記中心軸線回りに環状に形成される第二研磨溝を有する第二研磨盤と、前記基台に対して前記第一研磨盤及び前記第二研磨盤の少なくとも一方を支持し、前記基台に対して前記第一研磨盤及び前記第二研磨盤の少なくとも一方の中心軸線に直交する方向への位置を調整可能、且つ、前記基台に対して前記第一研磨盤及び前記第二研磨盤の少なくとも一方の中心軸線の傾きを調整可能な調整機構と、を備える。

（２．球体研磨方法）
また、球体研磨方法は、上述した球体研磨装置を用いる球体研磨方法であって、前記調整機構により調整された後に、前記第一研磨溝と前記第二研磨溝との間に研磨対象である球体を配置し、前記第一研磨盤と前記第二研磨盤とを相対的に回転させて前記第一研磨溝及び前記第二研磨溝により前記球体を研磨する。

（３．球体研磨装置及び方法による効果）
上述した球体研磨装置及び球体研磨方法によれば、調整機構により、第一研磨盤の中心軸線と第二研磨盤の中心軸線とを同軸上に配置することができる。従って、球体の真球度が向上する。

本実施形態の球体研磨装置の構成を示す図である。 調整機構を軸線方向から見た図である。 図２のIII−III断面図である。 図２のIV−IV断面図である。 調整機構を構成するブラケットの正面図である。 ブラケットの側面図である。 制御装置のブロック構成図を示す。

（１．球体研磨装置１の構成）
本実施形態の球体研磨装置１について図１を参照して説明する。球体研磨装置１は、基台１１、コラム１２、第一移動体１３、第二移動体１４、上下駆動機構１５及び調整機構１７を備える。基台１１は、床面に設置され、中央に上下方向への貫通孔１１ａを備える。コラム１２は、基台１１の上面に固定される。コラム１２の側面には、上下方向に延びるガイドレール１２ａ，１２ｂが設けられる。

第一移動体１３は、基台１１の上面に調整機構１７を介して配置され、且つ、一部を貫通孔１１ａに配置される。第一移動体１３は、第一本体部２１、第一研磨盤支持体２２、第一研磨盤２３、第一静圧軸受２４及び第一モータ２５を備える。

第一本体部２１は、中央孔２１ａを有する円盤状に形成される。第一本体部２１は、中央孔２１ａが基台１１の貫通孔１１ａと同軸上に位置するように、基台１１の上面に調整機構１７を介して固定される。中央孔２１ａの中心軸線は、Ｌ１であり、鉛直軸方向に一致する。

第一研磨盤支持体２２は、第一本体部２１に対して、中心軸線Ｌ１の回りに回転可能に設けられる。第一研磨盤支持体２２は、第一本体部２１の中央孔２１ａを貫通する軸部２２ａ、第一本体部２１の上面及び下面に対向する円盤状のフランジ部２２ｂ，２２ｃを備える。

第一研磨盤２３は、第一研磨盤支持体２２の上側のフランジ部２２ｂの上面に一体的に固定される。つまり、第一研磨盤２３は、第一本体部２１に対して中心軸線Ｌ１の回りに回転可能に設けられる。第一研磨盤２３は、環状に形成される。さらに、第一研磨盤２３は、一方の面（上面）に中心軸線Ｌ１の回りに環状に形成される第一研磨溝２３ａを有する。第一研磨溝２３ａの断面形状は、円弧凹状に形成される。第一研磨溝２３ａは、研磨対象である球体２を研磨する。

第一静圧軸受２４は、第一本体部２１に保持され、第一研磨盤２３に一体的に固定される第一研磨盤支持体２２を、第一本体部２１に対してラジアル方向及びスラスト方向に支持する。詳細には、第一静圧軸受２４は、第一本体部２１の中央孔２１ａに保持され、軸部２２ａの外周面に対して流体圧により支持するラジアル軸受２４ａを備える。さらに、第一静圧軸受２４は、第一本体部２１の上面及び下面に保持され、フランジ部２２ｂ，２２ｃに対して流体圧により支持するスラスト軸受２４ｂ，２４ｃを備える。

本実施形態においては、第一静圧軸受２４に供給される流体は、共通の流体供給源から供給され、ラジアル軸受２４ａ、スラスト軸受２４ｂ，２４ｃに分岐される。第一静圧軸受２４は、さらにオリフィス絞り２４ｄ（図６に示す）を備える。オリフィス絞り２４ｄは、ラジアル軸受２４ａ、スラスト軸受２４ｂ，２４ｃのそれぞれに設けられる。ここで、第一静圧軸受２４を構成するオリフィス絞り２４ｄの位置は可変であるため、流体圧は可変とされる。第一モータ２５は、第一本体部２１又は基台１１に支持され、第一研磨盤支持体２２を回転駆動する。

第二移動体１４は、コラム１２に対して上下方向に移動可能に配置される。第二移動体１４は、第二本体部３１、第二研磨盤支持体３２、第二研磨盤３３、第二静圧軸受３４及び第二モータ３５を備える。

第二本体部３１は、円筒状に形成され、下円盤部及び上円盤部には中央孔３１ａ，３１ｂを有する。第二本体部３１の中央孔３１ａ，３１ｂの中心軸線は、Ｌ２であり、第一本体部２１の中央孔２１ａの中心軸線Ｌ１に一致する。第二本体部３１の円筒部は、コラム１２の側面のガイドレール１２ａ，１２ｂに摺動可能に設けられる。つまり、第二本体部３１は、コラム１２に対して上下方向に移動可能である。

第二研磨盤支持体３２は、第二本体部３１に対して、中心軸線Ｌ２の回りに回転可能に設けられる。第二研磨盤支持体３２は、第二本体部３１の下円盤部の中央孔３１ａを貫通する軸部３２ａ、第二本体部３１の下円盤部の下面及び上面に対向する円盤状のフランジ部３２ｂ，３２ｃを備える。

第二研磨盤３３は、第二研磨盤支持体３２の下側のフランジ部３２ｂの下面に一体的に固定される。つまり、第二研磨盤３３は、第二本体部３１に対して中心軸線Ｌ２の回りに回転可能に設けられる。第二研磨盤３３は、環状に形成される。さらに、第二研磨盤３３は、一方の面（下面）に中心軸線Ｌ２の回りに環状に形成される第二研磨溝３３ａを有する。第二研磨溝３３ａの断面形状は、円弧凹状に形成される。第二研磨溝３３ａは、研磨対象である球体２を研磨する。

第二研磨盤３３の第二研磨溝３３ａ側の面は、第一研磨盤２３の第一研磨溝２３ａ側の面に対向する。第二研磨溝３３ａの環状径は、第一研磨溝２３ａの環状径と同径に形成される。さらに、第二研磨溝３３ａの断面円弧径は、第一研磨溝２３ａの断面円弧径と同径に形成される。

第二静圧軸受３４は、第二本体部３１の下円盤部に保持され、第二研磨盤３３に一体的に固定される第二研磨盤支持体３２を、第二本体部３１に対してラジアル方向及びスラスト方向に支持する。詳細には、第二静圧軸受３４は、第二本体部３１の下円盤部の中央孔３１ａに保持され、軸部３２ａの外周面に対して流体圧により支持するラジアル軸受３４ａを備える。さらに、第二静圧軸受３４は、第二本体部３１の下円盤部の上面及び下面に保持され、フランジ部３２ｂ，３２ｃに対して流体圧により支持するスラスト軸受３４ｂ，３４ｃを備える。

本実施形態においては、第二静圧軸受３４に供給される流体は、共通の流体供給源から供給され、ラジアル軸受３４ａ、スラスト軸受３４ｂ，３４ｃに分岐される。第二静圧軸受３４は、さらにオリフィス絞り３４ｄ（図６に示す）を備える。オリフィス絞り３４ｄは、ラジアル軸受３４ａ、スラスト軸受３４ｂ，３４ｃのそれぞれに設けられる。ここで、第二静圧軸受３４を構成するオリフィス絞り３４ｄの位置は可変であるため、流体圧は可変とされる。また、第二静圧軸受３４に流体を供給する流体供給源は、第一静圧軸受２４に流体を供給する流体供給源と共通して設けられる。第二モータ３５は、第二本体部３１に支持され、第二研磨盤支持体３２を回転駆動する。

上下駆動機構１５は、コラム１２に対して第二本体部３１を上下移動させる。上下駆動機構１５は、コラム１２の上端に固定されるモータ４１と、モータ４１の出力軸に連結されるボールねじ４２と、ボールねじ４２に螺合する第二本体部３１の上円盤部の中央孔３１ｂに固定されるボールねじナット４３とを備える。

調整機構１７は、基台１１に固定され、第一移動体１３を支持する。詳細には、調整機構１７は、第一移動体１３の第一本体部２１に固定される。調整機構１７は、第一研磨盤２３の中心軸線Ｌ１に直交する方向（水平方向）への位置を調整可能である。さらに、調整機構１７は、第一研磨盤２３の中心軸線Ｌ１の傾きを調整可能である。つまり、調整機構１７は、第一研磨盤２３の中心軸線Ｌ１と第二研磨盤３３の中心軸線Ｌ２を同軸上に配置することが可能となる。

（２．調整機構１７の詳細構成）
調整機構１７の詳細構成について図２−図５Ｂを参照して説明する。調整機構１７は、支持部材６１、傾動部材６２、ブラケット６３ａ，６３ｂ，６３ｃ，６３ｄ、位置調整ボルト６４ａ，６４ｂ，６４ｃ，６４ｄ、位置固定ナット６５ａ，６５ｂ，６５ｃ，６５ｄ、傾き調整ボルト６６、傾き固定ボルト６７及び固定ボルト６８を備える。

支持部材６１は、円環状に形成される。支持部材６１の上面の内周側には、球面凹状に形成された傾き調整面６１ａが形成される。支持部材６１の上面の外周側は、平面状に形成される。支持部材６１の平面状上面には、図４に示すように、直径Ｄ１（図２に示す）の位置に、傾き固定ボルト６７に螺合する雌ねじ６１ｂが等間隔に４カ所形成される。さらに、支持部材６１の外周面には、図３に示すように、等間隔に、径方向内方に向かう４カ所の雌ねじ６１ｃが形成される。つまり、対向する位置に、雌ねじ６１ｃが形成される。

傾動部材６２は、支持部材６１と同程度の円環状に形成され、支持部材６１の上面に固定される。傾動部材６２の下面の内周側には、支持部材６１の傾き調整面６１ａの球面凹状に対応する球面凸状に形成された傾き調整面６２ａが形成される。つまり、傾動部材６２は、支持部材６１に対して傾きが変化した状態であっても、支持部材６１に面接触した状態で固定される。

傾動部材６２の外周側には、支持部材６１の雌ねじ６１ｂに対応する位置に、直径Ｄ１の位置に、傾き固定ボルト６７を挿通する貫通孔６２ｂが等間隔に４カ所形成される。傾き固定ボルト６７が、貫通孔６２ｂを挿通し且つ雌ねじ６１ｂに螺合されることで、傾動部材６２が支持部材６１に固定される。ここで、貫通孔６２ｂの穴径は、支持部材６１に対して傾動部材６２の傾き調整可能な程度に形成される。

さらに、傾動部材６２における直径Ｄ１の位置には、それぞれの貫通孔６２ｂに近接した位置に、貫通雌ねじ６２ｃが等間隔に４カ所形成される。貫通雌ねじ６２ｃには、傾き調整ボルト６６が螺合される。複数の傾き調整ボルト６６が、それぞれの貫通雌ねじ６２ｃに螺合され、支持部材６１の上面を押圧することで、支持部材６１に対する傾動部材６２の傾きが調整される。つまり、複数の傾き調整ボルト６６による傾動部材６２の下面からの突出量を調整することによって、傾動部材６２が支持部材６１に対して傾きが調整される。傾き調整時において、支持部材６１の球面凹状の傾き調整面６１ａと傾動部材６２の球面凸状の傾き調整面６２ａとが接触した状態を維持するように行う。

ブラケット６３ａ，６３ｂ，６３ｃ，６３ｄは、支持部材６１の外周面から径方向に離間した位置の基台１１上に固定される。ブラケット６３ａ，６３ｂ，６３ｃ，６３ｄは、図５Ａ及び図５Ｂに示すように、座板７１と、座板７１の上面に立設された壁部７２とを備える。壁部７２には、上縁側に切欠７２ａが形成される。

ブラケット６３ａ，６３ｂ，６３ｃ，６３ｄは、支持部材６１の複数の雌ねじ６１ｃに対向する位置に配置される。ブラケット６３ａ，６３ｂ，６３ｃ，６３ｄの壁部７２の切欠７２ａには、位置調整ボルト６４ａ，６４ｂ，６４ｃ，６４ｄが配置され、この位置調整ボルト６４ａ，６４ｂ，６４ｃ，６４ｄが支持部材６１の雌ねじ６１ｃに螺合される。さらに、位置固定ナット６５ａ，６５ｂ，６５ｃ，６５ｄが位置調整ボルト６４ａ，６４ｂ，６４ｃ，６４ｄに螺合され、位置調整ボルト６４ａ，６４ｂ，６４ｃ，６４ｄの頭部と位置固定ナット６５ａ，６５ｂ，６５ｃ，６５ｄとによって、ブラケット６３ａ，６３ｂ，６３ｃ，６３ｄの壁部７２が挟まれることによって、位置調整ボルト６４ａ，６４ｂ，６４ｃ，６４ｄの位置決めがされる。

ここで、ブラケット６３ａ，６３ｃが対向し、ブラケット６３ｂ，６３ｄが対向する。つまり、ブラケット６３ａに取り付けられる位置調整ボルト６４ａの位置を調整する際には、同時に、ブラケット６３ｃに取り付けられる位置調整ボルト６４ｃの位置を調整する必要がある。また、ブラケット６３ｂに取り付けられる位置調整ボルト６４ｂの位置を調整する際には、同時に、ブラケット６３ｄに取り付けられる位置調整ボルト６４ｄの位置を調整する必要がある。

なお、本実施形態においては、４個のブラケット６３ａ，６３ｂ，６３ｃ，６３ｄを用いたが、隣り合う２個のブラケット６３ａ，６３ｂのみを用いるようにしてもよい。この場合、位置調整ボルト６４ａ，６４ｂ及び位置固定ナット６５ａ，６５ｂが用いられる。

傾動部材６２の上面には、第一本体部２１が配置され、複数の固定ボルト６８によって両者が固定される。固定ボルト６８は、傾動部材６２の雌ねじ６２ｃに螺合される。つまり、位置調整ボルト６４ａ，６４ｂ，６４ｃ，６４ｄの調整によって、基台１１に対する支持部材６１の位置が調整される。さらに、傾き調整ボルト６６の調整によって、支持部材６１に対する傾動部材６２の傾きが調整される。傾動部材６２には、第一本体部２１が固定され、第一本体部２１には第一研磨盤２３が回転可能に支持される。つまり、第一研磨盤２３の中心軸線Ｌ１は、調整機構１７による位置調整及び傾き調整によって、第二研磨盤３３の中心軸線Ｌ２と同軸上に配置することができる。

（３．制御装置１６の構成）
球体研磨装置１は、さらに制御装置１６を備える。制御装置１６は、図６に示すように、モータ制御部５１と、流体圧調整部５２とを備える。モータ制御部５１は、各モータ２５，３５，４１を制御する。つまり、モータ制御部５１が第一モータ２５を回転駆動することにより、第一研磨盤２３が回転する。また、モータ制御部５１が第二モータ３５を回転駆動することにより、第二研磨盤３３が回転する。また、モータ制御部５１がモータ４１を回転駆動することにより、第二移動体１４が上下動する。

流体圧調整部５２は、各オリフィス絞り２４ｄ，３４ｄの絞り量を調整する。流体圧調整部５２が第一オリフィス絞り２４ｄの位置を移動させることにより、第一静圧軸受２４の剛性が変化する。また、流体圧調整部５２が第二オリフィス絞り３４ｄの位置を移動させることにより、第二静圧軸受３４の剛性が変化する。

本実施形態においては、第一オリフィス絞り２４ｄは、ラジアル軸受２４ａ、スラスト軸受２４ｂ，２４ｃの流体圧全てを同時に調整する。つまり、第一オリフィス絞り２４ｄが調整されることで、ラジアル軸受２４ａによる剛性、及び、スラスト軸受２４ｂ，２４ｃによる剛性が調整される。同時に、第一静圧軸受２４によるモーメント剛性が調整される。

また、第二オリフィス絞り３４ｄは、ラジアル軸受３４ａ、スラスト軸受３４ｂ，３４ｃの流体圧全てを同時に調整する。つまり、第二オリフィス絞り３４ｄが調整されることで、ラジアル軸受３４ａによる剛性、及び、スラスト軸受３４ｂ，３４ｃによる剛性が調整される。同時に、第二静圧軸受３４によるモーメント剛性が調整される。

なお、第一オリフィス絞り２４ｄをラジアル軸受２４ａ、スラスト軸受２４ｂ，２４ｃのそれぞれに設けることで、ラジアル軸受２４ａ、スラスト軸受２４ｂ，２４ｃのそれぞれの流体圧を独立して調整することも可能である。また、第二オリフィス絞り３４ｄについても同様である。

また、上記実施形態においては、第一，第二オリフィス絞り２４ｄ，３４ｄの位置を可変とすることにより、第一，第二静圧軸受２４，３４の流体圧を可変とした。この他に、流体圧調整部５２は、第一，第二静圧軸受２４，３４への流体供給源による供給される流体圧を調整することもできる。

（４．球体研磨装置１を用いる球体２の研磨方法）
球体研磨装置１により球体２を研磨する前に、調整機構１７によって、第一研磨盤２３の中心軸線Ｌ１と第二研磨盤３３の中心軸線Ｌ２とを同軸上に位置するように調整しておく。そして、制御装置１６の流体圧調整部５２は、第一，第二静圧軸受２４，３４の流体圧が球体２の研磨を行うときに使用する流体圧となるように、オリフィス絞り２４ｄ，３４ｄを設定しておく。

続いて、制御装置１６は、モータ４１を駆動して、第二移動体１４を上方へ移動させておく。この状態で、研磨素材である複数の球体２を、第一研磨盤２３の第一研磨溝２３ａに配置する。続いて、制御装置１６は、モータ４１を駆動して、第二移動体１４を下方へ移動させて、第二研磨盤３３の第二研磨溝３３ａが球体２に接触する状態とする。

続いて、制御装置１６は、第一研磨盤２３の回転速度を一定値とするように又は周期的に変動させるように第一モータ２５を駆動し、且つ、第二研磨盤３３の回転速度を一定値とするように第二モータ３５を駆動する。このとき、第一研磨盤２３と第二研磨盤３３とは逆方向に回転される。このようにして、球体２は、第一，第二研磨盤２３，３３によって研磨される。この状態を設定した時間を経過したところで、制御装置１６は、第一モータ２５及び第二モータ３５を停止して、モータ４１を駆動して第二移動体１４を上方へ移動させる。

（５．球体研磨装置１の基本構成による効果）
上述したように、球体研磨装置１は、中心軸線Ｌ１の回りに回転可能に設けられ、一方の面に中心軸線Ｌ１の回りに環状に形成される第一研磨溝２３ａを有する第一研磨盤２３と、第一研磨盤２３の中心軸線Ｌ１と同軸上の中心軸線Ｌ２の回りに回転可能に設けられ、第一研磨盤２３の一方の面に対向する面に、中心軸線Ｌ２の回りに環状に形成される第二研磨溝３３ａを有する第二研磨盤３３とを備える。このように、対向する第一，第二研磨盤２３，３３を回転可能にすることで、第一，第二研磨溝２３ａ，３３ａに複数の球体２を配置して、複数の球体２の研磨を同時に加工となる。

さらに、第一、第二研磨盤２３，３３を回転可能にすることで、研削の自由度が高くなる。例えば、第一，第二研磨盤２３，３３は、後述するように流体圧を高くすることで第一，第二研磨盤２３，３３の中心軸線Ｌ１，Ｌ２を高精度に位置決め可能となる。特に、第一，第二研磨盤２３，３３が静圧軸受により支持されることで、転がり軸受を用いる場合に比べて、初期摩耗及び経年摩耗を生じないことにより高精度に位置決めし続けることができる。また、第一，第二研磨盤２３，３３は、後述するように流体圧を低くすることで第一，第二研磨盤２３，３３の中心軸線Ｌ１，Ｌ２のずれを許容できる。その結果、高精度に球体２を研磨できる。

（６．調整機構１７による効果）
調整機構１７が、基台１１に対して第一研磨盤２３を支持し、基台１１に対して第一研磨盤２３の中心軸線Ｌ１に直交する方向への位置を調整可能とされる。従って、調整機構１７により、第一研磨盤２３の中心軸線Ｌ１と第二研磨盤３３の中心軸線Ｌ２とを同軸上に配置することができるため、球体２の真球度が向上する。

さらに、調整機構１７は、基台１１に対して第一研磨盤２３の中心軸線Ｌ１の傾きを調整可能でされる。従って、第一研磨盤２３の中心軸線Ｌ１と第二研磨盤３３の中心軸線Ｌ２とを確実に同軸上に配置することができるため、球体２の真球度が向上する。

ここで、本実施形態においては、調整機構１７は、基台１１と第一研磨盤２３との間に設け、基台１１に対する第一研磨盤２３の位置及び傾きを調整可能としたが、基台１１に対する第二研磨盤３３の位置及び傾きを調整可能な構成としてもよい。さらに、第一研磨盤２３及び第二研磨盤３３の両者のそれぞれが、基台１１に対して位置及び傾きを調整可能な構成としてもよい。

ただし、本実施形態においては、第一研磨盤は、第二研磨盤の下方に対向して配置され、調整機構１７は、基台１１に対して第一研磨盤を調整可能であり、第二研磨盤３３は、基台１１に対する中心軸線Ｌ１に直交する方向への位置及び中心軸線Ｌ１の傾きを調整不能である。つまり、調整機構１７は、第一研磨盤２３側のみに配置する。下方に配置される第一研磨盤２３を調整するのは比較的容易であるのに対して、上方に配置される第二研磨盤３３を調整するのは容易ではない。そこで、下方に配置される第一研磨盤２３のみを調整することで、装置全体の構成が小型となり、作業者による調整作業が容易になる。

１：球体研磨装置、 ２：球体、 １１：基台、 １２：コラム、 １６：制御装置、 １７：調整機構、 ２１：第一本体部、 ２３：第一研磨盤、 ２３ａ：第一研磨溝、 ２４：第一静圧軸受、 ３３：第二研磨盤、 ３３ａ：第二研磨溝、 ３４：第二静圧軸受、 ６１：支持部材、 ６２：傾動部材、 ６３ａ，６３ｂ，６３ｃ，６３ｄ：ブラケット、 ６４ａ，６４ｂ，６４ｃ，６４ｄ：位置調整ボルト、 ６５ａ，６５ｂ，６５ｃ，６５ｄ：位置固定ナット、 ６６：傾き調整ボルト、 ６７：傾き固定ボルト、 Ｌ１：第一研磨盤の中心軸線、 Ｌ２：第二研磨盤の中心軸線

Claims (4)

1. 基台と、
   中心軸線回りに回転可能に前記基台に設けられ、一方の面に前記中心軸線回りに環状に形成される第一研磨溝を有する第一研磨盤と、
   前記第一研磨盤の中心軸線と同軸上の中心軸線回りに回転可能に前記基台に設けられ、前記第一研磨盤の前記一方の面に対向する面に、前記中心軸線回りに環状に形成される第二研磨溝を有する第二研磨盤と、
   前記基台に対して前記第一研磨盤及び前記第二研磨盤の少なくとも一方を支持し、前記基台に対して前記第一研磨盤及び前記第二研磨盤の少なくとも一方の中心軸線に直交する方向への位置を調整可能、且つ、前記基台に対して前記第一研磨盤及び前記第二研磨盤の少なくとも一方の中心軸線の傾きを調整可能な調整機構と、
   を備える、球体研磨装置。
2. 前記調整機構は、
   円環状に形成され、上面及び下面の一方の内周側には球面凹状に形成された傾き調整面が形成され、前記中心軸線に直交する方向へ摺動可能且つ固定可能な支持部材と、
   円環状に形成され、下面及び上面の一方の内周側には前記支持部材の傾き調整面の球面凹状に対応する球面凹状に形成された傾き調整面が形成され、当該傾き調整面と前記支持部材の傾き調整面とを面接触させた状態で摺動可能且つ固定可能な傾動部材と、
   を備え、
   前記支持部材を摺動させることで、前記第一研磨盤及び前記第二研磨盤の少なくとも一方の前記基台に対する中心軸線に直交する方向への位置を調整し、前記摺動部材を摺動させることで、前記第一研磨盤及び前記第二研磨盤の少なくとも一方の前記基台に対する中心軸線の傾きを調整する、請求項１に記載の球体研磨装置。
3. 前記第一研磨盤は、前記第二研磨盤の下方に対向して配置され、
   前記調整機構は、前記基台に対して前記第一研磨盤を調整可能であり、
   前記第二研磨盤は、前記基台に対する中心軸線に直交する方向への位置及び中心軸線の傾きを調整不能である、請求項１又は２に記載の球体研磨装置。
4. 請求項１−３の何れか一項に記載の球体研磨装置を用いる球体研磨方法であって、
   前記調整機構により調整された後に、前記第一研磨溝と前記第二研磨溝との間に研磨対象である球体を配置し、前記第一研磨盤と前記第二研磨盤とを相対的に回転させて前記第一研磨溝及び前記第二研磨溝により前記球体を研磨する、球体研磨方法。

Images