JP6529443B2 - 伝導性基板およびそれを含むタッチスクリーン - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 163
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 31
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 11
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 claims description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 5
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 claims description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 135
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- 239000010408 film Substances 0.000 description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 6
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 2
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000756 V alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003666 anti-fingerprint Effects 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000009975 flexible effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000006058 strengthened glass Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000008093 supporting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
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- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
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- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
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- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
- G06F3/0443—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
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- B32B2457/00—Electrical equipment
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- B32B2457/208—Touch screens
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- G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
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Description
基材と、前記基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含み、
前記暗色化層が可視になる一面に点光源から出た光を照射して得た反射型回折イメージの反射型回折強度が、前記電気伝導性パターンがAlからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、60%以上減少したものである伝導性基板を提供する。
基材と、前記基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含み、
前記暗色化層が可視になる一面に周辺光(Ambient light)を仮定した全反射率測定装置を用いて測定した全反射率(total reflectance)が、前記電気伝導性パターンがAlからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、20%以上減少したものである伝導性基板を提供する。
基材と、前記基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含む伝導性基板を含み、
前記伝導性基板の暗色化層が可視になる面に追加の透明基材を含み、
前記伝導性基板の暗色化層が可視になる一面に点光源から出た光を照射して得た反射型回折イメージの反射型回折強度が、前記電気伝導性パターンがAlからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、60%以上減少したものであるタッチスクリーンを提供する。
基材と、前記基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含む伝導性基板を含み、
前記伝導性基板の暗色化層が可視になる面に追加の透明基材を含み、
前記伝導性基板の暗色化層が可視になる一面に周辺光(Ambient light)を仮定した全反射率測定装置を用いて測定した全反射率(total reflectance)が、前記電気伝導性パターンがAlからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、20%以上減少したものであるタッチスクリーンを提供する。
また、本発明は、前記タッチスクリーンおよびディスプレイモジュールを含むディスプレイを提供する。
Tcon×tangentΘ3×2
前記数学式1において、Tconは、伝導性パターンの厚さであり、Θ3は、タッチスクリーンの使用者の視覚が位置したところから入射した光が前記伝導性パターンおよび前記暗色化パターンのコーナーを通過する時、光が基材表面に対する法線となす角度である。
<比較例1>
純粋なAlでピッチ(250μm)および線幅(4μm)の伝導性メッシュパターンをPET基板上に形成した後、これをディスプレイに2枚を積層し、最もディスプレイの画質を歪曲しない角度を確認した後、この2枚の伝導性基板をOCA(optically clear adhesive)を介してラミネーション(lamination)した。これを再び強化ガラスに付着してタッチスクリーンを製作した。
全面にCuが蒸着された基材上にスパッタ(sputter)装置でMoターゲット(target)を用いて酸窒化物をさらに形成して伝導層および暗色化層を形成し、その最終積層体の厚さは220nmであった。これを暗色化面において測定した基材の反射率は6.1%に該当した。形成された基材を用いてリバースオフセット(Reverse offset)工程を用いてエッチングレジスト(Etching Resist、LGC自体開発)を印刷した後、120℃で3分間焼成した後、これをENF社のCuエッチャント(etchant)を用いて40℃で40秒間エッチングした。次に、アセトンで剥離した後、測定したパターンの線幅は3.5μmであった。
1)反射型回折特性の評価
下記図4の装置を用いて、強化ガラス面にレーザー光源が入射するようにして反射型回折特性の評価を行った。下記図5に比較例1の反射型回折イメージを示し、下記図6に実施例1の反射型回折イメージを示す。
前述した反射型回折特性の評価結果の実際反射型回折との一致性を確認するために、前記実施例1および比較例1のタッチスクリーンを室内の点光源に照らして肉眼で観察し、その結果を下記図7に示す。したがって、実際サンプルの肉眼評価の結果と分析装置を用いた評価の結果が非常に一致していることを確認することができる。
前記実施例1および比較例1のタッチスクリーンを各々300μmピッチおよび250μmピッチで製作し、周辺光(Ambient light)条件下での全反射率を測定した。その結果として、下記図8に300μmピッチのタッチスクリーンに対する全反射率の測定結果を示し、下記図9に250μmピッチのタッチスクリーンに対する全反射率の測定結果を示す。
Claims (27)
- 基材と、前記基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含み、
前記暗色化層が可視になる一面に点光源から出た光を照射して得た反射型回折イメージの反射型回折強度が、前記電気伝導性パターンがAlからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、60%以上減少したものであり、
前記暗色化層は、アルミナ(Al2O3)層、クロム酸化物(Cr2O3)層およびクロム層の積層構造を含み、
前記暗色化層の線幅は、前記電気伝導性パターンの線幅より下記数学式1に応じた値だ けさらに大きい幅を有し、
[数学式1]
Tcon×tangentΘ 3 ×2
前記数学式1において、Tconは、前記電気伝導性パターンの厚さであり、Θ 3 は、 タッチスクリーンの使用者の視覚が位置したところから入射した光が前記電気伝導性パタ ーンおよび前記暗色化層のコーナーを通過する時、光が前記基材の表面に対する法線とな す角度である、
伝導性基板。 - 基材と、前記基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含み、
前記暗色化層が可視になる一面に周辺光(Ambient light)を仮定した全反射率測定装置を用いて測定した全反射率(total reflectance)が、前記電気伝導性パターンがAlからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、20%以上減少したものであり、
前記暗色化層は、アルミナ(Al2O3)層、クロム酸化物(Cr2O3)層およびクロム層の積層構造を含み、
前記暗色化層の線幅は、前記電気伝導性パターンの線幅より下記数学式1に応じた値だ けさらに大きい幅を有し、
[数学式1]
Tcon×tangentΘ 3 ×2
前記数学式1において、Tconは、前記電気伝導性パターンの厚さであり、Θ 3 は、 タッチスクリーンの使用者の視覚が位置したところから入射した光が前記電気伝導性パタ ーンおよび前記暗色化層のコーナーを通過する時、光が前記基材の表面に対する法線とな す角度である、
伝導性基板。 - 前記暗色化層は、前記電気伝導性パターンの上面および下面に備えられることを特徴とする、請求項1または2に記載の伝導性基板。
- 前記伝導性基板の前記暗色化層が見られる面から測定した、前記暗色化層と前記電気伝導性パターンとからなるパターン領域の色範囲は、CIE LAB色座標を基準に、L値が20以下、A値が−10〜10、B値が−70〜70であることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載の伝導性基板。
- 前記伝導性基板の前記暗色化層が見られる面から測定した、前記暗色化層と前記電気伝導性パターンとからなるパターン領域の全反射率は、外部光550nmを基準とする時、17%以下であることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載の伝導性基板。
- 前記電気伝導性パターンは、金、銀、アルミニウム、銅、ネオジム、モリブデン、ニッケルまたはこれらの合金を含む単一膜または多層膜であることを特徴とする、請求項1から5のいずれか一項に記載の伝導性基板。
- 前記電気伝導性パターンの線幅は10μm以下、厚さは10μm以下、およびピッチは600μm以下であることを特徴とする、請求項1から6のいずれか一項に記載の伝導性基板。
- 前記電気伝導性パターンの線幅は7μm以下、厚さは1μm以下、およびピッチは400μm以下であることを特徴とする、請求項1から7のいずれか一項に記載の伝導性基板。
- 前記電気伝導性パターンの線幅は5μm以下、厚さは0.5μm以下、およびピッチは300μm以下であることを特徴とする、請求項1から8のいずれか一項に記載の伝導性基板。
- 前記電気伝導性パターンは規則的パターンであり、前記電気伝導性パターンを構成する線のうち任意の複数の線が交差して形成される交差点を含み、前記交差点の数は3.5cm×3.5cmの面積で3,000〜123,000個であることを特徴とする、請求項1から9のいずれか一項に記載の伝導性基板。
- 前記交差点の数は、3.5cm×3.5cmの面積で5,000〜35,000個であることを特徴とする、請求項10に記載の伝導性基板。
- 前記交差点の数は、3.5cm×3.5cmの面積で10,000〜35,000個であることを特徴とする、請求項10又は11に記載の伝導性基板。
- 前記電気伝導性パターンは、メッシュパターンの形態であることを特徴とする、請求項1から12のいずれか一項に記載の伝導性基板。
- 前記電気伝導性パターンの開口率は、70%以上であることを特徴とする、請求項1から13のいずれか一項に記載の伝導性基板。
- 基材と、前記基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含む伝導性基板を含み、
前記伝導性基板の前記暗色化層が可視になる面に追加の透明基材を含み、
前記伝導性基板の前記暗色化層が可視になる一面に点光源から出た光を照射して得た反射型回折イメージの反射型回折強度が、前記電気伝導性パターンがAlからなり、前記暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、60%以上減少したものであり、
前記暗色化層は、アルミナ(Al2O3)層、クロム酸化物(Cr2O3)層およびクロム層の積層構造を含み、
前記暗色化層の線幅は、前記電気伝導性パターンの線幅より下記数学式1に応じた値だ けさらに大きい幅を有し、
[数学式1]
Tcon×tangentΘ 3 ×2
前記数学式1において、Tconは、前記電気伝導性パターンの厚さであり、Θ 3 は、 タッチスクリーンの使用者の視覚が位置したところから入射した光が前記電気伝導性パタ ーンおよび前記暗色化層のコーナーを通過する時、光が前記基材の表面に対する法線とな す角度である、
タッチスクリーン。 - 基材と、前記基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含む伝導性基板を含み、
前記伝導性基板の前記暗色化層が可視になる面に追加の透明基材を含み、
前記伝導性基板の前記暗色化層が可視になる一面に周辺光(Ambient light)を仮定した全反射率測定装置を用いて測定した全反射率(total reflectance)が、前記電気伝導性パターンがAlからなり、前記暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、20%以上減少したものであり、
前記暗色化層は、アルミナ(Al2O3)層、クロム酸化物(Cr2O3)層およびクロム層の積層構造を含み、
前記暗色化層の線幅は、前記電気伝導性パターンの線幅より下記数学式1に応じた値だ けさらに大きい幅を有し、
[数学式1]
Tcon×tangentΘ 3 ×2
前記数学式1において、Tconは、前記電気伝導性パターンの厚さであり、Θ 3 は、 タッチスクリーンの使用者の視覚が位置したところから入射した光が前記電気伝導性パタ ーンおよび前記暗色化層のコーナーを通過する時、光が前記基材の表面に対する法線とな す角度である、
タッチスクリーン。 - 前記暗色化層は、前記電気伝導性パターンの上面および下面に備えられることを特徴とする、請求項15または16に記載のタッチスクリーン。
- 前記追加の透明基材は、強化ガラスまたは透明プラスチックであることを特徴とする、請求項15から17のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
- 前記伝導性基板の前記暗色化層が見られる面から測定した、前記暗色化層と前記電気伝導性パターンとからなるパターン領域の色範囲は、CIE LAB色座標を基準に、L値が20以下、A値が−10〜10、B値が−70〜70であることを特徴とする、請求項15から18のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
- 前記伝導性基板の前記暗色化層が見られる面から測定した、前記暗色化層と前記電気伝導性パターンとからなるパターン領域の全反射率は、外部光550nmを基準とする時、17%以下であることを特徴とする、請求項15から19のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
- 前記電気伝導性パターンは、金、銀、アルミニウム、銅、ネオジム、モリブデン、ニッケルまたはこれらの合金を含む単一膜または多層膜であることを特徴とする、請求項15から20のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
- 前記電気伝導性パターンの線幅は10μm以下、厚さは10μm以下、およびピッチは600μm以下であることを特徴とする、請求項15から21のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
- 前記電気伝導性パターンの線幅は7μm以下、厚さは1μm以下、およびピッチは400μm以下であることを特徴とする、請求項15から22のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
- 前記電気伝導性パターンの線幅は5μm以下、厚さは0.5μm以下、およびピッチは300μm以下であることを特徴とする、請求項15から23のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
- 前記電気伝導性パターンは、メッシュパターンの形態であることを特徴とする、請求項15から24のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
- 前記タッチスクリーンの開口率は、70%以上であることを特徴とする、請求項15から25のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
- 請求項15から26のいずれか一項に記載のタッチスクリーンおよびディスプレイモジュールを含むディスプレイ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2011-0027832 | 2011-03-28 | ||
KR20110027832 | 2011-03-28 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014502460A Division JP6070690B2 (ja) | 2011-03-28 | 2012-03-28 | 伝導性基板およびそれを含むタッチスクリーン |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016076270A JP2016076270A (ja) | 2016-05-12 |
JP6529443B2 true JP6529443B2 (ja) | 2019-06-12 |
Family
ID=46932125
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014502462A Active JP5865994B2 (ja) | 2011-03-28 | 2012-03-28 | 伝導性基板およびそれを含むタッチスクリーン |
JP2014502460A Active JP6070690B2 (ja) | 2011-03-28 | 2012-03-28 | 伝導性基板およびそれを含むタッチスクリーン |
JP2016003073A Active JP6529443B2 (ja) | 2011-03-28 | 2016-01-08 | 伝導性基板およびそれを含むタッチスクリーン |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014502462A Active JP5865994B2 (ja) | 2011-03-28 | 2012-03-28 | 伝導性基板およびそれを含むタッチスクリーン |
JP2014502460A Active JP6070690B2 (ja) | 2011-03-28 | 2012-03-28 | 伝導性基板およびそれを含むタッチスクリーン |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9313883B2 (ja) |
JP (3) | JP5865994B2 (ja) |
KR (2) | KR101385834B1 (ja) |
CN (2) | CN103597427B (ja) |
TW (3) | TWI511168B (ja) |
WO (2) | WO2012134173A2 (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104603886B (zh) * | 2012-08-31 | 2016-12-07 | Lg化学株式会社 | 导电结构及其制造方法 |
KR101388699B1 (ko) * | 2012-11-22 | 2014-04-24 | 삼성전기주식회사 | 터치 감지 방법 및 터치 감지 장치 |
TWI623776B (zh) * | 2012-12-17 | 2018-05-11 | Lg伊諾特股份有限公司 | 設計光學基板的方法 |
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US9790126B2 (en) | 2013-09-05 | 2017-10-17 | Apple Inc. | Opaque color stack for electronic device |
AT13879U1 (de) * | 2013-10-04 | 2014-10-15 | Plansee Se | Berührungssensoranordnung |
CN105830000B (zh) * | 2013-12-13 | 2019-02-12 | Lg化学株式会社 | 触控传感器以及该触控传感器的制造方法 |
EP3118728B1 (en) * | 2014-03-13 | 2021-10-06 | Noritake Co., Limited | Projected capacitive touch switch panel |
KR101743329B1 (ko) * | 2014-09-04 | 2017-06-15 | 주식회사 엘지화학 | 터치스크린 및 이의 제조방법 |
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US10732771B2 (en) | 2014-11-12 | 2020-08-04 | Shenzhen GOODIX Technology Co., Ltd. | Fingerprint sensors having in-pixel optical sensors |
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CN107580709B (zh) | 2015-06-18 | 2021-02-12 | 深圳市汇顶科技股份有限公司 | 具有光学感应能力的多功能指纹传感器 |
CN107004130B (zh) | 2015-06-18 | 2020-08-28 | 深圳市汇顶科技股份有限公司 | 用于屏幕上指纹感应的屏幕下光学传感器模块 |
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CN108205392A (zh) | 2016-12-19 | 2018-06-26 | 恒颢科技股份有限公司 | 触控面板 |
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KR20210085958A (ko) * | 2019-12-31 | 2021-07-08 | 미래나노텍(주) | 스크린 장치 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003195356A (ja) | 1997-10-31 | 2003-07-09 | Seiko Epson Corp | 液晶装置及び電子機器並びに投射型表示装置 |
JP4090546B2 (ja) * | 1997-11-14 | 2008-05-28 | 大日本印刷株式会社 | 電磁波遮蔽板 |
JP3311720B2 (ja) * | 1999-01-22 | 2002-08-05 | 三井化学株式会社 | ディスプレイ用フィルター |
JP2002014772A (ja) | 2000-06-30 | 2002-01-18 | Minolta Co Ltd | タッチパネル、表示パネル及び表示装置 |
JP2002108248A (ja) | 2000-07-26 | 2002-04-10 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、電気光学装置用基板及び投射型表示装置 |
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CN102293049B (zh) | 2009-01-21 | 2013-08-07 | Lg化学株式会社 | 发热体及其制备方法 |
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JP2010198615A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-09 | Acrosense Technology Co Ltd | 静電容量タッチパネル |
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JP5248653B2 (ja) * | 2010-05-27 | 2013-07-31 | 富士フイルム株式会社 | 導電シート及び静電容量方式タッチパネル |
KR101367569B1 (ko) * | 2010-12-29 | 2014-02-28 | 주식회사 엘지화학 | 터치 스크린 및 이의 제조방법 |
CN103636285B (zh) * | 2012-04-23 | 2016-08-17 | Lg化学株式会社 | 加热元件及其制造方法 |
-
2012
- 2012-03-28 CN CN201280015861.6A patent/CN103597427B/zh active Active
- 2012-03-28 TW TW101110880A patent/TWI511168B/zh active
- 2012-03-28 WO PCT/KR2012/002283 patent/WO2012134173A2/ko active Application Filing
- 2012-03-28 KR KR1020120031786A patent/KR101385834B1/ko active IP Right Grant
- 2012-03-28 JP JP2014502462A patent/JP5865994B2/ja active Active
- 2012-03-28 US US14/008,201 patent/US9313883B2/en active Active
- 2012-03-28 CN CN201280016018.XA patent/CN103477398B/zh active Active
- 2012-03-28 TW TW101110881A patent/TWI463370B/zh active
- 2012-03-28 JP JP2014502460A patent/JP6070690B2/ja active Active
- 2012-03-28 WO PCT/KR2012/002285 patent/WO2012134175A2/ko active Application Filing
- 2012-03-28 US US14/008,522 patent/US9363888B2/en active Active
- 2012-03-28 TW TW103129844A patent/TW201506738A/zh unknown
- 2012-03-28 KR KR1020120031782A patent/KR101385898B1/ko active IP Right Grant
-
2016
- 2016-01-08 JP JP2016003073A patent/JP6529443B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101385898B1 (ko) | 2014-04-16 |
US9363888B2 (en) | 2016-06-07 |
TW201305872A (zh) | 2013-02-01 |
TW201306058A (zh) | 2013-02-01 |
US20140016047A1 (en) | 2014-01-16 |
KR101385834B1 (ko) | 2014-04-21 |
US9313883B2 (en) | 2016-04-12 |
JP5865994B2 (ja) | 2016-02-17 |
CN103477398B (zh) | 2016-12-07 |
WO2012134173A2 (ko) | 2012-10-04 |
WO2012134173A3 (ko) | 2013-02-14 |
JP2014517368A (ja) | 2014-07-17 |
WO2012134175A3 (ko) | 2013-01-03 |
CN103597427B (zh) | 2016-08-17 |
WO2012134175A2 (ko) | 2012-10-04 |
JP6070690B2 (ja) | 2017-02-01 |
KR20120110067A (ko) | 2012-10-09 |
CN103597427A (zh) | 2014-02-19 |
TW201506738A (zh) | 2015-02-16 |
WO2012134173A8 (ko) | 2012-11-29 |
JP2016076270A (ja) | 2016-05-12 |
KR20120110066A (ko) | 2012-10-09 |
CN103477398A (zh) | 2013-12-25 |
TWI463370B (zh) | 2014-12-01 |
TWI511168B (zh) | 2015-12-01 |
US20140022739A1 (en) | 2014-01-23 |
JP2014515141A (ja) | 2014-06-26 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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