JP2016076270A - 伝導性基板およびそれを含むタッチスクリーン - Google Patents

Abstract

【課題】モアレ（ｍｏｉｒｅ）現象によるディスプレイ画質の低下を防止することができる伝導性基板及びそれを含むタッチスクリーンを提供する。【解決手段】伝導性基板は、基材と、基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン及び電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含む。暗色化層が可視になる一面に点光源から出た光を照射して得た反射型回折イメージの反射型回折強度が、電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、６０％以上減少する。【選択図】図８

Description

本出願は２０１１年３月２８日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２０１１−００２７８３２号の出願日の利益を主張し、その内容の全ては本明細書に含まれる。 本発明は、伝導性基板およびそれを含むタッチスクリーンに関する。

一般的に、ディスプレイ装置とは、ＴＶやコンピュータ用のモニターなどをひっくるめて示す言葉であり、画像を形成するディスプレイ素子およびディスプレイ素子を支持するケースを含む。

前記ディスプレイ素子としては、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ、ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）、電気泳動ディスプレイ（Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃ ｄｉｓｐｌａｙ）および陰極線管（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ Ｔｕｂｅ、ＣＲＴ）、ＯＬＥＤディスプレイなどを例に挙げることができる。ディスプレイ素子には、画像実現のためのＲＧＢ画素パターンおよび追加の光学フィルタが備えられてもよい。

一方、ディスプレイ装置と関連し、スマートフォンおよびタブレットＰＣ、ＩＰＴＶなどの普及が加速化するにつれ、キーボードやリモコンなどの別途の入力装置無しで人の手が直接に入力装置となるタッチ機能に対する必要性が益々大きくなっている。また、特定ポイントの認識だけでなく、筆記が可能なマルチタッチ（ｍｕｌｔｉ−ｔｏｕｃｈ）機能も求められている。

前記のような機能をするタッチスクリーンは、信号の検出方式に応じて次のように分類することができる。すなわち、直流電圧を印加した状態で圧力によって押された位置を電流または電圧値の変化を通じて検知する抵抗膜方式（ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ ｔｙｐｅ）と、交流電圧を印加した状態で容量結合（ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ）を用いる静電容量方式（ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ ｔｙｐｅ）と、磁界を印加した状態で選択された位置を電圧の変化として検知する電磁誘導方式（ｅｌｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ ｔｙｐｅ）などがある。

この中、最も普遍化した抵抗膜および静電容量方式のタッチスクリーンは、ＩＴＯフィルムのような透明導電膜を用いて電気的な接触や静電容量の変化によってタッチ有無を認識する。しかし、前記透明導電膜は、１５０ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ以上の高抵抗が大半であるので大型化時に感度が低下し、これを用いてタッチスクリーンを製作する時、ＩＴＯのパターニング工程と金属トレース（ｔｒａｃｅ）部の電極パターニング工程をフォトリソグラフィーのような工程で順次行わなければならないという複雑性と共に、スクリーンの大きさが大きくなるほどＩＴＯフィルムの価格が急増するという問題で、製造時の製造費用の上昇および大型化への適用の難しさが存在する。これを克服するために、最近、伝導度の高い金属パターンを用いた方式で大型化を実現しようとする試みがなされている。このような金属パターンを用いる場合、金属の高い伝導度によって大面積化に有利であり、トレース（ｔｒａｃｅ）電極と画面部を同時に形成するという側面から、工程数の減少による収率および価格に有利な長所を有している。

しかし、このような金属パターンを用いてタッチスクリーンを構成する場合、既存のＩＴＯとは異なる構造的な特性による追加の光学現象が現れるが、太陽光のような点光源による反射型回折現象がその１つであり、また他の１つは規則化された金属パターンの利用時に現れるモアレ（ｍｏｉｒｅ）現象である。

この時、反射型回折現象とは、太陽光や室内のＬＥＤなどのような点光源がディスプレイの金属パターンが備えられた面に照らされた時、金属パターンが規則的な場合に、点光源が反射して回折が発生して現れるパターンであり、使用者にとって可読性を阻害する役割をするようになる。このような反射型回折現象は、この頃、ディスプレイが次第に軽量化、および携帯性を強調する製品への採用が増えるにつれ、野外での視認性などが強調されることによって、より管理を要する光学特性として浮び上がっている。

これとは別に、モアレ現象とは、ディスプレイのピクセルパターンあるいは電極パターン上に規則的なパターンが存在する場合、ディスプレイピクセルとパターンとの間の干渉現象によって、異なる形態の干渉縞が作られる現象であり、このような現象は、可読性の阻害は勿論、ピクセルの混色を妨害することによってディスプレイの画質を低下させるという問題点を引き起こす。

一例として、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の場合、電磁波遮蔽用金属メッシュパターンを導入する場合、プラズマディスプレイのピクセルと金属メッシュパターンの規則性によってモアレ現象が発生し得る。そこで、この解決のためには、一般的にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の仕様が決定されると、光学フィルタの金属メッシュパターンの角度設計などを通じてモアレ現象を解消しようとする試みをすることになる。

しかし、このようなディスプレイピクセルと金属メッシュパターンの角度の設定を通じたモアレ現象の回避は、ディスプレイの大きさおよびピクセルの実現方式に応じて異なるパターンで対応しなければならないという煩わしさがある。

当技術分野では、前述したタッチスクリーンの性能向上のための技術開発が求められている。特に、最近広く使用化されたＬＣＤディスプレイパネルは、高解像度を実現するために画素パターンをより細かくしており、さらには、製造会社別に製品に応じてそれぞれ異なる形態のピクセル大きさおよび模様が適用されることにより、既存のメッシュパターンの角度設計だけで１つの一貫したモアレ回避設計を導入して製品を作ることが益々困難となっている。

前記目的を達成するために、本発明の一実施状態は、
基材と、前記基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含み、
前記暗色化層が可視になる一面に点光源から出た光を照射して得た反射型回折イメージの反射型回折強度が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、６０％以上減少したものである伝導性基板を提供する。

また、本発明の他の一実施状態は、
基材と、前記基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含み、
前記暗色化層が可視になる一面に周辺光（Ａｍｂｉｅｎｔ ｌｉｇｈｔ）を仮定した全反射率測定装置を用いて測定した全反射率（ｔｏｔａｌ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、２０％以上減少したものである伝導性基板を提供する。

また、本発明のまた他の一実施状態は、
基材と、前記基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含む伝導性基板を含み、
前記伝導性基板の暗色化層が可視になる面に追加の透明基材を含み、
前記伝導性基板の暗色化層が可視になる一面に点光源から出た光を照射して得た反射型回折イメージの反射型回折強度が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、６０％以上減少したものであるタッチスクリーンを提供する。

また、本発明のまた他の一実施状態は、
基材と、前記基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含む伝導性基板を含み、
前記伝導性基板の暗色化層が可視になる面に追加の透明基材を含み、
前記伝導性基板の暗色化層が可視になる一面に周辺光（Ａｍｂｉｅｎｔ ｌｉｇｈｔ）を仮定した全反射率測定装置を用いて測定した全反射率（ｔｏｔａｌ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、２０％以上減少したものであるタッチスクリーンを提供する。
また、本発明は、前記タッチスクリーンおよびディスプレイモジュールを含むディスプレイを提供する。

本発明による伝導性基板およびそれを含むタッチスクリーンは、視野を遮らず、伝導性に優れるだけでなく、点光源による反射型回折現象を減少させることができ、さらには、モアレ（ｍｏｉｒｅ）現象によるディスプレイ画質の低下を防止することができる。また、本発明による電気伝導性パターンは、目的とするパターンを予め決めた後、間接印刷法、フォトリソグラフィー法、フォトグラフィー法、ハード（Ｈａｒｄ）マスクを用いた方法、スパッタリング法などの様々な方法で形成することができるため、工程が容易であり、且つ、安価である。

従来のタッチスクリーンの反射型回折現象を示す図である。 本発明の一具体例による伝導性基板のこのような全反射率測定のための装置の構成を示す図である。 本発明の一具体例による伝導性基板の全反射率グラフを示す図である。 本発明の一具体例による伝導性基板の光特性評価のための反射型回折装置を示す図である。 従来の伝導性基板の反射型回折イメージを示す図である。 本発明の一具体例による伝導性基板の反射型回折イメージを示す図である。 本発明の一具体例によるタッチスクリーンの反射型回折特性を肉眼で観察した図である。 本発明の一具体例によるタッチスクリーンの全反射率の測定結果を示す図である。 本発明の一具体例によるタッチスクリーンの全反射率の測定結果を示す図である。

以下、本発明について詳細に説明する。本発明は、一次的に規則化されたパターンを用いる場合、点光源による反射型回折現象を最小化させるための方法と共に実際ディスプレイにこれを使うための反射型回折現象の評価方法および基準を提示することを目的とし、さらには、前記したモアレ（ｍｏｉｒｅ）現象を根本的に解決するためのパターン設計方法の提示、それを含む伝導体およびそれを含むタッチスクリーンを提供することを目的とする。

従来技術のように透明全面伝導層を形成する場合（ＩＴＯなど）は、透過率に比例して抵抗が非常に高くなるという問題がある。また、グリッド（ｇｒｉｄ）方式またはリニア（ｌｉｎｅａｒ）方式のように１種類の形状の規則的なパターンで形成された電気伝導性パターンを規則的な内部構造、例えば、ピクセル構造を有するディスプレイや、規則的なパターン構造を有する光学フィルムまたは電極構造を含むディスプレイに含ませる場合、これらのパターン構造に隣接した光源によってパターン間の相対的な干渉が生じてモアレ現象が発生するという問題があり、このようなモアレ現象が発生すると視覚的な認知性（視認性）が低下するようになる。

また、このような規則的パターンを有する光学フィルムまたは電極構造を有する場合、ディスプレイに取り付ける時、外部光が点光源である場合、パターンの規則性による回折が発生し得る。したがって、これを解決するために、本発明では、一次的に反射型回折現象の場合、金属自体の反射率によって反射型回折現象の強度が大きく左右されることを確認した。これにより、金属の反射型回折現象を減少させるための方法として、本発明では、伝導性パターンの反射率を下げ、吸光度特性を改善するために、伝導性パターンに対応する面に暗色化層を導入した。下記図１は、従来のメッシュパターンを含むタッチスクリーンであり、太陽光のような点光源の存在時の反射型回折現象を示す。

本発明による伝導性基板は、基材と、前記基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含む。

本発明の一実施状態は、基材と、前記基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含み、前記暗色化層が可視になる一面に点光源から出た光を照射して得た反射型回折イメージの反射型回折強度が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、６０％以上減少したものである伝導性基板を提供する。

本発明のよる伝導性基板において、前記反射型回折強度が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、６０％以上減少したものであってもよく、７０％以上減少したものであってもよく、８０％以上減少したものであってもよい。例えば、６０〜７０％減少したものであってもよく、７０〜８０％減少したものであってもよく、８０〜８５％減少したものであってもよい。

また、本発明の他の一実施状態は、基材と、前記基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含み、前記暗色化層が可視になる一面に周辺光（Ａｍｂｉｅｎｔ ｌｉｇｈｔ）を仮定した全反射率測定装置を用いて測定した全反射率（ｔｏｔａｌ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、２０％以上減少したものである伝導性基板を提供する。

本発明による伝導性基板において、前記全反射率が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、２０％以上減少したものであってもよく、２５％以上減少したものであってもよく、３０％以上減少したものであってもよい。例えば、２５〜５０％減少したものであってもよい。

また、本発明では、前記電気伝導性基板の暗色化層が可視になる面に透明基材をさらに含むことができる。なお、本発明のまた他の一実施状態は、基材と、前記基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含む伝導性基板を含み、前記伝導性基板の暗色化層が可視になる面に追加の透明基材を含み、前記伝導性基板の暗色化層が可視になる一面に点光源から出た光を照射して得た反射型回折イメージの反射型回折強度が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、６０％以上減少したものであるタッチスクリーンを提供する。

また、本発明のまた他の一実施状態は、基材と、前記基材上の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含む伝導性基板を含み、前記伝導性基板の暗色化層が可視になる面に追加の透明基材を含み、前記伝導性基板の暗色化層が可視になる一面に周辺光（Ａｍｂｉｅｎｔ ｌｉｇｈｔ）を仮定した全反射率測定装置を用いて測定した全反射率（ｔｏｔａｌ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、２０％以上減少したものであるタッチスクリーンを提供する。本発明によるタッチスクリーンにおいて、前記追加の透明基材としては強化ガラス、透明プラスチックなどが挙げられるが、これらのみに限定されるものではない。

本発明において、前記暗色化層は、電気伝導性パターンの上面および下面に備えられてもよく、電気伝導性パターンの上面および下面だけでなく側面の少なくとも一部分に備えられてもよく、電気伝導性パターンの上面、下面および側面の全体に備えられてもよい。

本発明において、前記暗色化層は、電気伝導性パターンの全面に備えられることにより、前記電気伝導性パターンの高い反射率に応じた視認性を減少させることができる。この時、前記暗色化層は、伝導層のような高い反射率を有する層との結合時に特定厚さ条件下で消滅干渉および自体的な吸光性を有するため、暗色化層によって反射される光と暗色化層を経て伝導性パターンによって反射される光の量を互いに類似するように合わせると同時に、さらに、特定厚さ条件で２つの光間の相互消滅干渉を誘導することによって伝導性パターンによる反射率を下げる効果を示すようになる。

この時、前記伝導性基板の暗色化層が見られる面から測定した、暗色化層と電気伝導性パターンとからなるパターン領域の色範囲は、ＣＩＥ ＬＡＢ色座標を基準に、Ｌ値が２０以下、Ａ値が−１０〜１０、Ｂ値が−７０〜７０であってもよく、Ｌ値が１０以下、Ａ値が−５〜５、Ｂ値が０〜３５であってもよく、Ｌ値が５以下、Ａ値が−２〜２、Ｂ値が０〜１５であってもよい。

また、本発明による伝導性基板の暗色化層が見られる面から測定した、暗色化層と電気伝導性パターンとからなるパターン領域の全反射率は、外部光５５０ｎｍを基準とする時、１７％以下であってもよく、１０％以下であってもよく、５％以下であってもよい。

ここで、全反射率（ｔｏｔａｌ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）とは、拡散反射率（ｄｉｆｆｕｓｅ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）および鏡面反射率（ｓｐｅｃｕｌａｒ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）をいずれも考慮した反射率を意味する。前記全反射率は、反射率を測定しようとする面の反対面をブラックペースト（Ｂｌａｃｋ ｐａｓｔｅ）またはテープ（ｔａｐｅ）などを用いて反射率を０に作った後、測定しようとする面の反射率だけを測定して観察した値であり、この時に入ってくる光源は周辺光（ａｍｂｉｅｎｔ ｌｉｇｈｔ）条件と最も類似する拡散（ｄｉｆｆｕｓｅ）光源を導入した。また、この時、反射率を測定する測定位置は、積分球の半円の垂直線から約７度傾いた位置を基本とした。下記図２はこのような全反射率測定のための装置の構成を示し、下記図３は本発明の一具体例による伝導性基板の全反射率グラフを示す。

前記電気伝導性パターンおよび暗色化層を含む伝導性基板は、蒸着法、例えば、スパッタリング法、ＣＶＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、熱蒸着（ｔｈｅｒｍａｌ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）法、電子ビーム（ｅ−ｂｅａｍ）蒸着法などの方法を用いて導電層と暗色化層を形成することができ、これをパターン化して電気伝導性パターンおよび暗色化層を形成することができる。特に、スパッタリング法を用いる場合は、暗色化層のフレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）特性に優れる。前記熱蒸着（ｔｈｅｒｍａｌ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）法および電子ビーム（ｅ−ｂｅａｍ）蒸着法は単に粒子が積もるが、スパッタリング法は衝突によって粒子が核を形成し、核が成長して、曲がっても機械的物性に優れるという特徴がある。また、前記スパッタリング法を用いる場合は、前記暗色化層と他の層との界面接着力に優れる。上記のように蒸着法を利用することにより、粘着層または接着層を用いることがなくても基材または電気伝導性パターンに暗色化パターンを直接形成することができ、所望の厚さおよびパターン形状を実現することができる。

本発明において、前記暗色化層は、前記電気伝導性パターンと同時にまたは別途にパターン化されてもよいが、各々のパターンを形成するための層は別途に形成される。しかし、電気伝導性パターンと暗色化層が正確に対応する面に存在するためには、電気伝導性パターンと暗色化層を同時に形成することが最も好ましい。

このようにパターンを形成することにより、暗色化層自体の効果を最適化および最大化し、タッチスクリーンに求められる微細な電気伝導性パターンを実現することができる。タッチスクリーンにおいて、微細な電気伝導性パターンを実現できない場合、抵抗などのタッチスクリーンに求められる物性を達成することができない。

本発明において、前記暗色化層と前記電気伝導性パターンは、別途のパターン層が積層構造をなすという点で、吸光物質の少なくとも一部が電気伝導性パターン内に陥没または分散している構造や単一層の導電層が表面処理によって表面側の一部が物理的または化学的変形がなされた構造とは異なる。

また、本発明によるタッチスクリーンにおいて、前記暗色化層は、接着層または粘着層を介在せず、直接前記基材上にまたは直接前記電気伝導性パターン上に備えられる。接着層または粘着層は耐久性や光学物性に影響を及ぼし得る。また、本発明によるタッチスクリーンに含まれる積層体は、接着層または粘着層を用いる場合と比較する時に製造方法が全く相異なる。さらに、接着層や粘着層を用いる場合に比べ、本発明では、基材または電気伝導性パターンと暗色化層の界面特性に優れる。

本発明において、前記暗色化層の厚さは、前述した物理的性質である消滅干渉特性と吸収係数特性を有するのであれば、光の波長をλとし、暗色化層の屈折率をｎと定義する時、λ／（４×ｎ）＝Ｎ（ここで、Ｎは奇数）の厚さ条件を満たせば、いかなる厚さであってもよい。但し、製造工程中、電気伝導性パターンとのエッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）特性を考慮する場合、１０ｎｍ〜４００ｎｍの間から選択することが好ましいが、用いる材料および製造工程に応じて好ましい厚さは相異なり得るし、本発明の範囲が前記数値範囲によって限定されるものではない。

前記暗色化層は単一層からなってもよく、２層以上の複数層からなってもよい。前記暗色化層は無彩色系列の色に近いことが好ましい。但し、必ずしも無彩色である必要はなく、色を有していても低い反射率を有する場合であれば、導入することができる。この時、無彩色系列の色とは、物体の表面に入射する光が選択吸収されず、各成分の波長に対して均一に反射吸収される時に現れる色を意味する。本発明において、前記暗色化パターンは、可視光領域（４００ｎｍ〜８００ｎｍ）において全反射率を測定する時に各波長帯別の全反射率の標準偏差が５０％内の材料を用いることができる。

前記暗色化層の材料としては、吸光性材料であって、好ましくは、全面層を形成した時、前述した物理的特性を有する金属、金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物からなる材料であれば、特に制限されることなく用いることができる。

例えば、前記暗色化層は、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｃｒなどを用いて当業者が設定した蒸着条件などにより、酸化物膜、窒化物膜、酸化物−窒化物膜、炭化物膜、金属膜またはこれらの組み合わせであってもよい。本発明者らは、Ｍｏを用いる場合において、酸化物単独の場合に比べて窒化物を同時に用いる場合が、本発明で言及した暗色化パターンにより好適な光学的特性を有することを確認した。

具体的な例として、前記暗色化層は、ＮｉおよびＭｏを同時に含むことができる。前記暗色化パターンは、Ｎｉ ５０〜９８原子％およびＭｏ ２〜５０原子％を含むことができ、その他の金属、例えば、Ｆｅ、Ｔａ、Ｔｉなどの原子０．０１〜１０原子％をさらに含むことができる。ここで、前記暗色化パターンは、必要な場合、窒素０．０１〜３０原子％または酸素および炭素４原子％以下をさらに含むこともできる。

また１つの具体的な例として、前記暗色化層は、ＳｉＯ、ＳｉＯ_２、ＭｇＦ_２およびＳｉＮｘ（ｘは１以上の整数）から選択される誘電性物質およびＦｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ａｌ、Ｃｕ、ＡｕおよびＡｇのうちから選択される金属を含むことができ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ａｌ、Ｃｕ、ＡｕおよびＡｇのうちから選択される２元以上の金属の合金をさらに含むことができる。前記誘電性物質は、外部光が入射する方向から遠くなるほど漸次的に減少するように分布し、前記金属および合金の成分はその逆に分布していることが好ましい。この時、前記誘電性物質の含量は２０〜５０重量％、前記金属の含量は５０〜８０重量％であることが好ましい。前記暗色化パターンが合金をさらに含む場合、前記暗色化パターンは、誘電性物質１０〜３０重量％、金属５０〜８０重量％および合金５〜４０重量％を含むことが好ましい。

また１つの具体的な例として、前記暗色化層は、ニッケルとバナジウムの合金、ニッケルとバナジウムの酸化物、窒化物または酸窒化物のうちいずれか１つ以上を含む薄膜からなってもよい。この時、バナジウムは２６〜５２原子％で含まれることが好ましく、ニッケルに対するバナジウムの原子比は２６／７４〜５２／４８であることが好ましい。

また１つの具体的な例として、前記暗色化層は２以上の元素を有し、１つの元素組成比率が、外光が入射する方向に応じて１００オングストローム当たり最大約２０％ずつ増加する遷移層を含むことができる。この時、１つの元素はクロム、タングステン、タンタル、チタン、鉄、ニッケルまたはモリブデンのような金属元素であってもよく、金属元素以外の元素は酸素、窒素または炭素であってもよい。

また１つの具体的な例として、前記暗色化層は第１酸化クロム層、金属層、第２酸化クロム層およびクロムミラーを含むことができ、この時、クロムの代わりにタングステン、バナジウム、鉄、クロム、モリブデンおよびニオビウムのうちから選択された金属を含むことができる。前記金属層は１０〜３０ｎｍの厚さ、前記第１酸化クロム層は３５〜４１ｎｍの厚さ、前記第２酸化クロム層は３７〜４２ｎｍの厚さを有してもよい。

また具体的な１つの例として、前記暗色化層としては、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）層、クロム酸化物（Ｃｒ_２Ｏ_３）層およびクロム（Ｃｒ）層の積層構造を用いることができる。ここで、前記アルミナ層は反射特性の改善および光拡散防止特性を有し、前記クロム酸化物層は鏡面反射率を減少させてコントラスト特性を向上させることができる。

本発明において、前記暗色化層は、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられる。ここで、電気伝導性パターンに対応する領域とは、前記電気伝導性パターンと同一形状のパターンを有することを意味する。但し、暗色化層のパターン規模が前記電気伝導性パターンと完全に同一である必要はなく、暗色化層の線幅が電気伝導性パターンの線幅に比べて狭いか広い場合も本発明の範囲に含まれる。例えば、前記暗色化層は、前記電気伝導性パターンが備えられた面積の８０％〜１２０％の面積を有することが好ましい。

前記暗色化層は、前記電気伝導性パターンの線幅と同一であるか大きい線幅を有するパターン形態を有することが好ましい。前記暗色化層が前記電気伝導性パターンの線幅より大きい線幅を有するパターン形状を有する場合、使用者が眺める時に暗色化層が電気伝導性パターンを遮る効果をより大きく付与することができるため、電気伝導性パターン自体の光沢や反射による効果を効率的に遮断できるという長所がある。しかし、前記暗色化層の線幅が前記電気伝導性パターンの線幅と同一であっても本発明が目的する効果を達成することができる。前記暗色化層の線幅は、電気伝導性パターンの線幅より下記数学式１に応じた値だけさらに大きい幅を有することが好ましい。

［数学式１］
Ｔｃｏｎ×ｔａｎｇｅｎｔΘ_３×２
前記数学式１において、Ｔｃｏｎは、伝導性パターンの厚さであり、Θ_３は、タッチスクリーンの使用者の視覚が位置したところから入射した光が前記伝導性パターンおよび前記暗色化パターンのコーナーを通過する時、光が基材表面に対する法線となす角度である。

Θ_３は、タッチスクリーンの使用者の視覚と基材がなす角度Θ_１が基材の屈折率および前記暗色化パターンと伝導性パターンが配置された領域の媒質、例えば、タッチスクリーンの粘着剤の屈折率によってスネルの法則に従って変化した角度である。

一例として、眺める人がΘ_３の値が約８０度の角度をなすように前記積層体を眺めると仮定し、伝導性パターンの厚さが約２００ｎｍであると仮定すれば、暗色化パターンは、伝導性パターンに対して、線幅が側面を基準とする時、約２．２４μｍ（２００ｎｍ×ｔａｎ（８０）×２）だけ大きいことが好ましい。しかし、前述したように暗色化パターンが伝導性パターンと同一の線幅を有する場合にも本発明が目的とする効果を達成することができる。

本発明において、前記暗色化層の比抵抗値は１×１０^２〜５×１０^２Ω・ｃｍであってもよいが、これのみに限定されるものではない。また、前記暗色化層の透過率は３５〜６０％であってもよいが、これのみに限定されるものではない。

本発明による電気伝導性パターンおよび暗色化層を含む伝導性基板の光特性の評価のために、本発明では下記図４のような装置の構成を導入した。本発明では、反射型回折特性の評価のために、下記図４の反射型回折装置を導入した。前記反射型回折装置の構成は下記表１の通りである。

この時、装置の構成は、レーザー（ｌａｓｅｒ）が入射する角度と反射する角度を同一に形成して、サンプルに反射する光を検出（ｄｅｔｅｃｔ）するように構成した。この時、用いられるレーザーソース（ｌａｓｅｒ ｓｏｕｒｃｅ）は５３２ｎｍ波長の単一光源を用いた。これは、単色光でない混合光を用いる場合、回折特性が波長に応じて違うように現れると同時にこのような異なる回折特性が互いに重なって、所望の観察が難しいという問題点を有するためである。さらに、本発明では、このようなレーザー（ｌａｓｅｒ）光源から出た光がサンプルによって反射して出たものをイメージ化するためにディフューザー（ｄｉｆｆｕｓｅｒ）を導入し、この時、ディフューザー（ｄｉｆｆｕｓｅｒ）は約５００μｍ程度の大きさを有するビーズ（ｂｅａｄ）を研磨（ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）して製作した。これは、一般の透明ガラスの場合は、結像現象がないためにイメージの取得が難しい反面、完全な不透明基材の場合は、イメージの観察位置が複雑となるためである。最後に、本発明では、ディフューザー（Ｄｉｆｆｕｓｅｒ）の反対面にカメラ（ｃａｍｅｒａ）を位置させ、反射型回折イメージをデータ（ｄａｔａ）化した。このような方法によって得られたイメージデータ（Ｉｍａｇｅ ｄａｔａ）は一般のイメージソフトウェアを介してイメージ大きさ（ｓｉｚｅ）を２５６×２５６に変換した後、Ｓｃｉｏｎ ｉｍａｇｅというソフトウェア（ｓｏｆｔｗａｒｅ）を介して反射型回折に対する強度（Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）を統計化した。

下記図５は暗色化層を含まない従来の伝導性基板の反射型回折イメージを示し、下記図６は本発明の一具体例による伝導性基板の反射型回折イメージを示す。本発明において、前記電気伝導性パターンの材料は特に限定されないが、金属であることが好ましい。前記電気伝導性パターンの材料は、伝導度に優れ、エッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）が容易な材料であるほど好ましい。

一般的に伝導度に優れる材料は反射率が高いという短所がある。しかし、本発明では、前記暗色化層を用いることにより、反射率の高い材料を用いて電気伝導性パターンを形成することができる。本発明では、全反射率が７０〜８０％以上の材料を用いる場合にも、前記暗色化層を介して全反射率を下げ、電気伝導性パターンの視認性を下げ、コントラスト特性を維持または向上させることができる。

前記電気伝導性パターンの材料の具体的な例としては、金、銀、アルミニウム、銅、ネオジム、モリブデン、ニッケルまたはこれらの合金を含む単一膜または多層膜が好ましい。ここで、前記電気伝導性パターンの厚さは特に限定されないが、０．０１〜１０μｍであることが、電気伝導性パターンの伝導度および形成工程の経済性の面で好ましい。

前記電気伝導性パターンと暗色化層とからなる積層体のパターン化は、エッチングレジストパターンを用いた方法を利用することができる。エッチングレジストパターンは、印刷法、フォトリソグラフィー法、フォトグラフィー法、マスクを用いた方法またはレーザー転写、例えば、熱転写イメージンング（ｔｈｅｒｍａｌ ｔｒａｎｓｆｅｒ ｉｍａｇｉｎｇ）などを用いて形成することができ、印刷法またはフォトリソグラフィー法がより好ましい。前記エッチングレジストパターンを用いて前記電気伝導性パターンをエッチングし、前記エッチングレジストパターンは除去することができる。

本発明において、前記電気伝導性パターンは、線幅が１０μｍ以下であってもよく、０．１〜１０μｍであってもよく、０．２〜８μｍであってもよく、１μｍ以上５μｍ以下であってもよい。前記伝導性パターンの厚さは、１０μｍ以下であってもよく、２μｍ以下であってもよく、１０〜３００ｎｍであってもよい。

本発明において、前記電気伝導性パターンは規則的パターンであり、前記伝導性パターンを構成する線のうち任意の複数の線が交差して形成される交差点を含み、前記交差点の数は３．５ｃｍ×３．５ｃｍの面積で３，０００〜１２３，０００個であってもよく、５，０００〜３５，０００個であってもよく、１０，０００〜３５，０００個であってもよい。

前記電気伝導性パターンの開口率、すなわちパターンによって覆われない面積比率は７０％以上であってもよく、８５％以上であってもよく、９５％以上であってもよい。また、前記電気伝導性パターンの開口率は９０〜９９．９％であってもよいが、これのみに限定されるものではない。

前記伝導性パターンは規則的パターンであってもよく、前記規則的パターンとしてはメッシュパターンなどの当技術分野のパターン形態が用いられることができる。前記伝導性パターンのピッチは６００μｍ以下であってもよく、２５０μｍ以下であってもよいが、これは、当業者が所望の透過度および伝導度に応じて調整することができる。

本発明に用いられる電気伝導性パターンは、比抵抗１×１０^６オーム・ｃｍ〜３０×１０^６オーム・ｃｍの物質が好適であり、７×１０^６オーム・ｃｍ以下であるものがより好ましい。本発明において、前記伝導性基板の面抵抗が１〜３００オーム／スクエアであってもよい。このような範囲内であることがタッチスクリーンの作動に有利である。

本発明において、前記暗色化層と前記電気伝導性パターンはその側面が順テーパー角を有してもよいが、伝導性パターンの基材側反対面上に位置する暗色化層または伝導性パターンは逆テーパー角を有してもよい。

本発明によるタッチスクリーンは、前述した基材、電気伝導性パターンおよび暗色化層を含む伝導性基板以外に追加の暗色化層を含む伝導性基板をさらに含むことができる。この場合、電気伝導性パターンを中心にして暗色化層を含む伝導性基板が相異なる方向に配置されてもよい。本発明のタッチスクリーンに含まれてもよい２個以上の暗色化層を含む伝導性基板は同一の構造である必要はなく、いずれか１つ、好ましくは使用者に最も近い側の伝導性基板だけが前述した基材、電気伝導性パターンおよび暗色化層を含むものであってもよく、さらに含まれる伝導性基板は暗色化層を含まなくてもよい。

また、本発明によるタッチスクリーンにおいて、前記基材の両面に各々電気伝導性パターンおよび暗色化層が備えられてもよい。本発明によるタッチスクリーンは、前記伝導性基板上に前記電気伝導性パターンが形成された有効画面部以外に電極部またはパッド部をさらに含むことができ、この時、有効画面部と電極部／パッド部は同一の伝導体で構成されてもよく、同一の厚さを有しており、その継ぎ目がなくてもよい。本発明によるタッチスクリーンは、保護フィルム、偏光フィルム、反射防止フィルム、防幻フィルム、耐指紋フィルム、低反射フィルムなどを各基材の一面に備えることができる。

本発明によるタッチスクリーンの開口率、すなわちパターンによって覆われない面積比率は７０％以上であってもよく、８５％以上であってもよく、９５％以上であってもよい。また、前記タッチスクリーンの開口率は９０〜９９．９％であってもよいが、これのみに限定されるものではない。

また、本発明は、タッチスクリーンの製造方法を提供する。一実施状態によれば、本発明は、基材上に電気伝導性パターンを形成するステップおよび前記電気伝導性パターン上に暗色化層を形成するステップを含むタッチスクリーンの製造方法を提供する。

また一実施状態によれば、基材上に伝導性パターン形成用導電層を形成するステップ、前記導電層上に暗色化層を蒸着するステップ、および前記導電層および前記暗色化層を各々または同時にパターニングするステップを含むタッチスクリーンの製造方法を提供する。

前記製造方法では、前述した各層の材料および形成方法が用いられることができる。また、本発明によるタッチスクリーンは前記伝導性基板を含む。例えば、静電容量式タッチスクリーンにおいて、前記本発明の一実施状態による伝導性基板はタッチセンサー方式の電極基板として用いられてもよい。

本発明の一実施状態によるタッチスクリーンは、下部基材、上部基材、および前記下部基材の上部基材に接する面および前記上部基材の下部基材に接する面のうちいずれか一面または両面に備えられた電極層を含むことができる。前記電極層は、各々、Ｘ軸位置検出およびＹ軸位置検出のための信号の送信および受信の機能を遂行することができる。

この時、前記下部基材および前記下部基材の上部基材に接する面に備えられた電極層、および前記上部基材および前記上部基材の下部基材に接する面に備えられた電極層のうち１つまたは２つの全てが前述した本発明の一実施状態による伝導性基板であってもよい。前記電極層のうちいずれか１つだけが本発明による伝導性基板である場合、残りの他の１つは当技術分野で知られているパターンを有してもよい。

前記上部基材と前記下部基材の全ての一面に電極層が備えられて２層の電極層が形成される場合、前記電極層の間隔を一定に維持し、接続が起こらないように前記下部基材と上部基材との間に絶縁層またはスペーサが備えられることができる。前記絶縁層は粘着剤またはＵＶあるいは熱硬化性樹脂を含むことができる。

前記タッチスクリーンは、前述した電気伝導性パターンと連結された接地部をさらに含むことができる。例えば、前記接地部は、前記基材の電気伝導性パターンが形成された面のエッジ部に形成されることができる。また、前記伝導性基板を含む積層材の少なくとも一面には、反射防止フィルム、偏光フィルム、耐指紋フィルムのうち少なくとも１つが備えられることができる。設計仕様に応じて、前述した機能性フィルム以外に他種類の機能性フィルムをさらに含むこともできる。前記のようなタッチスクリーンは、ＯＬＥＤディスプレイパネル（ＯＬＥＤ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）、液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）、および陰極線管（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ Ｔｕｂｅ、ＣＲＴ）、ＰＤＰのようなディスプレイ装置に適用されることができる。

また、本発明は、前記タッチスクリーンおよびディスプレイモジュールを含むディスプレイを提供する。

以下、実施例を通じて本発明をより詳細に説明する。但し、以下の実施例は本発明を例示するためのものであって、これによって本発明の範囲が限定されるものではない。

＜実施例＞
＜比較例１＞
純粋なＡｌでピッチ（２５０μｍ）および線幅（４μｍ）の伝導性メッシュパターンをＰＥＴ基板上に形成した後、これをディスプレイに２枚を積層し、最もディスプレイの画質を歪曲しない角度を確認した後、この２枚の伝導性基板をＯＣＡ（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ ｃｌｅａｒ ａｄｈｅｓｉｖｅ）を介してラミネーション（ｌａｍｉｎａｔｉｏｎ）した。これを再び強化ガラスに付着してタッチスクリーンを製作した。

＜実施例１＞
全面にＣｕが蒸着された基材上にスパッタ（ｓｐｕｔｔｅｒ）装置でＭｏターゲット（ｔａｒｇｅｔ）を用いて酸窒化物をさらに形成して伝導層および暗色化層を形成し、その最終積層体の厚さは２２０ｎｍであった。これを暗色化面において測定した基材の反射率は６．１％に該当した。形成された基材を用いてリバースオフセット（Ｒｅｖｅｒｓｅ ｏｆｆｓｅｔ）工程を用いてエッチングレジスト（Ｅｔｃｈｉｎｇ Ｒｅｓｉｓｔ、ＬＧＣ自体開発）を印刷した後、１２０℃で３分間焼成した後、これをＥＮＦ社のＣｕエッチャント（ｅｔｃｈａｎｔ）を用いて４０℃で４０秒間エッチングした。次に、アセトンで剥離した後、測定したパターンの線幅は３．５μｍであった。

＜実験例＞
１）反射型回折特性の評価
下記図４の装置を用いて、強化ガラス面にレーザー光源が入射するようにして反射型回折特性の評価を行った。下記図５に比較例１の反射型回折イメージを示し、下記図６に実施例１の反射型回折イメージを示す。

その結果、比較例１と比較した時、本発明による実施例１の反射型回折強度が遥かに弱く示されることを確認することができる。また、ソフトウェア（Ｓｏｆｔｗａｒｅ）を介して分析した平均強度（Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）は、比較例１の場合が２７．８である反面、実施例１の場合は約６．０９であって、本発明による伝導性基板の反射型回折強度が、電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、約２２％レベルであることを確認することができる。したがって、本発明による伝導性基板は、電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、約７８％レベルの反射型回折の減少効果を示していることを確認することができる。

本発明では、さらに、このような反射型回折イメージの強度が使用者にとってディスプレイの可読性を妨害しない臨界的な値を確認するために、暗色化レベルを違うようにして反射型回折イメージの強度を調節して、装置を用いて測定した後、これを再び使用者にとって可読性が妨害にならない臨界的なレベルを確認した。その結果、電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、本発明による伝導性基板が約６０％以上反射型回折の強度が減少する場合、可読性に大きな無理がないという評価結果を得ることができた。

２）肉眼評価
前述した反射型回折特性の評価結果の実際反射型回折との一致性を確認するために、前記実施例１および比較例１のタッチスクリーンを室内の点光源に照らして肉眼で観察し、その結果を下記図７に示す。したがって、実際サンプルの肉眼評価の結果と分析装置を用いた評価の結果が非常に一致していることを確認することができる。

３）全反射率特性の評価
前記実施例１および比較例１のタッチスクリーンを各々３００μｍピッチおよび２５０μｍピッチで製作し、周辺光（Ａｍｂｉｅｎｔ ｌｉｇｈｔ）条件下での全反射率を測定した。その結果として、下記図８に３００μｍピッチのタッチスクリーンに対する全反射率の測定結果を示し、下記図９に２５０μｍピッチのタッチスクリーンに対する全反射率の測定結果を示す。

下記図８および９の結果のように、タッチスクリーンのピッチに関係なく、純粋なＡｌで構成されたタッチスクリーンに比べて本発明のタッチスクリーンの場合がさらに低い全反射率を有していることを確認することができ、純粋なＡｌで構成された場合に比べて２０％以上の全反射率の減少効果を示していることを確認ことができる。

前述したように、本発明による伝導性基板およびそれを含むタッチスクリーンは、視野を遮らず、伝導性に優れるだけでなく、点光源による反射型回折現象を減少させることができ、さらには、モアレ（ｍｏｉｒｅ）現象によるディスプレイ画質の低下を防止することができる。

Claims (29)

1. 基材と、前記基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含み、
   前記暗色化層が可視になる一面に点光源から出た光を照射して得た反射型回折イメージの反射型回折強度が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、６０％以上減少したものである伝導性基板。
2. 基材と、前記基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含み、
   前記暗色化層が可視になる一面に周辺光（Ａｍｂｉｅｎｔ ｌｉｇｈｔ）を仮定した全反射率測定装置を用いて測定した全反射率（ｔｏｔａｌ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、２０％以上減少したものである伝導性基板。
3. 前記暗色化層は、前記電気伝導性パターンの上面および下面に備えられることを特徴とする、請求項１または２に記載の伝導性基板。
4. 前記伝導性基板の前記暗色化層が見られる面から測定した、前記暗色化層と前記電気伝導性パターンとからなるパターン領域の色範囲は、ＣＩＥ ＬＡＢ色座標を基準に、Ｌ値が２０以下、Ａ値が−１０〜１０、Ｂ値が−７０〜７０であることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載の伝導性基板。
5. 前記伝導性基板の前記暗色化層が見られる面から測定した、前記暗色化層と前記電気伝導性パターンとからなるパターン領域の全反射率は、外部光５５０ｎｍを基準とする時、１７％以下であることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の伝導性基板。
6. 前記電気伝導性パターンは、金、銀、アルミニウム、銅、ネオジム、モリブデン、ニッケルまたはこれらの合金を含む単一膜または多層膜であることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の伝導性基板。
7. 前記電気伝導性パターンの線幅は１０μｍ以下、厚さは１０μｍ以下、およびピッチは６００μｍ以下であることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の伝導性基板。
8. 前記電気伝導性パターンの線幅は７μｍ以下、厚さは１μｍ以下、およびピッチは４００μｍ以下であることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の伝導性基板。
9. 前記電気伝導性パターンの線幅は５μｍ以下、厚さは０．５μｍ以下、およびピッチは３００μｍ以下であることを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の伝導性基板。
10. 前記電気伝導性パターンは規則的パターンであり、前記伝導性パターンを構成する線のうち任意の複数の線が交差して形成される交差点を含み、前記交差点の数は３．５ｃｍ×３．５ｃｍの面積で３，０００〜１２３，０００個であることを特徴とする、請求項１から９のいずれか一項に記載の伝導性基板。
11. 前記交差点の数は、３．５ｃｍ×３．５ｃｍの面積で５，０００〜３５，０００個であることを特徴とする、請求項１０に記載の伝導性基板。
12. 前記交差点の数は、３．５ｃｍ×３．５ｃｍの面積で１０，０００〜３５，０００個であることを特徴とする、請求項１０又は１１に記載の伝導性基板。
13. 前記暗色化層は、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｃｕ、これらの酸化物、これらの窒化物、これらの酸化物−窒化物、これらの炭化物およびこれらの合金からなる群から選択される１種以上を含むことを特徴とする、請求項１０から１２のいずれか一項に記載の伝導性基板。
14. 前記電気伝導性パターンは、メッシュパターンの形態であることを特徴とする、請求項１から１３のいずれか一項に記載の伝導性基板。
15. 前記電気伝導性パターンの開口率は、７０％以上であることを特徴とする、請求項１から１４のいずれか一項に記載の伝導性基板。
16. 基材と、前記基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含む伝導性基板を含み、
    前記伝導性基板の前記暗色化層が可視になる面に追加の透明基材を含み、
    前記伝導性基板の前記暗色化層が可視になる一面に点光源から出た光を照射して得た反射型回折イメージの反射型回折強度が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、前記暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、６０％以上減少したものであるタッチスクリーン。
17. 基材と、前記基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターン、および前記電気伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記電気伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含む伝導性基板を含み、
    前記伝導性基板の前記暗色化層が可視になる面に追加の透明基材を含み、
    前記伝導性基板の前記暗色化層が可視になる一面に周辺光（Ａｍｂｉｅｎｔ ｌｉｇｈｔ）を仮定した全反射率測定装置を用いて測定した全反射率（ｔｏｔａｌ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）が、前記電気伝導性パターンがＡｌからなり、前記暗色化層を含まないことを除いては同一の構成を有する伝導性基板に比べ、２０％以上減少したものであるタッチスクリーン。
18. 前記暗色化層は、前記電気伝導性パターンの上面および下面に備えられることを特徴とする、請求項１６または１７に記載のタッチスクリーン。
19. 前記追加の透明基材は、強化ガラスまたは透明プラスチックであることを特徴とする、請求項１６から１８のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
20. 前記伝導性基板の前記暗色化層が見られる面から測定した、前記暗色化層と前記電気伝導性パターンとからなるパターン領域の色範囲は、ＣＩＥ ＬＡＢ色座標を基準に、Ｌ値が２０以下、Ａ値が−１０〜１０、Ｂ値が−７０〜７０であることを特徴とする、請求項１６から１９のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
21. 前記伝導性基板の前記暗色化層が見られる面から測定した、前記暗色化層と前記電気伝導性パターンとからなるパターン領域の全反射率は、外部光５５０ｎｍを基準とする時、１７％以下であることを特徴とする、請求項１６から２０のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
22. 前記電気伝導性パターンは、金、銀、アルミニウム、銅、ネオジム、モリブデン、ニッケルまたはこれらの合金を含む単一膜または多層膜であることを特徴とする、請求項１６から２１のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
23. 前記電気伝導性パターンの線幅は１０μｍ以下、厚さは１０μｍ以下、およびピッチは６００μｍ以下であることを特徴とする、請求項１６から２２のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
24. 前記電気伝導性パターンの線幅は７μｍ以下、厚さは１μｍ以下、およびピッチは４００μｍ以下であることを特徴とする、請求項１６から２３のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
25. 前記電気伝導性パターンの線幅は５μｍ以下、厚さは０．５μｍ以下、およびピッチは３００μｍ以下であることを特徴とする、請求項１６から２４のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
26. 前記暗色化層は、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｃｒ、これらの酸化物、これらの窒化物、これらの酸化物−窒化物、これらの炭化物およびこれらの合金からなる群から選択される１種以上を含むことを特徴とする、請求項１６から２５のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
27. 前記電気伝導性パターンは、メッシュパターンの形態であることを特徴とする、請求項１６から２６のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
28. 前記タッチスクリーンの開口率は、７０％以上であることを特徴とする、請求項１６から２７のいずれか一項に記載のタッチスクリーン。
29. 請求項１６から２８のいずれか一項に記載のタッチスクリーンおよびディスプレイモジュールを含むディスプレイ。