JP6479824B2 - 光学積層体、偏光板および有機ｅｌ表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学積層体、偏光板および有機ＥＬ表示装置に関する。

位相差板は、非常に多くの用途を有しており、既に反射型液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）、半透過型ＬＣＤ、輝度向上膜、有機エレクトロルミネッセンス（Electroluminescence：ＥＬ）表示装置、タッチパネル等に使用されている。例えば、有機ＥＬ表示装置は、屈折率の異なる層を積層する構造や、金属電極を用いる構造を有するため、外光が各層の界面で反射し、コントラスト低下や映り込みの問題などを生じることがある。そこで、従来から、外光反射による悪影響を抑制するために、位相差板と偏光膜とから構成される偏光板が有機ＥＬ表示装置やＬＣＤ表示装置などに使用されている。

例えば、特許文献１には、透明支持体と、所定の構造式で表されるディスコティック液晶性化合物を含有する組成物から形成される第１光学異方性層（Ｈ）および棒状液晶性化合物を含有する組成物から形成される第２光学異方性層（Ｑ）を有する積層光学異方性層と、を備える位相差板が記載されている（［請求項１］）。

また、特許文献２には、有機ＥＬ表示装置の一態様として、少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶性化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶性化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置が記載されている（［請求項７］）。

国際公開第２０１４／０７３６１６号 国際公開第２０１３／１３７４６４号

本発明者は、特許文献１に記載された積層光学異方性層や、特許文献２に記載されたλ／２板とλ／４板との積層体などの従来公知の光学積層体について検討したところ、光学異方性層が互いに直接接する態様においては、第２層目の光学異方性層の形成時にハジキが生じたり、形成される光学異方性層に膜厚ムラが生じたりする場合があることを明らかとした。

そこで、本発明は、光学異方性層の形成時のハジキおよび膜厚ムラが抑制された光学積層体ならびにそれを用いた偏光板および有機ＥＬ表示装置を提供することを課題とする。

本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、互いに直接接している光学異方性層の界面の表面エネルギーを高くし、一方の光学異方性層の他方の光学異方性層と接する側とは反対側の表面、すなわち、２層目の形成時において空気界面側となる表面の表面エネルギーを低くすることにより、ハジキおよび膜厚ムラが抑制されることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ 光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂとを有する光学積層体であって、
光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂが直接接しており、
光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂのいずれか一方または両方が、液晶性化合物を含有する組成物から形成されたものであり、
光学異方性層Ａにおける光学異方性層Ｂに接する側の表面の表面エネルギーＡが、３０〜４０ｍＮ／ｍであり、
光学異方性層Ｂにおける光学異方性層Ａに接する側の表面の表面エネルギーＢ１が、３５ｍＮ／ｍ以上であり、
光学異方性層Ｂにおける光学異方性層Ａに接する側とは反対側の表面の表面エネルギーＢ２が、２５ｍＮ／ｍ以下である、光学積層体。
［２］ 更に透明支持体を有し、透明支持体、光学異方性層Ａ、および、光学異方性層Ｂをこの順に有する［１］に記載の光学積層体。
［３］ 光学異方性層Ｂが、液晶性化合物を含有する組成物から形成されたものである、［２］に記載の光学積層体。
［４］ 光学異方性層Ｂが、液晶性化合物を含有する組成物から形成されたものであり、
液晶性化合物が、重合性基を有しており、
組成物が、液晶性化合物の重合性基と同じ重合性基を有する非液晶性モノマーを含有する、［２］に記載の光学積層体。
［５］ 重合性基がアクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である、［４］に記載の光学積層体。
［６］ 光学異方性層Ｂにおける表面エネルギーＢ１と表面エネルギーＢ２との差が、１７ｍＮ／ｍ以上である、［１］〜［５］のいずれかに記載の光学積層体。
［７］ ［１］〜［６］のいずれかに記載の光学積層体と、偏光膜とを有する偏光板。
［８］ ［１］〜［６］のいずれかに記載の光学積層体、または、［７］に記載の偏光板を有する、有機ＥＬ表示装置。

本発明によれば、光学異方性層の形成時のハジキおよび膜厚ムラが抑制された光学積層体ならびにそれを用いた偏光板および有機ＥＬ表示装置を提供することができる。

図１は、本発明の光学積層体の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。 図２（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞれ、本発明の偏光板の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。 図３（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞれ、本発明の有機ＥＬ表示装置の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
次に、本明細書で用いられる用語について説明する。

Ｒｅ（λ）、および、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、および、厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡ ＷＲ（いずれも王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルタをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）の測定方法の詳細は、特開２０１３−０４１２１３号公報の段落００１０〜００１２に記載され、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。

なお、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
また、本明細書において、角度（例えば「９０°」等の角度）、およびその関係（例えば「直交」、「平行」、「同一方向」、及び「４５°で交差」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。この時、許容される誤差としては、例えば、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることなどを意味し、具体的に厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。

［光学積層体］
本発明の光学積層体は、光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂとを有する光学積層体であって、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂが直接接しており、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂのいずれか一方または両方が、液晶性化合物を含有する組成物から形成されたものである。
また、本発明の光学積層体は、光学異方性層Ａにおける光学異方性層Ｂに接する側の表面（以下、「ＺＡ表面」ともいう。）の表面エネルギーＡが３０〜４０ｍＮ／ｍであり、かつ、光学異方性層Ｂにおける光学異方性層Ａに接する側の表面（以下、「ＺＢ裏面」ともいう。）の表面エネルギーＢ１が３５ｍＮ／ｍ以上である。
更に、本発明の光学積層体は、光学異方性層Ｂにおける光学異方性層Ａに接する側とは反対側の表面（以下、「ＺＢ表面」ともいう。）の表面エネルギーＢ２が２５ｍＮ／ｍ以下である。

本発明においては、上述した構成を有することにより、光学異方性層の形成時のハジキおよび膜厚ムラが抑制された光学積層体となる。
このように光学異方性層の形成時のハジキおよび膜厚ムラが抑制される理由は、詳細には明らかではないが、およそ以下のとおりと推測される。
従来、光学積層体として、例えば、液晶層を積層する際に上層のハジキを抑制するためには、上層（塗布する層）の表面張力を下げる、または、下層（塗布される層）の表面エネルギーを高くすればよいと考えられていた。
これに対し、上述した通り、本発明では、ＺＢ表面の表面エネルギーＢ２を低くするとともに、界面の表面エネルギー、すなわち、ＺＢ裏面の表面エネルギーＢ１およびＺＡ表面の表面エネルギーＡ１を所定の範囲に高く保つことで、ハジキが抑制されることを見出している。
すなわち、ＺＢ裏面およびＺＡ表面の界面の表面エネルギーが高く、この界面付近への添加剤（例えば、配向制御剤、界面活性剤など）の偏在が抑制されたため、ハジキおよび膜厚ムラが抑制されたと考えられる。

図１は、本発明の光学積層体の実施態様の一例を模式的に示す断面図である。
図１に示す光学積層体１０は、互いに直接接する光学異方性層（Ａ）１４と光学異方性層（Ｂ）１６とを有する。
また、図１に示すように、光学積層体１０は、透明支持体１２を有していてもよく、図１に示すように、透明支持体１２と、光学異方性層（Ａ）１４と、光学異方性層（Ｂ）１６とをこの順に有しているのが好ましい。
以下に、本発明の光学積層体を構成する各層について詳述する。

〔光学異方性層ＡおよびＢ〕
本発明の光学積層体が有する光学異方性層ＡおよびＢは、互いに直接接しており、かつ、いずれか一方または両方が液晶性化合物を含有する組成物（以下、「液晶組成物」ともいう。）から形成されたものである。
ここで、液晶組成物については後述する通りであるが、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂのいずれか一方（例えば、光学異方性層Ｂ）のみが液晶組成物で形成される場合は、液晶組成物以外で形成される光学異方性層としては、後述する透明支持体を形成する材料を適宜選択して形成することができる。

＜表面エネルギー＞
本発明の光学積層体は、光学異方性層Ａにおける光学異方性層Ｂに接する側の表面（ＺＡ表面）の表面エネルギーＡが、３０〜４０ｍＮ／ｍであり、３１〜３８ｍＮ／ｍであるのが好ましく、３２〜３５ｍＮ／ｍであるのがより好ましい。
また、光学異方性層Ｂにおける光学異方性層Ａに接する側の表面（ＺＢ裏面）の表面エネルギーＢ１が、３５ｍＮ／ｍ以上であり、３５〜４２ｍＮ／ｍであるのが好ましく、３６〜４１ｍＮ／ｍであるのがより好ましい。
また、光学異方性層Ｂにおける光学異方性層Ａに接する側とは反対側の表面（ＺＢ表面）の表面エネルギーＢ２が、２５ｍＮ／ｍ以下であり、１７〜２５ｍＮ／ｍであるのが好ましく、１７〜２３ｍＮ／ｍであるのがより好ましい。

ここで、ＺＡ表面、ＺＢ裏面およびＺＢ裏面の表面エネルギー（γｓ^ｖ：単位、ｍＮ／ｍ）は、Ｄ．Ｋ．Ｏｗｅｎｓ：Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，１３，１７４１（１９６９）を参考に、測定対象となるサンプルの各表面で、純水Ｈ_２Ｏとヨウ化メチレンＣＨ_２Ｉ_２を用いて実験的に求めることができる。このとき、純水およびヨウ化メチレンのそれぞれの接触角をθ_Ｈ２Ｏおよびθ_{ＣＨ２Ｉ２}として、下記の連立方程式（Ａ）および（Ｂ）によりγｓ^ｄおよびγｓ^ｈを求め、その和で表される値γｓ^ｖ（＝γｓ^ｄ＋γｓ ^ｈ）で定義されるものとする。また、接触角は、温度２０℃〜２７℃、相対湿度５０〜６５％の環境下で、２時間以上調湿させた後に、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下で測定した値を採用し、接触角計（例えば、Ｄｒｏｐｍａｓｔｅｒ（協和界面科学株式会社製））を用いて測定することができる。
１＋ｃｏｓθ_Ｈ２Ｏ＝２√γｓ^ｄ（√γ_Ｈ２Ｏ ^ｄ／γ_Ｈ２Ｏ ^ｖ）＋２√γｓ^ｈ（√γ_{Ｈ ２Ｏ} ^ｈ／γ_Ｈ２Ｏ ^ｖ） ・・・ （Ａ）
１＋ｃｏｓθ_{ＣＨ２Ｉ２}＝２√γｓ^ｄ（√γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｄ／γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｖ）＋２√γｓ^ｈ（√γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｈ／γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｖ） ・・・（Ｂ）
（ただし、γ_Ｈ２Ｏ ^ｄ＝２１．８、γ_Ｈ２Ｏ ^ｈ＝５１．０、γ_Ｈ２Ｏ ^ｖ＝７２．８、γ_{Ｃ Ｈ２Ｉ２} ^ｄ＝４９．５、γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｈ＝１．３、γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｖ＝５０．８とする。）

また、作製された光学積層体から光学異方性層の表面ないし裏面を露出させる剥離方法は、以下に示すいずれかの方法で行うことができる。
（ａ）光学積層体の断面に、カッターを用いて光学異方性層の層間（界面）に切れ目を入れ、剥離させる始点（きっかけ）を形成した後に、きっかけを形成した光学異方性層の空気界面側から粘着剤（ＳＫ−２０５７、綜研化学株式会社製）を貼り、剥離する。
（ｂ）上記（ａ）の方法で光学異方性層を剥離できない場合、切れ目を入れた光学積層体を８５℃、相対湿度８５％の環境下に１５日以上入れ、その後、上記（ａ）と同様の方法で剥離する。

本発明においては、光学異方性層の形成時のハジキがより抑制される理由から、光学異方性層Ｂにおける表面エネルギーＢ１と表面エネルギーＢ２との差が、１７ｍＮ／ｍ以上であるのが好ましく、２０ｍＮ／ｍ以上であるのがより好ましい。

＜液晶組成物＞
本発明においては、上述した表面エネルギーを調整しやすく、光学異方性層の形成時のハジキがより抑制される理由から、光学異方性層ＡおよびＢのうち、少なくとも後に形成する光学異方性層が液晶組成物で形成されたものであるのが好ましく、光学異方性層Ｂが液晶組成物で形成されたものであるのがより好ましく、光学異方性層ＡおよびＢのいずれもが液晶組成物で形成されたものであるのが更に好ましい。
このような液晶組成物としては、具体的には、例えば、後述する液晶性化合物、配向制御剤、非液晶性モノマー、溶媒などを含有する液晶組成物を用いることができる。

（液晶性化合物）
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物（以下、「ＣＬＣ」または「ＣＬＣ化合物」とも略す。）またはディスコティック液晶性化合物（円盤状液晶性化合物）（以下、「ＤＬＣ」または「ＤＬＣ化合物」とも略す。）を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。上述の液晶性化合物の固定化のために、重合性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、液晶性化合物が１分子中に重合性基を２以上有することがさらに好ましい。液晶性化合物が二種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶性化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。
棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］や特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
また、重合性基は、活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる重合性基であれば特に限定されないが、例えば、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が挙げられ、具体的には、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられる。これらのうち、（メタ）アクリロイルオキシ基であるのが好ましい。なお、「（メタ）アクリロイルオキシ基」とは、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を包括的に表現する記載であり、後述する「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートまたはメタクリレートを包括的に表現する記載である。

液晶性化合物の分子は、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向および傾斜配向のいずれかの配向状態に固定化されていることが好ましい。

ここで、ハイブリッド配向とは、円盤状液晶性化合物の分子の円盤面または棒状液晶性化合物の分子の分子対称軸と層平面との角度が、光学異方性層の深さ方向でかつ配向膜の表面からの距離の増加と共に増加または減少している配向である。
上記角度は、距離の増加と共に増加することが好ましい。
また、上記角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加及び減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。
更に、上記角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよいが、連続的に変化することが好ましい。もちろん均一に一様に傾斜した配向でもよい。
このようなハイブリッド配向状態に液晶性化合物が固定化された態様としては、例えば、捩れ配向モード液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる態様が挙げられ、具体的には、特開２０１２−３１８３号公報の段落［０１２３］〜［０１２６］に記載のものを好ましく用いることができるが、本発明はこれらに限定されない。

一方、光学異方性層をλ／４板として機能させるために、液晶性化合物の配向状態を制御することがある。
ここで、λ／４板（λ／４機能を有する板）とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レターデーション値がλ／４（または、この奇数倍）を示す板である。
そして、本発明の光学積層体は、光学異方性層ＡおよびＢを有しているため、λ／４板としては、例えば、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。なお、広帯域λ／４板中において、λ／４板の面内遅相軸とλ／２板の面内遅相軸とのなす角度は６０°であることが好ましい。

λ／４板を構成する材料は上記特性を示せば特に制限されず、上述した液晶性化合物を含む態様（例えば、ホモジニアス配向した液晶性化合物を含む光学異方性層）や、ポリマーフィルムなどが挙げられる。なかでも、上記特性の制御がしやすい点で、液晶性化合物を含むことが好ましい。より具体的には、λ／４板は、重合性基を有する液晶性化合物（棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物）が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましい。なお、固定されて形成された層となった後は、もはや液晶性を示す必要はない。
このとき、棒状液晶性化合物を用いる場合には、棒状液晶性化合物を水平配向した状態で固定化するのが好ましく、ディスコティック液晶性化合物を用いる場合には、ディスコティック液晶性化合物を垂直配向した状態で固定化するのが好ましい。なお、本発明において、「棒状液晶性化合物が水平配向」とは、棒状液晶性化合物のダイレクタと層面が平行であることを言い、「ディスコティック液晶性化合物が垂直配向」とは、ディスコティック液晶性化合物の円盤面と層面が垂直であることを言う。厳密に水平、垂直であることを要求するものではなく、それぞれ正確な角度から±２０°の範囲であることを意味するものとする。±５°以内であることが好ましく、±３°以内であることがより好ましく、±２°以内であることがさらに好ましく、±１°以内であることが最も好ましい。
λ／４板の形成方法は特に制限されず、公知の方法が採用でき、例えば、特開２００４−２３８４３１号公報の［００９７］段落に記載された広帯域λ／４板の製造方法や、特許文献１（国際公開第２０１４／０７３６１６号）の［０１２９］〜［０１３６］段落に記載された位相差板の製造方法などが挙げられる。

（配向制御剤）
液晶組成物は、上述した液晶性化合物を水平配向、垂直配向状態とするために、水平配向、垂直配向を促進する配向制御剤を含有するのが好ましい。
配向膜界面側で液晶性化合物の分子を垂直に配向させるのを促進する化合物（配向膜界面側垂直配向剤）としては、ピリジニウム誘導体が好適に用いられる。
空気界面側で液晶性化合物の分子を垂直に配向させるのを促進する化合物（空気界面側垂直配向剤）としては、この化合物が空気界面側に偏在するのを促進する、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）₂｝およびそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを含む化合物が好適に用いられる。
これらの配向制御剤としては、公知の化合物が適宜使用されるが、例えば、配向膜界面側垂直配向剤としては、特許文献１（国際公開第２０１４／０７３６１６号）の［００８６］〜［０１０１］段落に記載の化合物が挙げられ、空気界面側垂直配向剤としては特許文献１（国際公開第２０１４／０７３６１６号）の［０１０２］〜［０１１３］段落に記載の化合物が挙げられ、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。

また、配向制御剤の他の例として、特開２００８−２５７２０５号公報の請求項１４で規定されているポリマー（すなわち、下記一般式（Ａ）で表される構成単位と下記一般式（Ｂ）で表される構成単位とを含むポリマー）や、同公報の請求項１５で規定されているチルト角制御剤（すなわち、下記一般式（Ａ）で表される構成単位およびフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマー）を用いることができ、その具体例としては、同公報の［００２３］〜［００６３］段落に記載のポリマーが挙げられ、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。


ここで、一般式（Ａ）中、Ｍｐはポリマーの主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基を表し；一般式（Ｂ）中、Ｍｐ’はポリマーの主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌ’は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは少なくとも一つのフッ素原子を含有する置換基を表す。

本発明においては、光学異方性層Ｂが液晶組成物で形成される場合、配向制御剤として、上記一般式（Ａ）で表される構成単位およびフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーを用いるのが好ましく、上記一般式（Ａ）で表される構成単位および上記一般式（Ｂ）で表される構成単位を含むポリマーを用いるのがより好ましい。
また、このようなポリマーを用いる場合、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位（好ましくは、一般式（Ｂ）で表される構成単位）の含有率としては、５〜９０質量％が好ましく、４０〜８０質量％がより好ましい。

本発明においては、配向制御剤の含有量は、液晶組成物の全固形分に対して、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましい。

（非液晶性モノマー）
液晶組成物は、形成する光学異方性層の表面エネルギーを調整しやすくする観点から、非液晶性モノマーを含有しているのが好ましく、上述した液晶性化合物が重合性基を有している場合は、この重合性基と同じ重合性基を有する非液晶性モノマーを含有するのがより好ましい。
ここで、重合性基は、上述した液晶性化合物において説明したものが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイルオキシ基であるのが好ましい。

（メタ）アクリロイルオキシ基を有する非液晶性モノマーとしては、具体的には、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、オリゴエチレンジ（メタ）アクリレート、これらの変性（例えばエチレンオキサイド変性）物などが挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

本発明においては、非液晶性モノマーの含有量は、液晶組成物の全固形分に対して、０．１〜１５質量％であるのが好ましく、１〜１０質量％であるのがより好ましい。

（重合開始剤）
液晶組成物は、上述した液晶性化合物の配向状態を維持して固定する観点から、重合開始剤を用いて液晶性化合物を重合させることが好ましい。
使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ、アクリジンおよびフェナジン化合物およびオキサジアゾール化合物が含まれる。
重合開始剤の使用量は、液晶組成物の全固形分に対して、０．０１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜５質量％であることが更に好ましい。

（溶媒）
液晶組成物は、溶媒が含まれていてもよく、有機溶媒が好ましく用いられる。
有機溶媒としては、具体的には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなど）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサンなど）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトンなど）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなど）が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらのうち、アルキルハライドおよびケトンが好ましい。

（他の添加剤）
本発明においては、上述した液晶性化合物などと共に、可塑剤、界面活性剤等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物、特開２００５−０６２６７３号公報明細書中の段落番号［００６９］〜［０１２６］記載の化合物が挙げられる。

〔透明支持体〕
本発明の光学積層体は、上述した光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂを支持する透明支持体を有していてもよい。なお、透明支持体を有する場合、本発明の光学積層体は、図１に示すように、透明支持体、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂをこの順に有するのが好ましい。

上記透明支持体を形成する材料としては、光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるポリマーが好ましい。なお、本発明でいう「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
透明支持体として用いることのできるポリマーとしては、例えば、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。

透明支持体の厚さは特に制限されないが、１０μｍ〜２００μｍ程度のものを用いることが好ましく、１０μｍ〜１００μｍがより好ましく、２０μｍ〜９０μｍがさらに好ましい。
また、透明支持体は複数枚の積層からなっていてもよい。
また、透明支持体とその上に設けられる層（例えば、上述した光学異方性層Ａや後述する偏光膜など）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。
また、透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。また、透明支持体や長尺の透明支持体には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止したりするために、平均粒径が１０〜１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分重量比で５％〜４０％混合したポリマー層を支持体の片側に塗布や支持体との共流延によって形成したものを用いることが好ましい。

＜透明支持体の添加剤＞
透明支持体には、種々の添加剤（例えば、光学的異方性調整剤、波長分散調整剤、微粒子、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、など）を加えることができる。また、透明支持体がセルロースアシレートフィルムである場合、その添加する時期はドープ作製工程（セルロースアシレート溶液の作製工程）における何れでもよいが、ドープ作製工程の最後に添加剤を添加し調製する工程を行ってもよい。

〔配向膜〕
本発明の光学積層体は、上述した透明支持体を有する場合、透明支持体と光学異方性層との間に、配向膜を形成してもよい。

配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明において利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましい。特に変性又は未変性のポリビニルアルコールが好ましい。本発明に使用可能な配向膜については、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行、特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコールを参照することができる。
配向膜の厚さは、酸素透過度の観点からは薄い方が好ましいが、光学異方性層形成のための配向能の付与、および、支持体の表面凹凸を緩和して均一な膜厚の光学異方性層を形成するという観点からはある程度の厚みが必要となる。具体的には、配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがより好ましく、０．０１〜０．５μｍであることがさらに好ましい。

また、本発明では光配向膜を利用することも好ましい。光配向膜としては特に限定はされないが、ＷＯ２００５／０９６０４１号公報の段落［００２４］〜［００４３］に記載のものやＲｏｌｉｃ ｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製の商品名ＬＰＰ−ＪＰ２６５ＣＰなどを用いることができる。

〔光学積層体の製造方法〕
光学積層体の作製方法は特に限定されず、例えば、上述した光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂにおける各表面エネルギーを満たすように上述した液晶性化合物や配向制御剤等を適宜選択した上で、一方の光学異方性層（例えば、光学異方性層Ａ）を形成した後に、この光学異方性層の上に他方の光学異方性層（例えば、光学異方性層Ｂ）を直接形成することにより作製することができる。
具体的には、例えば、本発明の光学積層体が、後述する透明支持体、光学異方性層Ａ、および、光学異方性層Ｂをこの順に有する場合は、下記工程（１）〜（６）により作製することができる。なお、下記工程（１）〜（６）における塗布、加熱処理、硬化処理、ラビングなどの条件については、λ／４板の形成方法として上記で例示した特許文献１（国際公開第２０１４／０７３６１６号）の［０１２９］〜［０１３６］段落に記載された位相差板の製造方法における各工程を適宜採用することができる。
工程（１）：透明支持体上に配向膜を設ける。
工程（２）：配向膜上に、液晶性化合物Ａ（例えば、ディスコティック液晶性化合物）を含有する液晶組成物を塗布して、必要により加熱処理を行い、液晶性化合物Ａを配向させる工程
工程（３）：液晶性化合物Ａに対して、硬化処理を施し、光学異方性層Ａを形成する工程
工程（４）：光学異方性層Ａ上をラビングする。
工程（５）：ラビングした光学異方性層Ａ上に、他の液晶性化合物Ｂ（例えば、棒状液晶性化合物）を含有する液晶組成物を塗布して、必要に応じて加熱処理を行い、液晶性化合物Ｂを配向させる工程
工程（６）：液晶性化合物Ｂに対して、硬化処理を施し、光学異方性層Ｂを形成する工程

［偏光板］
本発明の偏光板は、上述した本発明の光学積層体と、偏光膜とを有する偏光板である。
上記構成を有する本発明の偏光板は、上述した本発明の光学積層体がλ／４板として機能する態様（例えば、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板）では円偏光板として機能する。
このような態様においては、本発明の偏光板（円偏光板）は、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（Electroluminescence Display：ＥＬＤ）や陰極管表示装置（Cathode Ray Tube：ＣＲＴ）のような画像表示装置の反射防止用途に好適に用いられ、表示光のコントラスト比を向上させることができる。
例えば、有機ＥＬ表示装置の光取り出し面側に本発明の円偏光板を用いた態様が挙げられる。この場合、外光は偏光膜によって直線偏光となり、次に位相差板を通過することで、円偏光となる。これが金属電極にて反射された際に円偏光状態が反転し、再び位相差板を通過した際に、入射時から９０°傾いた直線偏光となり、偏光膜に到達して吸収される。結果として、外光の影響を抑制することができる。

図２（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞれ、本発明の偏光板の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。
図２（Ａ）に示す偏光板１００は、光学積層体１０と、偏光膜２０とを有する。
また、図２（Ｂ）に示すように、偏光板１１０は、光学積層体１０および偏光膜２０とともに、保護膜２２とを有していてもよい。
更に、図２（Ｃ）に示すように、偏光板１２０は、位相差板１０と、偏光膜２０と、保護膜２２と、機能層２４とを有する。機能層２４としては、反射防止層、防眩層、およびハードコート層からなる群から選択される少なくとも１つが挙げられる。これらは公知の層材料が使用される。なお、これらの層は、複数層が積層してもよい。
以下に、本発明の位相差板を構成する各層のうち、上述した本発明の光学積層体以外について詳述する。

〔偏光膜〕
本発明の偏光板が有する偏光膜（偏光子層）は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、吸収型偏光子を利用することができる。
偏光膜の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光膜を利用することができ、例えば、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を利用した染料系偏光膜、およびポリエン系偏光膜のいずれも用いることができる。ヨウ素系偏光膜、および染料系偏光膜は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、偏光膜は、その両面に保護フィルムが貼合された偏光板として用いられることが一般的である。

〔保護膜〕
本発明の偏光板が有していてもよい保護膜は、特に限定されず、通常用いるポリマーフィルムを用いることができる。
ポリマーフィルムを構成するポリマーとしては、具体的には、例えば、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。

〔機能層〕
本発明の偏光板が有していてもよい機能層としては、上述した通り、例えば、反射防止層、防眩層、およびハードコート層からなる群から選択される少なくとも１つが挙げられる。これらは公知の層材料が使用される。なお、これらの層は、複数層が積層してもよい。
例えば、反射防止層は、最も単純な構成では、フィルムの最表面に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と、屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、下側から順に、高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（下層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、膜厚変動に対するロバスト性に優れる３層構成の反射防止フィルムは特開２００８−２６２１８７号公報記載されている。上記３層構成の反射防止フィルムは、画像表示装置の表面に設置した場合、反射率の平均値を０．５％以下とすることができ、映り込みを著しく低減することができ、立体感に優れる画像を得ることができる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層、帯電防止性のハードコート層、防眩性のハードコート層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２００７−２６４１１３号公報等）等が挙げられる。

［有機ＥＬ表示装置］
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述した本発明の光学積層体または本発明の偏光板を有する有機ＥＬ表示装置である。

図３（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞれ、本発明の有機ＥＬ表示装置の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。
図３（Ａ）に示す有機ＥＬ表示装置は、少なくとも、有機ＥＬパネル２６と、光学積層体１０と、偏光膜２０とを有する。
また、図３（Ｂ）に示すように、有機ＥＬ表示装置２１０は、偏光膜２０上にさらに保護膜２２を有していてもよく、図３（Ｃ）に示すように、有機ＥＬ表示装置２２０は、偏光膜２０上に保護膜２２および機能層２４を有していてもよい。

有機ＥＬパネルは、陽極、陰極の一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した部材であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、保護層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。

陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、およびこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜５００ｎｍである。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔比較例１〕
（１）セルロースアシレートフィルムの作製
（セルロースエステル溶液Ａ−１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースエステル溶液Ａ−１を調製した。

セルロースエステル溶液Ａ−１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアセテート（アセチル化度２．８６） １００質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ３２０質量部
・メタノール（第２溶媒） ８３質量部
・１−ブタノール（第３溶媒） ３質量部
・トリフェニルフォスフェート ７．６質量部
・ビフェニルジフェニルフォスフェート ３．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（マット剤分散液Ｂ−１の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤分散液Ｂ−１を調製した。

マット剤分散液Ｂ−１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・シリカ粒子分散液（平均粒径１６ｎｍ）
"ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２"、日本アエロジル（株）製 １０．０質量部
・メチレンクロライド ７２．８質量部
・メタノール ３．９質量部
・ブタノール ０．５質量部
・セルロースエステル溶液Ａ−１ １０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（紫外線吸収剤溶液Ｃ−１の調製）
下記の組成物を別のミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、紫外線吸収剤溶液Ｃ−１を調製した。

紫外線吸収剤溶液Ｃ−１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――
・紫外線吸収剤（下記ＵＶ−１） １０．０質量部
・紫外線吸収剤（下記ＵＶ−２） １０．０質量部
・メチレンクロライド ５５．７質量部
・メタノール １０質量部
・ブタノール １．３質量部
・セルロースエステル溶液Ａ−１ １２．９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――

（セルロースエステルフィルムの作製）
セルロースアシレート溶液Ａ−１を９４．６質量部、マット剤分散液Ｂ−１を１．３質量部とした混合物に、セルロースアシレート１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）および紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．０質量部となるように、紫外線吸収剤溶液Ｃ−１を加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。得られたドープを３０℃に加温し、流延ギーサーを通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上に流延した。支持体の表面温度は−５℃に設定し、塗布幅は１４７０ｍｍとした。流延したドープ膜をドラム上で３４℃の乾燥風を１５０ｍ³／分で当てることにより乾燥させ、残留溶剤が１５０％の状態でドラムより剥離した。剥離の際、搬送方向（長手方向）に１５％の延伸を行った。その後、フィルムの幅方向（流延方向に対して直交する方向）の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で把持しながら搬送し、幅手方向には延伸処理を行わなかった。さらに、熱処理装置のロール間を搬送することによりさらに乾燥し、セルロースアシレートフィルム（Ｔ１）を製造した。作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム（Ｔ１）の残留溶剤量は０．２％で、厚みは６０μｍで、５５０ｎｍにおけるＲｅとＲｔｈはそれぞれ０．８ｎｍ、４０ｎｍであった。

（２）光学積層体の作製
（アルカリ鹸化処理）
前述のセルロースアシレートフィルム（Ｔ１）を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ²で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ²塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。

アルカリ溶液組成
──────────────────────────────────
・水酸化カリウム ４．７質量部
・水 １５．８質量部
・イソプロパノール ６３．７質量部
・界面活性剤ＳＦ−１：Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₀Ｈ １．０質量部
・プロピレングリコール １４．８質量部
──────────────────────────────────

（配向膜の形成）
セルロースアシレートフィルム（Ｔ１）のアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液（Ａ）を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。使用した変性ポリビニルアルコールの鹸化度は９６．８％であった。

配向膜塗布液（Ａ）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
・水 ３０８質量部
・メタノール ７０質量部
・イソプロパノール ２９質量部
・光重合開始剤（イルガキュアー２９５９、チバ・ジャパン製）
０．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（光学異方性層Ａの形成）
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が７５°（時計回り）とした（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１５°）。

下記の組成のディスコティック液晶（ＤＬＣ）化合物を含む光学異方性層塗布液（Ａ）を上記作製した配向膜上に＃５．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥およびディスコティック液晶性化合物の配向熟成のために、１１５℃の温風で９０秒間、続いて、８０℃の温風で６０秒間加熱し、８０℃にてＵＶ照射（露光量：７０ｍＪ／ｃｍ²）を行い、液晶性化合物の配向を固定化した。光学異方性層Ａの厚みは２．０μｍであった。ＤＬＣ化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ＤＬＣ化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルム長手方向を９０°（フィルム幅方向を０°）とすると、１５°であった。

光学異方性層塗布液（Ａ）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記のディスコティック液晶性化合物（Ａ） ８０質量部
・下記のディスコティック液晶性化合物（Ｂ） ２０質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） １０質量部
・光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・ジャパン社製） ３質量部
・下記のピリジニウム塩（Ａ） ０．９質量部
・下記のボロン酸含有化合物 ０．０８質量部
・下記のポリマー（Ａ） ０．６質量部
・下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ１）〔配向制御剤〕 ０．３質量部
・メチルエチルケトン １８３質量部
・シクロヘキサノン ４０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（光学異方性層Ｂの形成）
上記作製した光学異方性層Ａに連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−７５°（反時計回り）とした（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１６５°）。

下記の組成の棒状液晶性化合物を含む光学異方性層塗布液（Ｂ）を、ラビング処理後の光学異方性層Ａ上に＃２．８のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥および棒状液晶性化合物の配向熟成のために、６０℃の温風で６０秒間加熱し、６０℃にてＵＶ照射を行い、液晶性化合物の配向を固定化した。光学異方性層Ｂの厚みは０．８μｍであった。棒状液晶性化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、液晶性化合物がフィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム長手方向を９０°（フィルム幅方向を０°）とすると、７５°であった。
なお、下記光学異方性層塗布液（Ｂ）で用いる下記フッ素系ポリマー（ＦＰ２）の繰り返し単位ａおよびｂの合計量に対する繰り返し単位ａ（Ｆパート）の比率については、下記表１に示す通りである。

光学異方性層塗布液（Ｂ）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の棒状液晶性化合物の混合物（Ａ） １００質量部
・光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・ジャパン社製） ３質量部
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
・下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ２）〔配向制御剤〕 ０．３質量部
・メチルエチルケトン ３３７質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

上記のようにして、セルロースアシレートフィルム（Ｔ１）の上に、ディスコティック液晶性化合物から形成された光学異方性層Ａと、棒状液晶性化合物から形成された光学異方性層Ｂとが積層された光学積層体を作製した。このフィルムを１．５モル／リットルで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／リットルで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

〔実施例１〕
光学異方性層塗布液（Ｂ）の組成において、非液晶性モノマーとして、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）を５質量部配合した以外は、比較例１と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔比較例２〕
光学異方性層塗布液（Ｂ）の組成において、配向制御剤であるフッ素系ポリマー（ＦＰ２）を配合しなかった以外は、比較例１と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔比較例３〕
光学異方性層塗布液（Ｂ）の組成において、配向制御剤であるフッ素系ポリマー（ＦＰ２）を配合せず、非液晶性モノマーとしてエチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）を全固形分に対して５質量％となるように配合した以外は、比較例１と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔実施例２〕
光学異方性層塗布液（Ｂ）の組成において、配向制御剤であるフッ素系ポリマー（ＦＰ２）の繰り返し単位ａ（Ｆパート）の比率を下記表１に示す値に変更した以外は、比較例１と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔実施例３〜４〕
光学異方性層塗布液（Ｂ）の組成において、配向制御剤であるフッ素系ポリマー（ＦＰ２）の繰り返し単位ａ（Ｆパート）の比率を下記表１に示す値に変更し、全固形分に対する添加量を下記表１に示す値に変更した以外は、比較例１と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔実施例５〕
光学異方性層塗布液（Ｂ）の組成において、非液晶性モノマーとして、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）を５質量部配合した以外は、実施例２と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔比較例４〕
光学異方性層塗布液（Ｂ）の組成において、配向制御剤であるフッ素系ポリマー（ＦＰ２）に代えて、下記式で表されるフッ素系ポリマー（ＦＰ３）を配合した以外は、比較例１と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔比較例５〕
光学異方性層塗布液（Ａ）の組成において、配向制御剤であるフッ素系ポリマー（ＦＰ１）に代えて、上記式で表されるフッ素系ポリマー（ＦＰ２）を配合した以外は、比較例１と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔比較例６〕
光学積層体として、特開２００４−２３８４３１号公報の［０１８１］〜［０１８９］段落に記載された積層位相差板を作製した。

〔比較例７〕
比較例６の光学積層体の作製に用いた光学異方性層（Ａ）の塗布液組成において、配向制御剤として上記式で表されるフッ素系ポリマー（ＦＰ１）を全固形分に対して下記表１に示す量で配合し、光学異方性層（Ｂ）の塗布液組成において、配向制御剤として上記式で表されるフッ素系ポリマー（ＦＰ２）を全固形分に対して下記表１に示す量で配合した以外は、比較例６と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔実施例６〕
光学異方性層（Ｂ）の塗布液組成において、非液晶性モノマーとして、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）を５質量部配合した以外は、比較例７と同様の方法で光学積層体を作製した。

＜表面エネルギー＞
作製した各光学積層体の光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂを上述した方法で剥離し、光学異方性層Ａにおける光学異方性層Ｂと接していた側の表面（ＺＡ表面）の表面エネルギーＡ、光学異方性層Ｂにおける光学異方性層Ａに接していた側の表面（ＺＢ裏面）の表面エネルギーＢ１、および、光学異方性層Ｂにおける光学異方性層Ａに接していた側とは反対側の表面（ＺＢ表面）の表面エネルギーＢ２を、上述した方法により測定した。これらの結果を下記表１に示す。

＜ハジキ＞
作製した光学積層体をクロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に置き、目視にて、１ｍ^２当たりのハジキの個数をカウントする。結果を下記表１に示す。

＜膜厚ムラ＞
上述した実施例および比較例で作製した光学積層体について、光学異方性層Ａを形成した時点および光学異方性層Ｂを形成した時点のそれぞれの段階で、クロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に置き、光学異方性層Ａの表面（ＺＡ表面）および光学異方性層Ｂの表面（ＺＢ表面）の面状を観察し、以下の基準で評価した。結果を下記表１に示す。
Ａ：ムラが視認されない。
Ｂ：わずかなムラが確認でいるが実用上問題がない。
Ｃ：ムラが明らかに視認できる。

以上の結果から、表面エネルギーＢ１が３５ｍＮ／ｍ未満である比較例１、４および７の光学積層体は、ハジキが確認できることが分かった。
また、表面エネルギーＢ２が、２５ｍＮ／ｍより大きい比較例２、３および６の光学積層体は、いずれもハジキが数多く確認され、膜厚ムラも生じていることが分かった。
また、表面エネルギーＡが３０ｍＮ／ｍ未満である比較例５の光学積層体は、ハジキが確認できることが分かった。

これに対し、表面エネルギーＡが３０〜４０ｍＮ／ｍの範囲にあり、表面エネルギーＢ１が３５ｍＮ／ｍ以上であり、表面エネルギーＢ２が２５ｍＮ／ｍ以下である、実施例１〜６の光学積層体は、いずれもハジキが殆ど確認されず、膜厚ムラも抑制されていることが分かった。
特に、実施例同士の対比から、光学異方性層Ｂにおける表面エネルギーＢ１と表面エネルギーＢ２との差が１７ｍＮ／ｍ以上である実施例２および５の光学積層体は、ハジキがより抑制され、光学異方性層Ｂの表面（ＺＢ表面）の膜厚ムラもより抑制できることが分かり、実施例２と実施例５との対比から、液晶性化合物の重合性基と同じ重合性基を有する非液晶性モノマーを含有することにより、ハジキが更に抑制されることが分かった（実施例５）。

１０ 光学積層体
１２ 透明支持体
１４ 光学異方性層Ａ
１６ 光学異方性層Ｂ
２０ 偏光膜
２２ 保護膜
２４ 機能膜
２６ 表示ＥＬパネル
１００，１１０，１２０ 偏光板
２００，２１０，２２０ 有機ＥＬ表示装置

Claims (8)

1. 透明支持体と光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂとをこの順に有する光学積層体であって、
   前記光学異方性層Ａおよび前記光学異方性層Ｂが直接接しており、
   前記光学異方性層Ａおよび前記光学異方性層Ｂのうち、少なくとも前記光学異方性層Ｂが、液晶性化合物を含有する組成物から形成されたものであり、
   前記光学異方性層Ａにおける前記光学異方性層Ｂに接する側の表面の表面エネルギーＡが、３０〜４０ｍＮ／ｍであり、
   前記光学異方性層Ｂにおける前記光学異方性層Ａに接する側の表面の表面エネルギーＢ１が、３５ｍＮ／ｍ以上であり、
   前記光学異方性層Ｂにおける前記光学異方性層Ａに接する側とは反対側の表面の表面エネルギーＢ２が、２５ｍＮ／ｍ以下である、光学積層体。
2. 前記光学異方性層Ａが、液晶性化合物を含有する組成物から形成されたものであり、
   前記光学異方性層Ａにおいて、前記液晶性化合物が、垂直配向または水平配向の配向状態で固定化されている、請求項１に記載の光学積層体。
   ただし、垂直配向または水平配向は、それぞれ、垂直または水平の正確な角度から±３°の範囲で配向していることを意味するものとする。
3. 前記光学異方性層Ｂが、棒状液晶性化合物を含有する組成物から形成されたものである、請求項１または２に記載の光学積層体。
4. 前記光学異方性層Ｂが、重合性基を有する液晶性化合物と、前記重合性基と同じ重合性基を有する非液晶性モノマーとを含有する組成物から形成されたものである、請求項１または２に記載の光学積層体。
5. 前記重合性基がアクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である、請求項４に記載の光学積層体。
6. 前記光学異方性層Ｂにおける前記表面エネルギーＢ１と前記表面エネルギーＢ２との差が、１７ｍＮ／ｍ以上である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学積層体。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学積層体と、偏光膜とを有する偏光板。
8. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学積層体、または、請求項７に記載の偏光板を有する、有機ＥＬ表示装置。